CN1517161A - 基片清洁装置和基片处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种基片清洁装置，它包括：第一清洁室，该第一清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，该第二清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第二清洁部分。该第一清洁室叠置在第二清洁室上，这样，第一清洁室的至少一部分重叠在第二清洁室的至少一部分上。

Description

基片清洁装置和基片处理设备

发明领域

本发明涉及一种基片清洁装置和一种基片处理设备。特别是，本发明涉及一种用于清洁在显示屏(例如液晶显示装置的液晶显示屏)中使用的基片(例如玻璃基片等)的基片清洁装置，还涉及一种包括该基片清洁装置的基片处理设备。

背景技术

一般的液晶显示装置的液晶显示屏包括一对透明基片(例如玻璃基片等)。薄膜晶体管(TFT)设置在一个玻璃基片表面上，而滤色器设置在另一玻璃基片表面上。两个玻璃基片相互安装。而且，液晶夹在这两个玻璃基片之间。这样就制成液晶显示屏。

在液晶显示屏的制造厂中，送入工厂的玻璃基片在清洁表面之后供给各个处理步骤。在这些处理步骤中，TFT形成于某些玻璃基片上；滤色器设置在某些玻璃基片上等。在各处理步骤中，玻璃基片的表面在恰好特定处理之前进行清洁。因此，液晶显示屏制造厂需要多个用于清洁在液晶显示屏中使用的玻璃基片的表面的装置。

图9是表示在液晶显示装置的制造厂中用于处理玻璃基片的装置的示例布局的正视图。图10是图9的装置的平面图。

用于在玻璃基片上执行预定处理的处理装置52设置在洁净室51中。在该洁净室51的上部，多个高性能过滤器53沿水平方向设置。各高性能过滤器53提供向下流入洁净室51的清洁空气。

在洁净室51中，处理装置52设有用于运送玻璃基片的装载装置55。该装载装置55沿处理装置52并沿直线方向传送玻璃基片。用于液晶显示屏的多个玻璃基片送入洁净室51中，其中，该玻璃基片装入盒40中。该盒40沿装载装置55的运送方向(即纵向方向)设置，并设置在装载装置55的一侧。用于从玻璃基片上除去灰尘等的清洁装置56设置成靠近装载装置55的端部。

在各盒40中，水平放置的多个玻璃基片竖直堆放并以合适间隔间隔开。装载装置55设有玻璃基片吸附手，该玻璃基片吸附手有一对平行的平面型吸附垫，且该玻璃基片吸附手从沿装载装置55的侧部送入的一个盒40中拾取玻璃基片。该玻璃基片吸附手可以相对于装载装置55竖直和纵向运动。

通过装载装置55的玻璃基片吸附手拾取的玻璃基片再运送给清洁装置56，该玻璃基片接着设置于该清洁装置56中。在清洁装置56中的玻璃基片的表面通过清洁装置56来清洁。清洁后的玻璃基片通过装载装置55的玻璃基片吸附手从清洁装置56中取出，并运送至处理装置52的预定位置。

玻璃基片清洁装置56的一个实例例如在日本公开文献No.6-165960中介绍。在该装置中，要清洁的玻璃基片水平设置于其中；空气的脉冲波从吹气喷嘴吹向玻璃基片的表面(上表面)，这样，附在表面上的灰尘被除去；然后该基片由吸附喷嘴吸附。

近来，显示屏包括厚度为0.7mm或更小的玻璃基片。随着显示屏增大，送入液晶显示屏制造厂的玻璃基片的尺寸增加至边长为大约1.3m或更大的矩形玻璃基片。

如上所述，多个清洁装置56(图9和10)用于液晶显示屏制造厂中。当处理具有较大面积的玻璃基片时，清洁装置56需要增大，这样，大尺寸的玻璃基片可以水平设置于其中。这时，清洁装置56的缺点是占据较大面积。因为液晶显示屏制造厂需要多个清洁装置56，因此制造厂需要较大面积，从而可能导致成本效益降低。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种基片清洁装置，它包括：第一清洁室，该第一清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，该第二清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第二清洁部分。该第一清洁室叠置在第二清洁室上，这样，第一清洁室的至少一部分重叠在第二清洁室的至少一部分上。

