CN101238073B - 具有紫外光发射器的流体净化系统 - Google Patents

具有紫外光发射器的流体净化系统 Download PDF

Info

Publication number
CN101238073B
CN101238073B CN2006800215670A CN200680021567A CN101238073B CN 101238073 B CN101238073 B CN 101238073B CN 2006800215670 A CN2006800215670 A CN 2006800215670A CN 200680021567 A CN200680021567 A CN 200680021567A CN 101238073 B CN101238073 B CN 101238073B
Authority
CN
China
Prior art keywords
fluid
feedback
led
porous plate
control unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006800215670A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101238073A (zh
Inventor
G·哈伯斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xin Nuofei North America
Signify Holding BV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Lumileds LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV, Lumileds LLC filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of CN101238073A publication Critical patent/CN101238073A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101238073B publication Critical patent/CN101238073B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122—Incoherent waves
    • B01J19/123—Ultra-violet light
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • A61L9/18—Radiation
    • A61L9/20—Ultra-violet radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/0033—Heating devices using lamps
    • H05B3/0038—Heating devices using lamps for industrial applications
    • H05B3/0052—Heating devices using lamps for industrial applications for fluid treatments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/91—Bacteria; Microorganisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2259/00—Type of treatment
    • B01D2259/80—Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/804—UV light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00051—Controlling the temperature
    • B01J2219/00054—Controlling or regulating the heat exchange system
    • B01J2219/00056—Controlling or regulating the heat exchange system involving measured parameters
    • B01J2219/00069—Flow rate measurement
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00191—Control algorithm
    • B01J2219/00193—Sensing a parameter
    • B01J2219/00195—Sensing a parameter of the reaction system
    • B01J2219/00198—Sensing a parameter of the reaction system at the reactor inlet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00191—Control algorithm
    • B01J2219/00222—Control algorithm taking actions
    • B01J2219/00227—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions
    • B01J2219/00238—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions of the heat exchange system
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0873—Materials to be treated
    • B01J2219/0877—Liquid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3222—Units using UV-light emitting diodes [LED]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3227—Units with two or more lamps
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3228—Units having reflectors, e.g. coatings, baffles, plates, mirrors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326—Lamp control systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

一种用于净化流体的系统利用紫外(UV)光来灭活存在于流体内的微生物。该系统具有布置于多孔板(104)上的UV光发射器(202)。流体，当通过多孔板(104)上的穿孔(204)时，暴露于UV光发射器(202)发射的UV光下。存在于流体内的微生物非常接近地经过UV光发射器。被微生物吸收的UV光导致遗传损害和灭活。该系统具有反馈单元，该反馈单元提供关于流体的物理性质的反馈给向UV光发射器供给电力的电力单元。根据反馈，电力单元改变供给UV光发射器的电力量。

