CN101681125A - 照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 - Google Patents

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明的目的是提供一种照明光学系统，为一种利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统，包括：空间光调制器(S1)，其配置在前述照明光学系统的光路内，并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动，在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布；侦测部(30～33)，其具有接受前述照明光的一部分的受光面(32a、33a)，并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测；以及控制部(20)，其根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布，对前述空间光调制器进行控制。

Description

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法
技术领域
本发明是关于一种在利用蚀刻步骤而制造半导体元件、液晶显示元件、摄像元件、薄膜磁头等元件的曝光装置中所使用的照明光学系统，具有该照明光学系统的曝光装置以及利用该曝光装置的元件制造方法。
背景技术
近年来，在光罩上所形成的图案正在高度集成化，为了将该微细的图案正确地转印到晶圆上，以最佳的照度分布来对光罩图案进行照明是必不可少的。因此，藉由进行用于在曝光装置具有的照明光学系统的光瞳位置形成环带状或多极状(例如4极状)的光强度分布的变形(modified)照明，并使微型复眼透镜的后侧焦点面上所形成的二次光源的光强度分布进行变化，从而使投影光学系统的焦点深度或析像能力提高的技术受到瞩目。
这里，存在一种曝光装置(例如参照日本专利早期公开的特开2002-353105号公报)，其为了将光源所发出的光束转换为在照明光学系统的光瞳位置具有环带状或多极状光强度分布的光束，而设置具有呈阵列状排列的多个微小要素反射镜的可动多面反射镜(例如，Digital MicromirrorDevice(DMD)，数位微镜元件)，并藉由使要素反射镜的各个倾斜角及倾斜方向进行变化，从而在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置共轭的位置(在微型复眼透镜的后侧焦点面上所形成的二次光源位置)处形成规定的光强度分布。在该曝光装置中，当使入射至各要素反射镜的光利用各要素反射镜的反射面进行反射时，是沿着规定方向偏转的规定角度，转换为在照明光学系统的光瞳位置形成规定的光强度分布的光束。然后，在曝光时依据光罩的图案等，以使微型复眼透镜的后侧焦点面上所形成的二次光源像形成最佳的光强度分布的形态，设定可动多面反射镜的各要素反射镜的倾斜角及倾斜方向，从而进行曝光。
然而，在上述的曝光装置中，是利用激光光源作为光源，而从激光光源所射出的激光，在激光的光束断面内存在光强度不均一的问题。因此，在利用这种激光而在照明光学系统的光瞳位置形成环带状或多极状的光强度分布时，光分布形状(光束横断面)内存在光强度不均一的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种即使在光源所发出的光存在光束断面内的光强度不均匀的问题的情况下，也可在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置共轭的位置，容易地形成没有照明斑点的所需的光强度分布的照明光学系统，具有该照明光学系统的曝光装置，以及利用该曝光装置的元件制造方法。
以下对本发明的构成付以实施形态的符号而加以说明，但本发明并不限定于本实施形态。
本发明的照明光学系统为一种利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面(M)进行照明的照明光学系统，包括：空间光调制器(S1)，其配置在前述照明光学系统的光路内，并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动，而在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布；侦测部(30～33)，其具有接受前述照明光的一部分的受光面(32a、33a)，并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测；控制部(20)，其根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布，对前述空间光调制器进行控制。
而且，本发明的曝光装置为一种在感光性基板(W)上转印规定的图案的曝光装置，具有用于对被照射面上所配置的前述图案进行照明的本发明的照明光学系统。
而且，本发明的元件制造方法包括，利用本发明的曝光装置，将规定的图案在感光性基板上进行曝光(S44)，并使转印了前述图案的前述感光性基板显像，将与前述图案相对应的形状的光罩层形成在前述感光性基板的表面上(S46)，且通过前述光罩层来对前述感光性基板的表面进行加工(S48)。
如利用本发明的一实施形态的照明光学系统，则具有对从光源朝向空间光调制器的光路内的位置处的照明光的光强度分布进行侦测的侦测部，所以，可根据侦测结果而控制空间光调制器，以在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布。
而且，如利用本发明的一实施形态的曝光装置，则是利用本发明的照明光学系统进行光罩的照明，所以可以高析像能力及高生产能力而将光罩的图案曝光在感光性基板上。
而且，如利用本发明的一实施形态的元件制造方法，则是利用具有本发明的照明光学系统的曝光装置而进行曝光，所以可以高析像能力且以高生产能力而进行元件的制造。
附图说明
图1所示为关于实施形态的曝光装置的概略构成。
