CN1486434A

CN1486434A - 具有1/4波光的光学制品及其制造方法

Info

Publication number: CN1486434A
Application number: CNA028033191A
Authority: CN
Inventors: P; P·卡龙; ��˹��ŵ��; J-P·卡诺; A·克雷捷
Original assignee: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA
Current assignee: EssilorLuxottica SA
Priority date: 2001-12-27
Filing date: 2002-12-26
Publication date: 2004-03-31
Anticipated expiration: 2022-12-26
Also published as: BRPI0206454B1; FR2834345B1; JP2010049265A; US7008690B2; KR20040071052A; DE60239917D1; ES2365390T3; EP1362246B1; JP2005513569A; CA2433930A1; BR0206454A; KR100964861B1; CN1232837C; US20040074261A1; WO2003056366A1; ATE508379T1; CA2433930C; FR2834345A1; EP1362246A1; PT1362246E

Abstract

一种光学制品，包括一个有机或无机玻璃基底(1)和一个透明的聚合物材料层(3)，其特征在于：它包括至少一个中间层(2)，所述中间层(2)与基底和聚合物材料层的一个主表面直接接触，中间层由至少一种胶体无机氧化物粒子和非必要的一种粘合剂制成，这种中间层具有一初始多孔结构，并且所述中间层的初始多孔结构或是被聚合物材料层中的材料充填，或是如果基底用有机玻璃制造的话被基底材料充填，并且当粘合剂存在时被粘合剂任选地部分充填，以便在初始孔隙率充填之后每个所述中间层都代表一个1/4波片，所述1/4波片的波长在400－700nm，优选的是在450－650nm范围内。

Description

具有1/4波光的光学制品及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种光学制品，例如：一种眼科镜片，所述光学制品包括一种由尤其是具有高折射率(

n_{D}^{25} = 1.5

或更高，尤其是1.55或更高)的合成树脂或无机玻璃制造的透明基底，至少一个透明涂层，如：抗磨蚀涂层或者是一个底层和一个抗磨蚀涂层及一个插入在基底和透明涂层之间的1/4波片层。

背景技术

通常，在用合成树脂或无机玻璃制造的透明基底(如眼科镜片)的主要面上，形成一个或多个涂层，以便赋予所述制品某些有利的性能如抗震性，耐磨蚀性，消除反射率等。

因此，一般是将基底的至少一面直接涂一耐磨蚀层，或者涂装一个底层，一般是用于改善镜片抗震性的层，耐磨蚀层可以被涂于该底层上，所述底层改善了这种耐磨蚀层在基底侧面的固定。最后，可以把抗反射率涂层涂到耐磨蚀层上。

一般，基底和耐磨蚀层或底层具有不同的折射率，并因此在基底和耐磨蚀层或底层之间的界面处由于这种折射光指数不同而产生干涉条纹。

美国专利4,609,267公开了一种镜片，该镜片包括一种由具有高折射率(≥1.55)的合成树脂制造的基底，所述基底的一个表面涂有一种介电物质的耐磨蚀层，所述介电物质耐磨蚀层具有与基底不同的折射率，并且为了减少在基底和耐磨蚀层之间界面处的反射率，上述基底包括至少一个介电物质或金属物质形成的抗反射率层，所述介电或金属物质被涂在基底和耐磨蚀层之间。

耐磨蚀层是一层SiO₂。

插入的抗反射率层是一种1/4波片，并且它是一种SiO₂和氧化铝的混合物形成的单层，或者是两层，其中一层是SiO₂，而第二层由一种从ZrO₂，HfO₂，Ti₂O₃，TiO₂，Ta₂O₅，Si₃N₄，Yb₂O₃，Y₂O₃或Al₂O₃中选定的材料形成。

这种抗反射率层和耐磨蚀层是通过真空蒸发制造的。

如今，为了形成耐磨蚀底层和涂层，采用了各种清漆，亦即形成大部分为有机材料的组合物，这些涂层与主要是具有无机性质的层如金属氧化物层和/或二氧化硅层形成了对比。

另外，在工业用眼镜片制造过程中，这些清漆层的涂布通过浸入清漆溶液或分散液浴中或是通过将基底一面上的溶液或分散液离心来进行。

如果清漆的折射率与有机玻璃基底的折射率不相配，亦即如果这两个折射率有很大不同，则在基底和清漆之间的界面处也出现干涉条纹现象。

发明概述

因此，本发明的目的是提供一种光学制品，如眼镜片，所述光学制品包括一个有机或无机玻璃基底和至少一个透明的聚合物材料层，例如一种底层和一种耐磨蚀涂层，其中大大减轻了由于基底和聚合物材料二者折射率不同而在基底和聚合物材料层之间产生的干涉条纹现象。本发明的另一个目的是提供一种长时间稳定、特别是抗光致退化的光学制品。

本发明的另一个目的是提供一种用于制造一种光学制品的方法，所述方法如下面所述，它能容易地被结合到常规制造方法中，更具体地说，所述方法尽可能防止实施真空涂装或任何其它加工步骤成为光学制品制造方法中的一种中断。

根据本发明，上述目的是利用一种光学制品，例如一种眼镜片，特别是一种柔性焦距透镜(spectacle lens)实现上述目的的，该光学制品包括一种有机或无机玻璃基底和一种光学上透明的聚合物材料层，其特征在于：它包括至少一个与基底的主要面和所述聚合物材料层直接接触的中间层，所述中间层由至少一种胶体无机氧化物的粒子构成，也可包括一种粘合剂，该中间层具有一初始多孔结构，并且所述中间层的初始多孔结构或是被聚合物材料层中的材料充填，或是如果基底是用有机玻璃制造的话，被基底材料充填，当粘合剂存在时，可被粘合剂部分地充填，以便在初始多孔结构充填之后，每个中间层都代表一个1/4波片，其波长在400-700nm，最好在450-650nm范围内。

本发明还涉及一种用于制造如上所述光学制品的方法，所述方法包括以下步骤：

a)在一透明支承件的至少一个主表面上，通过浸涂一种溶胶，或通过该溶胶的离心作用或在该凝胶中离心，以及溶胶干燥，形成至少一个具有初始多孔结构的中间层，上述溶胶由至少一种胶体无机氧化物形成，并可含有一种粘合剂；和。

b)在这个中间层上形成一个光学上的透明聚合物材料层或一个有机玻璃基底；

所述中间层的初始多孔结构或是被所述层的聚合物材料充填，或是被步骤b)处所形成的基底材料充填，并可任选地被中间层的粘合剂部分充填，以便在初始多孔结构充填之后，每个中间层都代表一个1/4波片，其波长在400-700nm，优选的是在450-650nm范围内。