Description

具有紫外光发射器的流体净化系统
技术领域
本发明涉及一种利用紫外(UV)光进行流体净化的系统，并且特别是，涉及一种利用安装在多孔板上的UV光发射器进行流体净化的系统。
背景技术
在每天的生活中都用到的一些流体如水和空气可能被微生物污染。流体中微生物的存在，例如，存在于饮用水中，可能对用户的健康产生有害的影响。因此，存在于流体中的微生物应该在流体用于消费前被灭活。
一种净化流体的方法是通过使用UV光发射器发射的紫外(UV)光。UV光，在260至280nm之间，被微生物(例如细菌和病毒)内的DNA、RNA和蛋白质吸收，导致遗传损害和灭活。
已存在用UV光净化流体的系统。然而，已知的用UV光净化流体的系统要求良好的流体透过率(transmittance)。透过率，在用UV光处理流体方面，是UV光穿过流体的能力，或者更为具体地，通过流体后在一个给定点处能被测量到的给定量的UV光的分数(fraction)。当前，商业上可用的UV流体净化系统要求至少75％的透过后的UV光到达距UV光发射器1cm的距离。当流体浊度增加时，它们的透过率降低。流体的低透过率减少了微生物暴露在UV光下的数量，从而，降低了已知系统灭活微生物的效力。
净化流体的系统所需要的是即使流体具有低透过率也能有效运行。
发明内容
本发明提供了一种用于净化流体的系统，其使用安装在多孔板上的UV光发射器。
在一个实施例中，在其上安装有UV光发射器的多孔板被收容在腔室内。将被净化的流体通过多孔板上的穿孔。UV光发射器被安装得非常接近穿孔。多孔板上穿孔的尺寸使得存在于流体中的微生物进入到由UV光发射器发射的UV光的附近。在导致UV光低透过率的流体的高浊度的情况下，微生物非常接近地暴露于UV光发射器下确保了微生物吸收灭活它们所需要的足够量UV光。
在另一个实施例中，本发明还使用了基于反馈的电力控制单元和反馈单元来控制供给UV光发射器的电力。反馈单元提供关于流体的物理性质的数据给基于反馈的电力控制单元。根据收到的数据，例如流体的流动速率和流体内UV光的强度，基于反馈的电力控制单元改变供给UV光发射器的电力量。
在又一个实施例中，本发明在腔室的壁上使用了UV光反射屏，来增加其内部的UV光的密度。
附图说明
附图1是描述依照本发明的一个实施例的一种净化流体的系统的图。
附图2是依照本发明的一个实施例的UV光发射器安装于其表面上的多孔板的正视图。
附图3是说明依照本发明的一个实施例的基于反馈的电力控制单元、反馈单元和UV光发射器之间的相互作用的框图。
附图4是描述依照本发明的一个实施例的一种具有仅仅一个多孔板的净化流体的系统的图。
附图5是描述依照本发明的一个实施例的一种具有四个多孔板的净化流体的系统的图。
不同附图里由同样的标号来标明的元件可以是彼此相似的或相同的。
具体实施方式
附图1是描述依照本发明的一个实施例的一种净化流体的系统100的图。两个多孔板104被收容在腔室102内。多孔板104上具有安装在它们的表面上的UV光发射器。在本发明的一个实施例中，多孔板104可以被改变以适合于任一其它容器。例如，多孔板104可以被改变以适合于运送水的圆柱状管。腔室102具有入口106和出口108。流体通过入口106进入腔室102并且通过多孔板104上的穿孔。流体可以是空气、水或者任一其它流体或气体。UV光发射器可以是UV发光二极管(LED)，例如UVTOP LEDs，由Sensor ElectronicTechnology Inc.制造。
存在于流体中的微生物，当通过多孔板104上的穿孔时，被暴露于UV光发射器发射的UV光下。UV光被微生物内的DNA、RNA和蛋白质吸收。UV光导致了基因失调(genetic disorder)和微生物的灭活。多孔板104使微生物的前后都暴露于UV光下。
在本发明的一个实施例中，基于反馈的电力控制单元和反馈单元被使用来控制供给UV光发射器的电力量(这在附图1中示显示)。反馈单元提供有关流体物理性质的数据给基于反馈的电力控制单元。根据所接收到的数据，基于反馈的电力控制单元改变供给UV光发射器的电力量。
系统100还包括UV反射屏110。UV反射屏110覆盖了腔室102的壁。任一入射在UV反射屏110上的UV光被反射回腔室102，增加了腔室102内UV光的密度。在本发明的一个实施例中，UV反射屏110由铝制成。
附图2是依照本发明的一个实施例的在其表面上安装有UV光发射器202的多孔板104的正视图。多孔板104具有在其表面上以阵列布置的UV光发射器202。多孔板104具有允许流体通过的穿孔204。在本发明的一个实施例中，多孔板104可以是印刷电路板(PCB)。在本发明的另一个实施例中，多孔板104是金属芯印刷电路板(MCPCB)。MCPCB的金属芯使其成为热的良导体。金属芯将由UV光发射器202产生的热有效地传递给散热片。对散热片的热有效传递保持UV光发射器202在它们的理想的工作温度范围内，从而增加了系统100的效率。LEDs的有效运行需要低温，优选在20℃至60℃的范围。
在本发明的一个实施例中，穿孔204形状是方形的。穿孔204允许流体通过和使存在于流体内的微生物暴露于UV光下。穿孔204的尺寸决定了微生物对UV光发射器202的接近程度。穿孔204的尺寸根据UV光发射器202的UV光发射量(emission capacity)来决定。对于高功率UV光发射器202，穿孔204的尺寸大，而对于低功率UV光发射器202，穿孔204的尺寸小。
