DE102005032804B4 - Multilayer structure for receiving an electronic circuit - Google Patents

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Abstract

Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung, insbesondere Leiterplatte, mit einer Schichtanordnung mehrerer Isolierschichten und mehrerer Leiterschichten, in welcher auf einer Seite einer Isolierschicht (1) eine gedruckte Funktionsschicht (6) mit gedruckten Leiterelementen (4) aufgebracht ist und auf der zu der Seite gegenüberliegenden Seite der Isolierschicht (1) eine Leiterschicht (3) mit Leiterstrukturen (13) gebildet ist, wobei die gedruckten Leiterelemente (4) der gedruckten Funktionsschicht (6) über leitende Durchgänge (2) in der Isolierschicht (1) mit den Leiterstrukturen (13) verbunden sind und wobei auf zumindest einem Teil der gedruckten Leiterelemente (4) in der gedruckten Funktionsschicht (6) eine galvanisch gebildete, metallische Leiterschicht (5) angeordnet ist, wobei rückseitig ein die Schichtanordnung mechanisch stabilisierendes Trägersubstrat (12) aufgepresst ist.Multilayer structure for receiving an electronic circuit, in particular printed circuit board, with a layer arrangement of a plurality of insulating layers and a plurality of conductor layers, in which on one side of an insulating layer (1) a printed functional layer (6) with printed circuit elements (4) is applied and on the side opposite to the side Side of the insulating layer (1) a conductor layer (3) with conductor structures (13) is formed, wherein the printed conductor elements (4) of the printed functional layer (6) via conductive passages (2) in the insulating layer (1) with the conductor structures (13). and wherein on at least part of the printed circuit elements (4) in the printed functional layer (6) a galvanically formed, metallic conductor layer (5) is arranged, wherein on the back of a layer arrangement mechanically stabilizing carrier substrate (12) is pressed.

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Description

Die Erfindung betrifft eine Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung, insbesondere Leiterplatte.The The invention relates to a multilayer structure for receiving a electronic circuit, in particular printed circuit board.

Stand der TechnikState of the art

Zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung werden üblicherweise mehrschichtige Leiterplatten verwendet, die ein oder mehrere Leiterschichten sowie ein oder mehrere Isolierschichten umfassen. Mit Hilfe der Leiterschichten werden Leiterbahnen gebildet, die zum Verbinden der aufzunehmenden elektronischen Schaltung dienen. Es ist aber auch bekannt, mit Hilfe der Leiterschichten passive Bauelemente zu bilden, beispielsweise Widerstände, Kapazitäten, Abschirmungen, Antennen oder Induktivitäten.To the Recording an electronic circuit are usually multi-layered Printed circuit boards used which have one or more conductor layers as well include one or more insulating layers. With the help of the conductor layers are formed conductor tracks, which are used to connect the male serve electronic circuit. But it is also known, with help the conductor layers to form passive components, for example Resistors, capacitors, shields, Antennas or inductors.

Aus dem Dokument DE 197 05 003 A1 ist eine Bi- oder Multilayeranordnung bekannt, bei der eine Pad- oder Leiterbahnschicht galvanisch abgeschieden wird. Mittels wiederholtem galvanischen Abscheiden werden Leiterbahnen und/oder weitere innere Verbindungen geschaffen.From the document DE 197 05 003 A1 a bi- or multilayer arrangement is known in which a pad or conductor layer is electrodeposited. By means of repeated electrodeposition, conductor tracks and / or further internal connections are created.

In dem Dokument DE 199 22 468 C2 ist ein Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Verbindung zwischen mehrlagigen Leiterstrukturen offenbart. In dem Dokument ist erläutert, daß bei dem Herstellen von elektrischen Kontaktierungen in Verdrahtungsebenen für Mehrschichtstrukturen in der elektronischen Baugruppenfertigung Durchgangsbohrungen oder Sacklochbohrungen vertikal zu den einzelnen Verdrahtungsebenen geschaffen werden, die auch als Durchgänge oder Vias bezeichnet werden und die in einem nachfolgenden Verfahrensschritt metallisiert werden. Üblicherweise erfolgt die Metallisierung der Durchgangs- oder Sacklochbohrungen mittels stromloser Galvanisierungsverfahren. Hierbei ist es Voraussetzung, daß in den Bohrungen eine Metallisierungsgrundlage oder ein Metallisierungskeim gebildet werden. Es wird vorgeschlagen, freigelegte Metallpartikel in einer Isolationsschicht, die mit Metallpartikeln versetzt ist, als Metallisierungskeime für den nachfolgend ausgeführten galvanischen Metallabscheidungsprozeß zu nutzen. Die Metallabscheidung erfolgt entweder flächendeckend an der Innenwandung eines vertikalen Verbindungskanals oder führt bis hin zum vollständigen Ausfüllen des Verbindungskanals mit Metall. Mit Hilfe des so metallisierten Verbindungskanals werden übereinanderliegende Verdrahtungsebenen kontaktiert.In the document DE 199 22 468 C2 For example, a method of making electrical connection between multilayer conductor structures is disclosed. The document teaches that in making electrical contacts in wiring planes for multilayer structures in electronic package fabrication, through holes or blind holes are made vertical to the individual wiring planes, also referred to as vias, which are metallized in a subsequent process step. Usually, the metallization of the through holes or blind holes is done by means of electroless plating. In this case, it is a prerequisite that a metallization base or a metallization nucleus are formed in the holes. It is proposed to use exposed metal particles in an insulating layer, which is mixed with metal particles, as metallization nuclei for the subsequently performed galvanic metal deposition process. The metal deposition either takes place on the inner wall of a vertical connection channel or leads to the complete filling of the connection channel with metal. By means of the thus metallized connection channel superimposed wiring levels are contacted.

