CN1321911A - 电光学装置的制造方法、密封材料压着硬化装置、电光学装置及电子设备 - Google Patents

电光学装置的制造方法、密封材料压着硬化装置、电光学装置及电子设备 Download PDF

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Abstract

一种电光学装置及其制造方法。使用包含多个分别形成衬底、相对衬底的衬底形成区的衬底母材,各衬底形成区周边部呈环状,涂敷没有注入部的未硬化的密封材料,然后,在未硬化的密封材料的内侧区域涂敷液晶形成液晶层。通过利用未硬化的密封材料粘贴衬底母材并相对衬底母材来形成液晶单元母材。再使未硬化的密封材料硬化后形成密封材料,最后,将液晶单元母材沿各衬底形成区切断。

Description

电光学装置的制造方法、密封材料压 着硬化装置、电光学装置及电子设备
本发明涉及电光学装置的制造方法和适合使用该电光学装置的制造方法的密封材料压着硬化装置、电光学装置及电子设备。
以液晶装置作为电光学装置的典型例子来说明已有技术。
图17(a)示出将一般的已有技术的液晶装置1000沿与衬底面垂直的方向切断时的概略截面结构，图17(b)示出从上侧衬底一侧看该液晶装置1000时的概略平面结构，并说明该液晶装置的结构。图17(a)是将图17(b)所示的液晶装置1000沿A10-A10’线切开时的剖面图。
如图17(a)所示，在液晶装置1000中，衬底(下侧衬底)1001和相对衬底(上侧衬底)1002以一定的间隔在各自的周边部用密封材料1004粘贴在一起，在衬底1001和相对衬底1002之间夹着液晶层(电光学材料层)1003。在衬底1001和相对衬底1002之间配置多个球状隔离子1007，用来使液晶单元(电光学材料单元)的单元间隙均一化。
如图17(b)所示，在衬底1001和相对衬底1002的周边部之间形成略呈环状的密封材料1004，并在它的一部分上形成开口状的注入部1005，用来注入液晶(电光学材料)。在从注入部1005向衬底1001和相对衬底1002之间注入液晶(电光学材料)之后，利用密封材料1006将该注入部1005密封。如图17(a)、(b)所示，在液晶装置1000中，除注入部1005附近部分的密封材料1004的外端面1004e位于衬底1001的端面1001e和相对衬底1002的端面1002e的内侧。
此外，与液晶装置1000的特性对应，在衬底1001的液晶层1003一侧的表面上形成开关元件、电极和定向膜等，并在相对衬底1002的液晶层1003一侧的表面形成彩色滤光器层、电极和定向膜等，在附图中这些都被省略了。此外，在衬底1001和相对衬底1002的外侧安装有相位差板和偏光板等光学元件，它们在附图中也被省略了。
其次，图18(a)～(d)、图19(a)～(d)示出上述液晶装置1000的制造工序，并说明液晶装置1000的制造方法。图18(a)～(d)、图19(a)～(d)是概略平面图。
一般，为了进行批量生产并缩短生产工序，液晶装置1000使用其大小可以切成多个衬底1001的图18(a)所示的衬底母材2001和可以切成多个相对衬底1002的图18(b)所示的相对衬底母材2002来制造。
在衬底母材2001和相对衬底母材2002中，将切断的最终成为衬底1001和相对衬底1002的区域分别作为衬底形成区1001a和相对衬底形成区1002a。分别对衬底母材2001和相对衬底母材2002形成的衬底形成区1001a和相对衬底形成区1002a的个数可以根据衬底1001和相对衬底1002的面积与衬底母材2001和相对衬底母材2002的面积的关系设定成规定的个数。在图18(a)、(b)中，作为一个例子，示出分别设有4个衬底形成区1001a和相对衬底形成区1002a的衬底母材2001和相对衬底母材2002。
在将衬底母材2001和相对衬底母材2002粘贴时，在衬底母材2001和相对衬底母材2002的规定的位置上形成衬底形成区1001a和相对衬底形成区1002a。
与液晶装置1000的特性对应，在衬底母材2001的各衬底形成区1001a的表面上、即衬底1001的表面上形成必要的开关元件、电极和定向膜等，并在相对衬底母材2002的各相对衬底形成区1002a的表面上、即相对衬底1002的的表面上形成必要的彩色滤光器层、电极和定向膜等，为了简化图面，在附图中这些都被省略了。
其次，在相对衬底母材2002的各相对衬底形成区1002a的周边部涂敷由环氧树脂系等热硬化或光硬化的粘接剂形成未硬化的密封材料1004A，在各相对衬底形成区1002a上的未硬化的密封材料1004A的内侧区域散布隔离子1007，然后通过未硬化的密封材料1004A，将衬底母材2001和相对衬底母材2002粘贴在一起，使各衬底形成区1001a和各相对衬底形成区1002a相对配置，形成液晶单元母材(电光学材料单元母材)2003。图18(c)示出从相对衬底母材2002的上侧看液晶单元母材2003时的平面图。在图18(C)中，符号1000A表示各个液晶单元(电光学材料单元)。
这时，将衬底母材2001和相对衬底母材2002粘贴在一起，使在衬底形成区1001a和相对衬底形成区1002a的表面上形成的电极和定向膜等相互对置。
其次，如图18(d)所示，从衬底母材2001的外侧和相对衬底母材2002的外侧将液晶单元母材2003整体压接起来，同时进行液晶单元母材2003的未硬化的密封材料1004A的硬化，形成密封材料1004。
其次，如图19(a)所示，切断液晶单元母材2003，使用于注入液晶的注入部1005位于端部，形成多个在图示的横向排列了一排液晶单元(电光学材料单元)1000A的长方形的液晶单元母材(电光学材料单元母材)2004。
其次，如图19(b)所示，在真空中，使液晶单元母材2004的各液晶单元1000A的注入部1005与盛在液晶皿3000中的液晶3003接触，然后回到大气中，由此，向各液晶单元1000A注入液晶，如19(c)所示，利用密封材料1006将注入部1005密封。在图19(b)中，示出液晶皿3000和液晶3003的概略截面。
在该工序中，如19(c)所示，在液晶单元母材2004的密封材料1004的外侧区，在与刚才液晶皿3000内的液晶3003接触的一侧附着液晶3003。
其次，如19(d)所示，通过沿各衬底形成区1001a、各相对衬底形成区1002a的外缘部切断液晶单元母材2004，切成每一个液晶单元1000A。这样一来，便切出衬底1001和相对衬底1002。
其次，通过洗净液晶单元1000A，除去附着在液晶单元1000A的密封材料1004的外侧区的液晶3003。
最后，在衬底1001和相对衬底1002的外侧安装相位差板和偏光板等光学元件(省略图示)，制造出液晶装置1000。
在上述液晶装置1000的制造方法中，当进行液晶3003的注入时，如图19(b)所示那样，通过使长方形的液晶单元母材2004与盛在液晶皿3000中的液晶3003接触来进行液晶的注入，所以，如图19(c)所示，液晶3003附着在液晶单元1000A的密封材料1004的外侧区域。因此，在将液晶单元母材2004按每一个液晶单元1000A切断后洗净液晶单元1000A的工序是必要的。
特别，液晶单元1000A的单元间隙是2～10×10-6m(2～10μm)数量级，因附着在衬底1001和相对衬底1002之间的密封材料1004外侧的液晶3003不容易除去，故必须特别小心地进行洗净作业。
下面，详细说明该液晶单元1000A的洗工序。
通过将液晶单元1000A浸入装满含有中性洗涤剂等的洗净液的洗净槽中来洗净液晶单元1000A，然后将其从洗净槽中捞出来。
接着，通过将液晶单元1000A浸入常温的纯水槽中来除去附着在液晶单元1000A上的洗净液，并将其从纯水槽中捞出来。使用多个不同的纯水槽来进行将该液晶单元1000A浸入纯水槽并将其捞出来的工序，除去附着在液晶单元1000A上的洗净液和液晶3003。
进而，为了完全附着在液晶单元1000A上的洗净液和液晶3003，将液晶单元1000A浸入纯温水槽中。而且，在将液晶单元1000A从纯温水槽中捞出来后，在1000℃下进行液晶单元1000A的干燥。接着，使液晶单元1000A在常温下迅速冷却。通过从1000℃迅速冷却到常温，可以进行液晶层1003的各向同性处理。
这样，存在液晶单元1000A的洗净工序多、液晶装置1000的生产效率低的问题。此外，因排出含有液晶3003的废液，必须进行废液处理。进而，因液晶单元1000A的洗净工序和废液处理工序而使用大量的洗净液和水，从环境方面考虑也很不利。
此外，在上述液晶装置1000中，存在密封材料1006从液晶装置1000的外侧鼓出来形成厚的凸状密封材料层问题。如图17(b)所示，密封材料1006从衬底1001(相对衬底1002)的端面1001e(1002e)的外侧鼓出来形成厚的凸状密封材料层，在液晶装置1000的外侧形成的密封材料1006的宽度w例如是0.3～0.5×10-3(0.3～0.5mm)左右。因液晶装置1000的单元间隙、即密封材料1006的高度是2～10×10-6m(2～10μm)左右，故在液晶装置1000的外侧形成的密封材料1006的宽度w比它大。
这样，存在从液晶装置1000的外侧鼓出来呈凸状厚厚地形成的密封材料1006在具有液晶装置1000的电子设备的内部必须占用多余的空间的问题。
此外，上述问题不限于液晶装置，对于具有将把电光学材料层夹在中间的2块衬底以规定的间隔粘贴起来的结构的场致发光或等离子体显示器等电光学装置，也存在同样的问题。
因此，本发明的目的在于解决上述问题并提供一种电光学装置及电光学装置的制造方法，可以不需要电光学材料单元的洗净工序，能够提高生产效率，可以节省具有电光学装置的电子设备的内部空间。
此外，其目的在于通过具有这样的电光学装置来提供节省空间的电子设备。
为了解决上述问题，本发明涉及的是一种电光学装置的制造方法，在夹持电光学材料层而相对的两块衬底之间形成用来粘贴该两块衬底的密封材料，其特征在于：使用包含多个分别形成上述两块衬底的衬底形成区的两块衬底母材，具有：通过在该两块衬底母材中的一块衬底母材的各衬底形成区的周边部涂敷环状未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料的工序；在该衬底母材上的各衬底形成区的上述未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料并形成电光学材料层的工序；通过利用上述未硬化的密封材料粘贴该衬底母材和另一块衬底母材来形成电光学材料单元母材的工序；使该电光学材料单元母材的上述未硬化的密封材料硬化的工序；将上述电光学材料单元母材沿各衬底形成区切断的工序。
若按照该方法，通过在一块衬底母材的各衬底形成区的周边部涂敷环状未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料，并在该衬底母材上的各衬底形成区的上述未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料，可以防止电光学材料附着在密封材料的外侧，所以，可以不需要电光学材料单元的洗净工序，能够提供可以提高电光学装置的生产效率的电光学装置的制造方法。
此外，若按照该方法，在一块衬底母材的各衬底形成区形成电光学材料层，然后将两块衬底母材粘贴在一起形成电光学材料单元母材，所以，可以直接从电光学材料单元母材切出各电光学材料单元。因此，因不需要过去的电光学装置制造工序中的为了注入电光学材料而将电光学材料母材切断形成长方形的电光学材料单元母材的工序，故可以缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
进而，若按照上述方法，因形成没有注入部密封材料，故不需要过去的电光学装置制造工序中的为了密封注入部而形成密封材料的工序，所以，可以缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
上述方法涉及使用衬底母材来制造电光学装置的情况，但同样可以适用于不使用衬底母材来制造电光学装置的情况。
这时，有一种电光学装置的制造方法，在夹持电光学材料而相对的两块衬底之间形成用来粘贴该两块衬底的密封材料，其特征在于，具有：通过在该两块衬底母材中的一块衬底的周边部涂敷环状未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料的工序；在该衬底上的上述未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料并形成电光学材料层的工序；通过利用上述未硬化的密封材料粘贴该衬底和另一块衬底来形成电光学材料单元的工序；使该电光学材料单元的上述未硬化的密封材料硬化的工序。该电光学装置的制造方法和使用衬底母材的情况一样，不需要电光学材料单元的洗净工序，可以提高生产效率。
本发明的电光学装置的制造方法，其特征在于：在形成上述电光学材料层的工序中，使用可吐出上述电光学材料液滴的分配器或墨水喷射器来进行上述电光学材料的涂敷。
特别希望使用能够对少量的电光学材料进行恰如其分的涂敷的墨水喷射器，利用喷墨方式来进行上述电光学材料的涂敷。
在利用喷墨方式进行电光学材料的涂敷时，为了连续稳定地吐出电光学材料的液滴而不堵塞墨水喷射器，在涂敷电光学材料时，最好使电光学材料的粘度为1～50mPa.s，进而，通过对电光学材料进行加温等将其粘度调整到1～10mPa.s，然后再进行电光学材料的涂敷。