图2所示为关于实施形态的空间光调制单元的构成。
图3(a)及图3(b)所示为关于实施形态的空间光调制单元的空间光调制器的构成。
图4所示为关于实施形态的照明光学装置所具有的圆锥旋转三棱镜系统的概略构成。
图5(a)及图5(b)所示为圆锥旋转三棱镜系统对实施形态的环带照明中所形成的二次光源的作用的说明图。
图6所示为关于实施形态的照明光学系统所具有的第1圆柱形透镜对及第2圆柱形透镜对的概略构成。
图7(a)及图7(b)所示为可变焦距透镜对实施形态的环带照明中所形成的二次光源的作用的说明图。
图8所示为关于变形例的空间光调制单元的构成。
图9所示为作为关于实施形态的微型元件的半导体元件的制造方法的流程图。
图10所示为作为关于实施形态的微型元件的液晶显示元件的制造方法的流程图。
1：激光光源                   2a、2b：透镜
2：光束扩展器                 3：光束分裂器
5：无焦透镜                   5a：前侧透镜群
5b：后侧透镜群                6：规定面
7：可变焦距透镜               8：光束分裂器
9：CCD摄像部(侦测部)          10：微型透镜阵列
12：孔径光阑                  14：光束分裂器
15：透镜                      16：光电二极管
17a：聚光镜                   17b：成像光学系统
19：反射镜                    20：控制部
22：存储部                    26：SLM驱动部
30：光束分裂器                31：透镜
32：第1CCD摄像部              33：第2CCD摄像部
32a、33a：侦测面              39：CCD摄像部
41：支柱构件                  42：支持基板
43：电极                      87：圆锥旋转三棱镜系统
87a：第1棱镜                  87b：第2棱镜
88：第1圆柱透镜对             88a：第1圆柱负透镜
88b：第1圆柱正透镜            89：第2圆柱透镜对
89a：第2圆柱负透镜            89b：第2圆柱正透镜
130a、130b、130c：二次光源    AX：光轴
IL：照明装置                  IP1、IP2：入射位置
L1、L2：光线                  M：被照射面
MB：光罩遮板                 MS：光罩载台
OP1、OP2：射出位置           P：感光性基板
P1、P2：棱镜                 P1a：直线
PL：投影光学系统             PS1、PS2：平面
PS3、PS4：侧面               PS5、PS6：平面反射镜
PS5：平面反射镜              R11：第1反射面
R12：第2反射面               R21、R22、R31、R32：反射面
S1、S2、S3：空间光调制器     SE1、SE1a、SE1b：要素反射镜
SM1、SM2：空间光调制单元     W：感光性基板
WS：晶圆载台
具体实施方式
以下参照图示，对关于本发明的实施形态的曝光装置进行说明。图1所示为关于实施形态的曝光装置的概略构成。另外，在以下的说明中，是设定图1中所示的XYZ直交坐标系统，并参照该XYZ直交坐标系统而对各构件的位置关系进行说明。XYZ直交坐标系统是设定X轴及Y轴对晶圆W平行，Z轴对晶圆W直交。
关于本实施形态的曝光装置如图1所示，从激光光源1供给曝光光(照明光)。作为该激光光源1，可利用例如供给波长约193nm的脉冲光的ArF准分子激光光源或供给波长约248nm的脉冲光的KrF准分子激光光源。从激光光源1沿着Z方向射出的大致平行的光束入射至光束扩展器2，其中，该光束扩展器2具有沿着X方向而细长延伸的矩形状断面，由一对透镜2a及2b构成。透镜2a及2b在图1的YZ平面内分别具有负的折射力及正的折射力。因此，入射光束扩展器2的光束在图1的YZ平面内被扩大，整形为具有规定矩形状断面的光束。经由作为整形光学系统的光束扩展器2的平行光束，入射至光束分裂器3。
通过了光束分裂器3的光束，入射至具有光束分裂器30、透镜31、第1CCD摄像部32及第2CCD摄像部33的侦测部。在侦测部30～33中，透过了光束分裂器30的平行光束利用透镜31进行聚光，并在第1CCD摄像部32的受光面亦即侦测面32a上聚光。而且，利用光束分裂器30进行反射的平行光束到达第2CCD摄像部33的受光面亦即侦测面33a.
在这里，依据来自光束分裂器30的平行光束的倾斜，透镜31将该平行光束导引至第1CCD摄像部32的侦测面32a上的位置，所以可侦测在第1CCD摄像部32的侦测面32a上所聚光的光的位置，从而能够侦测来自光束分裂器30的平行光束的倾斜角，进而能够侦测由光束分裂器3进行反射并朝向后述的空间光调制器S1的光束的倾斜角。第1CCD摄像部32是入射角侦测部的一个例子，用于侦测向空间光调制器所入射的照明光对空间光调制器形成的入射角。
而且，在第2CCD摄像部33的侦测面33a处，可侦测经过了光束分裂器30的光束的横断面内的光量分布。藉由求取该光量分布的中心，可求取来自光束分裂器30的平行光束的位置偏离，进而可求取由光束分裂器3进行反射并朝向后述的空间光调制器S1的光束的位置偏离。
在这些第1及第2CCD摄像部32、33处，可接受来自光源1的多个脉冲光，并在1次以上的脉冲光的每次受光时输出侦测信号。
另外，在该构成中，为了依据需要而使朝向第1及第2CCD摄像部32、33的光的光量衰减，也可在光束分裂器3和第1及第2CCD摄像部32、33之间，插脱自如地配置由规定透过率的ND过滤器所形成的减光过滤器。利用减光过滤器的插脱和第1及第2CCD摄像部32、33的增益调整，可使该CCD摄像部的侦测信号的位准符合适当范围。
来自这些第1及第2CCD摄像部32、32的包含光束角度偏离资讯及光束位置偏离资讯的侦测信号，向控制部20输出。利用光束分离器3进行反射并偏向Y方向的光束，入射至空间光调制单元SM1。