Die Druckschrift US 5 830 563 A offenbart einen Mehrschichtverbund, in dem eine Mehrzahl von isolierenden Lagen und eine Mehrzahl von Lagen mit Leitungselemente abwechseln, wobei die Leitungselemente teilweise durch die Lagen hindurch miteinander verbunden sind. Die Leitungselemente werden durch außenstromlose Abscheidung gebildet und können durch galvanische Abscheidung verdickt werden.The publication US 5,830,563 A discloses a multi-layer composite in which a plurality of insulating layers and a plurality of layers alternate with conductive elements, the conductive elements being partially interconnected through the layers. The line elements are formed by electroless deposition and can be thickened by electrodeposition.

Die Druckschrift EP 0 222 618 A2 offenbart eine mehrlagige, auf einer Isolatorschicht gebildete, integrierte Schaltung mit abwechselnden Isolatorschichten und Schichten mit durch Siebdruck gebildeten Leiterkomponenten und Verbindungsstrukturen zwischen den Leiterkomponenten verschiedener Schichten.The publication EP 0 222 618 A2 discloses a multilayer integrated circuit formed on an insulator layer having alternating insulator layers and layers of screen printed conductive components and interconnect structures between the conductor components of different layers.

Die Druckschrift EP 1 450 590 A2 offenbart eine mehrlagige Struktur alternierender Isolatorschichten und Schichten mit Leiterkomponenten, wobei vertikale Leitungsverbindungen zwischen einer Mehrzahl von Leiterschichten bereitgestellt sind. Eine zweite leitende Schicht wird galvanisch auf eine erste, in einer Öffnung angeordneten leitende Schicht aufgebracht, um leitende Verbindungen innerhalb des entsprechenden Teils der mehrlagigen Struktur bereitzustellen.The publication EP 1 450 590 A2 discloses a multilayer structure of alternating insulator layers and layers with conductor components, wherein vertical line connections are provided between a plurality of conductor layers. A second conductive layer is electrodeposited onto a first conductive layer disposed in an opening to provide conductive connections within the corresponding portion of the multilayer structure.

Die Druckschrift US 6 287 890 B1 zeigt ein Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Struktur, wobei auf einem metallischen Substrat zunächst eine Isolatorschicht zur Bildung einer Maske aufgebracht wird, an freigelegten Stellen der Maske auf dem metallischen Substrat weiteres Metall abgelagert wird und nach einem Entfernen der Isolatorschicht in einem Ätzschritt schließlich die dünn gebliebenen Metallbereiche fortgeätzt werden, so dass nur noch die verstärkten Leiterbereiche verbleiben.The publication US Pat. No. 6,287,890 B1 shows a method for producing a multilayer structure, wherein an insulator layer is first deposited on a metallic substrate to form a mask, further metal is deposited on exposed areas of the mask on the metallic substrate, and finally, after removal of the insulator layer in an etching step, remain thin Metal areas are etched so that only the reinforced conductor areas remain.

Als eine moderne Technologie zum Ausbilden von Leiterstrukturen bis hin zu elektronischen Schaltungen hat sich das Drucken entwickelt. Hierbei werden die gewünschten Strukturen mit Hilfe verschiedener Druckverfahren hergestellt, wobei Materialien aufgedruckt werden, die elektrisch leitende Partikel enthalten. Beispielsweise ist ein Inkjet-Verfahren nutzbar. Die Vorteile gedruckter Schaltungen liegen insbesondere darin, daß im Vergleich zu herkömmlichen Leiterplatten zum Ausbilden der Strukturen keine Kupferfolie zu bearbeiten ist, so daß keine Ätzprozesse und Prozesse in Verbindung mit einer Fotomaske notwendig sind.When a modern technology for forming conductor structures up to towards electronic circuits, printing has evolved. Here are the desired Structures produced by means of various printing processes, wherein Materials are printed, the electrically conductive particles contain. For example, an inkjet method is usable. The Advantages of printed circuits are, in particular, that in comparison to conventional Printed circuit boards for forming the structures no copper foil too edit, so no etching processes and processes associated with a photomask are necessary.