在本发明的一个实施例中，基片清洁装置还包括过滤器，该过滤器设置在第一清洁室和第二清洁室的重叠区域中。

在本发明的一个实施例中，第一台板设置在第一清洁室中，且该第一台板与设置在第一清洁室中并设置在该第一台板上的基片一起滑动；第二台板设置在第二清洁室中，且该第二台板与设置在第二清洁室中并设置在该第二台板上的基片一起滑动。

在本发明的一个实施例中，第一清洁室开口，从而使清洁空气流入该第一清洁室。

在本发明的一个实施例中，第一开口部分设置在第一清洁室的侧壁上；且第二开口部分设置在第二清洁室的侧壁上。

在本发明的一个实施例中，第一清洁室的、设有第一开口部分的侧壁与第二清洁室的、设有第二开口部分的侧壁相对。

在本发明的一个实施例中，第一清洁部分包括第一喷嘴头，该第一喷嘴头有用于向设置在第一清洁室中的基片上吹气的第一吹气部分以及用于抽吸在该第一清洁室中的气体的第一抽吸部分；且第二清洁部分包括第二喷嘴头，该第二喷嘴头有用于向设置在第二清洁室中的基片上吹气的第二吹气部分以及用于抽吸在该第二清洁室中的气体的第二抽吸部分。

在本发明的一个实施例中，第一清洁室和第二清洁室设置成这样，当第一清洁室和第二清洁室投影到与垂直方向垂直的平面上时，在该平面上图像重叠区域的面积最大。

根据本发明的另一方面，提供了一种基片处理设备，该基片处理设备包括洁净室。基片清洁装置设置在该洁净室中。该基片清洁装置包括：第一清洁室，该第一清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第一清洁部分；第二清洁室，该第二清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第二清洁部分。该第一清洁室叠置在第二清洁室上，这样，第一清洁室的至少一部分重叠在第二清洁室的至少一部分上。

在本发明的一个实施例中，第一台板设置在第一清洁室中，且该第一台板与设置在第一清洁室中并设置在该第一台板上的基片一起滑动；第二台板设置在第二清洁室中，且该第二台板与设置在第二清洁室中并设置在该第二台板上的基片一起滑动。

在本发明的一个实施例中，在洁净室中设有第一装载装置和第二装载装置，该第一装载装置用于将基片设置在第一清洁室的第一台板上，该第二装载装置用于将基片设置在第二清洁室的第二台板上。

在本发明的一个实施例中，第一装载装置和第二装载装置设置在洁净室中与基片清洁装置基本在一直线上，该基片清洁装置夹在第一装载装置和第二装载装置之间。

因此，这里所述的本发明可以很好地提供：(1)基片清洁装置，该基片清洁装置有较小的占地面积，并能够高效清洁基片；以及(2)基片处理设备，该基片处理设备有较小占地面积，并使用基片清洁装置，以便高效处理基片。

本领域技术人员通过阅读和理解下面参考附图的详细说明，可以清楚本发明的这些和其它优点。

附图说明

图1是表示本发明实施例的基片清洁装置实例的正视图。

图2是图1的基片清洁装置的侧视图。

图3是图1的基片清洁装置的平面图。

图4是表示图1的基片清洁装置的内部的正剖图。

图5是表示图1的基片清洁装置的内部的侧剖图。

图6是沿图4的线A-A的平面剖视图。

图7是表示本发明的基片处理设备的示例布局的正视图。

图8是表示图7的基片处理设备的示例布局的平面图。

图9是表示传统基片处理设备的示例布局的正视图。

图10是图9的传统基片处理设备的平面图。

具体实施方式

下面将参考附图并通过图示实例来介绍本发明。

图1是表示本发明实施例的基片清洁装置10的正视图。图2和3分别是基片清洁装置10的侧视图和平面图。

基片清洁装置10例如设置在液晶显示屏制造厂的洁净室中，并用于恰好在对玻璃基片进行特定处理之前清洁玻璃基片。

本发明的基片清洁装置10包括在它底部成矩形棱柱形状的基座部分11。在基座部分11上面的空间完全由侧壁12包围。在基座部分11上面的空间的顶侧开口，这样，清洁空气从顶板向下流，并进入该空间。