在涂敷电光学材料时，通过使用粘度为1～50mPa.s、最好是1～10mPa.s的电光学材料，可以连续稳定地吐出电光学材料的液滴而不堵塞墨水喷射器，同时，因涂敷在各衬底形成区或各衬底的电光学材料可以流动并扩散开来，故不需要对各衬底形成区或各衬底的未硬化的密封材料的内侧的整个区域涂敷电光学材料液滴，只要在各衬底形成区或各衬底的未硬化的密封材料的内侧的区域滴上1滴或几滴电光学材料液滴，进行部分涂敷，就能够在各衬底形成区或各衬底的未硬化的密封材料的内侧的整个区域，没有间隙地形成电光学材料层。
此外，本发明的电光学装置的制造方法，为了形成不泄漏的密封材料，在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，最好从上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的外侧压着电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的至少已形成未硬化的密封材料的区域，使上述未硬化密封材料硬化。
特别，通过只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的至少已形成未硬化的密封材料的区域加压，与对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的整个区域加压相比较，可以更有效地压着未硬化密封材料，能够形成不泄漏的密封材料。
过去，没有只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加压的技术，如前所述，是对电光学材料单元母材或电光学材料单元的整个区域加压来压着未硬化的密封材料，本发明者研究的结果，发明了可以只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加压的密封材料压着硬化装置，通过使用该密封材料压着硬化装置，使只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加压成为可能。
关于本发明者发明的密封材料压着硬化装置将在后面叙述，本发明者发现，在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，通过从上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的外侧向上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域喷出气体，可以只对上述电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压。
此外，当上述未硬化的密封材料是由热硬化粘接剂形成时，最好在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，将上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，由此使上述未硬化密封材料硬化。通过将上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，在进行未硬化密封材料硬化时可以防止电光学材料层的损伤。
此外，在硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料时，为了不破坏电光学材料层，最好只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加热。
过去，没有只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加热的技术，而是对电光学材料单元母材或电光学材料单元的整个区域加热，本发明者研究的结果，发明了可以只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加热的密封材料压着硬化装置，通过使用该密封材料压着硬化装置，使只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域加热成为可能。
此外，当硬化由光硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料时，只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线。
通过只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线，因照射不到电光学材料层，所以，在进行未硬化密封材料硬化时可以防止电光学材料层的损伤。
过去，没有只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线的技术，而是通过对电光学材料单元母材或电光学材料单元的整个区域照射紫外线来硬化未硬化的密封材料，本发明者研究的结果，发明了可以只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线的密封材料压着硬化装置，通过使用该密封材料压着硬化装置，使只对电光学材料单元母材或电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线成为可能。
这里，说明了本发明者发明的密封材料压着硬化装置。本发明的密封材料压着硬化装置不仅能用于上述本发明的电光学装置的制造工序，也可以用于先有的电光学装置的制造工序。进而，本发明的密封材料压着硬化装置不仅能用于电光学装置的制造工序，对于一般的用密封材料将两块相对的衬底粘贴在一起的所有衬底单元的制造工序都能适用。
用来压着硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料的本发明的密封材料压着硬化装置是通过由热硬化性粘接剂形成的未硬化的密封材料将相对的两块衬底粘接并形成衬底单元之后从该衬底单元的外侧压着该衬底单元的上述未硬化的密封材料来进行硬化的，其特征在于：具有至少将上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加热到规定的温度的加热部和至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压的加压部。
此外，本发明者发明了一种密封材料压着硬化装置，通过将向上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的喷出部作为上述加压部，可以只对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压。
本发明的该密封材料压着硬化装置例如具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板的上述空间一侧的表面具有向放置在上述空间中的上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的多个气体喷出部。
此外，本发明的密封材料压着硬化装置具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板是可加热的加热部，通过对该平板进行加热，可以对放置在上述空间中的上述衬底单元加热。
进而，本发明者发明了一种密封材料压着硬化装置，例如，上述加热部是发射红外线的红外线发射部，设有红外线滤光器，防止红外线照射到上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射从该红外线发射部发射的红外线，由此，可以利用上述加热部只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域加热。
本发明的该密封材料压着硬化装置具有以规定的间隔相对配置的可透过红外线的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板的外侧具有一个或多个红外线发射部，在上述两块平板中的至少一块平板的内部或表面具有红外线滤光器，防止红外线照射到放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，可以使从上述红外线发射部发射的红外线只照射放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域。
此外，用来压着硬化由光硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料的本发明的密封材料压着硬化装置是通过由光硬化性粘接剂形成的未硬化的密封材料将相对的两块衬底粘接并形成衬底单元之后从该衬底单元的外侧压着该衬底单元的上述未硬化的密封材料来进行硬化的，其特征在于：具有用来至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域照射紫外线的紫外线发射部和至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压的加压部。
此外，本发明者发明了一种密封材料压着硬化装置，例如，通过将向上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的喷出部作为上述加压部，可以利用上述加压部只对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压。
本发明的该密封材料压着硬化装置例如具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板的上述空间一侧的表面具有只向放置在上述空间中的上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的多个气体喷出部。
进而，本发明者发明了一种密封材料压着硬化装置，设有紫外线滤光器，防止紫外线照射到上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，可以只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射从该紫外线发射部发射的紫外线。
本发明的该密封材料压着硬化装置，例如，具有以规定的间隔相对配置的可透过紫外线的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板的外侧具有一个或多个紫外线发射部，在上述两块平板中的至少一块平板的内部或表面具有紫外线滤光器，防止紫外线照射到放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，可以使从上述紫外线发射部发射的紫外线只照射放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域。
此外，利用上述电光学装置的制造方法可以提供一种电光学装置，夹持电光学材料层而相对的两块衬底通过在该两块衬底间形成的密封材料并以规定的间隔进行粘贴，其特征在于：上述密封材料沿上述两块衬底的周边部形成环状，同时，没有注入部。
因该电光学装置形成没有注入部的密封材料，故不用形成用来密封注入部的密封材料，所以，能够节省具有电光学装置的电子设备的内部空间。
进而，利用上述电光学装置的制造方法可以提供一种电光学装置，上述密封材料的外端面和上述两块衬底中的至少一块衬底的端面对齐。
因该电光学装置的密封材料的外侧的区域狭窄，故能够减小衬底的面积，进而，能够节省具有电光学装置的电子设备的内部空间。此外，因可以减小该电光学装置的衬底面积，故能够有效利用衬底母材。
此外，可以提供一种具有这样一些电光学装置的能节省空间的电子仪器。
图1是将使用了本发明的第一实施形态的TFT元件的液晶装置沿垂直其衬底面的方向切断时的概略平面图。
图2是从上侧衬底一侧看使用了本发明的第一实施形态的TFT元件的液晶装置时的概略平面图。
图3是将使用了本发明的第一实施形态的TFT元件的液晶装置的衬底(下侧衬底)局部放大后的概略截面图。
图4(a)～(c)是表示使用了本发明的第一实施形态的TFT元件的液晶装置的制造工序中的直到在相对衬底母材上涂敷液晶的工序为止的图。
图5(a)～(c)是表示使用了本发明的第一实施形态的TFT元件的液晶装置的制造工序中的从衬底母材和相对衬底母材的粘贴到做出液晶装置的工序的图。
图6是表示本发明的第一实施形态的液晶装置的制造方法的形成液晶层的工序使用的墨水喷射器的一个构成例子的概略斜视图。
图7是表示本发明的第一实施形态的液晶装置的制造方法的形成液晶层的工序使用的墨水喷射器的一个构成例子的概略斜视图。
图8是表示适用于本发明的第一实施形态的液晶装置的制造方法的密封材料硬化工序的本发明的密封材料硬化装置的一个例子的概略截面图。
图9是表示适用于本发明的第一实施形态的液晶装置的制造方法的密封材料硬化工序的本发明的密封材料硬化装置的一个例子的概略截面图。
图10是表示适用于本发明的第一实施形态的液晶装置的制造方法的密封材料硬化工序的本发明的密封材料硬化装置的一个例子的概略截面图。
图11是将使用了本发明的第二实施形态的TFT元件的液晶装置沿垂直其衬底面的方向切断时的概略平面图。