在本发明的一个实施例中，在两个相邻的UV光发射器202之间的距离，下文中称作间距，是10毫米(mm)。UV光发射器202之间的小间距，10mm，意味着微生物更接近于UV光。UV光发射器202的间距取决于UV光发射器202的UV光发射量。对于高功率UV光发射器202该间距大，而对于低功率UV光发射器202该间距小。间距10mm确保了在任一时刻任一微生物不会远离UV光发射器202多于5mm。这确保了足够量的UV光被微生物吸收。多孔板104上UV光发射器202的高密度进一步增加了微生物对UV光的暴露程度。
在本发明的一个实施例中，绝缘窗被用于使UV光发射器202与流体绝缘。绝缘窗防止了与流体电接触的短路且保护该结构不被污染。绝缘窗利于UV光传输到流体。在本发明的一个实施例中，绝缘层覆盖了多孔板104。绝缘窗和绝缘层可以由石英、二氧化硅和玻璃中的一种制造。
附图3是说明依照本发明的一个实施例的基于反馈的电力控制单元302、反馈单元304a和304b及UV光发射器202之间的相互作用的框图。基于反馈的电力控制单元302被使用来控制供应给UV光发射器202的电力量。基于反馈的电力控制单元302从反馈单元304a和304b获得输入，并且从而改变供给UV光发射器202的电力量。反馈单元304a和304b提供流体流动数据和UV光强度数据给基于反馈的电力控制单元302。
在本发明的一个实施例中，反馈单元304a是布置于多孔板104上的流体流动传感器。反馈单元304a测量腔室102内的流动速率，并提供流体流动数据给基于反馈的电力控制单元302。例如，当没有流体流动时，基于反馈的电力控制单元302关闭UV光发射器202。当流体开始流动时，反馈单元304a告知有关流动的信息给基于反馈的电力控制单元302然后基于反馈的电力控制单元302接通UV光发射器202。根据流体的流动速率，基于反馈的电力控制单元302调整供给UV光发射器202的电力量。如果流体的流动速率增大，流体在腔室102内花费的时间减少。这反而减少了被微生物吸收的UV光量。因此，当流体的流动速率增大时，由UV光发射器202产生的UV光强度通过供应更多电力给UV光发射器202而被增大。同样地，如果流体的流动速率减小，流体在腔室102内花费的时间增加；并且因此，微生物吸收比所要求的UV光量更多。因此，当流体的流动速率减小时，由UV光发射器202产生的UV光强度通过供应较少的电力给UV光发射器202而被减小，从而节省电力。
在本发明的一个实施例中，反馈单元304a通过测量多孔板104的温度变化而累积与流体流动有关的信息。UV光发射器202加热多孔板104。在流体没有任何流动时，多孔板104的温度保持不变。当流体开始流动时，多孔板104的温度下降。根据流体温度的下降，反馈单元304a测量流体的流动并提供流体流动数据给基于反馈的电力控制单元302。
在本发明的另一个实施例中，反馈单元304a通过测量多孔板104中的应变来计算流体流动数据。流体的流动在多孔板104的不同部分中产生不同的应变。反馈单元304a测量应变并用它们的值来计算流体流动数据。
在本发明的一个实施例中，反馈单元304b是腔室102内的UV光传感器。反馈单元304b在其位置测量UV光强度并提供UV光强度数据给基于反馈的电力控制单元302。UV光发射器202的UV光输出可以随时间变化。反馈单元304b，通过测量UV光强度，确保了系统100运行和满足希望的性能要求。因为流体的浊度在腔室102的不同部分有改变，UV光强度在腔室102的不同部分是不同的。反馈单元304b通过测量腔室102内UV光强度而知道流体的浊度。基于反馈的电力控制单元302根据反馈单元304b提供的UV光强度数据来调节供给UV光发射器202的电力。因此，由UV光发射器202产生的UV光强度根据腔室102不同部分的UV光强度而调整。
附图4是描述依照本发明的一个实施例的具有仅仅一个多孔板的净化流体的系统400的图。腔室402收容了一个UV光发射器安装于其上的多孔板404。腔室402具有入口406和出口408。流体从入口406进入，通过多孔板404的穿孔，然后从出口408流出腔室402。由安装于多孔板404上的UV光发射器发射的UV光对存在于流体内的微生物进行消毒。UV光反射屏410将任一入射于其上的UV光反射回腔室402。
附图5是描述依照本发明的一个实施例的一种具有四个多孔板的净化流体的系统500的图。腔室502收容了四个多孔板504，UV光发射器安装于其上。腔室502具有入口506和出口508。流体从入口506进入，通过多孔板504的穿孔，然后从出口508流出腔室502。由安装于多孔板504上的UV光发射器发射的UV光对存在于流体内的微生物进行消毒。UV光反射屏510将任一入射于其上的UV光反射回腔室502。
利用UV光发射器净化流体的这个系统的优点包括：
当微生物的前后都均匀暴露于UV光下时，更大地使微生物暴露给UV光发射器。
根据反馈单元供给基于反馈的电力控制单元的输入，通过改变供给UV光发射器的电力而获得电力的有效利用。
延长了用于UV光发射的UV LED的寿命。
利用待被净化的流体作为UV光发射器的冷却剂。流体使UV光发射器保持在理想的工作温度范围。
通过MCPCB的金属芯实现了从UV光发射器到散热片的有效热传递。金属芯使UV光发射器保持在理想的工作温度范围。
可提供关于腔室内流体流动的信息。
可提供关于腔室内UV光强度的信息。
虽然本发明的具体实施例已经被显示和描述，但对本领域技术人员显而易见的是，在没有偏离本发明的情况下在其较宽的方面可以进行变化和修改，因此，所附权利要求将包含落在本发明的真正精神和范围内的所有这样的变化和修改在其范围内。

