CN101688980A - 抑制反射的线栅偏振器 - Google Patents

抑制反射的线栅偏振器 Download PDF

Info

Publication number
CN101688980A
CN101688980A CN200880021435A CN200880021435A CN101688980A CN 101688980 A CN101688980 A CN 101688980A CN 200880021435 A CN200880021435 A CN 200880021435A CN 200880021435 A CN200880021435 A CN 200880021435A CN 101688980 A CN101688980 A CN 101688980A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
reflection
polarization
grid
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN200880021435A
Other languages
English (en)
Inventor
汪斌
E·W·加德纳
R·T·珀金斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Moxtek Inc
Original Assignee
Moxtek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Moxtek Inc filed Critical Moxtek Inc
Publication of CN101688980A publication Critical patent/CN101688980A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles

Abstract

一种抑制反射的线栅偏振器(10a－e)，用以使入射的可见或红外光(12)偏振且选择性地抑制反射偏振，其包括设置在基底(14)上的至少三个层(18a－d)。偏振线栅层(18a)具有周期小于入射光波长的一半的平行金属线(22)的阵列。反射抑制层或栅(18c)包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料。电介质层或栅(18b，18d)包括无机的电介质材料。

Description

抑制反射的线栅偏振器
技术领域
本发明一般涉及这样的无机线栅偏振器，其被配置为基本抑制反射偏振，同时基本透射正交偏振，特别关注这样的偏振器在电磁波谱的可见和红外部分中的应用。
背景技术
为了使光偏振，或者使光的正交偏振方向分离，已经发展了各种类型的偏振器或偏振分束器(PBS)。Macneille PBS是基于沿着高折射率立方体(该PBS被构造于其中)的对角线在薄膜界面处实现Brewster角行为。这样的Macneille PBS不产生散光，但具有窄的接收角，并且成本和重量很高。这样的器件可通过对玻璃和薄膜的合适选择而被制造为从红外经过可见直至紫外范围内起作用。
许多其他类型的偏振器也常用于光谱的可见和红外部分，包括长链聚合物偏振器、线栅偏振器、Glan Thompson晶体偏振器等等。这些偏振器中的一些通过反射而将光分离成两种正交偏振，另一些通过吸收而进行分离。前者的实例包括诸如Glan Thompson型和Wollaston棱镜型的晶体偏振器、线栅偏振器、MacNeille棱镜型、以及诸如由3M制造的DBEF偏振器的特定聚合物反射偏振器。在吸收型的后者的实例包括长链聚合物“碘型”偏振器、最初由Polaroid发展的K薄片和H薄片型偏振器、以及在平板型液晶显示器中得到应用的各种其他类型。
通常，吸收型偏振器基于诸如聚合物的有机分子。值得注意的例外是最初由Corning发展的Polarcor型和诸如由德国的Codixx提供的类似产品。这种类型的偏振器已在红外光谱中得到多种应用，其中这种类型的偏振器在对比率和透射效率方面优良，但这仅限于在相当窄的波带内，可通过在制造过程中的适当改变来将该波带移动到希望的波长。然而，这种类型的偏振器尚未被成功扩展到可见光谱的绿色和蓝色部分，使得该技术在可见光谱中的作用很差。
这导致需要这样一种无机偏振器，对于可见光谱中的特定应用，该无机偏振器不具有一种偏振的显著或强的反射。这些应用的实例存在于透射式显示器市场，其中使用小的透射式液晶显示板来在屏幕上产生投射的影像。由于这种系统的光学设计，它们很难在光路的载像部分中使用反射偏振器。该困难有至少两个已知的原因。第一个原因在于，已知被反射回到显示板中的光由于干扰晶体管操作的光电效应而使得该板上的驱动电路中的晶体管无法操作。第二个问题在于，反射光会引起假像且引起在屏幕上的影像中的对比度的损失。
在历史上，这种投射式显示器的制造商在这种投射式显示器中已使用基于聚合物的吸收型偏振器。随着时间的过去，由于这些显示器变得越来越亮，这种偏振器变成系统中的弱点，导致对偏振器的早期故障的关注。为了解决该问题，已使用外来的导热基底材料(例如蓝宝石)，已采用强制气冷系统，甚至更多的外来设计已使用串联的多个偏振器，以便第一偏振器的故障被在顺序上后续的偏振器所屏蔽，以获得可接受的系统寿命。显示器市场的朝向更亮且更便宜显示的不断进步意味着这样的解决方案将不再使用的时代不久后即将到来。因此，预期这些透射式显示系统将需要新的解决方案。
发明内容
已经公认，发展这样的无机偏振器将是有利的，该无机偏振器具有基本受抑制的反射，同时仍提供对正交偏振的基本透射；其在蓝、绿和红色三种主色的每一种中具有大于约500∶1的透射对比度；其具有适当的接收角且在正入射处起作用；并且其可以以玻片(plate)形式制造。另外，如果可以以适当的成本制造这种偏振器以使其可应用于竞争激烈的显示市场中将是有利的。
本发明提供抑制反射的线栅偏振器器件，以使入射的可见或红外光偏振且选择性地抑制反射偏振。偏振线栅层被设置在基底上方，且具有周期小于入射光波长的一半的平行金属线的阵列。反射抑制层被设置在所述基底上方，且包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料。电介质层被设置在所述偏振线栅层与所述吸收层之间，且包括无机的电介质材料。
附图说明
通过结合附图而在下面给出的详细描述，本发明的其他特征和优点将显而易见，这些附图通过实例而一起示例出本发明的特征；并且其中：
图1a是根据本发明实施例的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图1b是根据本发明实施例的另一抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图1c是根据本发明实施例的另一抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图1d是根据本发明实施例的另一抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图1e是根据本发明实施例的另一抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图2a是根据本发明实施例的第一示例性的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图2b是示出图2a的偏振器器件的p偏振方向的透射比率、总反射和对比度相对于波长的计算得到的性能图；
图3a是根据本发明实施例的第二示例性的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图3b是示出图3a的偏振器器件的p偏振方向的透射比率、总反射和对比度相对于波长的计算得到的性能图；