图12是从上侧衬底一侧看使用了本发明的第二实施形态的TFT元件的液晶装置时的概略平面图。
图13(a)～(c)是表示使用了本发明的第二实施形态的TFT元件的液晶装置的制造工序中的直到在相对衬底母材上涂敷液晶的工序为止的图。
图14(a)～(c)是表示使用了本发明的第二实施形态的TFT元件的液晶装置的制造工序中的从衬底母材和相对衬底母材的粘贴到做出液晶装置的工序的图。
图15(a)是表示一例具有上述实施形态的液晶装置的便携式电话的图，图15(b)是表示一例具有上述实施形态的液晶装置的便携式信息处理装置的图，图15(c)是表示一例具有上述实施形态的液晶装置的手表型电子设备的图。
图16是表示将上述实施形态的液晶装置作为光调制装置使用投影型显示装置的主要部分的概略构成图。
图17(a)是将先有的一般液晶装置沿垂直其衬底面的方向切断时的概略平面图，图17(b)是从上侧衬底一侧看先有的一般液晶装置时的概略平面图。
图18(a)～(d)是表示先有技术的一般液晶装置的制造工序中的直到形成密封材料的工序为止的图。
图19(a)～(d)是表示先有的一般液晶装置的制造工序中的从形成长方形的液晶单元母材到做出液晶单元的工序的图。
下面，以作为电光学装置的典型例的液晶装置为例说明本发明的实施形态。
第一实施方式
图1示出将使用了本发明的第一实施方式的作为开关元件的TFT(薄膜晶体管)元件的液晶装置(电光学装置)1沿垂直其衬底面的方向切断时的概略平面结构，图2示出从上侧衬底一侧看液晶装置1时的概略平面结构，并就该液晶装置1的结构进行说明。此外，图3示出将液晶装置1的衬底(下侧衬底)11局部放大后的概略截面结构。图1、图3是沿图2所示的液晶装置1的A1-A1’线示出的截面图。再有，在图1～图3中，因各层和各部件的大小是在图面上可以识别的程度的大小，故按图中的比例尺表示的各层和各部件的尺寸与实际尺寸不同。
首先，根据图1、图2说明液晶装置1的概略构造。
如图1所示，衬底(下侧衬底)11和相对衬底(上侧衬底)12利用环状密封材料14以规定的间隔粘贴在一起，衬底11和相对衬底12的中间夹着液晶层(电光学材料层)13。密封材料14由环氧树脂系等的热硬化或光硬化粘接剂形成。此外，为了使液晶单元(电光学材料单元)的单元间隙均一化，密封材料14与衬底11和相对衬底12的衬底间隔对应，内部包含直径为2～10×10-6(2～10μm)左右的玻璃纤维等(在图1中被省略)。此外，在衬底11和相对衬底12的外侧装有偏光板和相位差板等光学元件(在图1中被省略)。
如图1所示，在衬底11的图中上侧(液晶层13一侧)的表面，在密封材料14的内侧区域(密封材料14的图中右侧的区域)形成多个象素电极15和用来开关各象素电极15的后述的多个TFT元件10等(未图示)，在象素电极15和TFT元件10的液晶层一侧形成用来使液晶层13取向规定的方向的定向膜18。
另一方面，在相对衬底12的图中下侧的表面上依次积层形成由红(R)、绿(G)、兰(B)等彩色象素16a和遮光层(黑矩阵)16b构成的彩色滤光器层16、公共电极17和定向膜19。在相对衬底12的表面上，只在密封材料14的内侧区域形成彩色滤光器层16和定向膜19。公共电极17在相对衬底12的表面全面形成。
此外，在定向膜18、19之间配置用来使液晶单元的单元间隙均一化的多个球状隔离子43。
如图2所示，衬底11和相对衬底12在本实施形态中，在图中横方向具有相同的宽度，而在图中纵方向具有不同的长度，衬底11的长度比相对衬底12的长度长。
在本实施方式中，如图2所示，密封材料14在衬底11和相对衬底12的周边部之间，沿衬底11和相对衬底12的4个边形成环状。对密封材料14不设用来注入液晶的开口状的注入部。此外，如图1、图2所示，密封材料14的外端面14e位于从衬底11的端面11e和相对衬底12的端面12e靠内侧一点的位置上。
其次，根据图3，详细说明衬底11表面的结构。形成有象素电极15和TFT元件10等的衬底11是驱动电路内藏型的有源矩阵衬底，在该有源矩阵衬底上形成包含用来开关象素电极15的TFT元件10的3种TFT元件。
在图3中，从面向图面的右侧到左侧，分别示出具有LDD结构的N型象素开关用TFT10、具有LDD结构的N型驱动电路用TFT20和具有自调整结构的P型驱动电路用TFT30。在本实施形态中，设第一导电型为N型，第二导电型为P型。此外，在图3中，为简便起见，省略定向膜18。
如图3所示，在衬底11的液晶层13一侧的表面上形成由氧化硅膜形成的基底保护膜4040。
此外，在图3中，在衬底11上形成的N型象素开关用TFT10、N型驱动电路用TFT20和P型驱动电路用TFT30都具有用来在源漏区21、22、23、24、25、26之间形成沟道的沟道形成区27、28、29。当利用低浓度硼离子进行沟道掺杂时，这些沟道形成区27、28、29构成为杂质浓度约为1×1023m-3的低浓度P型区域等。这样，若进行沟道掺杂，则可以将N型驱动电路用TFT20和P型驱动电路用TFT30的阈值电压设定成规定的值。
N型象素开关用TFT10、N型驱动电路用TFT20和P型驱动电路用TFT30具有栅极32、33、34，经栅极绝缘膜31(厚度约为300～2000，最好约为1000的氧化硅膜)与沟道形成区27、28、29的表面一侧对峙。
这里，N型象素开关用TFT10和N型驱动电路用TFT20的源漏区形成LDD结构。因此，源漏区21、22、23、24在经栅极绝缘膜31与栅电极32、33的端部对峙的部分具有杂质浓度约为1×1024m-3的低浓度源漏区21A、22A、23A、24A。此外，在N型象素开关用TFT10和N型驱动电路用TFT20的源漏区21、22、23、24中，除低浓度源漏区21A、22A、23A、24A的区域是杂质浓度约为1×1026m-3的高浓度源漏区21B、22B、23B、24B。在P型驱动电路用TFT元件30中，整个源漏区25、26都是杂质浓度约为1×1026m-3的高浓度区。扫描线、数据线和象素电极等的源漏电极35、36、37、38、39经下层侧的层间绝缘膜41和上层侧的层间绝缘膜42分别与这些高浓度源漏区21B、22B、23B、24B、25、26电连接。此外，在上层侧的层间绝缘膜42的连接孔形成象素电极15。
其次，作为上述液晶装置1的一个例子，说明本实施形态的电光学装置的制造方法。在图4(a)～图4(c)、图5(a)～图5(c)中，示出上述液晶装置1的制造工序，并说明液晶装置1的制造方法。图4(a)～图4(c)、图5(a)～图5(c)是概略平面图。
为了进行批量生产并缩短生产工序，液晶装置1使用可切出多个衬底11的图4(a)所示的衬底母材111A和可切出多个相对衬底12的图4(b)所示的相对衬底母材112A来制作。
在衬底母材111A和相对衬底母材112A中，将切断的最终成为衬底11和相对衬底12的区域分别作为衬底形成区11a和相对衬底形成区12a。分别对衬底母材111A和相对衬底母材112A形成的衬底形成区11a和相对衬底形成区12a的个数可以根据衬底11和相对衬底12的面积与衬底母材111A和相对衬底母材112A的面积的关系设定成规定的个数。在图4(a)、(b)中，作为一个例子，示出分别设有6个衬底形成区11a和相对衬底形成区12a的衬底母材111A和相对衬底母材112A。图4(a)、(b)所示的衬底形成区11a和相对衬底形成区12a的个数及其配置只是一个例子，本发明不限于此。
在将衬底母材111A和相对衬底母材112A粘贴时，在衬底母材111A和相对衬底母材112A的规定的位置上形成衬底形成区11a和相对衬底形成区12a，使各衬底形成区11a和各相对衬底形成区12a相对配置。
在衬底母材111A表面上的的各衬底形成区11a上、即衬底11的表面上形成必要的象素电极15、TFT元件10和定向膜18等，并在相对衬底母材112A的表面上的各相对衬底形成区12a上、即相对衬底12的的表面上形成必要的彩色滤光器层16、公共电极17和定向膜19(省略图示)。
其次，通过在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a的周边部呈环状涂敷环氧树脂系等热硬化或光硬化的粘接剂，形成没有注入部的未硬化的密封材料14A，进而，在各相对衬底形成区12a上散布隔离子43(省略图示)。
其次，在真空中，在相对衬底母材112A的表面上的各相对衬底形成区12a上，利用未硬化的密封材料14A在内侧区域涂敷液晶(电光学材料)，形成液晶层13。图4(c)示出已形成液晶层13的相对衬底母材112A。在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a形成液晶层13的方法将在后面详细叙述。
其次，在真空中，通过未硬化的密封材料14A将衬底母材111A和相对衬底母材112A粘贴在一起，使各衬底形成区11a和各相对衬底形成区12a相对配置，形成液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A。这时，使衬底形成区11a和相对衬底形成区12a上形成的定向膜18、19面对面那样来将衬底母材111A和相对衬底母材112A粘贴在一起，图5(a)是从相对衬底母材112A的上侧看液晶单元母材113A的平面图。
如图5(a)所示，在液晶单元母材113A上，通过未硬化的密封材料14A使衬底形成区11a和相对衬底形成区12a粘贴在一起，在衬底形成区11a和相对衬底形成区12a之间夹着液晶层13，形成6个液晶单元(电光学材料单元)1A。
其次，如图5(b)所示，进行液晶单元母材113A的各液晶单元1A的未硬化密封材料14A进行硬化，形成密封材料14。未硬化密封材料14A的硬化方法将在后面详细叙述。
其次，如图5(c)所示，通过沿各衬底形成区11a和相对衬底形成区12a的外周部切断各液晶单元母材113A，切出每一个液晶单元1A。这时，切出衬底11和相对衬底12。最后，进行液晶层13的各向同性处理，在衬底11和相对衬底12的外侧安装相位差板和偏光板等光学元件，制造液晶装置1。
其次，详细说明上述液晶装置1的制造方法中的液晶层13的形成方法。
如用图4(c)说明的那样，在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a的边缘部形成未硬化的密封材料14A，然后，在真空中，在相对衬底母材112A的表面上的各相对衬底形成区12a中，通过在未硬化的密封材料14A的内侧区涂敷液晶，可以形成液晶层13。
在本实施形态中，使用可吐出液晶(电光学材料)液滴的分配器或墨水喷射器等，在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a上进行液晶的涂敷。这时，最好在各相对衬底形成区12a涂敷液晶装置1所需要的量的液晶，即涂敷与从液晶装置1的衬底11和相对衬底12之间的密封材料14的内侧部分的体积中扣除分配器43的体积所得的体积大致相同体积的液晶。
例如，当制造单元间隙为3×10-6m(3μm)、150×10-3m(150mm)高、150×10-3m(150mm)宽的液晶面板时，涂敷在各相对衬底形成区12a的液晶大约是5×10-8m3(50mm3)，涂敷的液晶量非常少。有各种大小液晶面板，便携式电话等使用的是高为2～3×10-3m(2～3cm)左右、宽为2～3×10-3m(2～3cm)左右的尺寸较小的液晶面板，当制造这样的小尺寸液晶面板时，涂敷在各相对衬底形成区12a的液晶量更少。
这样，为了在各相对衬底形成区12a上涂敷适量的液晶，最好采用喷墨方式，并使用可以吐出少量的液晶液滴同时可以精细地控制吐出量的墨水喷射器进行液晶的涂敷。
图6、图7示出适合于上述液晶层13形成工序使用的墨水喷射器的一个例子，并就该墨水喷射器50的结构进行说明。
如图6所示，墨水喷射器50具有例如由不锈钢制的喷嘴板51和振动板52，两者经分隔部件(贮液板)53接合在一起。利用分隔部件53在喷嘴板51和振动板52之间形成多个空间54和贮液器55。在各空间54和贮液器55内部贮满液晶，各空间54和贮液器55与供给口56连通。进而，在喷嘴板51上设有用来从空间向外喷射液晶的喷嘴孔57。另一方面，在振动板52上形成用来向贮液器55供给液晶的孔58。
此外，如图7所示，在振动板52的与空间54相对的面和相反一侧的面上粘接压电元件59。该压电元件59位于一对电极60之间，通电时，压电元件59向外侧弯曲，同时，与压电元件粘接的振动板52也一体向外侧弯曲。由此，空间54的容积增大。因此，与增大的容积相当的液晶从贮液器55经供给口56流入空间54内。其次，当停止向压电元件59通电时，压电元件59和振动板52都恢复原来的形状。由此，因空间54回到原来的容积，故，空间54内部的液晶的压力上升，从喷嘴57向相对衬底母材112A吐出液晶液滴61。
在本实施形态中，为了不堵塞墨水喷射器50而连续稳定地吐出液晶的液滴61，液晶最好使用粘度为1～50mPa.s的液晶.此外，最好在通过加温墨水喷射器50使液晶加温并将粘度调整在1～10mPa.s的状态下吐出液晶液滴61。
此外，通过使用已将粘度调整到1～50mPa.s、最好调整到1～10mPa.s的液晶，使涂敷在各相对衬底12a上的液晶流动散开，所以，可以不对各相对衬底12a的未硬化密封材料14A的内侧的整个区域涂敷液晶的液滴61，只在各相对衬底12a的未硬化密封材料14A的内侧的区域滴上1滴或几滴液晶的液滴61，进行部分涂敷，即可在各相对衬底12a的未硬化密封材料14A的内侧的整个区域没有间隙地形成液晶层13。