一般来说，在没有粘合剂存在时，中间层的初始孔隙率总计占中间层总体积的至少40％。

优选的是，在没有粘合剂存在时中间层的孔隙率总计占至少50％的体积。

当中间层包括一种粘合剂时，这种中间层的实际孔隙率，亦即考虑粘合剂所占体积，但在被前面层中的聚合物材料充填之前剩下的孔隙率，总计优选的是占中间层总体积的25％，更优选的是占体积30％。

在其上形成中间层的支承件可以是一种有机或无机基底，优选的是有机玻璃(如预制的眼镜片)，也可以是一个模具部分的一个主要模制表面，所述模制表面包括至少一个涂层，所述涂层代表被设计成涂布或转移到一有机或无机玻璃基底上的光学上透明的聚合物材料层。

在后一种情况下，当基底由一种有机玻璃构成时，它可以在模具中浇铸转移一种可聚合的组合物并聚合时原地形成，且基底材料保证了充填在无机氧化物中间层中的多孔结构的存在。

充填的聚合物材料具有一表面力能量，高于或等于20毫焦耳/m²，优选地高于或等于25毫焦耳/m²，且更优选地高于或等于30毫焦耳/m²。

表面力能量根据下列参考文献中所述的Owens-Wendt法计算：“聚合物表面力能的估计”，Owens D.K.，Wendt R.G.(1969)，J.APPL.POLYM.SCI.，13，1741-1747。

导致充填聚合物材料的组合物主要包括是一种(或多种)非氟代的化合物。

优选的是，导致充填聚合物材料的组合物包括占形成所述组合物的干提取物(I)的化合物总重量至少80％的非氟代化合物，更优选的是至少90％重量，最优选的是占至少95％的重量及更为优选得多的是100％重量的非氟代化合物。

通常，充填聚合物材料中的氟含量(按重量计)低于5％重量，优选的是低于1％重量，且更优选的是0％重量。

1/4波片(充填之后)的孔隙率优选的是低于5％，更优选的是低于3％和最优选的是0％。

充填之后，充填材料接触基底表面(当充填材料不是基底材料而是另一层如底层或耐磨蚀层的材料时)并使它能得到1/4波片在基底上的粘附作用。

本发明所述的干提取物意思是指在100℃下加热15分钟后留下的固体物重量分数。

当保证充填中间层孔隙率的聚合物材料层不构成基底时，这一层一般通过浸涂或离心作用形成，优选通过离心作用形成。

附图说明

公开内容的其余部分参考附图，其分别是：

图1是包括根据本发明的1/4波片的光学制品一个实施例的示意图；

图2是包括根据本发明的1/4波片的光学制品另一个实施例示意图；

图3是根据本发明的光学制品的又另一个实施例示意图；

图4是一种包括根据本发明的两个1/4波片的光学制品示意图；

图5是用于制造根据本发明的光学制品的方法的流程图；

图6是用于制造根据本发明的光学制品的方法的第一种实施方式的示意图；

图7是用于制造根据本发明的光学制品的方法的第二种实施方式的示意图；

图8-18是根据本发明的光学制品及作为对照的同样光学制品的反射率随波长变化的曲线图，所述对照光学制品不包括1/4波片层；及

图19是用于根据本发明的光学制品的透射电子显微照片。

具体实施方式

1/4波片的光学特点和几何特点由下面关系或给出：

n＝(n_s×n_v)^1/2

n.e＝λ/4

其中n是1/4波片在25℃下，波长λ＝550nm(相当于眼睛最灵敏的波长)的折射率；

n_s是基底在25℃下，波长λ＝550nm的折射率；

n_v是在25℃下，波长λ＝550nm的直接与1/4波片接触的聚合物材料层折射率。

换句说话，1/4波片的折射率n是包围它的材料的折射率的几何平均值。

在图1中，示意性地示出了根据本发明的一种光学制品，它包括一种光学上透明的基底1，例如在一有机玻璃中。基底1的一个主要面涂有一层至少是一种胶体无机氧化物的涂层，其初始多孔结构在没有粘合剂时至少占体积的40％，并具有合适的厚度。在胶体无机氧化层上形成耐磨蚀涂层3，以便充填初始多孔结构，或者在有粘合剂存在时充填胶体无机氧化物层的实际多孔结构，并得到1/4波片2。

图2示出了一种光学制品，其与图1中光学制品不同之处在于：在胶体无机氧化层和耐磨蚀涂层3之间插入了一个抗震底层4。在这种情况下，氧化物层的初始或实际多孔结构明显被底层材料填满，从而形成1/4波片2。

知道了基底的折射率n_s和耐磨蚀层或底涂层的折射率n_v(例如：在25℃下和λ＝550nm)后，下面公式就能原则上确定1/4波片的厚度e和折射率n。

因此，下面表1给出用于各种基底和耐磨蚀层或底涂层组合的1/4波片厚度和折射率特点。

	基底
	基底				1/4波片在550nm时	聚碳酸酯(PC)(n_s＝1590)	MR6(MITSUI)(n_s＝1595)	MR7(MITSUI)(n_s＝1665)	1.74(MITSUI)(n_s＝1.74)
PU乳胶(n_s＝1500)-波片折射率λ/4	1.544	1.547	1.580	1.615	1/4波片在550nm时	聚碳酸酯(PC)(n_s＝1590)	MR6(MITSUI)(n_s＝1595)	MR7(MITSUI)(n_s＝1665)	1.74(MITSUI)(n_s＝1.74)
PU乳胶(n_s＝1500)-波片折射率λ/4	1.544	1.547	1.580	1.615	波片厚度λ/4	89nm	89nm	87nm	85nm
环氧烷氧基硅烷/二氧化硅(n_v＝1.477)-波片折射率λ/4	1.532	1.535	1.568	1.603	波片厚度λ/4	89nm	89nm	87nm	85nm
环氧烷氧基硅烷/二氧化硅(n_v＝1.477)-波片折射率λ/4	1.532	1.535	1.568	1.603	波片厚度λ/4	90nm	89nm	88nm	86nm

图3表示根据本发明的与图2相似的光学制品，但它另外包括在耐磨蚀涂层3上形成的抗反射率涂层5。

图4表示根据本发明的与图1相似的光学制品，但包括两个1/4波中间层2a，2b。很显然，这种两个中间层的叠加也可以在图2和3所示的光学制品中使用。

适合于根据本发明制品的基底可以是任何用无机玻璃或有机玻璃，优选用有机玻璃制成的光学上透明的基底。

适合用于这类基底的塑料包括碳酸酯，(甲基)丙烯酸，硫代(甲基)丙烯酸，二甘醇双烯丙基碳酸酯，如PPG经销的材料CR 39^，氨基甲酸酯，硫代氨基甲酸酯，环氧化物，环硫化物及它们组合的均聚物和共聚物。