Claims (18)

1.一种用于净化流体的系统，包括：
具有表面和位于所述表面内的多个孔的多孔板；
安装并且分布在所述表面上的多个紫外(UV)发光二极管(LED)，以便至少一个紫外发光二极管位于所述表面内每组相邻孔之间，使得穿过每个孔的流体被靠近每个孔定位的至少一个紫外发光二极管照射，以将穿过每个孔的流体暴露于紫外辐射；和
具有用于所述流体的至少一个入口和至少一个出口的腔室，所述多孔板和紫外发光二极管安装在所述腔室内，使得当所述流体穿过所述多个孔时暴露于来自紫外发光二极管的紫外辐射；
其中，两个相邻紫外发光二极管之间的距离取决于紫外发光二极管的紫外光发射量。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述孔的尺寸取决于紫外发光二极管的紫外光发射量。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述多孔板包括印刷电路板。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述孔和所述紫外发光二极管以二维阵列布置。
5.根据权利要求1所述的系统，还包括一个或多个绝缘窗，所述一个或多个绝缘窗使所述一个或多个紫外发光二极管与所述流体绝缘。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述一个或多个绝缘窗用从由石英、二氧化硅和玻璃组成的一组中选择的一种材料制造。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述腔室的壁被覆盖有一个或多个紫外光反射屏。
8.根绝权利要求1所述的系统，还包括基于反馈的电力控制单元，所述基于反馈的电力控制单元供应电力给所述一个或多个紫外发光二极管。
9.根据权利要求8所述的系统，还包括反馈单元，所述反馈单元提供有关所述腔室内物理状态的信息给所述基于反馈的电力控制单元。
10.根据权利要求9所述的系统，其中所述反馈单元包括一个或多个紫外光传感器，所述一个或多个紫外光传感器提供紫外光强度数据给所述基于反馈的电力控制单元。
11.根据权利要求9所述的系统，其中所述反馈单元包括一个或多个流体流动传感器，所述一个或多个流体流动传感器提供流体流动数据给所述基于反馈的电力控制单元。
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述一个或多个流体流动传感器测量多孔板的温度变化。
13.根据权利要求11所述的系统，其中所述一个或多个流体流动传感器测量所述多孔板内的应变。
14.根据权利要求11所述的系统，其中所述一个或多个流体流动传感器被安装于所述多孔板上。
15.一种用于净化流体的系统，包括：
具有表面和位于所述表面内的多个孔的多孔板；
安装并且分布在所述表面上的多个紫外(UV)发光二极管(LED)，以便至少一个紫外发光二极管位于所述表面内每组相邻孔之间，使得穿过每个孔的流体被靠近每个孔定位的至少一个紫外发光二极管照射，以将穿过每个孔的流体暴露于紫外辐射；和
基于反馈的电力控制单元，所述基于反馈的电力控制单元供应电力给所述一个或多个紫外发光二极管；
其中，两个相邻紫外发光二极管之间的距离取决于紫外发光二极管的紫外光发射量。
16.根据权利要求15所述的系统，其中所述孔的尺寸取决于紫外发光二极管的紫外光发射量。
17.根据权利要求15所述的系统，还包括一个或多个绝缘窗，所述一个或多个绝缘窗使所述一个或多个紫外发光二极管与所述流体绝缘。
18.根据权利要求15所述的系统，还包括反馈单元，所述反馈单元提供有关容纳所述多孔板的腔室内物理状态的信息给所述基于反馈的电力控制单元。
CN2006800215670A 2005-06-17 2006-06-14 具有紫外光发射器的流体净化系统 Active CN101238073B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/156,102 US7520978B2 (en) 2005-06-17 2005-06-17 Fluid purification system with ultra violet light emitters
US11/156,102 2005-06-17
PCT/IB2006/051911 WO2006134567A1 (en) 2005-06-17 2006-06-14 Fluid purification system with ultra violet light emitters