空间光调制单元SM1如图2所示，具有棱镜P1和反射型的空间光调制器S1，其中，该空间光调制器S1是一体安装在棱镜P1上。棱镜P1具有直方体中的1个侧面凹陷为V字状楔形的形状。亦即，棱镜P1具有V字形的缺口，该缺口是由呈钝角交差的2个平面PS1、PS2构成。2个平面PS1、PS2是与图2的沿着X轴延伸的直线P1a相接触。空间光调制器S1安装在棱镜P1的V字状缺口的相反一侧的侧面上。2个平面PS1、PS2的内面是作为第1及第2反射面R11、R12而发挥机能。
棱镜P1是使安装有空间光调制器S1的侧面和光轴AX平行，且以第1反射面R11位于光束分裂器3侧，第2反射面R12位于后述的无焦透镜侧的形态进行配置。棱镜P1的第1反射面R11使(与光轴平行)入射的光向空间光调制器S1方向进行反射。空间光调制器S1是配置在第1反射面R11和第2反射面R12之间的光路中，将第1反射面R11所反射的光向第2反射面R12方向进行反射。棱镜P1的第2反射面R12将空间光调制器S1所反射的光进行反射，并向无焦透镜5侧射出。
空间光调制器S1依据在第1反射面R11所反射的光入射至空间光调制器S1的位置，而对该光赋予空间调制。空间光调制器S1如图3所示，包括呈二维排列的多个微小的要素反射镜SE1。例如，在入射至空间光调制器S1的光束中，分别使光线L1入射至空间光调制器S1的多个要素反射镜SE1中的要素反射镜SE1a，使光线L2入射至空间光调制器S1的多个要素反射镜SE1中的与要素反射镜SE1a不同的要素反射镜SE1b。要素反射镜SE1a、SE1b分别对光线L1、L2赋予依据其位置而设定的空间调制。
以使光线L1、L2入射至棱镜片P1的入射位置IP1、IP2，到光经由要素反射镜SE1a、SE1b而从棱镜片P1射出的射出位置OP1、OP2为止的空气换算长，与棱镜片P1不配置在曝光光的光路中的情况下的、从相当于入射位置IP1、IP2的位置，到相当于射出位置OP1、OP2的位置为止的空气换算长相同的形态，来配置棱镜片P1。这里所说的空气换算长，为将光学系统中的光路长换算为折射率1的空气时的光路长，折射率n的媒质中的空气换算长为其物理的或实际的光路长乘以1/n的值。
空间光调制器S1如图3(a)所示，为包括多个要素反射器SE1的可动多面反射镜，其中，要素反射镜SE1为多个微小反射元件。各要素反射镜SE1可动，其反射面的姿势亦即反射面的倾斜角及倾斜方向是由SLM(spatiallight modulator，空间光调制器)驱动部26而分别独立地驱动控制，其中，SLM驱动部26是由控制部20进行控制。各要素反射镜SE1可以与其反射面平行且为彼此直交的二轴作为旋转轴，只连续地旋转所需的旋转角度。亦即，各要素反射镜SE1可受到控制以便在沿着反射面的二维空间中倾斜。
如图3(b)所示，作为一个例子，要素反射镜SE1的驱动机构包括：支持构件41，其以在该反射面内的直交的2轴周围可倾斜的状态而对要素反射镜SE1进行支持；支持基板42，其对该支柱构件41进行支持；四个电极43，其以包围支柱构件41的形态而设置在支持基板42上；以及未图示的四个电极，其与4个电极43对向而设置在要素反射镜SE1的背面上。在该构成例中，SLM(spatial light modulator)驱动部26藉由控制对应的4组电极43和要素反射镜SE1背面的电极之间的电位差，以控制在电极间所作用的静电力，而使要素反射镜SE1进行摇动及倾斜。藉此，可在规定的可变范围内，对要素反射镜SE1的反射面的直交的2轴周围的倾斜角连续地进行控制。空间光调制器S1的更加详细的构成，在例如日本专利早期公开的特开2002-353105号公报中有所揭示。另外，图3(b)所示的电极43是配置在与矩形要素反射镜SE1的各顶点(角部)相对应的位置，但也可配置在与矩形要素反射镜SE1的各边相对应的位置。
另外，要素反射镜SE1的驱动机构并不限定于本实施形态的构成，可使用其它的任意的机构。
在这里，要素反射镜SE1的外形是为正方形的平坦板状，但并不限定于此。但是，从光利用效率的观点来看，采用可无间隙排列的形状较佳。而且，邻接的要素反射镜SE1间的间隔为必要的最小限度较佳。另外，为了使照明条件可更加细微地变更，要素反射镜SE1尽可能小较佳。而且，要素反射镜SE1的反射面的形状并不限定于平面，也可为凹面或凸面等曲面。
空间光调制单元SM1可进行变形照明，在照明光学系统的光瞳位置(瞳面)上形成圆形、环带、2极、4极等所需的光强度分布。亦即，在控制部20可存取的存储部22中，在入射光强度未有参差不齐问题的光束的情况下，用于在照明光学系统的光瞳位置形成圆形、环带、2极、4极等的各光强度分布的、构成空间光调制器S1的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的资讯，是以一览表(look-up table)的形式进行存储。
控制部20根据侦测部30～33的侦测结果，在侦测到从光源1朝向空间光调制器S1的光路内的位置上的照明光的光强度存在参差不齐(不均匀性)的问题的情况下，当在照明光学系统的光瞳位置形成圆形、环带、2极、4极等各光强度分布时，是在光分布形状内，进行使光强度变得均匀的最佳化计算，算出各要素反射镜SE1的修正后的倾斜角、修正后的倾斜方向。根据这些修正后的倾斜角及倾斜方向的资讯，控制部20对SLM驱动部26送出控制信号，而SLM驱动部26控制各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向，而在照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布。
对该修正动作进行详细说明，控制部20根据侦测部30～33所侦测的照明光的光束横断面内的光强度分布，在空间光调制单元SM1的空间光调制器S1内的多个要素反射镜S E1的每一个，求取入射至该要素反射镜SE1的光的强度。然后，控制部20利用存储部22所记忆的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的资讯，和关于所求取的对各要素反射镜SE1的入射光的强度的资讯，计算在照明光学系统的光瞳位置所形成的光分布形状内的光强度分布。
