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Patentes

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Número de publicaciónCN1677246 A
Tipo de publicaciónSolicitud
Número de solicitudCN 200510071694
Fecha de publicación5 Oct 2005
Fecha de presentación28 Mar 2005
Fecha de prioridad29 Mar 2004
También publicado comoCN1677246B, DE602005004949D1, DE602005004949T2, EP1582928A1, EP1582928B1, US7561251, US8502954, US20050213067, US20100014059
Número de publicación200510071694.9, CN 1677246 A, CN 1677246A, CN 200510071694, CN-A-1677246, CN1677246 A, CN1677246A, CN200510071694, CN200510071694.9
InventoresG·W·范德菲茨, C·-Q·桂, J·C·G·霍伊纳格斯
SolicitanteAsml荷兰有限公司
Exportar citaBiBTeX, EndNote, RefMan
Enlaces externos:  SIPO, Espacenet
光刻设备和设备制造方法
CN 1677246 A
Descripción  disponible en chino
Reclamaciones(28)  disponible en chino
Citada por
Patente citante Fecha de presentación Fecha de publicación Solicitante Título
CN102414622A *23 Mar 201011 Abr 2012Asml荷兰有限公司光刻设备和检测器设备
US893408323 Mar 201013 Ene 2015Asml Netherlands B.V.Lithographic apparatus and detector apparatus
Clasificaciones
Clasificación internacionalH01L21/027, G03F7/20
Clasificación cooperativaG03F7/70875, G03F7/705
Clasificación europeaG03F7/70L2B, G03F7/70P6B2
Eventos legales
FechaCódigoEventoDescripción
5 Oct 2005C06Publication
30 May 2007C10Request of examination as to substance
28 Sep 2011C14Granted