其次，详细说明上述液晶装置1的制造方法中的未硬化的密封材料14A的硬化方法。
如图5(a)说明的那样，经未硬化的密封材料14A将衬底母材111A和相对衬底母材112A粘贴在一起并形成液晶单元母材113A的工序在真空中进行。然后，解除真空环境，液晶单元母材113A回到常压状态。这时，液晶单元母材113A的各液晶单元1A的内部变成真空，所以，外部空气对各液晶单元1A产生1个大气压力。但是，为了形成不漏气的密封材料14A，最好在硬化未硬化的密封材料14A时，至少对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域从外侧施加大于一个大气压的压力，在压着的同时进行硬化。
此外，在本实施形态中，因在液晶单元母材113A的各液晶单元1A的内部形成液晶层13，故最好在不损伤液晶层13的条件下进行未硬化的密封材料14A的硬化。
首先，就未硬化的密封材料14A由环氧树脂系等热硬化粘接剂形成的情况，说明未硬化的密封材料14A的压着硬化方法。
在本实施形态中，由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A的压着硬化方法使用密封材料压着硬化装置进行，该压着硬化装置具有加热部和加压部，加热部至少将液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热到规定的温度，加压部至少对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域进行加压。特别是，为了有效地形成不漏气的密封材料14，最好使用具有可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压的加压部的密封材料压着硬化装置。
图8示出可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压的、适用于压着硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A的工序的、本发明的密封材料压着硬化装置的一个例子的概略截面图，并说明该密封材料压着硬化装置70的结构和未硬化的密封材料214A的压着硬化方法。
图8是表示在密封材料压着硬化装置70上设置图5(a)所示的液晶单元母材113A的状态的图。此外，在图8中，各层和各部件的大小是达到在图面上可识别程度的大小，所以，各层和各部件的比例尺与实际情况不符。
如图8所示，密封材料压着硬化装置70将以规定的间隔相对的2块平板71A、71B作为主体构成，在平板71A、71B之间形成的空间72的规定的位置上放置液晶单元母材113A，进行未硬化的密封材料14A的硬化。
平板71A、71B中的至少一块平板被加温到规定的温度。作为例子，说明平板71A、71B两者都加温的结构。平板71A、71B通过本身加温而变成可以将平板71A、71B之间的空间72加热到规定的温度的加热部。此外，如图8所示，平板71A、71B的间隔设定得比液晶单元母材113A的厚度大。
如图8所示，在平板71A、71B的内部，在与平板71A、71B的表面平行的方向上设置多个气体通道74，这些气体通道74与设在图中的密封材料压着硬化装置70的左右的气体供给部(省略图示)连接。在平板71A、71B的内部，气体通道74与多个气体通道75连接，该气体通道75在气体通道74的空间72一侧与气体通道74正交的方向上形成。气体通道75在平板71A、71B的空间72一侧的表面开口。以下，将气体通道75的开口部称之为气体喷出部73(加压部)。
从气体供给部(省略图示)供给的空气和氮气等气体从图中左右方向导入气体通道74，再从气体通道74导入气体通道75，从气体喷出部73可以向空间72喷出规定压力的气体。
在本实施方式中，当如图8所示那样设置了液晶单元母材113A时，因只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域进行压着，故对平板71A、71B的内部表面，只在图中的液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域的上下位置设置气体通道75和气体喷出部73。因此，可以从气体喷出部73只向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域连续喷出规定压力的气体。
因气体喷出部73设在平板71A、71B两者的表面，故从上下气体喷出部73向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域喷出气体来加压，压着未硬化的密封材料14A。这时，如图8所示，液晶单元母材113A上浮。也可以预先将液晶单元母材113A固定在图8所示的离开平板71A、71B的内表面规定的距离的位置上。为了形成不漏气的密封材料14，也可以对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域施加例如0.05Mpa左右的压力。
这样，在将未硬化的密封材料14A压着的状态下，对平板71A、71B加温，将空间72加热到规定的温度，由此，进行未硬化的密封材料14A的硬化。
为了在防止液晶层13受损伤的同时进行未硬化的密封材料14A的硬化，最好将未硬化的密封材料14A加热到100～160度，加热时间为30～60分钟。
如上所述，通过使用密封材料压着硬化装置70，可以只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压，同时将液晶单元母材113A加热到规定的温度，所以，可以有效地只对未硬化的密封材料14A进行压着并形成不漏气的密封材料14。此外，通过将未硬化的密封材料14A加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，进行未硬化的密封材料14A的硬化，可以防止液晶层13的损伤。
对于密封材料压着硬化装置70，说明了在平板71A、71B两者的表面形成了气体喷出部73的例子，本发明并不限于此，也可以在平板71A、71B的至少一方的表面形成了气体喷出部73。
在上述密封材料压着硬化装置70中，对整个液晶单元母材113A加热来进行未硬化的密封材料14A的硬化，但为了不使液晶层13遭到破坏，最好只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热。
其次，图9示出可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压进而可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热的、适用于压着硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A的工序的密封材料压着硬化装置的又一个例子的概略截面图，并说明该密封材料压着硬化装置80的结构和密封材料214A的压着硬化方法。
图9是表示在密封材料压着硬化装置80上设置图5(a)所示的液晶单元母材113A的状态的图。此外，在图9中，各层和各部件的大小是达到在图面上可识别程度的大小，所以，各层和各部件的比例尺与实际情况不符。
如图9所示，密封材料压着硬化装置80将以规定的间隔相对的2块平板81A、81B和由设在平板81A、81B的外侧的1个或多个红外线灯等构成的放射红外线的红外线发射部(加热部)83作为主体构成，在平板81A、81B之间形成的空间87的规定的位置上放置液晶单元母材113A并进行未硬化的密封材料14A的压着硬化。如图9所示那样，作为例子，说明在平板81A、81B的外侧各设置1个红外线发射部83的情况。
平板81A、81B由玻璃等透明体形成，是能够透过红外线的结构。此外，为了使从红外线发射部83来的红外线有效地照射到平板81A、81B上，在红外线发射部83的外侧设置具有凹面84a的反射镜84。此外，如图9所示，平板81A、81B的间隔设定得比液晶单元母材113A的厚度大。
如图9所示，在平板81A、81B的内部，在与平板81A、81B的表面平行的方向上设置多个气体通道86，这些气体通道86与设在图中的密封材料压着硬化装置80的左右的气体供给部(省略图示)连接。在平板81A、81B的内部，气体通道86与多个气体通道88连接，该气体通道88在气体通道86的空间87一侧与气体通道86正交的方向上、即图中的上下方向形成。气体通道88在平板81A、81B的空间87一侧的表面开口。以下，将气体通道88的开口部称之为气体喷出部85(加压部)。
从气体供给部(省略图示)供给的空气和氮气等气体从图中左右方向导入气体通道86，再从气体通道86导入气体通道88，从气体喷出部85可以向空间87喷出规定压力的气体。
在本实施形态中，如图9所示，为了只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域进行压着，故和密封材料压着硬化装置70的气体通道75和气体喷出部73一样，对平板81A、81B的内部表面，只在图中的液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域的上下位置设置气体通道88和气体喷出部85。因此，可以从气体喷出部85只向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域连续喷出规定压力的气体。
因气体喷出部85设在平板81A、81B两者的表面，故从上下气体喷出部85向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域喷出气体来加压，压着密封材料14A。这时，如图9所示，液晶单元母材113A上浮。此外，也可以预先将液晶单元母材113A固定在图9所示的离开平板81A、81B的内表面规定的距离的位置上。为了形成不漏气的密封材料14，也可以对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域施加例如0.05Mpa左右的压力。
此外，在本实施形态中，最好在平板81A、81B的空间一侧的表面，在除了气体喷出部85的区域内设置不透过红外线的红外线滤光器82。
如上所述，若在将未硬化的密封材料14A压着的状态下从红外线发射部83发射红外线，则放射的红外线透过平板81A、81B，并从红外线滤光器82以外的地方放射。即，可以只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射红外线，可以只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热。通过控制从红外线发射部83所照射的红外线的强度，可以控制未硬化的密封材料14A的加热温度。
当使用上述密封材料压着硬化装置80时，因液晶层13不加热，故对未硬化的密封材料14A的加热温度和加热时间不作限制。只要将未硬化的密封材料14A加热到可使未硬化的密封材料14A硬化的温度、例如100～160度即可。
如上所述，通过使用密封材料压着硬化装置80，可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压，同时可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热，所以，可以有效地对未硬化的密封材料14a进行压着，形成不漏气的密封材料14A，同时，可以硬化未硬化的密封材料14A而不损伤液晶层13。
对于密封材料压着硬化装置80，说明了在平板81A、81B两者的表面形成了气体喷出部85的例子，本发明并不限于此，也可以在平板81A、81B的至少一方的表面形成了气体喷出部85。
此外，在密封材料压着硬化装置80中，说明了在平板81A、81B的空间一侧的表面形成红外线滤光器82的例子，但本发明并不限于此，也可以在平板81A、81B的内部或平板81A、81B的外侧表面等上设置红外线滤光器82，也可以设置红外线滤光器82来防止红外线照射到除液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域以外的区域。
其次，就未硬化的密封材料14A由环氧树脂系等光硬化粘接剂形成的情况，说明未硬化的密封材料14A的压着硬化方法。
在本实施方式中，由光硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A的压着硬化使用密封材料压着硬化装置进行，该压着硬化装置具有紫外线发射部和加压部，紫外线发射部用来对液晶单元母材113A的至少以形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线，加压部对液晶单元母材113A的至少已形成未硬化的密封材料14A的区域进行加压。特别是，为了有效地形成不漏气的密封材料14，最好使用具有可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压的加压部同时为了不损伤液晶层13而可以只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线的密封材料压着硬化装置。