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101238073A CN101238073A (zh) 2008-08-06
CN101238073B true CN101238073B (zh) 2012-10-24

Family

ID=37027552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006800215670A Active CN101238073B (zh) 2005-06-17 2006-06-14 具有紫外光发射器的流体净化系统

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7520978B2 (zh)
JP (1) JP2006346676A (zh)
CN (1) CN101238073B (zh)
TW (1) TWI411465B (zh)
WO (1) WO2006134567A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106512059A (zh) * 2016-10-20 2017-03-22 圆融健康科技（深圳）有限公司 杀菌网及流体杀菌装置

Families Citing this family (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1035089C2 (nl) * 2007-11-19 2009-05-20 Stichting Wetsus Ct Of Excelle Inrichting en werkwijze voor desinfectie van een fluïdum.
WO2009108045A1 (en) * 2008-02-27 2009-09-03 Stichting Wetsus Centre Of Excellence For Sustainable Water Technology Device and method for disinfecting a fluid
DE102008021301A1 (de) * 2008-04-21 2009-10-22 A.C.K. Aqua Concept Gmbh Karlsruhe UV-Reaktor und seine Verwendung
JP5049901B2 (ja) * 2008-07-04 2012-10-17 株式会社東芝 紫外線照射水処理装置
US20100314551A1 (en) * 2009-06-11 2010-12-16 Bettles Timothy J In-line Fluid Treatment by UV Radiation
DE102010005893A1 (de) * 2010-01-27 2011-07-28 Thermo Electron LED GmbH, 63505 Anlage zur Herstellung von Reinstwasser
MX2010009169A (es) * 2010-08-10 2012-02-21 Andres Abelino Choza Romero Aparato para desinfectar líquidos, mediante el uso de luz ultravioleta.
US8585980B2 (en) 2010-09-07 2013-11-19 Puradigm, Llc Enhanced photo-catalytic cells
US8585979B2 (en) 2010-09-07 2013-11-19 Puradigm, Llc Enhanced photo-catalytic cells
DE102010047318A1 (de) 2010-10-01 2012-04-05 Schott Ag UV-Halbleiterlichtquellen-Bestrahlungseinrichtung und deren Verwendung
GB2486173B (en) 2010-12-01 2017-02-01 Adey Holdings 2008 Ltd Separator
US20120273340A1 (en) * 2010-12-08 2012-11-01 Perry Felix Method & apparatus for sanitizing air in aircraft, commercial airliners, military vehicles, submarines, space craft, cruise ships , passenger vehicles, mass transit and motor vehicles by integration of high density high efficiency ultra violet illumination apparatus within air conditioning, ventilation and temperature control systems
WO2012113685A2 (en) 2011-02-22 2012-08-30 Dsm Ip Assets B.V. Uv-led-light source
US9421288B2 (en) * 2012-03-21 2016-08-23 Thomas J. Lowe Cuvette apparatus
EP2882691A4 (en) 2012-08-10 2016-02-10 Xylem Water Solutions Zelienople Llc METHOD AND DEVICE FOR MONITORING AND CONTROLLING OZONATION AND VENTED FILTRATION BY UV AND MEASURING A VISIBLE SPECTRUM AND AN OXIDATION REDUCTION POTENTIAL
EP2948412B1 (en) * 2013-01-24 2017-10-11 Atlantium Technologies Ltd. Method and apparatus for liquid disinfection by light emitted from light emitting diodes
AU2014238078A1 (en) * 2013-03-15 2015-10-29 Kap Medical Method and apparatus for fluid sterilization for patient support surfaces
CN105209392A (zh) * 2013-05-21 2015-12-30 皇家飞利浦有限公司 光学流体处置设备
US9617171B2 (en) 2013-05-22 2017-04-11 Merck Patent Gmbh Biocidal purification reactor
US20150064061A1 (en) 2013-09-01 2015-03-05 Fariborz Taghipour Air Purifier for Transportation Vehicles
KR102206278B1 (ko) * 2013-09-05 2021-01-22 서울바이오시스 주식회사 자외선을 이용하는 공기 정화 장치
WO2015042178A1 (en) * 2013-09-19 2015-03-26 Reginald Wayne Clark Apparatus for destruction of airborne contaminants
US9938165B2 (en) 2013-10-28 2018-04-10 The University Of British Columbia UV-LED collimated radiation photoreactor
WO2015069680A1 (en) * 2013-11-08 2015-05-14 Mag Aerospace Industries, Llc Point of use water treatment device
CN105980312B (zh) 2014-02-11 2019-05-31 飞利浦照明控股有限公司 用于uv水净化的具有可变几何结构的容器
WO2016001227A1 (en) 2014-06-30 2016-01-07 Koninklijke Philips N.V. System for anti-biofouling
AT516361B1 (de) * 2014-10-01 2020-09-15 Deltacore Gmbh Vorrichtung zum Filtrieren von Wasser