用于基底的优选材料是聚碳酸酯(PC)，聚氨酯(PU)，聚硫氨酯，甲基丙烯酸和硫代甲基丙烯酸聚合物。

一般来说，基底具有的折射率是在1.55-1.80的范围内，优选地在1.60-1.75范围内。

中间层2或2a，2b包括至少一种胶体无机氧化物，所述氧化物一般从SiO₂，TiO₂，ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，Y₂O₃，Ta₂O₅及其组合中选定。优选的胶体无机氧化物是SiO₂，TiO₂，ZrO₂，及SiO₂/TiO₂和SiO₂/ZrO₂的混合物。

优选的胶体二氧化硅是由St6ber法制备的二氧化硅。上述Stber法是一种简单而众所周知的方法，该方法包括四乙氧基硅(Si(OC₂O₅)₄或TEOS)在用氨催化下在乙醇中的水解和缩合。所述方法能在乙醇中直接得到二氧化硅，这是一种似单分散的粒子群，具有可控制的颗粒度和粒子表面(SiO^-NH₄ ⁺)。

对于胶体无机氧化物混合物，该混合物最好包括至少一种高折射率亦即折射率

n_{D}^{25} &GreaterEqual; 1.54

的氧化物和至少一种低折射率亦即折射率

n_{D}^{25} < 1.54

的氧化物。优选的是，无机氧化物混合物是二元混合物，更具体地说是一种低折射率氧化物和一种高光指数氧化物的二元混合物。一般，低折射率氧化物/高折射率氧化物的重量比是在20/80-80/20范围内，优选的是在30/70-70/30范围内和更优选的是在40/60-60/40范围内。

无机氧化物的颗粒度一般是在10-80nm范围内，优选的是在30-80nm范围内，且最优选的是在30-60nm范围内。

尤其是，无机氧化物可以用一种小尺寸粒子(亦即10-15nm范围内的粒子)和一种大尺寸粒子(亦即30-80nm范围内的粒子)二者的混合物制造。

通常，胶体无机氧化物的层2或每个中间层2a和2b具有的厚度在60-100nm范围内，优选的是在70-90nm，更优选的是在80-90nm范围内，但是，考虑到该材料是用于光学制品该厚度必须尽可能接近1/4波片的理论厚度，以便达到减少干涉条纹的最佳结果。

胶体无机氧化物层在充填聚合物材料层之前可以任选地含有例如至少一种无机氧化物层干重的1-30重量％的粘合剂，优选所含粘合剂重量百分数为无机氧化物干重的10-25％，更优选含10-20％。

粘合剂一般是聚合物材料，所述聚合物材料不损害最终1/4波片的光学性能，并增加无机氧化物粒子在基底表面上的粘合和粘附作用。

粘合剂一般是类似于下面所述抗震底层组合物的材料。

优选的粘合剂是聚氨乳胶和(甲基)丙烯酸乳胶，特别是氨基甲酸酯乳胶类。

如上所述，胶体无机氧化物的中间层或每个中间层在没有粘合剂且在用底层或耐磨蚀涂层聚合物材料充填之前，具有至少为该层总体积的40％的多孔结构，优选具有约50％的多孔结构。

当底层存在时，底层可以是任何在光学领域，特别是在眼科领域中常用底层。

通常，这些底层，更具体地说抗震底层，是基于(甲基)丙烯酸聚合物，聚氨酯，聚酯的涂层亦或是基于环氧/(甲基)丙烯酸共聚物的涂层。

基于(甲基)丙烯酸聚合物的抗震涂层在美国专利5,015,523和5,619,288及其它文献中已被公开，而基于热塑性和交联聚氨酯树脂的涂层已在日本专利63-1411001和63-87223，欧洲专利EP-040,411和美国专利5,316,791及其它文献中被公开。

更具体地说，根据本发明的抗震底部涂层可以用一种聚(甲基)丙烯酸乳胶制造，其中包括如像例如在法国专利申请FR 2,790,317中所公开的用一种聚氨酯乳胶或聚酯乳胶制得的芯壳型乳胶。

特别优选的是，抗震底部涂层组合物包括Zeneca出品的商品名为A-639的丙烯酸乳胶和Baxenden公司出品的商品名为W-240和W-234的聚氨酯乳胶。

乳胶优选从具有粒径≤50nm，和更优选≤20nm的乳胶中选择。

一般，在硬化之后，抗震的底层所具有厚度为0.05-20μm，优选的是0.5-10μm，且更优选的是0.6-6μm。最佳厚度一般是在0.5-2.0μm范围内。

耐磨蚀涂层可以是在光学领域，特别是在眼科领域中常用的任何耐磨蚀涂层。

按定义，耐磨蚀涂层是一种与不包括耐磨蚀涂层的同样制品相比，使成品光学制品的耐磨性得以改善的涂层。

优选的耐磨蚀涂层是通过使一种组合物硬化所得到的那些涂层，上述组合物含有一种或多种烷氧基硅烷(优选的是一种或多种环氧烷氧基硅烷)或其水解产物，优选的是一种无机胶体填充剂，如胶体氧化物填充剂。

根据本发明的一个特殊的方面，优选的耐磨蚀涂层是通过使一种组合物硬化而得到的涂层，上述组合物包括一种或多种环氧烷氧基硅烷或其水解产物、二氧化硅和硬化催化剂。这类组合物的实例已在国际专利申请WO 94/10230，美国专利4,211,823和5,015,523以及欧洲专利614,957中公开了。

特别优选的耐磨蚀涂层组合物的主成分包括：环氧烷氧基硅烷，例如像γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)，二烷基二烷氧基硅烷，例如二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)，胶体二氧化硅和催化量的硬化催化剂，如乙酰丙酮铝或这些成分的水解产物，上述组合物的调配物主要是常用来形成这些组合物配方的溶剂，以及一种或多种任选的表面活性剂。