图4和5分别是表示基片清洁装置10的内部的正剖图和侧剖图。图6是沿图4的线A-A的平面剖视图。

基座部分11的顶侧为水平矩形形状，并有能够使两个要清洁的矩形玻璃基片并排设置的区域。在基座部分11上面由侧壁12包围的空间为空心矩形棱柱形状。该矩形棱柱部分分成上部清洁室13和底部清洁室14。因此，上部清洁室13和底部清洁室14竖直叠置，并基本没有水平错位。实际上，上部清洁室13和底部清洁室14投影到垂直于竖直轴线的平面上时，调整竖直叠置的上部清洁室13和底部清洁室14，使它们在该平面上的图像的重叠区域最大。

多个高效的特殊空气过滤器(“HEPA过滤器”)23水平地设置在上部清洁室13和底部清洁室14之间的基本整个区域中。各HEPA过滤器包括风扇部分。

各HEPA过滤器23包括在它的上部的风扇部分以及在它的底部的过滤器部分。风扇部分从上部清洁室13中吸气(例如空气等)，而过滤器部分清洁该气体，并将该气体供给底部清洁室14。

底部开口部分12a设置在底部清洁室14的纵向侧的侧壁12部分上，通过该底部开口部分12a，要清洁的玻璃基片插入底部清洁室14中，同时使该玻璃基片保持水平位置(图1)。

在底部清洁室14中，滑动台板15A设置在基座部分11上方，插入的玻璃基片水平设置在该滑动台板15A上。滑动台板15A的上侧为矩形形状，该矩形的面积基本与插入底部清洁室14中的玻璃基片的面积相同。

如图5所示，滚珠丝杠16Aa沿基座部分的纵向方向(横向方向)设置在基座部分11的顶侧。安装在滑动台板15A上的滚珠螺母19Aa通过螺纹连接而与滚珠丝杠16Aa相连。导轨16Ab设置在基座部分11的顶侧并平行于滚珠丝杠16Aa。安装在滑动台板15A上的滑动导轨19Ab与导轨16Ab滑动啮合。

马达17A设置在基座部分11上，它通过使滚珠丝杠16Aa前后旋转而使得滑动台板15A沿滚珠丝杠16Aa和导轨16Ab往复滑动。滑动台板15A通过马达17A而沿纵向方向从基座部分11的一侧滑向另一侧，且滑动距离为滑动台板15A的纵向长度或更长，即1节距或更多，然后返回待用位置。

喷嘴头18A设置在底部清洁室14中，该喷嘴头18A作为用于清洁设置在滑动台板15A上的玻璃基片表面(顶侧)的清洁部分。该喷嘴头位于滑动台板15A可以滑动的区域的中部。喷嘴头18A在与滑动台板15A的滑动方向垂直的方向上呈细长状。该喷嘴头18A的长度比设置在滑动台板15A上的玻璃基片沿与滑动台板15A的滑动方向垂直的方向的长度稍微长些。通过使滑动台板15A滑动，设置在该滑动台板15A上的玻璃基片的整个表面可以对着喷嘴头18A。

喷嘴头18A有吹气出口，该吹气出口在该喷嘴头对着滑动台板15A的底侧，并沿与滑动台板15A的滑动方向垂直的方向。空气通过该吹气出口吹在玻璃基片的表面上。喷嘴头18A有吸气口，该吸气口设置在吹气出口附近并与该吹气出口平行。吹到玻璃基片上的空气通过该吸气口来抽吸。吹气出口和吸气口基本设置在滑动台板15A沿与滑动方向垂直的方向的整个长度上。