CN107003093A (zh) * 2014-12-12 2017-08-01 皇家飞利浦有限公司 用于借助于表层水对液体进行冷却的冷却装置
ES2882953T3 (es) * 2014-12-16 2021-12-03 Koninklijke Philips Nv Un dispositivo de cable marino adaptado para la prevención de incrustaciones
KR102381403B1 (ko) * 2014-12-31 2022-04-01 서울바이오시스 주식회사 관형 유체 정화 장치
US10549001B2 (en) * 2015-07-08 2020-02-04 Clean Light Laboratories Llc System and device for sanitizing personal use items
WO2017018294A1 (ja) * 2015-07-30 2017-02-02 水ｉｎｇ株式会社 紫外線発光ダイオードを用いた水処理用の紫外線照射装置、及び紫外線照射を利用した水処理方法
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
JP2017074114A (ja) * 2015-10-13 2017-04-20 日機装株式会社 流体殺菌装置および流体殺菌方法
JP6666136B2 (ja) * 2015-12-22 2020-03-13 株式会社東芝 紫外線照射装置
JP6509748B2 (ja) * 2016-01-04 2019-05-08 株式会社東芝 紫外線照射ユニット及び紫外線照射装置
MX2018008880A (es) 2016-01-19 2019-02-21 Univ British Columbia Metodos y aparatos para controlar la dosis de radiacion para fluidos en fotorreactores led uv.
EP3405284A4 (en) * 2016-01-19 2019-08-28 The University Of British Columbia APPARATUS AND METHODS FOR HEAT DISSIPATION FOR UV LED PHOTO-REACTORS
JP6458779B2 (ja) * 2016-07-13 2019-01-30 東芝ライテック株式会社 流体殺菌装置
JP2018019670A (ja) * 2016-08-05 2018-02-08 株式会社トクヤマ 液体の殺菌方法及び殺菌装置
WO2018026008A1 (ja) * 2016-08-05 2018-02-08 株式会社トクヤマ 紫外線殺菌方法及び紫外線殺菌装置
JP6405348B2 (ja) * 2016-09-08 2018-10-17 株式会社トクヤマ 紫外線殺菌方法
AU2017322222B2 (en) 2016-09-08 2020-06-04 3M Innovative Properties Company Water purification cartridge
CN109890426A (zh) * 2016-10-24 2019-06-14 锋翔科技公司 生物灭活的系统和方法
DE102016122075B3 (de) * 2016-11-17 2017-09-14 Hytecon Ag Arbeitsverfahren und Vorrichtung zur Überwachung einer UV-Desinfektionsanlage
JP6798327B2 (ja) * 2017-01-24 2020-12-09 東芝ライテック株式会社 流体殺菌装置
EP3406269A1 (en) * 2017-05-23 2018-11-28 Koninklijke Philips N.V. Safety improvement for uv applications by monitoring changes in uv outcoupling
JP6897602B2 (ja) * 2018-02-27 2021-06-30 豊田合成株式会社 流体殺菌装置
JP2018068313A (ja) * 2017-12-25 2018-05-10 株式会社トクヤマ 液体の殺菌方法
JP2018064586A (ja) * 2017-12-25 2018-04-26 株式会社トクヤマ 液体の殺菌装置
JP6805123B2 (ja) * 2017-12-27 2020-12-23 日機装株式会社 流体殺菌装置
CN110972353A (zh) * 2018-09-27 2020-04-07 昆山科技大学 主动式发光二极管光源处理器
WO2020096523A1 (en) * 2018-11-05 2020-05-14 Champs Innovations Pte. Ltd. Fluid sanitizing device and method of sanitizing a fluid
CN114269690A (zh) 2019-07-31 2022-04-01 捷通国际有限公司 水处理系统
US11040123B2 (en) * 2019-10-04 2021-06-22 Dong Li Air purification system
DE202020100960U1 (de) * 2020-02-21 2020-02-28 WM aquatec GmbH & Co. KG Vorrichtung und System zur Desinfektion eines Fluids
WO2021226393A1 (en) * 2020-05-07 2021-11-11 UV Health Group Device for debilitating airborne infectious agents and associated systems and methods
US11452793B1 (en) 2020-05-16 2022-09-27 Jim E. Fulbrook Ultraviolet disinfecting cartridge system
WO2021236413A1 (en) 2020-05-18 2021-11-25 Wangs Alliance Corporation Germicidal lighting
US11027038B1 (en) 2020-05-22 2021-06-08 Delta T, Llc Fan for improving air quality
BE1028570B1 (fr) * 2020-08-27 2022-03-29 Twylite Enceinte de stérilisation UVC
US20220143257A1 (en) * 2020-11-10 2022-05-12 GE Precision Healthcare LLC Uvc sterilization systems and methods for patient ventilation
US11224675B1 (en) * 2021-06-21 2022-01-18 Akcasu Airborne Virus Protection Systems, Inc. Ultraviolet-C (UV-C) mercury discharge tube irradiated forced airflow face shield
FR3126189A1 (fr) * 2021-08-20 2023-02-24 Enthal.P Dispositif de traitement d’un fluide par rayonnement ultraviolet
CN115970039B (zh) * 2022-12-21 2023-09-01 广东国志激光技术有限公司 一种激光杀菌腔、杀菌装置和杀菌系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1141074A (zh) * 1993-12-22 1997-01-22 克莱安联合股份有限公司 包括过滤器和紫外线辐射的净化装置
EP0806398A3 (de) * 1996-05-09 1998-06-24 EISENWERKE FRIED. WILH. DÜKER GmbH & Co. Anlage für die Entkeimung strömender Medien, wie Wasser
US5919422A (en) * 1995-07-28 1999-07-06 Toyoda Gosei Co., Ltd. Titanium dioxide photo-catalyzer
CN2662907Y (zh) * 2003-07-31 2004-12-15 广东科艺普实验室设备研制有限公司 强化型空气消毒净化器