图4a是根据本发明实施例的第三示例性的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图4b是示出图4a的偏振器器件的p偏振方向的透射比率、总反射和对比度相对于波长的计算得到的性能图；
图5a是根据本发明实施例的第四示例性的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图5b是示出图5a的偏振器器件的p偏振方向的透射比率、总反射和对比度相对于波长的计算得到的性能图；
图6a是根据本发明实施例的第五示例性的抑制反射的线栅偏振器器件的示意性截面侧视图；
图6b是示出图6a的偏振器器件的p偏振方向的透射比率、总反射和对比度相对于波长的计算得到的性能图.
为清楚起见夸大了附图中的各种特征。还应注意，附图中的特征没有按比例绘制。
现在将参考并在此使用特定的语言描述所示例的示例性实施例。然而应该理解，并不旨在由此限制本发明的范围。
具体实施方式
定义
在此使用术语电介质表示非金属光学材料，其典型地由金属氧化物或金属氮化物、金属氟化物或其他类似的材料构成。
在此使用术语碳表示任何形式的碳，例如石墨、玻璃碳、无定形碳等等。
在此使用术语非电介质表示金属光学材料，包括碳和硅。
描述
已经公认，线栅偏振器可向投射式显示系统(例如背投显示系统)提供提高的性能或对比度。另外，已经公认，线栅偏振器的传导线可吸收光且可发热。此外，已经公认，多层拉伸膜偏振器不耐用且由于其对光的吸收而在许多应用中不可靠，虽然希望这样的性能特征。
如在图1a-1e中所示例的，在根据本发明的示例性实施例中示出了通常在10a-e处表示的无机的抑制反射的线栅偏振器，用以使入射的可见或红外光12偏振，透射一种偏振30(例如p偏振方向)，并且选择性地抑制(由X表示)反射的偏振34(例如s偏振方向)。偏振器10可包括设置在基底14上方且由基底14承载的膜层的叠层18a-d。基底14可由无机的电介质材料(例如BK7玻璃或熔融硅石)形成。另外，这些膜层以及由此形成的叠层可由无机材料形成。线栅偏振器的膜层的叠层可包括至少三个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c以及使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b。另外，可以通过偏振层或反射抑制层中的一个而使第四层或第二电介质层18d与第一电介质层18b分隔。此外，这些层中的一者或多者可以不连续，从而形成形序双折射层。
偏振层18a是偏振线栅且包括平行金属线22的阵列，该平行金属线22的阵列的周期P小于入射光12的波长的一半。这些线由传导性材料形成。在一个方面中，这些线可由铝Al形成，如图1a-e中所示。在另一方面中，这些线可由银形成。对于可见光应用，或者当可见光入射在偏振器上时，线栅的线22的阵列的周期P小于350nm。在另一方面中，对于可见光应用，该周期可以小于200nm。在另一方面中，对于可见光应用，该周期可以小于120nm。已经发现，减小周期引起性能提高。对于红外应用，或者当红外光入射在偏振器上时，线栅的线22的阵列的周期P小于500nm。另外，这些线长于入射光的波长。这些线还可具有处于间距或周期的10％至90％的范围内的宽度w。对于可见光应用，这些线还可具有小于光波长或者小于400nm(0.4μm)的厚度或高度。在一个方面中，对于可见光应用，该厚度可以小于0.2μm。
电介质层18b(d)可以为电介质栅且包括无机的电介质材料。对于可见或红外应用，电介质材料至少分别在可见或红外光谱区中是光学透射的。在一个方面中，电介质层的电介质材料可以为二氧化硅(SiO2)。电介质层可以为不连续的，从而形成形序双折射层或电介质栅36，其具有被间隙分隔的平行脊38的阵列。电介质层的脊38可以具有与线栅的线相同的周期，并且可以与线栅的线对准。另外，电介质层中的一个或多个可被设置为与偏振层邻近。
反射抑制层18c包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料。在一个方面中，光学吸收材料可以为碳或硅，或者与线栅的线的金属不同的金属。由此，入射在该器件上的光被分成两种偏振，这两种偏振中的一种的大部分被吸收(例如s偏振方向)，其中一些能量被反射，并且这两种偏振中的另一种的大部分被透射(例如p偏振方向)，其中少量的一些能量被吸收。另外，反射抑制层可以是不连续的，从而形成具有平行脊28的阵列的反射抑制栅。
由此，入射在偏振器10a-d上的入射的可见或红外光束12将光分离成两种正交的偏振方向，其中具有s偏振方向(平行于脊的长度取向的偏振方向)光的大部分被吸收，其中一些能量被反射，并且具有p偏振方向(垂直于脊的长度取向的偏振方向)的光的大部分被透射或通过，其中少量的能量被吸收。(当然应理解，这两种偏振的分离不会是完全的，并且存在不希望的反射和/或透射的偏振方向的量的损失。)另外，应注意，其间距小于光波长的约一半的脊的阵列或栅与衍射光栅(其具有大于光波长的约一半的间距)的表现不同。由此，该栅偏振器避免衍射。此外，相信这样的周期也避免了共振效应或反常。
参考图1a，无机的抑制反射的线栅偏振器10a被配置有设置在偏振线栅层18a上方的反射抑制层18c。第一电介质层18b使得偏振层与反射抑制层分隔。第二电介质层18d设置在反射抑制层18c上方。所有的层18a-d都是不连续的。可通过沉积不同的层且蚀刻这些层以形成线和脊而制成该器件。电介质栅的电介质脊38、反射抑制栅的非电介质脊28以及线栅的线22对准且具有相同的周期。
参考图1b，无机的抑制反射的线栅偏振器10b与上面所述的相似，但包括形成在基底14b中且支撑其上的线和脊的多个脊54。可以通过穿过50而进入基底的过蚀刻来形成脊。脊可在基底与线之间形成另一电介质层。
参考图1c，无机的抑制反射的线栅偏振器10b与上述图1a中的相似，但层的叠层相反，以便偏振线栅层18a设置在反射抑制层18c上方。
参考图1d，无机的抑制反射的线栅偏振器10b与上述图1b中的相似，但层的叠层相反，以便偏振线栅层18a设置在反射抑制层18c上方。
参考图1e，无机的抑制反射的线栅偏振器10b与上述图1a中的相似，但还包括设置在基底与线栅的线之间的一个或多个连续的层，以形成抗反射涂层或者实现其他光学目的。
另外，每一层的厚度可被设计为对于希望的光谱范围使光学性能(透射效率和对比率)最优化。因此，虽然在附图中所述的各厚度相同，但应理解，这些厚度可以不同。虽然示出了具有四个膜层18a-d的叠层，但应理解，叠层中的膜层的数目可以改变。
如图1a-d中所示，所有的膜层都是不连续的且形成平行的脊或线的阵列。脊或线可以通过居间的沟槽34或凹槽而被分隔。在这种情况下，沟槽34延伸穿过膜层18a-d直到基底14，或者甚至进入基底中。如下所讨论的，这样的配置可便于制造。
可以不填充或用空气(n＝1)填充沟槽34。或者，可用对入射光透光的材料填充沟槽34。
相信膜层的双折射特征以及相邻膜层的不同折射率会使得栅偏振器基本分离入射光的偏振方向，基本吸收和反射s偏振方向的光，并且基本透射或通过p偏振方向的光(其中有少量吸收)。另外，相信可以调整膜层的数目、膜层的厚度以及膜层的折射率来改变栅偏振器的性能特征，只要这些层中的至少一个强烈吸收入射的UV光。
制造偏振器10a-d的方法包括获得或提供基底14。如上所述，基底14可以为BK7玻璃或熔融硅石玻璃。在所有方面中，基底可被选择为对电磁辐射的希望波长透明。该基底可被清理，或者被制备。在基底上连续形成所述层。如本领域中公知的，可通过沉积、化学气相沉积、旋涂等等，形成各层。构图连续的各层而产生具有平行脊或线的阵列且限定至少一个形序双折射层的不连续层。另外，可构图所有的连续层而产生所有不连续的层。如本领域中公知的，可通过蚀刻等等构图各层。