然后，控制部20以各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向作为变量，以应在照明光学系统的光瞳位置上所形成的光分布形状内的光强度分布作为目标值，利用例如最小二乘法或衰减最小二乘法等适当的最小化方法，求取各要素反射镜SE1的修正后的倾斜角及修正后的倾斜方向。在该修正动作中，因为不利用需要计算时间的傅立叶(Fourier)转换，所以可迅速地计算出各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向。
而且，在入射至空间光调制单元SM1的光束从规定的初期状态成倾斜的情况下，会招致照明光学系统的光瞳位置处所形成的光分布形状在瞳面内的位置偏离。因此，在本实施形态中，控制部20根据侦测部30～33所侦测的照明光的角度偏离资讯，对空间光调制单元SM1的空间光调制器S1内的多个要素反射镜SE1的倾斜角进行修正。
具体地说，控制部20是利用侦测部30～33所侦测的照明光的角度偏离资讯，对存储部22内以一览表的形式而存储的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的资讯进行修正。作为一个例子，在照明光的角度偏离为θ的情况下，如利用各要素反射镜SE1进行反射，则角度偏离为2θ。用于修正该反射光的角度偏离2θ的各要素反射镜SE1的倾斜角为-θ。控制部20在以一览表的形式所存储的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的资讯上加上修正角-θ，而求取各要素反射镜SE1的修正后的倾斜角及修正后的倾斜方向。藉由进行该修正动作的构成，可省略在光源和曝光装置主体之间所配置的光轴倾斜修正机构。
在本实施形态中，空间光调制器S1控制入射光从矩形状而转换为环带状的光分布形状，而通过了空间光调制单元SM1的光束入射至无焦透镜(中继光学系统)5，并在无焦透镜5(进而在照明光学系统)的光瞳位置或该光瞳位置的附近形成环带状的光强度分布。无焦透镜5是使其前侧焦点位置和空间光调制器S1的位置设定为大致一致，且使其后侧焦点位置和图中虚线所示的规定面6的位置设定为大致一致的无焦系统(无焦点光学系统)。因此，入射至空间光调制器S1的光束在无焦透镜5的光瞳位置形成环带状的光强度分布之后，变成大致平行的光束而从无焦透镜5射出。
另外，在无焦透镜5的前侧透镜群5a和后侧透镜群5b之间的光路中，于照明光学系统的光瞳位置或其附近，从光源侧依次配置圆锥旋转三棱镜(axicon)系统87、第1圆柱透镜对88及第2圆柱透镜对89。
图4所示为在照明光学系统的光瞳位置或该光瞳位置的附近所配置的圆锥旋转三棱镜系统87的概略构成。圆锥旋转三棱镜系统87从光源侧依次设置第1棱镜87a和第2棱镜87b。第1棱镜87a具有凹圆锥状的折射面(凹状折射面)。第2棱镜87b具有可与第1棱镜87a的凹圆锥状的折射面抵接而相辅形成的凸圆锥状的折射面(凸状折射面)。第1棱镜87a是使平面朝向光源侧且使凹圆锥状的折射面朝向光罩M侧而配置，第2棱镜87b是使凸圆锥状的折射面朝向光源侧且使平面朝向光罩M侧而配置。
而且，使第1棱镜87a及第2棱镜87b中的至少一个可沿着光轴AX而移动地构成，且使第1棱镜87a的凹圆锥状的折射面和第2棱镜87b的凸圆锥状的折射面的间隔(以下称为圆锥旋转三棱镜系统87的间隔)可变地构成。这里，在第1棱镜87a的凹圆锥状的折射面和第2棱镜87b的凸圆锥状的折射面彼此抵接的状态下，圆锥旋转三棱镜87是作为平行平面板而发挥机能，不对通过后述的微型透镜阵列10所形成的环带状的二次光源产生影响。但是，当使第1棱镜87a的凹圆锥状的折射面和第2棱镜87b的凸圆锥状的折射面分离时，圆锥旋转三棱镜系统87作为所谓的光束扩展器而发挥机能。因此，随着圆锥旋转三棱镜87的间隔的变化，图1中以虚线表示的朝向规定面6的入射光束的入射角度发生变化。
图5为圆锥旋转三棱镜系统87对环带照明中所形成的二次光源的作用的说明图。图5(a)所示为在圆锥旋转三棱镜系统87的间隔为0且后述的可变焦距透镜7的焦点距离被设定为最小值的状态(以下称作“标准状态”)下所形成的最小环带状的二次光源130a，图5(b)所示为在将圆锥旋转三棱镜系统87的间隔扩大为规定的值的状态(可变焦距透镜7的焦点距离不变)下所形成的环带状的二次光源130b。二次光源130b的直径方向的宽度(外径和内径的差的1/2的值。在图中以双头箭形符号表示)是与二次光源130a的直径方向的宽度相同。藉由使圆锥旋转三棱镜系统87的间隔从0扩大到规定的值，可使环带状的二次光源的直径方向上的宽度与标准状态维持相同宽度，且使外径及内径较标准状态扩大。亦即，由于圆锥旋转三棱镜系统87的作用，而使环带状的二次光源的直径方向上的宽度不产生变化，其环带比(内径/外径)及大小(外径)都发生变化。
图6所示为在无焦透镜5的前侧透镜群5a和后侧透镜群5b之间的光路中所配置的第1圆柱透镜对88及第2圆柱透镜对89的概略构成图。如图4所示，第1圆柱透镜对88从光源侧依次由例如在YZ平面内具有负折射力且在XY平面内无折射力的第1圆柱负透镜88a，和同样在YZ平面内具有正折射力且在XY平面内无折射力的第1圆柱正透镜88b构成。另一方面，第2圆柱透镜对89从光源侧依次由例如在XY平面内具有负折射力且在YZ平面内无折射力的第2圆柱负透镜89a，和同样在XY平面内具有正折射力且在YZ平面内无折射力的第2圆柱正透镜89b构成。
第1圆柱负透镜88a和第1圆柱正透镜88b是以光轴AX为中心而一体进行旋转地构成。同样，第2圆柱负透镜89a和第2圆柱正透镜89b是以光轴AX为中心而一体进行旋转地构成。第1圆柱透镜对88作为沿着Z方向具有能量的光束扩展器而发挥机能，第2圆柱透镜对89作为沿着X方向具有能量的光束扩展器而发挥机能。而且，在本实施形态中，是将第1圆柱透镜对88及第2圆柱透镜对89的能量设定得相同。因此，通过了第1圆柱透镜对88及第2圆柱透镜对89的光束，沿着Z方向及X方向藉由相同的能量而受到扩大作用。