图10示出可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压进而可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线的、适用于压着硬化由光硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A的工序的密封材料压着硬化装置的又一个例子的概略截面图，并说明该密封材料压着硬化装置90的结构和密封材料214A的压着硬化方法。
图10是表示在密封材料压着硬化装置90上设置图5(a)所示的液晶单元母材113A的状态的图。此外，在图10中，对和密封材料压着硬化装置80相同的构成要素添加相同的参照符号。此外，在图10中，各层和各部件的大小是达到在图面上可识别程度的大小，所以，各层和各部件的比例尺与实际情况不符。
如图10所示，密封材料压着硬化装置90将以规定的间隔相对的两块平板91A、91B和由设在平板91A、91B的外侧的一个或多个紫外线灯等构成的放射紫外线的紫外线发射部93作为主体构成，在平板91A、91B之间形成的空间87的规定的位置上放置液晶单元母材113A并进行未硬化的密封材料14A的压着硬化。如图10所示那样，作为例子，说明在平板91A、91B的外侧各设置1个紫外线发射部93的情况。
平板91A、91B由玻璃等透明体形成，是能够透过紫外线的结构。此外，为了使从紫外线发射部93来的紫外线有效地照射到平板91A、91B上，在紫外线发射部93的外侧设置具有凹面84a的反射镜84。此外，如图10所示，平板91A、91B的间隔设定得比液晶单元母材113A的厚度大。
在本实施形态中，在平板91A、91B的内部设置多个气体通道86、88，气体通道88在平板91A、91B的空间87一侧的表面开口并形成气体喷出部(加压部)85，这些气体通道86、88和气体喷出部85与设在密封材料压着硬化装置80的平板81A、81B的内部或表面的气体通道86、88和气体喷出部85有同样的结构。气体通道86和密封材料压着硬化装置80的气体通道86一样，与气体供给部(未图示)连接。
在本实施形态中，如图10所示，为了只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域进行压着，对平板91A、91B的内部或表面，只在图中的液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域的上下位置设置气体通道88和气体喷出部85。因此，可以从气体喷出部85只向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域连续喷出规定压力的气体。
因气体喷出部85设在平板91A、91B两者的表面，故从图中的上下气体喷出部85向液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域喷出气体来加压，压着未硬化的密封材料14A。如图10所示，液晶单元母材113A上浮。此外，也可以预先将液晶单元母材113A固定在图10所示的离开平板81A、81B的内表面规定的距离的位置上。为了形成不漏气的密封材料14，也可以对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域施加例如0.05Mpa左右的压力。
在本实施形态中，最好在平板91A、91B的空间87一侧的表面，在除了气体喷出部85的区域内设置不透过紫外线的紫外线滤光器92。
如上所述，若在将未硬化的密封材料14A压着的状态下从紫外线发射部93发射紫外线，则发射的紫外线透过平板91A、91B，并从紫红外线滤光器92以外的地方发射。即，可以只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线。通过控制从紫外线发射部93照射的紫外线的强度，可以控制未硬化的密封材料14A的硬化。
当使用密封材料压着硬化装置90时，因对液晶层13不照射紫外线，故对未硬化的密封材料14A的紫外线照射条件不作限制。只要在可使未硬化的密封材料14A硬化的紫外线照射条件下将未硬化的密封材料14A硬化即可。
如上所述，通过使用密封材料压着硬化装置90，可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压，同时可只对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线，所以，可以有效地对未硬化的密封材料14a进行压着，形成不漏气的密封材料14A，同时，可以硬化未硬化的密封材料14A而不损伤液晶层13。
对于密封材料压着硬化装置90，说明了在平板91A、91B两者的表面形成了气体喷出部85的例子，但本发明并不限于此，也可以在平板91A、91B的至少一方的表面形成了气体喷出部85。
此外，在密封材料压着硬化装置90中，说明了在平板91A、91B的空间87一侧的表面形成紫外线滤光器92的例子，但本发明并不限于此，也可以在平板91A、91B的内部或平板91A、91B的外侧表面等上设置紫外线滤光器92，也可以在除液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域以外的区域设置紫外线滤光器92来防止紫外线照射到除液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域以外的区域。
再有，在密封材料压着硬化装置70、80、90中，说明了从气体喷出部73、85喷出气体并利用气体的压力压着未硬化的密封材料14A的例子，但本发明并不限于此，加压部也可以是对液晶单元母材113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域进行机械加压的部件等。
此外，密封材料压着硬化装置70、80、90不仅可以使用本实施形态的液晶装置1的制造工序，也可以使用先有的一般电光学装置的制造方法。进而，本发明的密封材料压着硬化装置70、80、90部件可以使用电光学装置的制造工序，也可以使用一般的经密封材料将相对的2块衬底粘贴在一起的所有的衬底单元的制造工序。
若按照本实施形态，通过在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a的周边部呈环状涂敷未硬化的粘接剂形成没有注入部的未硬化的密封材料14A，然后，在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a，在未硬化的密封材料14A的内侧区域涂敷液晶(电光学材料)，所以，可以防止液晶(电光学材料)附着在密封材料14的外侧，因此，能够提供一种可以不需要液晶单元(电光学材料单元)的洗净工序能提高电光学装置的生产效率的电光学装置的制造方法。
此外，若按照本实施形态，在相对衬底母材112A的各相对衬底形成区12a形成液晶层(电光学材料层)13，然后，将衬底母材111A和相对衬底母材112A粘贴在一起形成液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A，所以，可以从液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A直接切出各液晶单元(电光学材料单元)1A。因此，不需要先有的电光学装置的制造工序中的为了注入电光学材料而将电光学材料单元母材切成长方形的电光学材料单元母材的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
进而，若按照本实施形态，因形成没有注入部密封材料14A，故不需要先有的电光学装置的制造工序中的形成用来密封注入部的密封材料的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
此外，在本实施形态中，在形成液晶层(电光学材料层)13的工序中，最好使用可吐出液晶(电光学材料)的液滴61的分配器或墨水喷射器来进行液晶的涂敷，特别，通过利用使用了墨水喷射器的墨水喷射方式进行液晶的涂敷，可以涂敷适当少量的液晶。
此外，在本实施形态中，为了形成不漏气的密封材料14A，在未硬化的密封材料14A的硬化工序中，最好在从液晶单元母材113A外侧压着液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的至少已形成未硬化的密封材料14A的区域的同时使未硬化的密封材料14A硬化。
特别是，通过只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压，与对整个液晶单元母材113A加压相比，可以更有效地压着未硬化的密封材料14A，可以形成不漏气的密封材料14。
过去，没有只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)的已形成未硬化的密封材料的区域加压的技术，象在本实施形态中说明过的那样，通过使用本发明者发明的密封材料压着硬化装置70、80、90，可以只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加压，所以，若按照本实施形态，可以提供能形成不漏气的密封材料14的电光学装置的制造方法。
此外，当未硬化的密封材料14A是由热硬化粘接剂形成时，在未硬化的密封材料14A的硬化工序中，最好将液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A加热到100～160度，加热时间为30～60分钟。通过将液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，可以对未硬化的密封材料14A进行硬化而防止损伤液晶层(电光学材料层)13。
此外，在硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料14A时，为了不破坏液晶层(电光学材料层)，最好只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14a的区域加热。
过去，没有只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)的已形成未硬化的密封材料的区域加热的技术，通过使用本发明者发明的密封材料压着硬化装置70、80、90，可以只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域加热，所以，若按照本实施形态，可以提供不破坏液晶层(电光学材料层)的电光学装置的制造方法。
此外，当未硬化的密封材料14A是由光硬化粘接剂形成时，在硬化未硬化的密封材料14A时，最好只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线。
过去，没有只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线的技术，通过使用本发明者发明的密封材料压着硬化装置，可以只对液晶单元母材(电光学材料单元母材)113A的已形成未硬化的密封材料14A的区域照射紫外线，所以，若按照本实施形态，可以提供不破坏液晶层(电光学材料层)的电光学装置的制造方法。
此外，利用上述电光学装置的制造方法制造的本实施形态的液晶装置1形成没有注入部的密封材料14A，所以，不用形成用来密封注入部的密封材料，可以谋求节省具有液晶装置(电光学装置)1的电子设备内的空间。
第二实施方式
图11示出将使用了本发明的第二实施方式的作为开关元件的TFT(薄膜晶体管)元件的液晶装置2沿垂直其衬底面的方向切断时的概略平面结构，图12示出从上侧衬底一侧看液晶装置2时的概略平面结构，并就该液晶装置2的结构进行说明。图11是沿图12所示的液晶装置2的A2-A2’线示出的截面图。在图11、图12中，因各层和各部件的大小是在图面上可以识别的程度的大小，故按图中的比例尺表示的各层和各部件的尺寸与实际尺寸不同。将该液晶装置2的下侧衬底的一部分放大后的概略截面结构和第一实施方式的图3所示的结构相同，故省略其说明。
在图11、12中，对与液晶装置1相同的结构要素用相同的标号标出并省略其说明。
如图11所示，衬底(下侧衬底)101和相对衬底(上侧衬底)102利用环状密封材料104以规定的间隔粘贴在一起，衬底101和相对衬底102的中间夹着液晶层(电光学材料层)13。密封材料104由环氧树脂系等的热硬化或光硬化粘接剂形成。如图12所示，在本实施形态中，衬底101和相对衬底102与第1实施形态的衬底11和相对衬底12一样，在图中的横方向具有相同的宽度，在图中的纵方向具有不同的宽度，衬底101的宽度形成得比衬底102的宽度宽。
在本实施方式中，如图12所示，在衬底101和相对衬底102的周边部之间，沿衬底101和相对衬底102的4个边呈环状形成密封材料104。如图11、12所示，密封材料104的外端面104e与相对衬底102的端面在相同的位置上对齐。此外，密封材料104不设用来注入液晶的开口状的注入部。
除密封材料14的形成区之外，液晶装置2的结构与第1实施形态的液晶装置1的结构相同，故省略其说明。
其次，以上述液晶装置2为例说明本实施方式的电光学装置的制造方法。图13(a)～(c)、图14(a)～(c)示出上述液晶装置2的制造工序并说明该液晶装置2的制造方法。图13(a)～(c)、图14(a)～(c)是概略平面图。