实例1
参考图2a，示出了被配置为用于红外光谱的抑制反射的线栅偏振器10f的第一非限制性实例。
偏振器10f具有设置在基底14上方的四个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c、使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b、以及通过反射抑制层而与第一电介质层18b分隔的第二电介质层18d。基底为玻璃，例如BK7。第一层或偏振层18a设置在基底上。偏振层18a为由铝(AL)形成的具有144nm的周期P的平行金属线22的阵列。偏振层18a具有77nm的厚度。反射抑制层18c由硅化铌(NbSi；在1550nm下，n≈3.8，k≈2.90)形成且具有50nm的厚度。第一和第二电介质层18b和18d由二氧化硅(SiO2)形成且各具有160nm的厚度。所有的层不连续，从而形成形序双折射层。周期P为144nm，其中占空比(DC)或者脊宽度与周期的比率为0.425，或者宽度为约61nm。选择硅化铌材料的原因在于其光学指标和其对入射光的光学吸收特性。该偏振器将透射光的p偏振方向而不反射任一偏振方向。
参考图2b，在红外光谱中示出了偏振器10f的计算得到的性能。可以看出，该偏振器具有对光的p偏振方向的高透射率(约95％)而基本上没有反射。另外，该偏振器具有约1000的对比率。
实例2
参考图3a，示出了被配置为用于可见光谱的抑制反射的线栅偏振器10g的第二非限制性实例。
偏振器10g具有设置在基底14上方的四个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c、使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b、以及通过反射抑制层而与第一电介质层18b分隔的第二电介质层18d。基底为玻璃，例如BK7。第一层或偏振层18a设置在基底上。偏振层18a为由铝(AL)形成的具有144nm的周期P的平行金属线22的阵列。偏振层18a具有170nm的厚度。反射抑制层18c由硅(Si；在550nm下，n≈4.85，k≈0.8632)形成且具有12nm的厚度。第一和第二电介质层18b和18d由二氧化硅(SiO2)形成且分别具有22nm和5nm的厚度。所有的层不连续，从而形成形序双折射层。周期P为144nm，其中占空比(DC)或者脊宽度与周期的比率为0.45，或者宽度为约67nm。选择硅材料的原因在于其光学指标和其对入射光的光学吸收特性。该偏振器将透射光的p偏振方向而不反射任一偏振方向。
参考图3b，在可见光谱中示出了偏振器10g的计算得到的性能。可以看出，该偏振器具有对光的p偏振方向的高透射率(约80％)而具有很少的反射。另外，该偏振器具有跨过可见光谱的大于16000的对比率。
实例3
参考图4a，示出了被配置为用于可见光谱的抑制反射的线栅偏振器10h的第三非限制性实例。
偏振器10h具有设置在基底14上方的四个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c、使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b、以及通过反射抑制层而与第一电介质层18b分隔的第二电介质层18d。基底为玻璃，例如BK7。第一层或偏振层18a设置在基底上。偏振层18a为由铝(AL)形成的具有144nm的周期P的平行金属线22的阵列。偏振层18a具有170nm的厚度。反射抑制层18c由钽(Ta；在550nm下，n≈2.95，k≈3.52)形成且具有13nm的厚度。第一和第二电介质层18b和18d由二氧化硅(SiO2)形成且分别具有79nm和67nm的厚度。所有的层不连续，从而形成形序双折射层。周期P为144nm，其中占空比(DC)或者脊宽度与周期的比率为0.45，或者宽度为约67nm。选择钽材料的原因在于其光学指标和其对入射光的光学吸收特性。该偏振器将透射光的p偏振方向而不反射任一偏振方向。
参考图4b，在可见光谱中示出了偏振器10h的计算得到的性能。可以看出，该偏振器具有对光的p偏振方向的高透射率(约70％)而基本上没有反射。另外，该偏振器具有跨过可见光谱的大于20000的对比率。
实例4
参考图5a，示出了被配置为用于红外光谱的抑制反射的线栅偏振器10i的第四非限制性实例。
偏振器10i具有设置在基底14上方的四个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c、使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b、以及通过反射抑制层而与第一电介质层18b分隔的第二电介质层18d。基底为玻璃，例如BK7。第一层或偏振层18a设置在基底上。偏振层18a为由铝(AL)形成的具有144nm的周期P的平行金属线22的阵列。偏振层18a具有80nm的厚度。反射抑制层18c由碳(C；在1550nm下，n≈3.34，k≈1.6299)形成且具有107nm的厚度。第一和第二电介质层18b和18d由二氧化硅(SiO2)形成且分别具有44nm和67nm的厚度。所有的层不连续，从而形成形序双折射层。周期P为144nm，其中占空比(DC)或者脊宽度与周期的比率为0.45，或者宽度为约67nm。选择碳材料的原因在于其光学指标和其对入射光的光学吸收特性。该偏振器将透射光的p偏振方向而不反射任一偏振方向。
参考图5b，在红外光谱中示出了偏振器10i的计算得到的性能。可以看出，该偏振器具有对光的p偏振方向的高透射率(约90％)而具有很少的反射。另外，该偏振器具有跨过红外光谱的大于800的对比率。
实例5
参考图6a，示出了被配置为用于可见光谱的抑制反射的线栅偏振器10j的第五非限制性实例。
偏振器10j具有设置在基底14上方的四个层，包括偏振层18a、反射抑制层18c、使偏振层与反射抑制层分隔的电介质层18b、以及通过反射抑制层而与第一电介质层18b分隔的第二电介质层18d。基底为玻璃，例如BK7玻璃。第一层或偏振层18a设置在基底上。偏振层18a为由铝(AL)形成的具有144nm的周期P的平行金属线22的阵列。偏振层18a具有1550nm的厚度。反射抑制层18c由碳(C；在550nm下，n≈2.35，k≈0.8344)形成且具有48nm的厚度。第一和第二电介质层18b和18d由二氧化硅(SiO2)形成且分别具有20nm和30nm的厚度。所有的层不连续，从而形成形序双折射层。周期P为144nm，其中占空比(DC)或者脊宽度与周期的比率为0.45，或者宽度为约67nm。选择碳材料的原因在于其光学指标和其对入射光的光学吸收特性。该偏振器将透射光的p偏振方向而不反射任一偏振方向。
参考图6b，在可见光谱中示出了偏振器10j的计算得到的性能。可以看出，该偏振器具有对光的p偏振方向的高透射率(在可见光谱上的大于约60％且高达80％)而基本上没有反射。另外，该偏振器具有在可见光谱上的大于8000的对比率。
在美国专利5,986,730；6,081,376；6,122,103；6,208,463；6,243,199；6,288,840；6,348,995；6,108,131；6,452,724；6,710,921；6,234,634；6,447,120；以及6,666,556中示出了线栅偏振器、光学系统和/或投射/显示系统的不同方面，其在此引入作为参考。
虽然上述实例是本发明的原理在一种或多种特定的应用中的示例，但对于本领域的普通技术人员而言，很显然，在不需创造性的劳动并且不偏离本发明的原理和构思的情况下，可以在实施的形式、用法和细节上进行许多修改。因此，本发明旨在仅受下面提出的权利要求的限制。