通过了无焦透镜5的光束，入射至σ值可变的可变焦距透镜7。规定面6的位置是配置在可变焦距透镜7的前侧焦点位置或其附近，而后述的微型透镜阵列10的入射面是配置在可变焦距透镜7的后侧焦点面或其附近。亦即，可变焦距透镜7是按照实质的光学上的傅立叶转换关系而配置该规定面6和微型透镜阵列10的入射面，进而将无焦透镜5的光瞳位置和微型透镜阵列10的入射面在光学上大致共轭地配置。因此，在微型透镜阵列10的入射面上，与无焦透镜5的光瞳位置同样地，形成以例如光轴AX为中心的环带状的照明区域。该环带状的照明区域的全体形状是依据可变焦距透镜7的焦点距离而相似地进行变化。亦即，藉由微型透镜阵列10而形成在与照明光学系统的光瞳位置成光学共轭的位置上的二次光源(面光源)的大小，可使激光光源1所射出的照明光的光量大致保持一定，且依据可变焦距透镜7的焦点距离而相似地进行变更。
图7为可变焦距透镜7对环带照明中所形成的二次光源的作用的说明图。图7(a)所示为在标准状态下所形成的环带状的二次光源130a，图7(b)所示为在将可变焦距透镜7的焦点距离向规定的值进行扩大的状态下(圆锥旋转三棱镜系统87的间隔不变)所形成的环带状的二次光源130c。参照图7(a)、图7(b)，藉由使可变焦距透镜7的焦点距离从最小值向规定的值进行扩大，而使照明光的光量大致保持一定，并使其全体形状变化为相似地进行扩大的环带状的二次光源130c。亦即，由于可变焦距透镜7的作用，环带状的二次光源的环带比不产生变化，而其宽度及大小(外径)一起进行变化。通过了可变焦距透镜7的光束入射至光束分裂器8。由光束分裂器8所反射的光束入射至CCD摄像部(侦测部)9。利用CCD摄像部9所形成的图像信号被输出向控制部20。光束分裂器8配置在空间光调制器和被照射面之间的光路内，有时称作光路分支构件，其从该光路将照明光的一部分进行分支并导向资讯取得部。
通过了光束分裂器8的光束，入射至作为光学积分仪的微型透镜阵列10。对微型透镜阵列10的入射光束的入射角度，伴随圆锥旋转三棱镜系统87的间隔的变化，而与向规定面6的入射光束角度的变化同样地进行变化。微型透镜阵列10为由纵横且稠密排列的多个具有正折射力的微小透镜构成的光学元件。构成微型透镜阵列10的各微小透镜，具有与在光罩(被照射面)M上应形成的照明区域的形状(进而为在晶圆W上应形成的曝光区域的形状)相似的矩形上的横断面。入射至微型透镜阵列10的光束由多个微小透镜进行二维分割，并在其后侧焦点面(进而为照明光瞳)上，形成具有与向微型透镜阵列10的入射光束所形成的照明区域大致相同的光分布的二次光源，亦即，由以光轴AX为中心的环带状的实质上的面光源所构成的二次光源。
在本例中，配置在被照射面上的光罩M是利用凯勒照(Kohler)明进行照明，所以该形成有2次光源的平面为与投影光学系统PL的孔径光阑共轭的面，也被称作照明装置IL的照明瞳面。典型地是被照射面(配置有光罩M的平面或配置有晶圆W的面)对照明瞳面形成光学傅立叶转换面。瞳强度分布为照明装置IL的照明瞳面上的光强度分布，或与照明瞳面共轭的平面上的光强度分布。但是，在由微型透镜阵列10所形成的波面分割数大的情况下，在微型透镜阵列10的入射面上所形成的全辉度分布与2次光源全体的全部光强度分布(瞳强度分布)具有高相关性，因此，微型透镜阵列10的入射面上或与该入射面共轭的平面上的光强度分布也称作瞳强度分布。关于这种微型透镜阵列10，可参照美国专利第6913373号说明图、美国专利公开公报的2008/0074631号。微型透镜阵列10也被称作微型复眼透镜。
从微型透镜阵列10的后侧焦点面上所形成的环带状的二次光源所发出的光束，通过可在微型透镜阵列10的后侧焦点面(射出面)或其附近配置设定的孔径光阑12。孔径光阑12是由例如虹彩光阑(iris stop)等构成，用于将微型透镜阵列10的后侧焦点面上所形成的二次光源的大小限制在规定的大小。经过了孔径光阑12的光束，经由光束分裂器14、聚光镜17a而在光罩遮板MB上重叠地进行照明。利用光束分裂器14所反射的光束通过透镜15，入射至光电二极管16。利用光电二极管16所形成的侦测信号向控制部20输出。光束分裂器14配置在空间光调制器和被照射面之间的光路内，有时称作光路分支构件，从该光路将照明光的一部分进行分支并导向资讯取得部。
在作为照明视野光阑的光罩遮板MB上，形成有与构成微型透镜阵列10的各微小透镜的形状和焦点距离相称的矩形状的照明区域。通过了光罩遮板MB的矩形状的开口部的光束，在受到成像光学系统17b的集光作用后，由反射镜19进行反射，而对形成有规定图案的光罩M重叠地进行照明。亦即，成像光学系统17b在光罩载台MS所载置的光罩M上，形成光罩遮板MB的矩形状开口部的像。另外，激光光源1～反射镜19，CCD摄像部32，33及空间光解调单元SM1等构成照明光学系统。
透过了光罩M的图案的光束经由投影光学系统PL，在作为感光性基板的晶圆W上形成光罩M的图案像。这样，藉由在与投影光学系统PL的光轴AX直交的平面内，对晶圆载台WS上的晶圆W进行二维驱动控制并进行整体曝光或扫描曝光，从而在晶圆W的各曝光区域上依次曝光该光罩M的图案。
而且，在关于本实施形态的曝光装置中，控制部20根据来自CCD摄像部9的侦测信号，按照规定的时间间隔来对照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处的光强度分布(关于光强度分布的资讯)进行侦测。当在照明光学系统的光瞳位置处未形成所需的光强度分布，或在光分布形状内侦测到光强度存在参差不齐(不均匀性)的问题，则控制部20进行最佳化计算的修正，该最佳化计算在控制部20内进行，是根据CCD摄像部32、33的侦测结果而对各要素反射镜SE1的倾斜角、倾斜方向的最佳化计算进行修正。亦即，控制部20是根据CCD摄像部32、33的侦测结果，而在照明光学系统的瞳面的光分布形状内，进行最佳化计算以使光强度变得均匀，但根据照明光学系统的经时性光学特性的变化等，在照明光学系统的光瞳位置的光分布形状内有时光强度不均匀。因此，控制部20根据CCD摄像部9的侦测结果，对最佳化计算的方法进行修正。然后，控制部20根据CCD摄像部32、33的侦测结果，利用修正了的最佳化计算而调整各要素反射镜SE1的倾斜角、倾斜方向，并根据该调整了的倾斜角及倾斜方向的资讯，使控制部20控制SLM驱动部26，且控制各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向，而在照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处形成所需的光分布形状。