为了改善耐磨蚀涂层的粘附作用，耐磨蚀涂层组合物可以任选地包括一种有效量的耦联剂，特别是用模内涂布技术或IMC形成制造加涂层的基底时尤其如此。

这种耦联剂通常是一种环氧烷氧基硅烷和一种不饱和烷氧基硅烷预缩合的溶液，上述不饱和烷氧基硅烷优选的是包括末端双乙烯键的化合物。

环氧烷氧基硅烷的实例是：

γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷，

γ-环氧丙氧基丙基五甲基二硅氧烷，

γ-环氧丙氧基丙基甲基二异丙氧基硅烷，

(γ-环氧丙氧基丙基)甲基二乙氧基硅烷，

γ-环氧丙氧基丙基二甲氧基乙氧基硅烷，

γ-环氧丙氧基丙基二异丙基乙氧基硅烷，及

(γ-环氧丙氧基丙基)双(三甲基甲硅烷氧基)甲基硅烷。

优选的环氧烷氧基硅烷是(γ-环氧丙氧基丙基)三甲氧基硅烷。

不饱和烷氧基硅烷可以是一种乙烯基硅烷，一种烯丙基硅烷，一种丙烯酸硅烷或甲基丙烯酸硅烷。

乙烯基硅烷的实例是：

乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷，

乙烯基三异丁氧基硅烷，

乙烯基三-特-丁氧基硅烷，

乙烯基三苯氧基硅烷，

乙烯基三甲氧基硅烷，

乙烯基三异丙氧基硅烷，

乙烯基三乙氧基硅烷，

乙烯基三乙酰氧基硅烷，

乙烯基甲基二乙氧基硅烷，

乙烯基甲基二乙酰氧基硅烷，

乙烯基双(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和乙烯基二甲氧基硅烷。

烯丙基硅烷的实例包括烯丙基三甲氧基硅烷，烯丙基三乙氧基硅烷和烯丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷。

丙烯酸硅烷的实例是：

3-丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷，

3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，

丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷，

3-丙烯酰氧基丙基甲基双(三甲基甲硅烷氧基)硅烷，

3-丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧基硅烷，及

正(3-丙烯酰氧基-2羟基丙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷。

甲基丙烯酸硅烷的实例是：

3-甲基丙烯酰氧基丙基三(乙烯基二甲氧基甲硅烷氧基)硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基玩五甲基二硅氧烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧基硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基二甲基乙氧基硅烷，

3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，及

3-甲基丙烯酰氧基丙基双(三甲基甲硅烷氧基)甲基硅烷。

优选的硅烷是丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。

通常，加入耐磨蚀涂层组合物中的偶联剂量占组合物总重量的0.1-15重量％，优选的是1-10重量％。

硬化之后，耐磨蚀涂层厚度通常是在1-15μm范围内，优选的是在2-6μm范围内。

抗震底层组成和耐磨蚀涂层组合物可以用热硬化和/或通过辐射硬化，优选用热硬化方法硬化。

最明显的是，如上所述，底层或耐磨蚀涂层的材料应当渗入和填充胶体无机氧化物中间层的多孔结构中。

正如下面将看到的，抗震底层和耐磨蚀涂层优选通过浸涂或离心作用形成。因此，用于形成这些层的组合物优选的是溶胶-凝胶组合物。

根据本发明的光学制品可以任选地包括在耐磨蚀涂层上形成的抗反射率涂层。

抗反射率涂层可以是在光学领域，特别是在眼科光学镜领域常用的任何抗反射率涂层。

例如，抗反射率涂层可以是介电材料如SiO，SiO₂，Si₃N₄，TiO₂，ZrO₂，Al₂O₃，MgF₂或Ta₂O₅或它们的混合物的一种单层或多层膜。

因而可以防止在镜片-空气界面处产生反射率。

这种抗反射率涂层一般根据下列方法之一通过真空镀膜技术进行涂装：

—通过蒸发，任选地由离子束协助，

—通过用离子束蒸发，

—通过溅射，

—通过在蒸汽相中化学等离子体协助的涂装。

除了真空镀膜之外，还可以考虑通过洛胶-凝胶路线(例如从四乙氧基硅烷水解产物)涂布无机层。

在薄膜包括一个单层的情况下，其光学厚度应等于λ/4(λ是450-650nm范围内的波长)。

在多层薄膜包括三层的情况下，可以采用一种组合，所述组合分别对应于光学厚度为λ/4，λ/2，λ/4或是λ/4，λ/4，λ/4。

另外可以用由更多层形成的等效薄膜代替是上述三层中任何数量的层。

图5是根据本发明的光学制品制造方法的主要步骤的框图。

首先，将用有机玻璃或无机玻璃制的裸露基底(例如眼镜片)的表面通过浸入热的(例如在50℃下)5％苏打溶液中处理(3分钟)，接着用水和乙醇清洗。

然后，将其浸入胶态无机氧化物溶胶或者溶胶离心(优选的是通过浸涂)，以便将基底处理过的表面涂装一个胶体无机氧化物层。

在浸涂情况下，所涂布的厚度取决于溶胶干物质含量，颗粒度及脱离润湿状态速率(landau-Levich定律)。因此，若已知溶胶组成颗粒度基底和底层或耐磨蚀涂层的折射率，就可以确定用于胶体无机氧化物层的理想厚度及适合于得到理想厚度的脱离润湿状态的速率。

在涂布的层干燥了之后，得到一种多孔胶体无机氧化物层，所述无机氧化物层具有理想的厚度。层孔隙率是一个重要的因素，并且在没有粘合剂时应为体积的至少40％，优选的是至少50％，而在有粘合剂存在时，应为体积的至少25％，优选的是至少30％。各层的孔隙率可以用椭圆偏振法测定的各层的折射率计算。

涂布之后的层的干燥可以在20-130℃下进行，优选的是在20℃-120℃范围内的温度下进行。

优选的是，干燥在室温(20-25℃)下进行。

对于不包括粘合剂的层

多孔胶体无机氧化物层的孔隙率如下：

p = \frac{Vp}{Vc + Vp}

其中V_P是所述层中所含孔的体积，V_C是该层中无机氧化物所占的体积。

此处所述层的孔隙率P等于没有粘合剂时的孔隙率。

孔隙率P的值从折射率得到：

-n(用椭圆偏振法测得)是多孔无机层的折射率，

-n_c是无机氧化物粒子(如果用多孔氧化物的话可选地混合)的平均折射率，

并从下面关系式得到：

n²＝p+n_c ²(1-p)