为了进行批量生产并缩短生产工序，液晶装置2使用可切出多个衬底101的图13(a)所示的衬底母材111B和可切出多个相对衬底102的图13(b)所示的相对衬底母材112B来制作。
在衬底母材111B和相对衬底母材112B中，将切断的最终成为衬底101和相对衬底102的区域分别作为衬底形成区101a和相对衬底形成区102a。分别对衬底母材111B和相对衬底母材112B形成的衬底形成区101a和相对衬底形成区102a的个数可以根据衬底101和相对衬底102的面积与衬底母材111B和相对衬底母材112B的面积的关系设定成规定的个数。在图13(a)、(b)中，作为一个例子，示出分别设有6个衬底形成区101a和相对衬底形成区102a的衬底母材111B和相对衬底母材112B。图13(a)、(b)所示的衬底形成区101a和相对衬底形成区102a的个数及其配置只是一个例子，本发明不限于此。
在将衬底母材111B和相对衬底母材112B粘贴时，在衬底母材111B和相对衬底母材112B的规定的位置上形成衬底形成区101a和相对衬底形成区102a，使各衬底形成区101a和各相对衬底形成区102a相对配置。此外，在本实施形态中，在衬底母材111B和相对衬底母材112B中，衬底形成区101a和相对衬底形成区102a在图中的横方向连续形成而没有间隙。
在衬底母材111B表面上的各衬底形成区101a上、即衬底101的表面上形成必要的象素电极15、TFT元件10和定向膜18等，并在相对衬底母材112B的表面上的各相对衬底形成区102a上、即相对衬底102的的表面上形成必要的彩色滤光器层16、公共电极17和定向膜19(省略图示)。
其次，在相对衬底母材112B的各相对衬底形成区102a的周边部呈环状涂敷环氧树脂系等热硬化或光硬化的粘接剂，进而，在各相对衬底形成区102a上散布隔离子43(省略图示)。
其次，在真空中，在相对衬底母材112B的表面上的各相对衬底形成区102a上，利用未硬化的密封材料104A在内侧区域涂敷液晶(电光学材料)，形成液晶层13。图13(c)示出已形成液晶层13的相对衬底母材112B。本实施形态的液晶层13的形成方法与在第1实施形态中已说明的方法相同，故省略其说明。
其次，在真空中，通过未硬化的密封材料104A将衬底母材111B和相对衬底母材112B粘贴在一起，使各衬底形成区101a和各相对衬底形成区102a相对配置，形成液晶单元母材(电光学材料单元母材)113B。这时，使衬底形成区101a和相对衬底形成区102a上形成的定向膜18、19面对面那样来将衬底母材111B和相对衬底母材112B粘贴在一起，图14(a)是从相对衬底母材112B的上侧看液晶单元母材113B的平面图。如图14(a)所示，在液晶单元母材113B上形成6个液晶单元(电光学材料单元)2A，该液晶单元2A经未硬化的密封材料104A将衬底形成区101a和相对衬底形成区102a粘贴在一起，在衬底形成区101a和相对衬底形成区102a之间夹着液晶层13。
其次，如图14(b)所示，进行液晶单元母材113B的各液晶单元2A的未硬化的密封材料104A的硬化，形成密封材料104。本实施形态的未硬化的密封材料104A的硬化方法与在第1实施形态中已说明的未硬化的密封材料14A的硬化方法相同，故省略其说明。
最后，如图14(c)所示，通过沿各衬底形成区101a、各相对衬底形成区102a的边缘部切断液晶单元母材113B，切出各液晶单元2A。这样一来，便切出衬底101和相对衬底102。最后，在衬底101和相对衬底102的外侧安装相位差板和偏光板等光学元件，制造出液晶装置2。
若按照本实施方式，通过在相对衬底母材112B的各相对衬底形成区102a的周边部呈环状涂敷未硬化的粘接剂形成没有注入部的未硬化的密封材料104A，然后，在相对衬底母材112B的各相对衬底形成区102a，在未硬化的密封材料104A的内侧区域涂敷液晶(电光学材料)，所以，可以防止液晶(电光学材料)附着在密封材料104的外侧，因此，能够提供一种可以不需要液晶单元(电光学材料单元)的洗净工序能提高电光学装置的生产效率的电光学装置的制造方法。
此外，若按照本实施方式，在相对衬底母材112B的各相对衬底形成区102a形成液晶层(电光学材料层)13，然后，将衬底母材111B和相对衬底母材112B粘贴在一起形成液晶单元母材(电光学材料单元母材)113B，所以，可以从液晶单元母材(电光学材料单元母材)113B直接切出各液晶单元(电光学材料单元)2A。因此，不需要先有的电光学装置的制造工序中的为了注入电光学材料而将电光学材料单元母材切成长方形的电光学材料的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
进而，若按照本实施方式，因形成没有注入部密封材料104，故不需要先有的电光学装置的制造工序中的形成用来密封注入部的密封材料的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
此外，利用上述电光学装置的制造方法制造的本实施形态的液晶装置2形成没有注入部的密封材料104，所以，不用形成用来密封注入部的密封材料，可以谋求节省具有液晶装置(电光学装置)2的电子设备内的空间。
进而，该液晶装置2因密封材料104的外端面104e与相对衬底102的端面在相同的位置上对齐，故可以使密封材料104的外侧区域狭窄，使衬底101、102的面积减小，可以谋求节省具有液晶装置2的电子设备内的空间。此外，该液晶装置2因衬底101、102的面积可以小，故可以谋求有效地利用衬底母材111B和相对衬底母材112B。
在第一、第二实施方式中，说明了使用衬底母材制造电光学装置的情况，但本发明同样可以适用于不使用衬底母材制造电光学装置的情况。
这时，可以通过在两块衬底中的一块衬底的周边部呈环形涂敷未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料，并在该衬底上的未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料形成电光学材料层，然后，通过经上述未硬化的密封材料将该衬底和另一块衬底粘接在一起来形成电光学材料单元，并硬化未硬化的密封材料，该电光学装置的制造方法与使用衬底母材的情况一样，不需要电光学材料单元的洗净工序，可以提高生产效率。
此外，在第一、第二实施方式中，说明使用了TFT元件的液晶装置，但本发明并不限于此，可以适用于所有的液晶装置，例如，也可以适用于纯矩阵型的液晶装置或使用以TFD(薄膜二极管)元件为代表的两端元件的有源矩阵型液晶装置等。
此外，本发明不限于液晶装置，也可以适用于具有按规定的间隔将中间夹着电光学材料层的两块衬底粘贴在一起的结构的电光源和等离子体显示器等电光学装置。
其次，说明具有本发明的上述第一、第二实施方式的液晶装置1或2的电子设备的具体例子。
图15(a)是表示一例便携式电话的透视图。在图15(a)中，500表示便携式电话机的主机，501表示具有上述液晶装置1或2的液晶显示部。
图15(b)是表示一例文字处理机、个人计算机等便携式信息处理装置的透视图。在图15(b)中，600表示信息处理装置，601表示键盘等输入部，602表示具有上述液晶装置1或2的液晶显示部。
图15(c)是表示一例电子手表的透视图。在图15(c)中，700表示电子手表的的主机，701表示具有上述液晶装置1或2的液晶显示部。
图16是使用了上述液晶装置1或2的光调制装置的投影式显示装置的主要部分的概略结构图。在图16中，810表示光源，813、814表示分光镜，815、816、817表示反射镜，818表示入射透镜，819表示中继透镜，820表示射出透镜，822、823、824表示液晶光调制装置，825表示横向分光镜，826表示投影透镜。
光源810由金属卤化物灯等灯811和反射灯的光的反射镜812构成。反射蓝色光、绿色光的分光镜813透过光源810的光束中的红色光，反射蓝色光和绿色光。透过的红色光经反射镜817反射后入射到红色光用的液晶光调制装置822。
另一方面，经分光镜813反射的色光中的绿色光经反射绿色光的分光镜814反射后，入射到绿色光用的液晶光调制装置823。另一方面，蓝色光也透过第2分光镜814。为了防止因光路长引起光的损耗，对蓝色光设置由包含入射透镜818、中继透镜819和射出透镜820的中继透镜系构成的导光装置821，蓝色光经过它入射到蓝色光用的液晶光调制装置822。
经各光调制装置调制后的3色光入射到横向分光镜825中。该透镜将4个直角棱镜叠在一起，在其内面呈十字状形成反射红色光的电介质多层膜和反射蓝色光电介质多层膜。利用这些电介质多层膜合成3种颜色光，形成显示彩色图像的光。合成的光利用作为投影光学系统的投影透镜826投影在屏幕827上，将图像放大后进行显示。
图15(a)～(c)和图16所示的各电子设备具有上述液晶装置1或2，所以，是可以节省空间的电子设备。
如上所述，若按照本发明，通过在一块衬底母材的各衬底形成区的周边部呈环状涂敷未硬化的粘接剂形成没有注入部的未硬化的密封材料，然后，在该衬底母材上的各衬底形成区，在未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料，所以，可以防止电光学材料附着在密封材料的外侧，因此，能够提供一种可以不需要电光学材料单元的洗净工序能提高电光学装置的生产效率的电光学装置的制造方法。
此外，若按照该电光学装置的制造方法，在一块衬底母材的各衬底形成区形成电光学材料层，然后，将两块衬底母材粘贴在一起形成电光学材料单元母材，所以，可以从电光学材料单元母材直接切出各电光学材料单元。因此，不需要先有技术的电光学装置的制造工序中的为了注入电光学材料而将电光学材料单元母材切成长方形的电光学材料单元母材的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
进而，若按该电光学装置的制造方法，因形成没有注入部密封材料，故不需要先有技术的电光学装置的制造工序中的形成用来密封注入部的密封材料的工序，因此，能够缩短电光学装置的生产工序，提高生产效率。
在本发明中，在形成电光学材料层的工序中，最好使用可吐出电光学材料的液滴的分配器或墨水喷射器来进行电光学材料的涂敷，特别，通过利用使用了墨水喷射器的墨水喷射方式进行电光学材料的涂敷，可以涂敷适当少量的电光学材料。
此外，在本发明中，为了形成不漏气的密封材料，在未硬化的密封材料的硬化工序中，最好在从电光学材料单元母材外侧压着电光学材料单元母材的至少已形成未硬化的密封材料的区域的同时使未硬化的密封材料硬化。
特别是，通过只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压，与对整个电光学材料单元母材加压相比，可以更有效地压着未硬化的密封材料，可以形成不漏气的密封材料14。
过去，没有只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压的技术，本发明者发明了密封材料压着硬化装置，因此，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压。
通过使用该密封材料压着硬化装置，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压，可以提供能形成不漏气的密封材料的电光学装置的制造方法。
此外，当未硬化的密封材料是由热硬化粘接剂形成时，在未硬化的密封材料的硬化工序中，最好将电光学材料单元母材加热到100～160度，加热时间为30～60分钟。通过将电光学材料单元母材加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，可以对未硬化的密封材料进行硬化而防止损伤电光学材料层。
此外，在硬化由热硬化粘接剂形成的未硬化的密封材料时，为了不破坏电光学材料层，最好只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加热。
过去，没有只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加热的技术，本发明发明了密封材料压着硬化装置，因此，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加热。
通过使用该密封材料压着硬化装置，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加热，可以提供不破坏电光学材料层的电光学装置的制造方法。
此外，当未硬化的密封材料是由光硬化粘接剂形成时，在硬化未硬化的密封材料时，为了不破坏电光学材料层，最好只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线。
过去，没有只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线的技术，本发明者发明了密封材料压着硬化装置，因此，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线。
通过使用该密封材料压着硬化装置，可以只对电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线，可以提供不破坏电光学材料层的电光学装置的制造方法。