通过喷嘴头18A吹向玻璃基片表面的气体除了可以是空气外，还可以是惰性气体(例如氮气等)、离子化气体、超声波振动气体等。

向吹气出口供给用于清洁玻璃基片的空气的供气导管与喷嘴头18A连接。排气导管22A也与喷嘴头18A连接，该排气导管22A用于除去已经吹在玻璃基片上并通过吸气口抽吸的清洁空气。该供气导管21A和排气导管22A并排设置，并与喷嘴头18A沿纵向的中部连接。供气导管21A和排气导管22A从该喷嘴头18A垂直向上延伸，并在上部清洁室13和底部清洁室14之间的区域中弯曲，沿HEPA过滤器23伸向基片清洁装置10的外部。

用来插入基片的上部开口部分12b设置在上部清洁室13侧部的、在HEPA过滤器23上面的侧壁12部分上(图1)。在侧壁12中，上部清洁室13的、设有上部开口部分12b的侧部与底部清洁室14的、设有底部开口部分12a的侧部相对。玻璃基片通过上部开口部分12b水平插入上部清洁室13。

用来在上面水平设置玻璃基片的滑动台板15B设置在上部清洁室13中，就象在底部清洁室14中一样。通过螺纹连接与滚珠丝杠16Ba连接的滚珠螺母19Ba以及与导轨16Bb滑动啮合的滑动导轨19Bb安装在滑动台板15B上，该滚珠螺母19Ba和滑动导轨19Bb设置在HEPA过滤器23上方。滚珠丝杠16Ba可通过马达17B前后旋转。与在底部清洁室14中的滑动台板15A一样，滑动台板15B通过马达17B而沿滚珠丝杠16Ba和导轨16Bb往复运动。

与在底部清洁室14中的滑动台板15A一样，滑动台板15B通过马达17B而沿纵向方向从上部清洁室13的一侧滑向另一侧，且滑动距离为滑动台板15B的纵向长度或更长，即1节距或更多，然后返回待用位置。

与底部清洁室14一样，上部清洁室13设有喷嘴头18B，该喷嘴头18B起到用于清洁设置在滑动台板15B上的玻璃基片表面(顶侧)的清洁部分的作用。喷嘴头18B的结构与在底部清洁室14中的喷嘴头18A基本相同。吹气出口和吸气口设置在喷嘴头18B的底侧。供气导管21B和排气导管22B分别与吹气出口和吸气口连接。

上部清洁室13的顶侧开口。多个用于使供给的空气离子化的集尘器24水平设置，并覆盖了上部清洁室13顶侧的一部分。该集尘器24通过使空气离子化来从供给清洁室内的清洁空气中收集灰尘。

具有上述结构的基片清洁装置10设置在基片处理设备中，该基片处理设备安装在液晶显示屏制造厂中。

图7是表示本发明的基片处理设备60的示例布局的正视图。图8是表示本发明的基片处理设备60的示例布局的平面图。

基片处理设备60有一洁净室30，多个用于以预定方式处理玻璃基片的处理装置32设置在该洁净室30中。本发明的基片清洁装置10设置在该洁净室30中。在图7中示意表示了有上部清洁室13、底部清洁室14和HEPA过滤器23的基片清洁装置10。

多个HEPA过滤器31水平并排设置在洁净室30的上部。由HEPA过滤器31清洁的空气向下流入洁净室30中。

在洁净室30中，设有用于将玻璃基片运送给预定处理装置32的一对装载装置35A和35B。装载装置35A和装载装置35B设置成与夹在它们之间的基片清洁装置10基本在一直线上。装载装置35A和35B分别运送玻璃基片。装入各盒40中的多个玻璃基片送入洁净室30中。该玻璃基片用于液晶显示屏。多个盒设置成沿装载装置35A和35B运送方向在各装载装置35A和35B的一侧。