Claims (19)

1.一种抑制反射的线栅偏振器器件，用以使入射的可见或红外光偏振且选择性地抑制反射偏振，所述器件包括：
a)基底；
b)偏振线栅层，其设置在所述基底上方，且具有周期小于入射光波长的一半的平行金属线的阵列；
c)反射抑制层，其设置在所述基底上方，且包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料；以及
d)电介质层，其设置在所述偏振线栅层与所述反射抑制层之间，且包括无机的电介质材料。
2.根据权利要求1的器件，其中所述电介质层是第一电介质层，且还包括：
第二电介质层，其设置在所述基底上方且通过所述反射抑制层或所述偏振线栅层而与所述第一电介质层分隔，并且包括无机的电介质材料。
3.根据权利要求1的器件，其中所述反射抑制层不连续，从而形成限定反射抑制栅的平行脊的阵列；并且其中所述电介质层不连续，从而形成限定电介质栅的平行脊的阵列。
4.根据权利要求1的器件，其中所述器件选择性地吸收可见光谱内的光；其中所述线栅层的线的阵列的周期小于350nm；并且其中所述反射抑制层的材料包括光学吸收可见光谱内的光的材料。
5.根据权利要求1的器件，其中所述器件选择性地吸收红外光谱内的光；其中所述线栅层的线的阵列的周期小于500nm；并且其中所述反射抑制层的材料包括光学吸收红外光谱内的光的材料。
6.根据权利要求1的器件，其中所述反射抑制层的材料不同于所述线栅的所述金属线的材料。
7.根据权利要求1的器件，其中所述反射抑制层的材料选自：碳、硅、硅化铌、钽、及其组合。
8.一种抑制反射的线栅偏振器器件，用以使入射的可见或红外光偏振且选择性地抑制反射偏振，所述器件包括：
a)基底；
b)偏振线栅，其设置在所述基底上方，且具有周期小于入射光波长的一半的平行金属线的阵列；
c)无机的电介质栅，其设置在所述偏振线栅上方，且具有与所述偏振线栅的线对准的平行脊的阵列；以及
d)非电介质的反射抑制栅，其设置在所述无机的电介质栅上方，且具有与所述无机的电介质栅的脊对准的平行脊的阵列，并且包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料。
9.根据权利要求8的器件，还包括：
第二无机的电介质层，其设置在所述反射抑制层上方。
10.根据权利要求8的器件，其中所述非电介质的反射抑制栅的材料不同于所述线栅的所述金属线的材料。
11.根据权利要求8的器件，其中所述器件选择性地吸收可见光谱内的光；其中所述线栅的线的阵列的周期小于350nm；并且其中所述反射抑制层的材料包括光学吸收可见光谱内的光的材料。
12.根据权利要求8的器件，其中所述器件选择性地吸收红外光谱内的光；其中所述线栅层的线的阵列的周期小于500nm；并且其中所述反射抑制栅的材料包括光学吸收红外光谱内的光的材料。
13.根据权利要求9的器件，其中所述反射抑制栅的材料选自：碳、硅、硅化铌、钽、及其组合。
14.一种抑制反射的线栅偏振器器件，用以使入射的可见或红外光偏振且选择性地抑制反射偏振，所述器件包括：
a)基底；
b)由所述基底承载的多个不同的交替层，这些层不连续，从而形成周期小于入射光波长的一半的平行脊的阵列；
c)所述层中的一个，其包括传导性材料且限定偏振线栅；
d)所述层中的一个，其包括无机的电介质材料且限定电介质栅；以及
e)所述层中的一个，其包括光学吸收可见或红外光的无机的非电介质材料且限定反射抑制栅。
15.根据权利要求14的器件，还包括：
所述层中的一个，其限定第二电介质栅且包括无机的电介质材料。
16.根据权利要求14的器件，其中所述器件选择性地吸收可见光谱内的光；其中所述线栅的线的阵列的周期小于350nm；并且其中所述反射抑制层的材料包括光学吸收可见光谱内的光的材料。
17.根据权利要求14的器件，其中所述器件选择性地吸收红外光谱内的光；其中所述线栅层的线的阵列的周期小于500nm；并且其中所述反射抑制栅的材料包括光学吸收红外光谱内的光的材料。
18.根据权利要求14的器件，其中所述反射抑制栅的材料选自：碳、硅、硅化铌、钽、及其组合。
19.根据权利要求14的器件，其中所述器件具有在整个可见光谱上的大于约500∶1的透射率对比度。
CN200880021435A 2007-06-22 2008-06-19 抑制反射的线栅偏振器 Pending CN101688980A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/767,336 2007-06-22
US11/767,336 US20080316599A1 (en) 2007-06-22 2007-06-22 Reflection-Repressed Wire-Grid Polarizer
PCT/US2008/067427 WO2009002792A2 (en) 2007-06-22 2008-06-19 Reflection-repressed wire-grid polarizer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101688980A true CN101688980A (zh) 2010-03-31