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4400270A (en) * 1980-04-18 1983-08-23 Adco Aerospace, Inc. Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
JPS5849217A (ja) * 1981-09-17 1983-03-23 Kobe Steel Ltd プラスチツクフイルム等の延伸装置
JPS58220758A (ja) * 1982-06-16 1983-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd インクジエツト記録装置
DE4137337A1 (de) * 1991-11-13 1993-05-19 Sengewald Karl H Gmbh Hochdruckverfahren und auftragsvorrichtung zu seiner durchfuehrung
US5368826A (en) * 1992-12-04 1994-11-29 Infilco Degremont, Inc. Control apparatus for fluid disinfection modules and systems
US5471063A (en) * 1994-01-13 1995-11-28 Trojan Technologies, Inc. Fluid disinfection system
US5780748A (en) * 1997-01-29 1998-07-14 Hewlett-Packard Company Flow device having parallel flow surfaces which move toward and away from one another to adjust the flow channel in proportion to applied force
JPH11309202A (ja) * 1998-04-28 1999-11-09 Hitachi Ltd 光触媒用光源
JP2000172343A (ja) * 1998-12-02 2000-06-23 Hitachi Ltd ガス供給装置と成膜装置
WO2000078678A2 (en) * 1999-06-21 2000-12-28 Amway Corporation Fluid treatment system with electromagnetic radiation
JP2001009016A (ja) * 1999-06-30 2001-01-16 Toshiba Lighting & Technology Corp 光触媒清浄ユニットおよび空気清浄機ならびに発光ダイオード
US6524447B1 (en) * 1999-11-22 2003-02-25 Titan Technologies Apparatus and method for photocatalytic purification and disinfection of water and ultrapure water
JP2004508162A (ja) * 2000-08-04 2004-03-18 カラー・キネティックス・インコーポレーテッド 紫外線発光ダイオード・システム及び方法
DE10101816A1 (de) * 2001-01-17 2002-07-18 Peter Ueberall Flachdiffusor zur Änderung des Strömungsquerschnittes in einem Strömungskanal
US7169311B2 (en) * 2001-10-17 2007-01-30 Honeywell International, Inc. Apparatus for disinfecting water using ultraviolet radiation
JP2003290664A (ja) * 2002-01-31 2003-10-14 Toshiba Lighting & Technology Corp 光触媒装置、脱臭装置および冷蔵庫
US20030170151A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-11 Hunter Charles Eric Biohazard treatment systems
AU2003298561A1 (en) * 2002-08-23 2004-05-13 Jonathan S. Dahm Method and apparatus for using light emitting diodes
US7080900B2 (en) * 2002-11-20 2006-07-25 Konica Minolta Holdings, Inc. Device and method for recording images
US7137696B2 (en) * 2003-01-09 2006-11-21 Con-Trol-Cure, Inc. Ink jet UV curing
US20050000913A1 (en) * 2003-07-03 2005-01-06 Mark Betterly Fluid treatment system
JP2005104108A (ja) * 2003-10-02 2005-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd インクジェット式記録装置及びインクジェット記録方法
DE10350020B3 (de) * 2003-10-27 2005-05-04 Atlas Material Testing Technology Gmbh UV-Lichtemissionsdioden als Strahlungsquelle in einer Vorrichtung zur künstlichen Bewitterung von Proben
US7544291B2 (en) * 2004-12-21 2009-06-09 Ranco Incorporated Of Delaware Water purification system utilizing a plurality of ultraviolet light emitting diodes