此外，利用本发明的电光学装置的制造方法，可以提供一种电光学材料装置，夹持电光学材料层而相对的两块衬底通过在该两块衬底间形成的密封材料并以规定的间隔进行粘贴，其特征在于：上述密封材料沿上述两块衬底的周边部形成环状，同时，没有注入部。
因该电光学装置形成没有注入部的密封材料，所以，不用形成用来密封注入部的密封材料，可以谋求节省具有电光学材料装置的电子设备内的空间。
进而，利用本发明的电光学装置的制造方法，可以提供一种电光学材料装置，密封材料的外端面和两块衬底中的至少一块衬底的端面对齐。
该电光学装置因密封材料的外侧区域狭窄，故可以使衬底的面积减小，进而，可以谋求节省具有液晶装置的电子设备内的空间。此外，该电光学装置因衬底的面积可以小，故可以谋求有效地利用衬底母材。
此外，通过具备这些电光学装置，所以，可以提供一种节省空间的电子设备。

Claims (31)

1、一种电光学装置的制造方法，在夹持电光学材料而相对的两块衬底之间形成用来粘贴该两块衬底的密封材料，使用包含多个分别形成上述两块衬底的衬底形成区的两块衬底母材，其特征在于包括：
通过在该两块衬底母材中的一块衬底母材的各衬底形成区的周边部涂敷环状未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料的工序；
在该两块衬底母材上的各衬底形成区的上述未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料并形成电光学材料层的工序；
通过利用上述未硬化的密封材料粘贴该衬底母材和另一块衬底母材来形成电光学材料单元母材的工序；
使该电光学材料单元母材的上述未硬化的密封材料硬化的工序；
将上述电光学材料单元母材沿各衬底形成区切断的工序。
2、一种电光学装置的制造方法，在夹持电光学材料而相对的两块衬底之间形成用来粘贴该两块衬底的密封材料，其特征在于，具有：
通过在该两块衬底母材中的一块衬底的周边部涂敷环状未硬化的粘接剂来形成没有注入部的未硬化的密封材料的工序；
在该衬底上的上述未硬化的密封材料的内侧区域涂敷电光学材料并形成电光学材料层的工序；
通过利用上述未硬化的密封材料粘贴该衬底和另一块衬底来形成电光学材料单元的工序；
使该电光学材料单元的上述未硬化的密封材料硬化的工序。
3、权利要求1或2记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在形成上述电光学材料层的工序中，使用可吐出上述电光学材料液滴的分配器进行上述电光学材料的涂敷。
4、权利要求1或2记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在形成上述电光学材料层的工序中，使用可吐出上述电光学材料液滴的墨水喷射器进行上述电光学材料的涂敷。
5、权利要求4记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在涂敷上述电光学材料时，使上述电光学材料的粘度为1～50mPa.s。
6、权利要求4记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在涂敷上述电光学材料时，使上述电光学材料的粘度为1～10mPa.s。
7、权利要求1到权利要求6任何一项记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，从上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的外侧压着电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的至少已形成未硬化的密封材料的区域，使上述未硬化密封材料硬化。
8、权利要求8记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，通过只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的至少已形成未硬化的密封材料的区域加压来使上述未硬化密封材料硬化。
9、权利要求8记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，通过从上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的外侧向上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的已形成未硬化的密封材料的区域喷出气体，只对上述电光学材料单元母材的已形成未硬化的密封材料的区域加压。
10、权利要求1到权利要求9任何一项记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：上述未硬化的密封材料是由热硬化粘接剂形成的，在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，将上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元加热到100～160度，加热时间为30～60分钟，由此使上述未硬化密封材料硬化。
11、权利要求1至9任何一项记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：上述未硬化的密封材料是由热硬化粘接剂形成的，在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，通过只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域加热来使上述未硬化密封材料硬化。
12、权利要求1至9任何一项记载的电光学装置的制造方法，其特征在于：上述未硬化的密封材料是由热硬化粘接剂形成的，在使上述未硬化的密封材料硬化的工序中，通过只对上述电光学材料单元母材或上述电光学材料单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射紫外线来使上述未硬化密封材料硬化。
13、一种密封材料压着硬化装置，在通过由热硬化性粘接剂形成的未硬化的密封材料将相对的两块衬底粘接并形成衬底单元之后，从该衬底单元的外侧压着该衬底单元的上述未硬化的密封材料来进行硬化，其特征在于：具有至少将上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加热到规定的温度的加热部和至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压的加压部。
14、权利要求13记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：可以利用上述加压部只对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压。
15、权利要求14记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：上述加压部由向上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的气体喷出部形成。
16、权利要求15记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板的上述空间一侧的表面具有向放置在上述空间中的上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的多个气体喷出部。
17、权利要求13至16任何一项记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板是可加热的加热部，通过对该平板进行加热，可以对放置在上述空间中的上述衬底单元加热。
18、权利要求13至16任何一项记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：可以利用上述加热部只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域加热。
19、权利要求18记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：上述加热部由发射红外线的红外线发射部形成，只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射从该红外线发射部发射的红外线，由此，可以只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域加热。
20、权利要求19记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有红外线滤光器，防止红外线照射到上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域。
21、权利要求20记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有以规定的间隔相对配置的可透过红外线的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板的外侧具有一个或多个红外线发射部，在上述两块平板中的至少一块平板的内部或表面具有红外线滤光器，防止红外线照射到放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，可以使从上述红外线发射部发射的红外线只照射放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域。
22、一种密封材料压着硬化装置，在通过由热硬化性粘接剂形成的未硬化的密封材料将相对的两块衬底粘接并形成衬底单元之后，从该衬底单元的外侧压着该衬底单元的上述未硬化的密封材料来进行硬化，其特征在于：具有至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域照射紫外线的紫外线发射部和至少对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压的加压部。
23、权利要求22记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：可以利用上述加压部只对上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域加压。
24、权利要求23记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：上述加压部由向上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的气体喷出部形成。
25、权利要求24记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有以规定的间隔相对配置的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述两块平板中的至少一块平板的上述空间一侧的表面具有向放置在上述空间中的上述衬底单元的已形成上述未硬化的密封材料的区域喷出气体的多个气体喷出部。
26、权利要求22至25任何一项记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：可以只对上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域照射从上述紫外线发射部发射的紫外线。
27、权利要求26记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有紫外线滤光器，防止红外线照射到上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域。
28、权利要求27记载的密封材料压着硬化装置，其特征在于：具有以规定的间隔相对配置的可透过紫外线的两块平板并在该两块平板间形成用来放置上述衬底单元的空间，同时，在上述2块平板的外侧具有一个或多个紫外线发射部，在上述两块平板中的至少一块平板的内部或表面具有紫外线滤光器，防止紫外线照射到放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域以外的区域，可以使从上述紫外线发射部发射的紫外线只照射放置在上述空间内的上述衬底单元的上述已形成未硬化的密封材料的区域。
29、一种电光学装置，夹持电光学材料层而相对的两块衬底通过在该两块衬底间形成的密封材料并以规定的间隔进行粘贴，其特征在于：
上述密封材料沿上述两块衬底的周边部形成环状，同时，没有注入部。
30、权利要求29记载的电光学装置，其特征在于：上述密封材料的外端面和上述两块衬底中的至少一块衬底的端面对齐。
31、一种电子仪器，其特征在于：具有权利要求29或权利要求30记载的电光学装置。