Family

ID=40136192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200880021435A Pending CN101688980A (zh) 2007-06-22 2008-06-19 抑制反射的线栅偏振器

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20080316599A1 (zh)
EP (1) EP2158515A2 (zh)
JP (1) JP2010530995A (zh)
CN (1) CN101688980A (zh)
WO (1) WO2009002792A2 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102636897A (zh) * 2011-02-14 2012-08-15 三星电子株式会社 显示面板
CN108073013A (zh) * 2016-11-14 2018-05-25 大立光电股份有限公司 遮光片、成像镜头与电子装置
CN108680982A (zh) * 2018-05-18 2018-10-19 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
CN101084537A (zh) * 2004-12-21 2007-12-05 皇家飞利浦电子股份有限公司 光源
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
US8098430B2 (en) * 2009-05-01 2012-01-17 Toyota Motor Engineering And Manufacturing North America, Inc. Grating structure for directing non-polarized light
US8264773B2 (en) * 2009-05-01 2012-09-11 Toyota Motor Engineering And Manufacturing North America, Inc. Grating structure for splitting light
TW201041190A (en) * 2009-05-01 2010-11-16 Univ Nat Taiwan Science Tech Polarized white light emitting diode (LED)
US8248696B2 (en) 2009-06-25 2012-08-21 Moxtek, Inc. Nano fractal diffuser
JP5636650B2 (ja) * 2009-08-14 2014-12-10 セイコーエプソン株式会社 偏光素子および投写型表示装置
JP5527074B2 (ja) * 2009-11-16 2014-06-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子及びプロジェクター
US8675279B2 (en) * 2009-12-15 2014-03-18 Toyota Motor Engineering And Manufacturing North America, Inc. Grating structure for dividing light
JP5463947B2 (ja) * 2010-02-19 2014-04-09 セイコーエプソン株式会社 偏光素子及びプロジェクター
JP5526851B2 (ja) * 2010-02-19 2014-06-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子及びプロジェクター
US20120013981A1 (en) * 2010-07-19 2012-01-19 Sol-Grid, Llc Photochromic optical elements
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
JP5760388B2 (ja) 2010-11-01 2015-08-12 セイコーエプソン株式会社 偏光素子とその製造方法、プロジェクター、液晶装置、電子機器
US8848141B2 (en) 2011-02-14 2014-09-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel and display apparatus having the same
US8587751B2 (en) 2011-02-14 2013-11-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel and display apparatus having the same
EP2487529B1 (en) * 2011-02-14 2014-05-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel comprising metal grid color selective polarizer
JP2012181420A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Sony Chemical & Information Device Corp 偏光素子
US8913320B2 (en) 2011-05-17 2014-12-16 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with bordered sections
US8873144B2 (en) 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
JP5938241B2 (ja) * 2012-03-15 2016-06-22 日立マクセル株式会社 光学素子およびその製造方法
US8922890B2 (en) 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
JP2013234941A (ja) * 2012-05-10 2013-11-21 Seiko Epson Corp センサーチップ並びにセンサーカートリッジおよび検出装置
JP6100492B2 (ja) * 2012-09-05 2017-03-22 デクセリアルズ株式会社 偏光素子、プロジェクター及び偏光素子の製造方法
JP6047051B2 (ja) 2013-03-28 2016-12-21 日立マクセル株式会社 光学素子および光学装置
KR102082783B1 (ko) * 2013-07-23 2020-03-02 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광판 및 이를 구비하는 유기 발광 디스플레이 장치
KR102116308B1 (ko) 2013-09-04 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
US9348076B2 (en) 2013-10-24 2016-05-24 Moxtek, Inc. Polarizer with variable inter-wire distance
CN106661917A (zh) 2014-04-22 2017-05-10 米兰理工大学 用于选择性控制电磁辐射的交互式装置
JP2015219319A (ja) 2014-05-15 2015-12-07 デクセリアルズ株式会社 無機偏光板及びその製造方法
CN106662687A (zh) * 2014-06-25 2017-05-10 莫克斯泰克公司 具有双吸收区域的线栅偏振器
US9632224B2 (en) 2014-06-25 2017-04-25 Moxtek, Inc. Broadband, selectively-absorptive wire grid polarizer
US10088616B2 (en) * 2014-09-19 2018-10-02 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Panel with reduced glare
JP5936727B2 (ja) * 2015-02-09 2016-06-22 デクセリアルズ株式会社 偏光素子
US10534120B2 (en) 2015-04-03 2020-01-14 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with protected wires
CN105137649B (zh) * 2015-10-23 2018-01-12 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板
US10175401B2 (en) * 2015-11-12 2019-01-08 Moxtek, Inc. Dual-purpose, absorptive, reflective wire grid polarizer
JP6378252B2 (ja) * 2016-06-08 2018-08-22 デクセリアルズ株式会社 偏光素子及び液晶プロジェクター
US10571614B2 (en) 2016-08-16 2020-02-25 Moxek, Inc. Wire grid polarizer heat sink having specified reflective layer, absorptive layer, and heat-dissipation layer
US10408983B2 (en) 2016-08-16 2019-09-10 Moxtek, Inc. Durable, high performance wire grid polarizer having permeable junction between top protection layer
US10444410B2 (en) 2016-08-16 2019-10-15 Moxtek, Inc. Overcoat wire grid polarizer having conformal coat layer with oxidation barrier and moisture barrier
JP6953662B2 (ja) * 2016-11-22 2021-10-27 モックステック・インコーポレーテッド ワイヤグリッド偏光子ヒートシンク
US10139538B2 (en) * 2016-11-22 2018-11-27 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with high reflectivity on both sides
US11009634B2 (en) * 2017-01-18 2021-05-18 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University Structural color filter and method of manufacturing the structural color filter
JPWO2019009151A1 (ja) * 2017-07-03 2020-06-18 Ｓｃｉｖａｘ株式会社 光学部材およびこれを用いた光学系装置
US10649121B2 (en) * 2017-10-05 2020-05-12 Moxtek, Inc. Low Ts wire grid polarizer
KR102559836B1 (ko) * 2018-01-31 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 편광자, 상기 편광자를 포함한 광학 장치, 상기 편광자를 포함한 디스플레이 장치 및 상기 편광자의 제조 방법
JP2018189980A (ja) * 2018-07-19 2018-11-29 デクセリアルズ株式会社 偏光板
CN109581570B (zh) * 2018-11-23 2021-09-07 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅及其制造方法、显示面板、显示装置
JP2020098259A (ja) * 2018-12-18 2020-06-25 セイコーエプソン株式会社 表示装置、および反射型偏光素子
PH12020050192A1 (en) * 2019-07-17 2021-05-17 Moxtek Inc Reflective wire grid polarizer with transparent cap
WO2022010808A1 (en) * 2020-07-06 2022-01-13 Vision Ease, Lp Wire grid polarizer reflection control
WO2023069955A1 (en) * 2021-10-18 2023-04-27 Hoya Optical Labs Of America, Inc. Wire grid polarizer reflection control with colored films
JP2023108734A (ja) * 2022-01-26 2023-08-07 デクセリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光素子およびその製造方法ならびに光学機器
JP2023109636A (ja) * 2022-01-27 2023-08-08 デクセリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光素子およびその製造方法ならびに光学機器