另外，图1所示的本实施形态的曝光装置是保持晶圆W等的被处理基板，并与可移动的曝光载台(晶圆载台WS)分别设置，且在具有各种计测构件或感测器的计测载台上设置CCD摄像部(侦测部)39。该CCD摄像部39根据通过了照明光学系统及投影光学系统这两者的光，而侦测在与照明光学系统(投影光学系统)的光瞳位置成光学共轭的位置处的光强度分布，并将侦测结果向控制部20输出。如利用该CCD摄像部39，则除了照明光学系统以外，还可修正投影光学系统的经时性光学特性变化的影响。这种CCD摄像部39在例如美国专利公开第2008/0030707号公报中有所揭示。另外，具有上述那种计测载台的曝光装置在例如日本专利早期公开的特开平11-135400号中有所揭示。
关于CCD摄像部9，依据需要，有时还包括光电二极管16及CCD摄像部39中的某一个或者两个，称作取得有关光强度分布的资讯的资讯取得部。
如利用本实施形态的曝光装置，则是根据CCD摄像部32、33的侦测结果，利用最佳化计算来对空间光调制器的各要素反射镜的倾斜角、倾斜方向进行调制，以使照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处的光强度分布形成所需的光强度分布，所以，与对照明光学系统的光瞳位置处的光强度分布进行侦测，并根据该侦测结果而计算构成空间光调制器S1的各要素反射镜SE1的最佳倾斜角及倾斜方向的情况相比之下，可以较少的计算量而计算各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向，因此能够在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置成光学共轭的位置处容易地形成所需的光强度分布。而且，因为是按照规定时间间隔来侦测照明光学系统的光瞳位置的光强度分布，并根据该侦测结果，对根据CCD摄像部32、33的侦测结果的最佳化计算进行修正，所以能够确保根据CCD摄像部32、33的侦测结果的最佳化计算的正确性。因此，能够以高析像能力且生产能力良好地，将光罩的图案在晶圆上进行曝光。
而且，在上述的实施形态中是利用1个空间光调制器，但也可为利用多个空间光调制器的构成。以下参照图8，对利用多个空间光调制器的变形例进行说明。
图8所示的空间光调制单元SM2是配置在图1所示的空间光调制单元SM1的位置，亦即配置在光束分裂器3和无焦透镜5之间的光路中，图8中只表示光束分裂器3和无焦透镜5之间的光路。
该空间光调制单元SM2具有一种分割导光构件，将入射的光分割为2道光(一般为多道光)，并将第1道光导向第1空间光调制器S2，将第2道光导向第2空间光调制器S3。
在图8的变形例中，是利用沿着YZ平面的断面为三角形状且全体具有三角柱状的形态的棱镜P2，作为分割导光构件。棱镜P2含有光轴，并具有关于与YZ平面平行的面对称的一对侧面PS3及PS4。侧面PS3作为将入射的光朝着第1空间光调制器S2的多个要素反射镜进行反射的反射面R21而发挥机能，侧面PS4作为将入射的光朝着第2空间光调制器S3的要素反射镜进行反射的反射面R31而发挥机能。而且，棱镜P2沿着反射面R21和R31的棱线(ridge lines)，将入射光分割为2道光。
换言之，作为分割导光构件的棱镜P2具有第1偏向面R21和第2偏向面R31，并沿着第1偏向面R21和第2偏向面R31的棱线，将入射光分割为第1道光和第2道光，其中，第1偏向面R21是使入射的光朝着第1空间光调制器S2偏转，第2偏向面R31是使入射的光朝着第2空间光调制器S3偏转。经过了第1空间光调制器S2的光利用平面反射镜PS5的反射面(第3偏向面)R22而进行反射，并从空间光调制单元SM2射出。经过了第2空间光调制器S3的光利用平面反射镜PS6的反射面(第4偏向面)R32进行反射，并从空间光调制单元SM2射出。
另外，第1及第2空间光调制器S2及S3的构成为与上述空间光调制器S1相同的构成，所以在此省略说明。
在像这样设置有分割导光构件P2以将入射光分割为多道光而导向多个空间光调制器S2、S3的情况下，如入射至分割导光构件P2的光束的位置产生偏离，则导向空间光调制器S2、S3的光量比产生变化，有可能使照明光学系统的光瞳位置处所形成的光强度分布未形成所需的分布。但是，在本变形例中，可利用侦测部30～33而侦测入射至分割导光构件P2的光束的位置偏离，并对各空间光调制器S2、S3内的各要素反射镜的倾斜角及倾斜方向进行修正，以修正因该光束的位置偏离所引起的、在照明光学系统的光瞳位置所形成的光分布形状内的光强度分布的误差。
另外，在上述实施形态及变形例的曝光装置中，作为具有二维排列且个别地进行控制的多个反射要素的空间光调制器，是利用能够个别地控制二维排列的反射面的姿势的空间光调制器，但作为这种空间光调制器，可利用例如日本专利的特表平10-503300号公报及与其对应的欧洲专利公开第779530号公报、日本专利早期公开的特开2004-78136号公报及与其对应的美国专利第6,900,915号公报、日本专利的特表2006-524349号公报及与其对应的美国专利第7,095,546号公报以及日本专利早期公开的特开2006-113437号公报所揭示的空间光调制器。在这些空间光调制器中，可使经过了空间光调制器的个别的反射面的各种光以规定的角度入射至分布形成光学系统，并在照明瞳面上形成与对多个光学要素的控制信号相对应的规定的光强度分布。
而且，作为空间光调制器，也可利用例如二维排列并可个别控制反射面的高度的空间光调制器。作为这种空间光调制器，可利用例如日本专利早期公开的特开平6-281869号公报及与其对应的美国专利第5,312,513号公报以及日本专利的特表2004-520618号公报及与其对应的美国专利第6,885,493号公报的图1d所揭示的空间光调制器。在这些空间光调制器中，藉由形成二维的高度分布，可对入射光赋予与折射面同样的作用。
另外，也可将上述具有二维排列的多个反射面的空间光调制器，依据例如日本专利的特表2006-513442号公报及与其对应的美国专利第6,891,655号公报或日本专利的特表2005-524112号公报及与其对应的美国专利公开第2005/0095749号公报所揭示的内容而进行变形。