其中P是孔的体积分数，同时假定各孔填满空气，且1-P是无机氧化物的体积分数。

在25℃下，632nm波长处测定折射率。

对于含有粘合剂的层

所述层的孔隙率P用下面关系式计算：

(1)n²＝p+x_cn_c ²+x₁n₂ ²

其中：

n是多孔无机氧化物层的折射率，

x_c代表在所述层中无机氧化物体积分数

x₁代表在所述层中粘合剂体积分数

Vp，Vc，Vl，V_总分别代表被孔(空气)，无机氧化物，粘合剂和整个层所占据的体积，

n_c是无机氧化物粒子的平均折射率，

n_l是粘合剂的折射率：

(2) p+x_l+x_c＝1

(3) \frac{x_{λ}}{x_{c}} = \frac{m_{λ}}{m_{c}} \times [\frac{dc}{dl}]

dc是无机氧化物的密度，

dl是粘合剂的密度，

m_l是所述层中粘合剂干质量，且

m_c是所述层中无机氧化物干质量。

没有粘合剂时的孔隙率根据定义是P′＝P+x_l，亦即如果粘合剂体积被空气占据所述层具有的孔隙率。

P和P′值通过用椭圆偏振法测量n得到，折射率n_e和n_l另外已知，及

各种折射率是在250℃下，632nm波长处测定。

在所述方法的第一实施例中，将耐磨蚀涂层材料浸涂(或者通过离心作用涂装)，干燥，

比值用实验方法确定。例如在75℃炉中约210秒，最后，于100℃后硬化3小时，以便得到根据本发明所述的制品。

除此之外，在形成了多孔无机氧化物层之后，浸涂(或通过离心作用涂装)一种抗震底部组合物层，接着在例如炉中在85℃干燥，然后如上所述出现耐磨蚀涂层。

最后，可以任选地按常规将一抗反射率涂层涂布在耐磨蚀涂层上。

图6是通过转移到一预制件上制造根据本发明所述1/4波片的示意图。

如图6所示，优选地通过离心作用或者在一预制体1的一侧面上浸涂形成可含有粘合剂的胶体无机氧化物中间层2，所述预制件优选用有机玻璃制造。

在一个模具，优选的是在一挠性模具表面6上，按下列次序形成一个常规的抗反射率涂层5，一个耐磨蚀涂层4和一个底层3。最好将反射率涂层5，耐磨蚀涂层4和底部涂层3至少部分地干燥和/或硬化。

然后，将足够量的粘合剂材料涂装在中间层2上或底层3的表面上(优选的是涂装在中间层2上)，然后将承载中间层2的预制件1紧压住由模具6所承载的所有层3，4和5。

在粘合剂硬化之后，去掉模具6以便得到根据本发明所述的镜片。

然后用粘合剂7充填中间层2的孔隙，形成直接与中间层2接触的聚合物材料层。

在这种情况下，粘合剂层7保证了叠加的层3，4，5与中间层2的粘合，同时粘合剂7本身与底1粘合。

这种粘合剂7可以通过离心作用或者浸涂类处理涂布在由预制件1所承载的中间层2上或者叠加层的最后一层上，或者也注入承载中间层2的预制件1和由挠性模具6承载的叠层之间。

将粘合剂涂装在由预制件1所承载的中间层2上是优选的实施方案。

优选的是，粘合剂7是一种可通过辐射例如通过紫外(UV)辐射硬化的有机材料。

如果粘合剂7的粘度高，则可以将该粘合剂7加热，以便减少粘度并使其渗入中间层2，从而得到所述中间层2的最佳充填。加热温度不应太高，以免抗反射率叠加层5的受热损坏。

所形成的1/4波片2防止干涉条纹的出现，特别是当基底1和构成粘合剂7的材料二者之间的折射率差高时。(在最常见的情况下，基底1具有高折射率而粘合剂7具有低折射率)。

比所形成的粘合剂层7高的相邻层4一般是抗震底层。

然而，可以设想构成粘合剂7的材料组合物本身可以被配方为具有抗震性能的情况。

在这种情况下，粘合剂层7还起一种抗震底层的作用并因此直接与耐磨蚀涂层4相邻。

这种粘合剂7可以用美国专利5,619,288中所公开的材料(可UV硬化的丙烯酸酯)制造。

在图6中，1/4波片2是从预制件的后部示出。图6也可以从前侧面同样做出。

然而，对于前侧面，1/4波片2优选的是根据关于图5所说明的方法制造。

模具6可以是刚性的或挠性的，但优选挠性的。

不推荐采用刚性模具，因为它需要大量模具，每个模具都具有一个确定的几何表面，以便与预制件的几何表面相配。

相反，当使用挠性模具时，以使用一个单独的模具为好，该模具具有大致与预制件的表面相配的几何形状的表面，亦即一个凸面或凹面形状，而转移在所述表面上进行。

模具可以用任何合适的材料，尤其是用一种塑料，如聚碳酸酯。

挠性模具通常具有0.3-5mm范围内的厚度，优选用聚碳酯制造并具有0.5-1mm范围内的厚度。

图7是用所谓的IMC法制造的根据本发明所述的1/4波片的示意图。

在制造眼镜片常用的两部分模具中的第一部分模具10a的适当表面上，依次按所指出的顺序以常规方法形成一个具有疏水性能的较高涂层6，一个多层抗反射率涂层5，一个耐磨蚀的硬质涂层4和一个抗震底层3。

在底层3的表面上，优选通过离心作用或浸涂形成一个具有所需厚度和孔隙率的胶体无机氧化物中间层。

在模具的两部分10a，10b用粘合剂密封11装配好之后，将一种液态单体组合物注入模腔中。

在单体组合物硬化而致形成基底1之后，并脱模，就得到一种根据本发明的制品。

在此情况下，中间层2的多孔结构被构成基底1的材料填充。

合适的单体组合物是任何用于制造光学制品特别是眼镜片的常规使用的组合物。

在图7中，各种层是在制品的前侧面上形成的，但也可以同样地在成品镜片的两个侧面上形成。

在下面一些实例中，除非另有说明，所有百分率和份数都用重量表示。

在各实例中的胶体比例都是以干物质重量表示。

在各实例中所用的材料如下：

1)基底

—聚碳酸酯(PC)：由Teijin或通用电气销售的双酚A均聚碳酸酯，

—可热硬化的聚硫氨酯-折射率

n_{D}^{25} = 1.6;

由MITSUI销售的MR6，

—可热硬化的聚硫氨酯-折射率

n_{D}^{25} = 1.67;

由MITSUI销售的MR7，

—聚环硫化物-折射率

n_{D}^{25} = 1.74;

由MITSUI销售，

—无机玻璃：white Stigmal Essilor-折射率

n_{D}^{25} = 1.807 .