Family Cites Families (99)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2237567A (en) * 1939-05-04 1941-04-08 Polaroid Corp Light polarizer and process of manufacturing the same
US3084590A (en) * 1959-02-26 1963-04-09 Gen Electric Optical system
US3235630A (en) * 1962-07-17 1966-02-15 Little Inc A Method of making an optical tool
US3436143A (en) * 1965-11-30 1969-04-01 Bell Telephone Labor Inc Grid type magic tee
US3566099A (en) * 1968-09-16 1971-02-23 Polaroid Corp Light projection assembly
CH558023A (de) * 1972-08-29 1975-01-15 Battelle Memorial Institute Polarisationsvorrichtung.
US3877789A (en) * 1972-11-08 1975-04-15 Marie G R P Mode transformer for light or millimeter electromagnetic waves
US4009933A (en) * 1975-05-07 1977-03-01 Rca Corporation Polarization-selective laser mirror
JPS6034742B2 (ja) * 1976-02-20 1985-08-10 ミノルタ株式会社 光学的ロ−パスフイルタ−
US4073571A (en) * 1976-05-05 1978-02-14 Hughes Aircraft Company Circularly polarized light source
US4181756A (en) * 1977-10-05 1980-01-01 Fergason James L Process for increasing display brightness of liquid crystal displays by bleaching polarizers using screen-printing techniques
US4514479A (en) * 1980-07-01 1985-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of making near infrared polarizers
EP0045104B1 (de) * 1980-07-28 1985-04-10 BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie. Homöotrop nematisches Display mit internem Reflektor
US4441791A (en) * 1980-09-02 1984-04-10 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror light modulator
US4512638A (en) * 1982-08-31 1985-04-23 Westinghouse Electric Corp. Wire grid polarizer
DE3244885A1 (de) * 1982-12-02 1984-06-07 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Farbselektiver zirkularpolarisator und seine verwendung
JPS626225A (ja) * 1985-07-02 1987-01-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置
US4724436A (en) * 1986-09-22 1988-02-09 Environmental Research Institute Of Michigan Depolarizing radar corner reflector
US4795233A (en) * 1987-03-09 1989-01-03 Honeywell Inc. Fiber optic polarizer
FR2623649B1 (fr) * 1987-11-23 1992-05-15 Asulab Sa Cellule d'affichage a cristal liquide
US4893905A (en) * 1988-06-10 1990-01-16 Hughes Aircraft Company Optical light valve system for providing phase conjugated beam of controllable intensity
JP2703930B2 (ja) * 1988-06-29 1998-01-26 日本電気株式会社 複屈折回折格子型偏光子
JPH0223304A (ja) * 1988-07-12 1990-01-25 Toray Ind Inc 可視偏光フイルム
US4895769A (en) * 1988-08-09 1990-01-23 Polaroid Corporation Method for preparing light polarizer
US4913529A (en) * 1988-12-27 1990-04-03 North American Philips Corp. Illumination system for an LCD display system
US5599551A (en) * 1989-06-06 1997-02-04 Kelly; Patrick D. Genital lubricants containing zinc as an anti-viral agent
US5486949A (en) * 1989-06-20 1996-01-23 The Dow Chemical Company Birefringent interference polarizer
US5279689A (en) * 1989-06-30 1994-01-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for replicating holographic optical elements
US5235443A (en) * 1989-07-10 1993-08-10 Hoffmann-La Roche Inc. Polarizer device
EP0416157A1 (de) * 1989-09-07 1991-03-13 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Polarisator
US5401587A (en) * 1990-03-27 1995-03-28 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Anisotropic nanophase composite material and method of producing same
KR920010809B1 (ko) * 1990-05-19 1992-12-17 주식회사 금성사 Lcd 프로젝터의 광학 시스템
US5083857A (en) * 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
JP2902456B2 (ja) * 1990-08-09 1999-06-07 株式会社豊田中央研究所 無機偏光薄膜
JPH07104450B2 (ja) * 1990-10-17 1995-11-13 スタンレー電気株式会社 二軸性光学素子とその製造方法
FR2669126B1 (fr) * 1990-11-09 1993-01-22 Thomson Csf Systeme de visualisation d'images fournies par un modulateur spatial avec transfert d'energie.
US5387953A (en) * 1990-12-27 1995-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Polarization illumination device and projector having the same
US5092774A (en) * 1991-01-09 1992-03-03 National Semiconductor Corporation Mechanically compliant high frequency electrical connector
JP2698218B2 (ja) * 1991-01-18 1998-01-19 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
DE69218830T2 (de) * 1991-05-29 1997-07-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Bildprojektions-System
EP0518333B1 (en) * 1991-06-14 2002-08-28 Hughes Aircraft Company Method for inducing tilted perpendicular alignment in liquid crystals
EP0522620B1 (en) * 1991-06-28 1997-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device
US5196953A (en) * 1991-11-01 1993-03-23 Rockwell International Corporation Compensator for liquid crystal display, having two types of layers with different refractive indices alternating
US5383053A (en) * 1992-04-07 1995-01-17 Hughes Aircraft Company Virtual image display having a high efficiency grid beamsplitter
JP3414399B2 (ja) * 1992-06-30 2003-06-09 シチズン時計株式会社 液晶表示ユニット及び液晶表示ユニットを用いた液晶プロジェクタ
US5480748A (en) * 1992-10-21 1996-01-02 International Business Machines Corporation Protection of aluminum metallization against chemical attack during photoresist development
TW289095B (zh) * 1993-01-11 1996-10-21
US5522111A (en) * 1993-03-02 1996-06-04 Marshalltown Trowel Company Finishing trowel handle
US5594561A (en) * 1993-03-31 1997-01-14 Palomar Technologies Corporation Flat panel display with elliptical diffuser and fiber optic plate
US5486935A (en) * 1993-06-29 1996-01-23 Kaiser Aerospace And Electronics Corporation High efficiency chiral nematic liquid crystal rear polarizer for liquid crystal displays having a notch polarization bandwidth of 100 nm to 250 nm
US5391091A (en) * 1993-06-30 1995-02-21 American Nucleonics Corporation Connection system for blind mate electrical connector applications