而且，在上述实施形态的曝光装置中，是利用ArF准分子激光光源或KrF准分子激光光源作为激光光源，但也可利用F2激光光源。
在上述各实施形态及变形例的曝光装置中，也可如以下那样来控制空间光调制器。
作为控制的前提，是考虑在照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处，形成某种特定的光强度分布(以下称作第1光瞳强度分布)的情况。而且，在实际的曝光之前，执行以下的程序作为校正程序。
首先，利用可看作侦测部的第1CCD摄像部32及第2CCD摄像部33，对朝向空间光调制器S1(S2、S3)的光束的入射角及光束断面内的光量分布进行计测。而且，侦测部将该计测结果对控制部20进行输出。
接着，控制部20根据从存储部22所读出的用于生成第1光瞳强度分布的空间光调制器S1的各要素反射镜的倾斜角及倾斜方向的资讯，和可从侦测部的计测结果所算出的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的修正资讯，对SLM驱动部26送出控制信号。SLM驱动部26根据来自SLM驱动部26的控制信号，设定各要素反射镜的倾斜角及倾斜方向。
在该设定后，利用摄像部39来对与投影光学系统的光瞳位置共轭的位置处的光强度分布进行计测。由摄像部39所得到的该计测结果被传向控制部20。此时，利用CCD摄像部9也计测在光学积分器10的入射面上所形成的光强度分布。利用CCD摄像部9的计测结果也被传向控制部20。另外，在利用摄像部39进行计测时，是利用不形成图案的光透过性基板来作为光罩M。
控制部20对摄像部39所计测的光强度分布和应形成的第1光瞳强度分布进行比较。在这里，当比较的结果相同(如差在容许范围内)，则将CCD摄像部9的计测结果与第1光瞳强度分布建立关联并存储在存储部22中。另外，如比较的结果不相同(如差在容许范围外)，则反复执行通过SLM驱动部26的空间光调制器S1的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向的再设定的程序，和利用摄像部39来进行的计测的程序。
如实际的曝光中所利用的光瞳强度分布的种类还存在上述第1光瞳强度分布以外的光瞳强度分布，则在该每一光瞳强度分布(第2光瞳强度分布、第3光瞳强度分布...)预先执行上述的校正程序。
在实际的曝光时，是在对1批晶圆的曝光之前，利用第1及第2CCD摄像部32、33计测入射至SLM的光束的入射角及光束横断面内的光量分布，并根据该计测结果，通过SLM驱动部26而设定空间光调制器S1的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向。然后，利用CCD摄像部9来计测此时入射至光学积分仪10的光束的横断面内光强度分布，并将该计测结果与存储部22内所存储的与第1光瞳强度分布建立关联的计测结果进行比较。当该比较的结果相同(如差在容许范围以内)，则进行实际的曝光，如不相同(如差在容许范围以外)，则通过SLM驱动部26来对空间光调制器S1的各要素反射镜SE1的倾斜角及倾斜方向进行调整。
如利用该程序，则是利用总是能够计测的CCD摄像部9而进行计测，所以不会招致生产能力的低下。另一方面，在利用摄像部39进行计测的情况下，需要使摄像部39位于投影光学系统的射出侧，在该动作中，不能进行使晶圆载台移动到投影光学系统的射出侧的动作，这是因为该动作的时间就有可能导致生产能力的低下。
接着，对利用上述实施形态的曝光装置的元件制造方法进行说明。图9所示为半导体元件的制造步骤的流程图。如该图9所示，在半导体元件的制造步骤中，在形成半导体元件的基板的晶圆W上蒸镀金属膜(步骤S40)，并在该蒸镀的金属膜上涂敷作为感光性材料的光阻(步骤S42)。接着，利用实施形态的曝光装置，使光栅(光罩)R上所形成的图案转印到晶圆W的各拍摄(shot)区域上(步骤S44：曝光步骤)，并进行该转印结束了的晶圆W的显像，亦即进行转印了图案的光阻的显像(步骤S46：显像步骤)。然后，将利用步骤S46而在晶圆W表面上所生成的光阻图案作为光罩，对晶圆W表面进行蚀刻等加工(步骤S48：加工步骤)。
这里所说的光阻图案，是生成有与实施形态的曝光装置所转印的图案相对应的形状的凹凸的光阻层，且其凹部贯通光阻层。在步骤S48中，通过该光阻图案而进行晶圆W表面的加工。在步骤S48所进行的加工中，包含例如晶圆W表面的蚀刻或金属膜等的成膜中的至少一种。另外，在步骤S44中，实施形态的曝光装置将涂敷有光阻的晶圆W作为感光性基板亦即平板P，以进行图案的转印。
图10所示为液晶显示元件等液晶元件的制造步骤的流程图。如该图10所示，在液晶元件的制造步骤中依次进行图案形成步骤(步骤S50)、滤色器形成步骤(步骤S52)、单元组装步骤(步骤S54)及模组组装步骤(步骤S56)。
在步骤S50的图案形成步骤中，利用实施形态的曝光装置，在作为平板P而涂敷有光阻的玻璃基板(或涂敷有光阻的晶圆W)上，形成电路图案及电极图案等规定的图案。在该图案形成步骤中，包括：曝光步骤，其利用实施形态的曝光装置而在光阻层上转印图案；显像步骤，其进行转印了图案的平板P的显像，亦即玻璃基板上的光阻层的显像，生成与图案对应的形状的光阻层；加工步骤，其通过该显像了的光阻层而对玻璃基板的表面进行加工。
在步骤S52的滤色器形成步骤中形成这样的滤色器，使对应于R(Red)、G(Green)、B(blue)的3点的组合呈矩阵状排列多个，或使R、G、B的3根线式滤色器的组合沿着水平扫描线方向而排列多个。
在步骤S54的单元组装步骤中，利用由步骤S50而形成有规定图案的玻璃基板以及由步骤S52所形成的滤色器，以组装液晶面板(液晶单元)。具体地说，是藉由在例如玻璃基板和滤色器之间注入液晶而形成液晶面板。
在步骤S56的模组组装步骤中，对利用步骤S54所组装的液晶面板，安装用于进行该液晶面板的显示动作的电气电路及背光灯等各种构件。
作为上述的CCD摄像元件，可使用例如具有CMOS摄像感测器、光电二极管阵列或摄像管的摄像单元。