2)胶体无机氧化物

二氧化硅-SiO₂	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	pH
二氧化硅-SiO₂	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	pH	MA-ST(Nissan)	1.48	10-12	3-4
Stber 176	1.48	74	6.5	MA-ST(Nissan)	1.48	10-12	3-4
Stber 176	1.48	74	6.5	Stber 229	1.48	71	6.5
Ludox AS 30(Dupont)	1.48	13-14	9.6	Stber 229	1.48	71	6.5

二氧化钛(TiO₂)	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	pH
二氧化钛(TiO₂)	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	pH	1130 F2(CCIC)	2.05	7-15	4-6
1120 ZS 95 A8(CCIC)	1.92	6-10	3-6	1130 F2(CCIC)	2.05	7-15	4-6
1120 ZS 95 A8(CCIC)	1.92	6-10	3-6	氧化锆-ZrO₂	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	PH
ZSL 20N DAICHI KIGENSO	2	～50nm	3	氧化锆-ZrO₂	粒子平均折光指数n_c	粒子直径(nm)	PH

3)底层

—Baxenden生产的W 234聚氨酯乳胶，

—在法国专利申请FR 2,790,317中公开的丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸甲酯乳胶(ABu/MMA)。

4)耐磨蚀涂层

耐磨蚀涂层组合物通过将42.9份0.1N盐酸滴加到含135.7份γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷(GLYMO)和49份二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)的溶液中制备。

加入水解的溶液于室温下放置24小时，然后加入8.8份乙酰丙酮铝，26.5份乙基纤维素，400份30％胶体二氧化硅的甲醇溶液和157份甲醇。

然后加少量表面活性剂。所述组合物的理论干提取物量约含水解的DMDES中10％干物质。

5)抗反射率涂层

当有抗反射率涂层存在时，通过抗反射率层依次真空镀膜下列的层形成：

	材料	光学厚度(nm)
	材料	光学厚度(nm)	涂的第一层	ZrO₂	55
涂的第二层	SiO₂	30	涂的第一层	ZrO₂	55
涂的第二层	SiO₂	30	涂的第三层	ZrO₂	160
涂的第四层(顶层)	SiO₂	120	涂的第三层	ZrO₂	160

光学厚度规定用于λ＝550nm。

在所有实例中，所表示的孔隙率p或p′都是充填之前的初始孔隙率。

实例1和对照实例C1和C2

在一预先用如上所述的苏打溶液处理的聚硫氨酯MR6基底的一个表面上，通过在一含3％混合物的甲醇溶液中浸涂，形成一个胶体无机氧化物层，上述混合物按重量计含30份二氧化硅(MA-ST)和70份TiO₂(1130F2)。干燥之后，无机氧化物层的特点如下：

-厚度：63nm

-折射率：1.385

-孔隙率p＝42％

接着通过浸涂，在上面所指出的条件下，依次地形成一个抗震底层(W234)和一个耐磨蚀涂层。

底层的厚度约为1μm，且耐磨蚀涂层的厚度约为3.5μm(实例1)。

作为对照，在两个MR6基底的一个表面上，通过热浸涂和用同样的条件，形成一个耐磨蚀硬质涂层(聚硅氧烷)，所述涂层具有的折射率为1.6，该折射率一方面适合于基底(对照实例C1)的折射率及一个底层与耐磨蚀硬质涂层的叠加层的折射率，所述叠加层折射率与实例1的折射率相同(对照实例2)。

图8中的曲线图是反射率随涂装的基底波长变化曲线图。

可以看出，合适的折射率系统(C1)的平均反射率水平高于非合适的系统(实例1和C2)的平均反射率水平。

应该注意，与对照实例C2中的系统相比，在实例1(插入1/4波片)的系统中凹槽的幅度大大减小。

实例2至4和对照实例C3

重复实例1，但采用一种聚碳酸酯基底Lexan^(通用电气)和下列胶体无机氧化物溶胶：

实例编号	无机氧化物溶胶
实例编号	无机氧化物溶胶	2	SiO₂ MA-ST/TiO₂ Z 1130F 70/30的3％甲醇溶液
3	SiO₂ Ludox AS 30/TiO₂ Z 1130F 70/30的3％乙醇溶液	2	SiO₂ MA-ST/TiO₂ Z 1130F 70/30的3％甲醇溶液
3	SiO₂ Ludox AS 30/TiO₂ Z 1130F 70/30的3％乙醇溶液	4	SiO₂ MA-ST/TiO₂ Z 1120F ZS 95 A8 50/50的3％甲醇溶液

所得到的无机氧化物层厚度、折射率和孔隙率如下：

实例编号	无机氧化物层厚度(nm)	折射率n	孔隙率p
实例编号	无机氧化物层厚度(nm)	折射率n	孔隙率p	2	63	1.385	42％
3	65	1.375	43％	2	63	1.385	42％
3	65	1.375	43％	4	62	1.329	52％

作为对照(对照实例3)，在一类似的聚碳酸酯基底上，直接形成与实例1相似的底层和耐磨蚀涂层(如上所述的耐磨蚀涂层和Baxenden生产的W 234 PU底层)。

反射率随波长变化的结果用图9中的曲线图表示。

实例5-7

重复实施例2，但将粘合剂加到无机氧化物溶胶中，粘合剂的量使溶胶干提取物含10％，20％和30％粘合剂。所用的粘合剂是Baxenden出产的W-234 PU乳胶，且加入的粘合剂百分率按其重量占溶胶无机氧化物干的总重量的百分数表示。所得到的溶胶组成和无机氧化物层在下表中给出：

实例编号	无机氧化物溶胶		无机氧化物层厚度(nm)	折射率n	孔隙率(％)p	孔隙率(％)p′
	无机氧化物溶胶						无机氧化物	粘合剂(％)^*
	5	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 70/30的2％乙醇溶液					无机氧化物	粘合剂(％)^*	10	67	1.343	46	57
6	5	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 70/30的2％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 70/30的1.6％乙醇溶液	20	74	1.378	38	59	10	67	1.343	46	57
6	7	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 70/30的1.5％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 70/30的1.6％乙醇溶液	20	74	1.378	38	59	30	60	1.412	28	59

^*PU W 234乳胶占无机氧化物的重量％。

反射率随波长变化的结果由图10和11的曲线图给出。

在图10中，将由实施例5得到的反射率结果直接与对照实施例C3和

实施例2的反射率结果进行比较。

例8-10和对照例C4

重复实例1，但用MR7基底和下列无机氧化物溶胶：

实例编号	无机氧化物溶胶		无机氧化物层厚度(nm)	折射率n	孔隙率(％)p	孔隙率(％)p′
	无机氧化物溶胶						无机氧化物	粘合剂(％)^*
	8	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 60/40的1.6％乙醇溶液					无机氧化物	粘合剂(％)^*	20	72	1.410	35	57
9	8	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 60/40的1.6％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 50/50的1.6％乙醇溶液	20	73	1.440	34	57	20	72	1.410	35	57
9	10	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 40/60的1.6％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 50/50的1.6％乙醇溶液	20	73	1.440	34	57	20	61	1.470	32	57