AU6245994A (en) * 1993-07-27 1995-02-28 Physical Optics Corporation High-brightness directional viewing screen
JPH0784252A (ja) * 1993-09-16 1995-03-31 Sharp Corp 液晶表示装置
US5499126A (en) * 1993-12-02 1996-03-12 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Liquid crystal display with patterned retardation films
US5504603A (en) * 1994-04-04 1996-04-02 Rockwell International Corporation Optical compensator for improved gray scale performance in liquid crystal display
US5619352A (en) * 1994-04-04 1997-04-08 Rockwell International Corporation LCD splay/twist compensator having varying tilt and /or azimuthal angles for improved gray scale performance
US5485499A (en) * 1994-08-05 1996-01-16 Moxtek, Inc. High throughput reflectivity and resolution x-ray dispersive and reflective structures for the 100 eV to 5000 eV energy range and method of making the devices
US5513023A (en) * 1994-10-03 1996-04-30 Hughes Aircraft Company Polarizing beamsplitter for reflective light valve displays having opposing readout beams onto two opposing surfaces of the polarizer
KR0147607B1 (ko) * 1994-11-25 1998-09-15 김광호 반사형 액정 투사장치의 광학계
US5719695A (en) * 1995-03-31 1998-02-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with superstructure light shield
JPH09146061A (ja) * 1995-11-17 1997-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶プロジェクション装置
CA2193790C (en) * 1995-12-29 2001-03-13 Duke University Projecting images
US6181386B1 (en) * 1995-12-29 2001-01-30 Duke University Projecting images
JP3767047B2 (ja) * 1996-04-26 2006-04-19 セイコーエプソン株式会社 投写型表示装置
JP3452472B2 (ja) * 1996-09-12 2003-09-29 シャープ株式会社 パララックスバリヤおよびディスプレイ
US5886754A (en) * 1997-01-17 1999-03-23 Industrial Technology Research Institute Liquid crystal display projector
US5890095A (en) * 1997-01-21 1999-03-30 Nichols Research Corporation System for receiving and enhancing electromagnetic radiation input signals
US6010221A (en) * 1997-05-22 2000-01-04 Nikon Corporation Projection type display apparatus
US6055103A (en) * 1997-06-28 2000-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
US6016173A (en) * 1998-02-18 2000-01-18 Displaytech, Inc. Optics arrangement including a compensator cell and static wave plate for use in a continuously viewable, reflection mode, ferroelectric liquid crystal spatial light modulating system
US6654168B1 (en) * 1998-03-31 2003-11-25 Corning Incorporated Inorganic visible light reflection polarizer
US6108131A (en) * 1998-05-14 2000-08-22 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
US6208463B1 (en) * 1998-05-14 2001-03-27 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
US6081376A (en) * 1998-07-16 2000-06-27 Moxtek Reflective optical polarizer device with controlled light distribution and liquid crystal display incorporating the same
US6331060B1 (en) * 1998-10-08 2001-12-18 Sony Corporation Projection-type display device and method of adjustment thereof
US6172813B1 (en) * 1998-10-23 2001-01-09 Duke University Projection lens and system including a reflecting linear polarizer
US6185041B1 (en) * 1998-10-23 2001-02-06 Duke University Projection lens and system
US6172816B1 (en) * 1998-10-23 2001-01-09 Duke University Optical component adjustment for mitigating tolerance sensitivities
US6215547B1 (en) * 1998-11-19 2001-04-10 Eastman Kodak Company Reflective liquid crystal modulator based printing system
US6010121A (en) * 1999-04-21 2000-01-04 Lee; Chi Ping Work piece clamping device of workbench
US6122103A (en) * 1999-06-22 2000-09-19 Moxtech Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum
US6447120B2 (en) * 1999-07-28 2002-09-10 Moxtex Image projection system with a polarizing beam splitter
US6375330B1 (en) * 1999-12-30 2002-04-23 Gain Micro-Optics, Inc. Reflective liquid-crystal-on-silicon projection engine architecture
US6340230B1 (en) * 2000-03-10 2002-01-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Method of using a retarder plate to improve contrast in a reflective imaging system
JP2001343512A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Canon Inc 回折光学素子及びそれを有する光学系
US6704469B1 (en) * 2000-09-12 2004-03-09 Finisar Corporation Polarization beam combiner/splitter
US6532111B2 (en) * 2001-03-05 2003-03-11 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
US6511183B2 (en) * 2001-06-02 2003-01-28 Koninklijke Philips Electronics N.V. Digital image projector with oriented fixed-polarization-axis polarizing beamsplitter
US6714350B2 (en) * 2001-10-15 2004-03-30 Eastman Kodak Company Double sided wire grid polarizer
US7386205B2 (en) * 2002-06-17 2008-06-10 Jian Wang Optical device and method for making same
US20040047039A1 (en) * 2002-06-17 2004-03-11 Jian Wang Wide angle optical device and method for making same
AU2003267964A1 (en) * 2002-06-18 2003-12-31 Nanoopto Corporation Optical components exhibiting enhanced functionality and method of making same
JP2004045672A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Canon Inc 偏光分離素子およびそれを用いた光学系
US6751003B2 (en) * 2002-09-12 2004-06-15 Eastman Kodak Company Apparatus and method for selectively exposing photosensitive materials using a reflective light modulator
US7013064B2 (en) * 2002-10-09 2006-03-14 Nanoopto Corporation Freespace tunable optoelectronic device and method
TWI223103B (en) * 2003-10-23 2004-11-01 Ind Tech Res Inst Wire grid polarizer with double metal layers
US7203001B2 (en) * 2003-12-19 2007-04-10 Nanoopto Corporation Optical retarders and related devices and systems
US20060001969A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-05 Nanoopto Corporation Gratings, related optical devices and systems, and methods of making such gratings
US7755718B2 (en) * 2007-08-10 2010-07-13 Seiko Epson Corporation Optical element, liquid crystal device, and display