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1141074A (zh) * 1993-12-22 1997-01-22 克莱安联合股份有限公司 包括过滤器和紫外线辐射的净化装置
US5919422A (en) * 1995-07-28 1999-07-06 Toyoda Gosei Co., Ltd. Titanium dioxide photo-catalyzer
EP0806398A3 (de) * 1996-05-09 1998-06-24 EISENWERKE FRIED. WILH. DÜKER GmbH & Co. Anlage für die Entkeimung strömender Medien, wie Wasser
CN2662907Y (zh) * 2003-07-31 2004-12-15 广东科艺普实验室设备研制有限公司 强化型空气消毒净化器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106512059A (zh) * 2016-10-20 2017-03-22 圆融健康科技（深圳）有限公司 杀菌网及流体杀菌装置
CN106512059B (zh) * 2016-10-20 2019-07-02 圆融健康科技（深圳）有限公司 杀菌网及流体杀菌装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW200730241A (en) 2007-08-16
WO2006134567A1 (en) 2006-12-21
CN101238073A (zh) 2008-08-06
US7520978B2 (en) 2009-04-21
JP2006346676A (ja) 2006-12-28
US20060283786A1 (en) 2006-12-21
TWI411465B (zh) 2013-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101238073B (zh) 具有紫外光发射器的流体净化系统
US20240018019A1 (en) Heat dissipation apparatus and methods for uv-led photoreactors
US11584663B2 (en) UV-LED radiation photodetector
EP2999669B1 (en) Apparatus for the disinfection of fluids by ultraviolet radiation
AU2010315119B8 (en) Photochemical purification of fluids
US10207936B2 (en) Ultraviolet reactor with planar light source
KR101910361B1 (ko) 관로형 uv-led 소독 장치
KR101910362B1 (ko) 대용량 수로형 uv-led 소독 장치
KR101583562B1 (ko) 수처리 장치
US20230071898A1 (en) Apparatus and method for irradiation
KR102127701B1 (ko) 디켄터 uv 소독 장치
KR20210041976A (ko) 살균 장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
C56 Change in the name or address of the patentee
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Holland Ian Deho Finn

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Patentee after: Ramildes Co.,Ltd.

Address before: Holland Ian Deho Finn

Patentee before: Koninklijke Philips Electronics N.V.

Patentee before: Lumileds Lighting, U.S., LLC

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20170303

Address after: Eindhoven

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Patentee after: Philips Lighting North America

Address before: Holland Ian Deho Finn

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Patentee before: Ramildes Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Eindhoven

Patentee after: Signify Holdings Ltd.

Patentee after: Xin Nuofei North America

Address before: Eindhoven

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Patentee before: Philips Lighting North America