在各盒40中，多个水平定向的玻璃基片竖直堆放，并间隔开合适间隔。装载装置35A和35B分别提供了玻璃基片吸附手，该玻璃基片吸附手有一对平行的平面吸附垫，该吸附垫从设置在装载装置35A和35B侧部的一个盒40中拾取玻璃基片。该玻璃基片吸附手可以相对于装载装置35A和35B垂直和纵向运动。

各装载装置35A和35B的玻璃基片吸附手将从盒40中拾取的玻璃基片运送给基片清洁装置10，并将该玻璃基片设置在基片清洁装置10的上部清洁室13或底部清洁室14中的滑动台板15A或15B上。玻璃基片通过基片清洁装置10来清洁，然后通过装载装置35A或35B的玻璃基片吸附手而从上部清洁室13或底部清洁室14中取出。

多个用于对玻璃基片进行预定处理的处理装置32设置在装载装置35A和35B中与设有盒40的一侧相对的另一侧。通过装载装置35A或35B的玻璃基片吸附手而从基片清洁装置10的上部清洁室13或底部清洁室14中取出的玻璃基片设置在该装载装置35A或35B侧部的处理装置32中的预定位置处。

处理装置32可以为对通过装载装置35A或35B供给的玻璃基片执行预定处理的任何装置，它设置在装载装置35A或35B侧部。该预定处理并没有特别限制。在装载装置35A和35B侧部的处理装置并不必须有相同功能。多个用于执行相同或不同处理的处理装置32可以设置在装载装置35A和35B的侧部。

在具有上述结构的洁净室30中，通过一个装载装置(例如装载装置35B)的玻璃基片吸附手从盒40中取出的玻璃基片通过在基片清洁装置10的上部清洁室13的侧部的上部开口部分12b运送到上部清洁室13内，并设置在上部清洁室13的滑动台板15B上。

另一方面，通过另一装载装置(例如装载装置35A)的玻璃基片吸附手从盒40中取出的玻璃基片通过在基片清洁装置10的底部清洁室14的侧部的底部开口部分12a运送到底部清洁室14内，并设置在底部清洁室14的滑动台板15a上。

当玻璃基片设置在上部清洁室13中的滑动台板15B上时，滑动台板15B从待用位置开始沿水平方向滑动。因此，设置在滑动台板15B上的玻璃基片通过在上部清洁室13的喷嘴头18B下面的区域。

喷嘴头18B吹出空气，该空气从供气导管21B通过在喷嘴头底侧的吹气出口而供给。该空气吹在经过喷嘴头18B底部的玻璃基片上。而且，吹在玻璃基片上的空气通过喷嘴头18B的吸气口抽吸，并通过排气导管22B排出上部清洁室13的外部。

喷嘴头18B对着在它下面滑动的玻璃基片的整个上表面，且该面对的方向垂直于滑动方向。通过使玻璃基片沿水平方向滑动距离为1个节距或更多，可以清洁玻璃基片的整个表面。在整个玻璃基片已经通过喷嘴头18B下面之后，滑动台板15B沿相反方向滑动，以便再次清洁玻璃基片。

设置在底部清洁室14中的滑动台板15A有基本与设置在上部清洁室13中的滑动台板15B相同的功能。

当玻璃基片设置在底部清洁室14的滑动台板15A上时，滑动台板15A从待用位置开始沿水平方向滑动。因此，设置在滑动台板15A上的玻璃基片通过在底部清洁室14的喷嘴头18A下面的区域。

喷嘴头18A吹出空气，该空气从供气导管21A通过在喷嘴头底侧的吹气出口而供给。该空气吹在经过喷嘴头18A底部的玻璃基片上。而且，吹在玻璃基片上的空气通过喷嘴头18B的吸气口抽吸，并通过排气导管22A排出底部清洁室14的外部。