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102636897A (zh) * 2011-02-14 2012-08-15 三星电子株式会社 显示面板
CN108073013A (zh) * 2016-11-14 2018-05-25 大立光电股份有限公司 遮光片、成像镜头与电子装置
CN112068231A (zh) * 2016-11-14 2020-12-11 大立光电股份有限公司 遮光片、成像镜头与电子装置
CN112068231B (zh) * 2016-11-14 2022-03-08 大立光电股份有限公司 遮光片、成像镜头与电子装置
CN108680982A (zh) * 2018-05-18 2018-10-19 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置
US11520094B2 (en) 2018-05-18 2022-12-06 Beijing Boe Technology Development Co., Ltd. Polarizing device and method for preparing the same, display substrate and display device

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009002792A3 (en) 2009-03-26
EP2158515A2 (en) 2010-03-03
US20080316599A1 (en) 2008-12-25
JP2010530995A (ja) 2010-09-16
WO2009002792A2 (en) 2008-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101688980A (zh) 抑制反射的线栅偏振器
KR101340900B1 (ko) 이중층 구조의 와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법
US6947215B2 (en) Optical element, optical functional device, polarization conversion device, image display apparatus, and image display system
CN100495088C (zh) 低占空因数的线栅偏振器
US9477024B2 (en) Polarizing element, projector and method of manufacturing polarizing element
US9360608B2 (en) Polarizing element
CN103033870B (zh) 耐用的无机吸收式紫外栅偏振器
US7369186B2 (en) Polarizing beam splitter featuring stacked grating layers and display including the same
US20080198333A1 (en) Polarization beam splitter and projection apparatus having the same
CN109906392A (zh) 两侧均具有高反射率的嵌入式线栅偏振器
EP1390811A1 (en) Image projection system with a polarizing beam splitter
EP1783520A2 (en) Optical grating trim retarders
WO2021242898A1 (en) Eyed glow suppression in waveguide based displays
US20210294012A1 (en) Optical system
US20150234197A1 (en) Wavelength selective polarizer, optical system, and projection-type display apparatus
US20230213767A1 (en) Eye Glow Suppression in Waveguide Based Displays
JP2011033762A5 (zh)
JP6738829B2 (ja) 反射型偏光子及び補償フィルムを含む光学積層体
US6462873B1 (en) Polarizing beam splitter
EP1582072A1 (en) Optical cores and projection systems containing the optical core
JP5998593B2 (ja) 偏光素子及び画像表示装置
US20080266494A1 (en) Method of Transforming a Light Beam, Optical Film for Performing the Method, and Display Device Having the Optical Film
US20220197026A1 (en) Eye Glow Suppression in Waveguide Based Displays
Takada et al. Inorganic polarization devices with optical functional layers fabricated by glancing angle deposition technique

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20100331