^*PU W 234乳胶占干无机氧化物重量的％。

作为对照实例C4，MR7基底也通过涂装底层和耐磨蚀涂层而制备。

反射率测量的结果随波长的变化通过图12的曲线图给出。

实例11-13和对照实例C5

重复实例1步骤，但用无机玻璃基底并使用下列无机氧化物溶胶。

实例编号	无机氧化物溶胶		无机氧化物层厚度(nm)	折射率n	孔隙率(％)p	孔隙率(％)p′
	无机氧化物溶胶						无机氧化物	粘合剂(％)^*
	11	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 50/50的1.6％乙醇溶液					无机氧化物	粘合剂(％)^*	20	73	1.440	34	57
12	11	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 50/50的1.6％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 40/60的1.6％乙醇溶液	20	61	1.470	32	57	20	73	1.440	34	57
12	13	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 30/70的1.5％乙醇溶液	SiO₂ MA-ST/TiO₂1130F2 40/60的1.6％乙醇溶液	20	61	1.470	32	57	20	60	1.506	31	57

^*PU W 234乳胶占干金属氧化物重量的％。

作为对照实例C5，无机基底也通过直接涂装底层和耐磨涂层制备。

反射率测量的结果随波长的变化通过图13的曲线图给出。

实例14-19和对照实例C6与C7

采用与实例1相同的过程，但用如下表所述的基底，无机氧化物溶胶和底层：

实例编号	基底	无机氧化物层				底层
		无机氧化物层					无机氧化物溶胶176	厚度(nm)	折射率	P(％)
		14	MR7	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2％乙醇溶液	83		无机氧化物溶胶176	厚度(nm)	折射率	P(％)	1.284	67	PUW234乳胶
15	PC	14	MR7	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2％乙醇溶液	83	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2％乙醇溶液	115	1.289	60	ABu/MMA乳胶	1.284	67	PUW234乳胶
15	PC	16	MR6	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 50/50的2％乙醇溶液	115	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2％乙醇溶液	115	1.289	60	ABu/MMA乳胶	1.289	60	ABu/MMA乳胶
17	MR7	16	MR6	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 50/50的2％乙醇溶液	115	SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	90	1.309	64	PCW 234乳胶	1.289	60	ABu/MMA乳胶
17	MR7	18	MR7	SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	103	SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	90	1.309	64	PCW 234乳胶	1.328	61	没有底层
19	MR7	18	MR7	SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	103	SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	103	1.328	61	ABu/MMA乳胶	1.328	61	没有底层
19	MR7	C6	PC			SiO₂ Stber 229/ZrO₂ZSL 20N 30/70的2.5％乙醇溶液	103	1.328	61	ABu/MMA乳胶			ABu/MMA乳胶
C7	MR6	C6	PC							ABu/MMA乳胶			ABu/MMA乳胶

随波长而变化的反射率结果在图14至15中示出。

图19是从实例17得到的涂装产品的显微照像。

实例20至22和对照实例C8

下面的实例示出无机氧化物双层的使用。

这种无机氧化物双层中的每一层都通过浸涂像例1那样形成。底层和耐磨蚀涂层与实例1中的相同并用相似方法制造。所用的基层和无机氧化物溶胶在下面表中给出。

实例编号	基底	第一层				第二层
		第一层				第二层				无机氧化物溶胶	厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)	无机氧化物溶胶	厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)
		20	MR7	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 20/80的2％乙醇溶液	88	1.346	63	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 50/50的2％乙醇溶液	115	无机氧化物溶胶	厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)	无机氧化物溶胶	厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)	1.289	59
21	聚环硫化的n＝1.74	20	MR7	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 20/80的2％乙醇溶液	88	1.346	63	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 50/50的2％乙醇溶液	115	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 13/87的2％乙醇溶液	76	1.336	68	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 50/50的2％乙醇溶液	100	1.254	65	1.289	59

另外用与实例1中相同的步骤，用下面的基底和无机氧化物溶胶及与实例1相同的底层和耐磨层，制造出一种根据本发明的制品，所述制品包括单层所述的无机氧化物层。

实施编号	无机氧化物溶胶	层厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)
实施编号	无机氧化物溶胶	层厚度(nm)	折射率	孔隙率(％)	22	SiO₂ Stber 176/ZrO₂ZSL 20N 20/80...	88	1.346	63

作为对照(对照实例8)，类似的基底(n＝1.74)直接涂装了底层和耐磨蚀涂层。

反射率随波长变化的结果用图17和18中的曲线图给出。

Claims

1.一种光学制品，包括一个有机或无机玻璃基底和一种透明的聚合物材料层，其特征在于：它包括至少一个中间层，所述中间层与基底和聚合物材料层的一个主侧面直接接触，中间层用至少一种胶体无机氧化物和非必要的一种粘合剂的粒子构成，所述中间层具有初始多孔结构，并且中间层的初始多孔结构或是被聚合物材料层的材料充填，或是(如果基底材料是用有机玻璃制造的话)被基底材料充填，并且当粘合剂存在时，可以部分被粘合剂充填，以便在初始孔隙被充填之后，每个中间层都代表一个1/4波片，所述1/4波片的波长在400-700nm的范围内，优选的在450-650nm的范围内。

2.根据权利要求1的光学制品，其特征在于：在没有粘合剂存在时，中间层的孔隙率至少为体积的40％，优选的是至少为体积的50％。

3.根据权利要求2的光学制品，其特征在于：在有粘合剂存在时及充填之前，中间层具有孔隙率至少为体积的25％，优选的是至少为体积的30％。

4.根据权利要求1至3之一的光学制品，其特征在于：胶体无机氧化物的粒径在10-80nm，优选的是在30-80nm，更优选的是在30-60nm范围内。

5.根据权利要求1至4之一的光学制品，其特征在于：粘合剂按重量计占中间层干无机氧化物总重量总计高至30％，优选的是高至25％，更优选的是10-20％。

6.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：粘合剂是一种聚氨酯乳胶。

7.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：胶体无机氧化物从SiO₂，TiO₂，ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，Y₂O₃，Ta₂O₅及其混合物中选定。

8.根据权利要求7的光学制品，其特征在于：中间层包括一种混合物，所述混合物由至少一种低折射率胶体无机氧化物

(n \frac{25}{D} < 1.54)

和至少一种高折射率胶体无机氧化物

(n \frac{25}{D} &GreaterEqual; 1.54)