在上述实施形态中可应用所谓的液浸(immersion)技术，这是利用折射率大于1.1的媒体(典型的是液体)来充满投影光学系统和感光性基板之间的光路的内部的技术。在这种情况下，作为利用液体来充满投影光学系统和感光性基板之间的光路的内部的技术，可采用以下的技术。例如国际专利WO99/49504号所揭示的利用液体来局部充满该光路的技术，日本专利早期公开的特开平6-124873号所揭示的使保持被曝光基板的载台在液体浴(bath)内进行移动的技术，日本专利早期公开的特开平10-303114号揭示的在载台上所形成的规定深度的液体浴中保持基板的技术等。
在上述实施形态中，也可应用美国专利公开公报2006/0203214号、2006/0170901号、2007/0146676号所揭示的所谓偏光照明法。
而且，本发明并不限定应用于半导体元件制造用的曝光装置，也可广泛应用于例如在角型的玻璃板上所形成的液晶显示元件或电浆显示器等显示装置用的曝光装置，或者用于制造摄像元件(CCD等)、微型机器、薄膜磁头及DNA晶片等各种元件的曝光装置。另外，本发明也可应用于利用光蚀刻步骤来制造形成有各种元件的光罩图案的光罩(光掩膜、光栅等)时的曝光步骤(曝光装置)。

Claims (15)

1.一种照明光学系统，为一种利用由光源所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统，其特征在于其包括：
空间光调制器，配置在前述照明光学系统的光路内，并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动，在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处形成所需的光强度分布；
侦测部，具有接受前述照明光的一部分的受光面，并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测；以及
控制部，根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布，对前述空间光调制器进行控制。
2.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述照明光包括多个脉冲光；
前述侦测部的前述受光面在前述多个脉冲光中的1个以上脉冲光的每一次，接受根据前述脉冲光所形成的前述照明光的前述光强度分布；
前述控制部根据在前述1个以上脉冲光的每一次所侦测的多个前述照明光的前述光强度分布，对前述空间光调制器进行控制。
3.根据权利要求1或2所述的照明光学系统，其特征在于其中，
具有资讯取得部，用于取得关于前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的处理处的光强度分布；
前述控制部根据前述资讯取得部所取得的前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处的光强度分布，对前述控制部的控制进行修正。
4.根据权利要求3所述的照明光学系统，其特征在于其中，具有光路分支构件，其配置在前述空间光调制器和前述被照射面之间的前述照明光学系统的光路内，且从该光路的前述照明光分出一部分的照明光并导向前述资讯取得部。
5.根据权利要求3所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述资讯取得部根据通过了前述被照射面的前述照明光，取得关于前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置成光学共轭的位置处的光强度分布的资讯。
6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的照明光学系统，其特征在于其中，前述空间光调制器包括：第1空间光调制器，与前述一部分的光学系统协动，在前述照明光学系统的前述光瞳位置或与前述光瞳位置成光学共轭的前述位置处形成第1光强度分布；以及第2空间光调制器，与前述一部分的光学系统协动，在前述照明光学系统的前述光瞳位置或与前述光瞳位置成光学共轭的前述位置处形成第2光强度分布。
7.根据权利要求6所述的照明光学系统，其特征在于其中，还具有分割导光构件，配置在前述光源和前述空间光调制器之间的光路中，用于将来自前述光源的前述照明光进行分割并导向前述第1及第2空间光调制器。
8.根据权利要求7所述的照明光学系统，其特征在于其中，前述侦测部对由前述光源朝向前述分割导光构件的光路内的位置处的前述照明光的前述光强度分布进行侦测。
9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述侦测部对到达前述受光面的前述照明光的位置进行侦测；
前述控制部根据到达前述受光面的前述照明光的前述位置，对前述空间光调制器进行控制。
10.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述侦测部具有对入射至前述空间光调制器的照明光向前述空间光调制器的入射角进行侦测的入射角侦测部；
前述控制部根据前述入射角侦测部所侦测的前述入射角，对前述空间光调制器进行控制。
11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述空间光调制器具有二维排列的多个元件，
前述二维排列的多个元件为了对入射的光赋予空间光调制并射出之前，可彼此独立地进行控制。
12.根据权利要求11所述的照明光学系统，其特征在于其中，
前述多个元件分别具有反射面，
前述多个元件的前述反射面为了对入射的光赋予空间的光调制并射出之前，可彼此独立地进行控制。
13.根据权利要求12所述的照明光学系统，其特征在于其中，前述多个反射面的方位可彼此独立地进行控制。
14.一种曝光装置，为一种在感光性基板上转印规定的图案的曝光装置，具有用于对被照射面上所配置的前述图案进行照明的如权利要求1至13中任一权利要求所述的照明光学系统。
15.一种元件制造方法，其特征在于其包括，
利用权利要求14所述的曝光装置，将规定的图案在感光性基板上进行曝光，
并使转印了前述图案的前述感光性基板显像，将与前述图案相对应的形状的光罩层形成在前述感光性基板的表面上，
且通过前述光罩层来对前述感光性基板的表面进行加工。
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