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TW (1) TW546530B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1310081C (zh) * 2002-02-20 2007-04-11 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示板的切割方法
US7342639B2 (en) 2002-12-30 2008-03-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display panel and seal pattern forming device using the same
US7609358B2 (en) 2003-01-16 2009-10-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100701442B1 (ko) * 2001-05-10 2007-03-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 잉크젯 방식 액정 도포방법
US6982178B2 (en) 2002-06-10 2006-01-03 E Ink Corporation Components and methods for use in electro-optic displays
KR100870660B1 (ko) * 2001-12-31 2008-11-26 엘지디스플레이 주식회사 패널의 합착력이 향상된 액정표시소자 및 제조방법
US7843621B2 (en) 2002-06-10 2010-11-30 E Ink Corporation Components and testing methods for use in the production of electro-optic displays
US8049947B2 (en) 2002-06-10 2011-11-01 E Ink Corporation Components and methods for use in electro-optic displays
KR100892951B1 (ko) * 2002-06-14 2009-04-09 삼성전자주식회사 액정표시패널에 액정을 주입하는 방법 및 이를 이용한액정 주입 시스템
EP3056941B1 (en) 2002-09-03 2019-01-09 E Ink Corporation Electro-phoretic medium
US7839564B2 (en) 2002-09-03 2010-11-23 E Ink Corporation Components and methods for use in electro-optic displays
WO2004051351A1 (ja) * 2002-12-04 2004-06-17 Shibaura Mechatronics Corporation 基板の貼り合せ方法及び貼り合せ装置
US6791644B2 (en) * 2003-01-22 2004-09-14 Kohji Toda Reflective liquid-crystal display
TWI308976B (en) * 2003-02-14 2009-04-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd Process and structure of linquid crystal panel with one drop fill
TWI380080B (en) 2003-03-07 2012-12-21 Semiconductor Energy Lab Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
US20040239867A1 (en) * 2003-05-29 2004-12-02 Chi Mei Optoelectronics Corp. Method for manufacturing liquid crystal display
US7298446B2 (en) * 2003-08-14 2007-11-20 Chi Mei Optoelectronics Corp. Liquid crystal display device and method of manufacturing rework
JP2006100763A (ja) * 2004-09-06 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 固体撮像装置の製造方法及び接合装置
JP4751612B2 (ja) * 2004-12-28 2011-08-17 芝浦メカトロニクス株式会社 基板貼り合わせ装置及び基板貼り合わせ方法
JP5052753B2 (ja) * 2005-02-16 2012-10-17 芝浦メカトロニクス株式会社 基板反転装置および基板製造装置
US7776656B2 (en) * 2005-07-29 2010-08-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
US20080043318A1 (en) 2005-10-18 2008-02-21 E Ink Corporation Color electro-optic displays, and processes for the production thereof
US7781784B2 (en) * 2007-05-07 2010-08-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus with color pixels
US8049851B2 (en) * 2007-06-26 2011-11-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a liquid crystal display device having a second orientation film surrounding a first orientation film
CN102289095A (zh) * 2011-05-17 2011-12-21 南京华日液晶显示技术有限公司 利用冷冻液晶法对成品液晶显示屏进行再切割加工的方法
JP2015206806A (ja) * 2012-08-30 2015-11-19 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
JP2020030406A (ja) * 2018-08-20 2020-02-27 シャープ株式会社 液晶パネルの製造方法
CN111367103B (zh) * 2018-12-25 2023-03-14 群创光电股份有限公司 显示装置及其制造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55151620A (en) * 1979-05-14 1980-11-26 Seiko Epson Corp Production of liquid crystal display device
JPS55161214A (en) * 1979-06-01 1980-12-15 Seiko Epson Corp Production of liquid crystal cell
JPH05134232A (ja) 1991-11-15 1993-05-28 Sharp Corp 平板の貼合せ方法
JP3159504B2 (ja) * 1992-02-20 2001-04-23 松下電器産業株式会社 液晶パネルの製造方法
JPH05265011A (ja) 1992-03-19 1993-10-15 Seiko Instr Inc 液晶表示素子の製造方法
JPH06194615A (ja) 1992-12-24 1994-07-15 Casio Comput Co Ltd 強誘電性液晶素子の製造方法
JPH08213308A (ja) * 1994-11-29 1996-08-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 塗布方法
JP3534474B2 (ja) * 1995-03-06 2004-06-07 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 液晶表示パネルのシール方法
JP3698809B2 (ja) * 1996-03-23 2005-09-21 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶装置作製方法
JP3613896B2 (ja) * 1996-08-06 2005-01-26 旭硝子株式会社 液晶素子及びその製造方法及びそれに用いる空セル基板
JPH10301122A (ja) * 1997-04-25 1998-11-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP3169864B2 (ja) * 1997-09-18 2001-05-28 日本電気株式会社 液晶パネル製造装置
KR100268003B1 (ko) * 1997-09-25 2000-10-16 구본준 액정주입방법
US6122033A (en) * 1998-04-06 2000-09-19 National Semiconductor Corporation Fusible seal for LCD devices and methods for making same
US6219126B1 (en) * 1998-11-20 2001-04-17 International Business Machines Corporation Panel assembly for liquid crystal displays having a barrier fillet and an adhesive fillet in the periphery
US6284087B1 (en) * 1999-10-22 2001-09-04 International Business Machines Corporation Method and system for curing an ultra-violet curable sealant that is shadowed by metallization
JP2001305556A (ja) * 2000-04-20 2001-10-31 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1310081C (zh) * 2002-02-20 2007-04-11 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示板的切割方法
US7342639B2 (en) 2002-12-30 2008-03-11 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display panel and seal pattern forming device using the same
CN100374915C (zh) * 2002-12-30 2008-03-12 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示板的制造方法和其中所用的密封剂图形形成设备
US7528927B2 (en) 2002-12-30 2009-05-05 Lg Display Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display panel and seal pattern forming device using the same
US7609358B2 (en) 2003-01-16 2009-10-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US8284375B2 (en) 2003-01-16 2012-10-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
CN1519632B (zh) * 2003-01-16 2012-11-14 株式会社半导体能源研究所 液晶显示器件及其制作方法
US8531645B2 (en) 2003-01-16 2013-09-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
CN102830554B (zh) * 2003-01-16 2016-05-18 株式会社半导体能源研究所 液晶显示器件及其制作方法

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