组成。

9.根据权利要求8的光学制品，其特征在于：低折射率胶体无机氧化物/高折射率无机氧化物的重量比在30/70到70/30范围内。

10.根据权利要求8或9的光学制品，其特征在于：胶体无机氧化物混合物是SiO₂和TiO₂的混合物或者SiO₂与ZrO₂的混合物。

11.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：它包括两个中间层。

12.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：有机玻璃基底是从二甘醇双(烯丙基碳酸酯)聚合物和共聚物，均聚和共聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚硫代甲基丙烯酸酯，聚氨酯，聚硫氨酯，聚环氧化物，聚环硫化物及它们的组合中选定的。

13.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：基底的折射率

在1.55至1.80，优选的是在1.60-1.75范围内。

14.根据上述权利要求之一的光学制品，其特征在于：聚合物材料层是一种抗震底层。

15.根据权利要求14的制品，其特征在于：底层是一种基于甲基丙烯酸聚合物、硫代甲基丙烯酸聚合物、聚酯、聚氨酯、聚硫氨酯的材料或它们的组合。

16.根据权利要求15的制品，其特征在于：底层材料是一种聚甲基丙烯酸或一种聚氨酯乳胶。

17.根据权利要求1至13之一的制品，其特征在于：聚合物材料层是一种耐磨蚀涂层。

18.根据权利要求17的制品，其特征在于：耐磨蚀涂层由硬化一种组合物产生，所述组合物包括作为主要成分的环氧烷氧基硅烷，二烷基二烷氧基硅烷和胶体二氧化硅或这些成分的水解产物。

19.根据权利要求14至16之一的制品，其特征在于：它包括一个耐磨蚀涂层，所述耐磨蚀涂层涂布在抗震底层上。

20.根据权利要求17至19之一的制品，其特征在于：它包括一个抗反射率涂层，所述抗反射率涂层形成在耐磨蚀涂层上。

21.根据权利要求1至20之一的光学制品，其特征在于，所述制品是一种眼科镜片，特别是一种柔性焦距透镜。

22.一种用于制造光学制品的方法，其特征在于包括以下步骤：

a)在一个支承件的至少一个主表面上，通过至少一种胶体无机氧化物和非必要的一种粘合剂的涂布，形成至少一个中间层，所述中间层由至少一种具有初始多孔结构的胶体无机氧化物组成；和

b)在中间层上形成一种光学上透明的聚合物材料层或一种有机玻璃基底；

c)中间层的初始多孔结构用所述层的聚合物材料或用在步骤b)所形成的基底材料及任选地部分用粘合剂充填，以便在初始多孔结构充填之后，每个中间层都代表一个1/4波片，所述1/4波片在400-700nm，优选的在450-650nm的范围内。

23.根据权利要求22的方法，其特征在于：支承件是一种有机或无机玻璃基底。

24.根据权利要求22的方法，其特征在于：支承件是一个模具部分的主模制表面，所述主模制表面包括至少一个涂层，所述涂层代表光学上透明的聚合物材料层，且中间层的初始多孔结构被有机玻璃基底的材料充填。

25.根据权利要求24的方法，其特征在于：基底通过在模具中浇铸一种液态可聚合的组合物及所述组合物的聚合形成。

26.根据权利要求23的方法，其特征在于：它包括在步骤a)之前用碱性溶液进行基底处理。

27.根据权利要求2 2至26之一的方法，其特征在于：在没有粘合剂存在时，中间层的初始孔隙率至少为体积的40％。

28.根据权利要求22至26之一的方法，其特征在于：没有粘合剂存在时，中间层中的孔隙率至少为体积的50％。

29.根据权利要求22至28之一的方法，其特征在于：胶体无机氧化物的颗粒度在10-80nm，优选的在30-80nm且更优选的在30-60nm范围内。

30.根据权利要求22至29之一的方法，其特征在于：粘合剂按重量计占中间层干无机氧化物总重量总计高至30％，优选高至25％，更优选占10-20％。

31.根据权利要求22至30之一的方法，其特征在于：粘合剂是聚氨酯乳胶。

32.根据权利要求22至31之一的方法，其特征在于：胶体无机氧化物是从SiO₂，TiO₂，ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，Y₂O₃，Ta₂O₅及其混合物中选定的。

33.根据权利要求22至32之一的方法，其特征在于：中间层包括一种混合物，所述混合物由至少一种低折射率

(n \frac{25}{D} < 1.54)

的胶体无机化合物和至少一种高折射率

(n \frac{25}{D} &GreaterEqual; 1.54)

的胶体无机氧化物组成。

34.根据权利要求33的方法，其特征在于：低折射率胶体无机化合物/高折射率无机氧化物的重量比在30/70到70/30范围内。

35.根据权利要求33或34的方法，其特征在于：胶体无机氧化物混合物是SiO₂和TiO₂的混合物或者SiO₂与ZrO₂的混合物。

36.根据权利要求22至33之一的方法，其特征在于：它包括形成两个中间层的步骤。

37.根据权利要求22至36之一的方法，其特征在于：有机玻璃基体从二甘醇双(烯丙基碳酸酯)聚合物和共聚物，均聚碳酸酯和共聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚硫代甲基丙烯酸酯，聚氨酯，聚硫氨酯，聚环氧化物，聚环硫化物和它们的组合中选择。

38.根据权利要求22至37之一的方法，其特征在于：基体的的折射率在1.55-1.80，优选在1.60-1.75范围内。

39.根据权利要求22至38之一的方法，其特征在于：聚合物材料层是一种抗震底层。

40.根据权利要求39的方法，其特征在于：底层是一种基于甲基丙烯酸聚合物，硫代甲基丙烯酸聚合物，聚酯，聚氨酯，聚硫氨酯的材料或它们的组合。

41.根据权利要求22至38之一的方法，其特征在于：底层材料一种聚甲基丙烯酸或聚氨酯乳胶。

42.根据权利要求22至38之一的方法，其特征在于：聚合物材料层是一种耐磨蚀涂层。

43.根据权利要求42的方法，其特征在于：耐磨蚀涂层由硬化一种组合物产生，所述组合物作为主成分包括环氧烷氧基硅烷，二烷基二烷氧基硅烷和胶体二氧化硅或一种这些成分的水解产物。

44.根据权利要求39至41之一的方法，其特征在于：它包括在抗震底层上，通过浸涂或离心作用和硬化，形成一种耐磨蚀涂层的步骤。

45.根据权利要求42至44之一的方法，其特征在于：它包括在耐磨蚀涂层上形成一个抗反射率涂层的步骤。