喷嘴头18A对着在它下面滑动的玻璃基片的整个上表面，且该面对的方向垂直于滑动方向。通过使玻璃基片沿水平方向滑动距离为1个节距或更多，可以清洁玻璃基片的整个表面。在整个玻璃基片已经通过喷嘴头18A下面之后，滑动台板15A沿相反方向滑动，以便再次清洁玻璃基片。

在基片处理设备60中，由设置在洁净室30顶部的HEPA过滤器31清洁的空气直接或通过集尘器24流入上部清洁室13中。因此，基本没有在上部清洁室13中的滑动台板15B上的玻璃基片由流入上部清洁室13中的空气污染的危险。因此，能够可靠清洁玻璃基片。

在流入上部清洁室14中的空气流入底部清洁室14中之前，通过设置在上部清洁室13和底部清洁室14之间的HEPA过滤器23从该空气中收集灰尘。因此，基本没有由在上部清洁室13中的滑动台板15B、滚珠丝杠16Ba等产生的灰尘流入底部清洁室14的危险。因此，在滑动台板15A上的玻璃基片在底部清洁室14的清洁空气中进行清洁。因此，玻璃基片能够可靠地在底部清洁室14中进行清洁。

因此，当滑动台板15A往复运动并返回待用位置时，设置在滑动台板15A上的玻璃基片通过在底部清洁室14的侧部的底部开口部分12a而由装载装置35A的玻璃基片吸附手从该底部清洁室14中取出。然后，该玻璃基片通过设置在与处理装置32相对应的预定位置而运送到在装载装置35A侧部的预定处理装置32中。

同样，当滑动台板15B往复运动并返回待用位置时，设置在滑动台板15A上的玻璃基片通过在上部清洁室13的侧部的上部开口部分12b而由装载装置35B的玻璃基片吸附手从该上部清洁室13中取出。然后，该玻璃基片通过设置在与处理装置32相对应的预定位置而运送到在装载装置35B侧部的预定处理装置32中。

如上所述，上部清洁室13和底部清洁室14在基片清洁装置10中竖直叠置，因此，由基片清洁装置10占据的面积可以减小。特别是，即使当要处理的玻璃基片的面积增加时，也能抑制由基片清洁装置10占据的面积增加。因此，显示屏例如液晶显示屏等的制造厂的占地面积可以减小。

而且，玻璃基片可以在竖直设置的上部清洁室13和底部清洁室14中同时进行清洁，因此，明显提供了清洁玻璃基片的效率。

上述基片清洁装置10包括竖直设置的两个清洁室(上部清洁室13和底部清洁室14)。不过，本发明并不局限于该结构。例如，上述基片清洁装置10可以包括三个或更多清洁室，其中的至少两个清洁室竖直叠置。这时，基片清洁装置的占地面积可以减小。

在上述基片清洁装置10中，上部清洁室13和底部清洁室14在水平方向没有错位的情况下垂直设置。本发明并不局限于该结构。也可选择，上部清洁室13和底部清洁室14可以沿水平方向相互偏移，这样，该上部清洁室13和底部清洁室14彼此局部重叠。当基片清洁装置10包括三个或更多清洁室时，垂直设置的至少两个清洁室可以相互偏移，从而彼此局部重叠。

通过使两个或更多清洁室垂直设置并彼此重叠，基片清洁装置的占地面积可以减小。

当竖直设置的两个清洁室沿水平方向彼此偏移时，过滤器(例如HEPA过滤器23等)可以只设置在两个清洁室重叠的区域中。这时，沿水平方向相对于上部清洁室偏移且与该上部清洁室部分重叠的底部清洁室向上面空间开口，除了设置有HEPA过滤器23的重叠区域外。清洁空气在没有过滤器等的情况下通过该开口部分直接流入底部清洁室。

