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Patentes

  1. Búsqueda avanzada de patentes
Número de publicaciónCN1677246 B
Tipo de publicaciónConcesión
Número de solicitudCN 200510071694
Fecha de publicación28 Sep 2011
Fecha de presentación28 Mar 2005
Fecha de prioridad29 Mar 2004
También publicado comoCN1677246A, DE602005004949D1, DE602005004949T2, EP1582928A1, EP1582928B1, US7561251, US8502954, US20050213067, US20100014059
Número de publicación200510071694.9, CN 1677246 B, CN 1677246B, CN 200510071694, CN-B-1677246, CN1677246 B, CN1677246B, CN200510071694, CN200510071694.9
InventoresC·-Q·桂, G·W·范德菲茨, J·C·G·霍伊纳格斯
SolicitanteAsml荷兰有限公司
Exportar citaBiBTeX, EndNote, RefMan
Enlaces externos:  SIPO, Espacenet
光刻设备和设备制造方法
CN 1677246 B
Descripción  disponible en chino
Reclamaciones(12)  disponible en chino
Citas de patentes
Patente citada Fecha de presentación Fecha de publicación Solicitante Título
GB2321316A Título no disponible
US589405621 Oct 199613 Abr 1999Nikon CorporationMask substrate, projection exposure apparatus equipped with the mask substrate, and a pattern formation method utilizing the projection exposure apparatus
US604009631 Dic 199821 Mar 2000Nikon CorporationMask substrate, projection exposure apparatus equipped with the mask substrate, and a pattern formation method utilizing the projection exposure apparatus
Otras citas
Referencia
1JP特开2000-286324A 2000.10.13
Clasificaciones
Clasificación internacionalG03F7/20, H01L21/027
Clasificación cooperativaG03F7/70875, G03F7/705
Clasificación europeaG03F7/70L2B, G03F7/70P6B2
Eventos legales
FechaCódigoEventoDescripción
5 Oct 2005C06Publication
30 May 2007C10Request of examination as to substance
28 Sep 2011C14Granted