根据本发明，提供了一种基片清洁装置，该基片清洁装置包括至少两个清洁室，清洁室包含用于清洁基片表面的清洁部分。清洁室竖直叠置，同时至少部分彼此重叠。因此，基片清洁装置的占地面积可以减小。而且，基片可以高效清洁。过滤器设置在竖直叠置的两个清洁室的重叠区域中，从而基本消除了在上部清洁室中产生的灰尘等流入底部清洁室的危险。

根据本发明，提供了具有较小占地面积并能够高效处理基片的基片处理设备。

在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本领域技术人员可以很容易知道各种其它变化形式。因此，不应该将权利要求的范围局限于这里的所述说明，而是应该作宽泛的解释。

Claims (12)

1.一种基片清洁装置，包括：

第一清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第一清洁部分；以及

第二清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第二清洁部分；

其中，所述第一清洁室叠置在所述第二清洁室上，使所述第一清洁室的至少一部分重叠在所述第二清洁室的至少一部分上。

2.根据权利要求1所述的基片清洁装置，还包括一过滤器，该过滤器设置在所述第一清洁室和所述第二清洁室的重叠区域中。

3.根据权利要求1所述的基片清洁装置，其中：

在所述第一清洁室中设置有一第一台板，且该第一台板与设置在所述第一清洁室中并放在该第一台板上的基片一起滑动；以及

在所述第二清洁室中设置有一第二台板，且该第二台板与设置在所述第二清洁室中并放在该第二台板上的基片一起滑动。

4.根据权利要求1所述的基片清洁装置，其中：所述第一清洁室是开口的，清洁空气能够流入该第一清洁室。

5.根据权利要求1所述的基片清洁装置，其中：

在所述第一清洁室的侧壁上设置有一第一开口部分；以及

在所述第二清洁室的侧壁上设置有一第二开口部分。

6.根据权利要求5所述的基片清洁装置，其中：所述第一清洁室的设有所述第一开口部分的所述侧壁与所述第二清洁室的设有所述第二开口部分的所述侧壁相对。

7.根据权利要求1所述的基片清洁装置，其中：

所述第一清洁部分包括第一喷嘴头，该第一喷嘴头具有用于向放置在所述第一清洁室中的基片上吹气的第一吹气部分以及用于抽吸所述第一清洁室中的气体的第一抽吸部分；以及

所述第二清洁部分包括第二喷嘴头，该第二喷嘴头具有用于向放置在所述第二清洁室中的基片上吹气的第二吹气部分以及用于抽吸所述第二清洁室中的气体的第二抽吸部分。

8.根据权利要求1所述的基片清洁装置，其中：所述第一清洁室和所述第二清洁室设置成这样，当所述第一清洁室和所述第二清洁室投影到与竖直方向垂直的平面上时，各清洁室在该平面上图像的重叠区域的面积最大。

9.一种基片处理设备，包括一洁净室，其中：在该洁净室中设有一基片清洁装置，该基片清洁装置包括：

第一清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第一清洁部分；以及

第二清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第二清洁部分；

其中，所述第一清洁室叠置在所述第二清洁室上，使所述第一清洁室的至少一部分重叠在所述第二清洁室的至少一部分上。

10.根据权利要求9所述的基片处理设备，其中：

在所述第一清洁室中设置有一第一台板，且该第一台板与设置在所述第一清洁室中并放在该第一台板上的基片一起滑动；以及

在所述第二清洁室中设置有一第二台板，且该第二台板与设置在所述第二清洁室中并放在该第二台板上的基片一起滑动。

11.根据权利要求10所述的基片处理设备，其中：在所述洁净室中设有第一装载装置和第二装载装置，该第一装载装置用于将基片设置在所述第一清洁室的所述第一台板上，该第二装载装置用于将基片设置在所述第二清洁室的所述第二台板上。

12.根据权利要求10所述的基片处理设备，其中：所述第一装载装置和所述第二装载装置设置在所述洁净室中与所述基片清洁装置基本在一直线上，该基片清洁装置夹置在所述第一装载装置和所述第二装载装置之间。

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