Die ErfindungThe invention

Aufgabe der Erfindung ist es, eine verbesserte Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung zu schaffen, bei der die Gestaltungsmöglichkeiten zum Ausbilden von Bauelementen auf Basis gedruckter Leiterstrukturen verbessert sind.task It is an object of the invention to provide an improved multilayer structure for receiving to create an electronic circuit in which the design options for forming components based on printed conductor structures are improved.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Mehrschichtstruktur nach dem unabhängigen Anspruch 1 gelöst.This object is achieved by a multi-layer structure according to the independent Claim 1 solved.

Erfindungsgemäß ist eine Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung, insbesondere Leiterplatte, mit einer Schichtanordnung mehrerer Isolierschichten und mehrerer Leiterschichten geschaffen, in welcher auf einer Seite einer Isolierschicht eine gedruckte Funktionsschicht mit gedruckten Leiterelementen aufgebracht ist und auf der zu der Seite gegenüberliegenden Seite der Isolierschicht eine Leiterschicht mit Leiterstrukturen gebildet ist, wobei die gedruckten Leiterelemente der gedruckten Funktionsschicht über leitende Durchgänge in der Isolierschicht mit den Leiterstrukturen verbunden sind und wobei auf zumindest einem Teil der gedruckten Leiterelemente in der gedruckten Funktionsschicht jeweils eine galvanisch gebildete, metallische Leiterschicht angeordnet ist.According to the invention is a Multilayer structure for receiving an electronic circuit, in particular Printed circuit board, with a layer arrangement of several insulating layers and a plurality of conductor layers, in which on one side an insulating layer a printed functional layer with printed Conductor elements is applied and on the opposite side to the side Side of the insulating layer, a conductor layer with conductor structures is formed, wherein the printed conductor elements of the printed Functional layer over conductive passages in the insulating layer are connected to the conductor structures and being on at least a part of the printed circuit elements in the printed functional layer in each case a galvanically formed, metallic Conductor layer is arranged.

Auf diese Weise ist eine integrierte Mehrschichtstruktur geschaffen, bei der die von der gedruckten Funktionsschicht umfaßten, gedruckten Leiterelemente mit galvanisch gebildeten Leiterschichten versehen sind, so daß die Gestaltungsmöglichkeiten für die elektrischen/elektronischen Elemente in der Funktionsschicht wesentlich erweitert sind. Während gedruckte Leiterelemente hinsichtlich ihrer Gestaltungsvarianten begrenzt sind, insbesondere bezüglich der ausbildbaren Dicke der gedruckten Schichtstrukturen, können mit Hilfe der hierauf galvanisch gebildeten Leiterschicht individuell angepaßte Strukturen/Bauelemente hergestellt werden. Die Dicke der galvanisch gebildeten, metallischen Leiterschicht kann individuell angepaßt werden, indem die Prozeßparameter beim galvanischen Abscheiden eingestellt werden, beispielsweise kann die Dauer des Abscheideprozesses variiert werden, um unterschiedliche Schichtdicken auszubilden. Galvanische Abscheideprozesse zum Herstellen metallischer Schichten sind als solche in verschiedenen Verfahrensgestaltungen bekannt.On this way, an integrated multilayer structure is created, in which the printed matter covered by the printed functional layer Conductor elements provided with galvanically formed conductor layers are so that the design options for the electrical / electronic elements in the functional layer essential are extended. While Printed conductor elements with regard to their design variants are limited, in particular with respect the formable thickness of the printed layer structures, can with Help of the galvanically formed conductor layer on this individually adapted structures / components made become. The thickness of the galvanically formed, metallic conductor layer can be customized be by the process parameters be set during the electrodeposition, for example the duration of the deposition process can be varied to different Form layer thicknesses. Galvanic deposition processes for manufacturing Metallic layers are as such in various process designs known.

Eine bevorzugte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, daß die gedruckte Funktionsschicht gedruckte Bauelemente umfaßt, wodurch die Gestaltungsvielfalt in der gedruckten Funktionsschicht erweitert ist.A preferred embodiment of the invention provides that the printed Functional layer comprises printed components, whereby the design variety expanded in the printed functional layer.

Die Anwendungsoptionen sind bei einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung dadurch erweitert, daß die gedruckten Bauelemente ein oder mehrere mit Hilfe der gedruckten Leiterelemente und der jeweiligen hierauf galvanisch gebildeten, metallische Leiterschicht gebildete, passive Bauelemente umfassen.The Application options are in an advantageous embodiment the invention thereby extended that the printed components one or more with the help of the printed conductor elements and the respective galvanically formed metallic conductor layer thereon comprise formed, passive components.

Bevorzugt ist die Isolierschicht mit Hilfe einer Folie ausgeführt. Bedruckte Folien mit hierauf gebildeten elektrischen Leitungen und/oder Schaltungen sind in unterschiedlichen Ausführungsformen verfügbar. Beispielsweise werden Polymermaterialien verwendet.Prefers the insulating layer is made with the help of a foil. printed Films with electrical lines and / or circuits formed thereon are in different embodiments available. For example, polymer materials are used.

Eine einfache und kostengünstige Ausführung der Erfindung ist dadurch erreicht, daß rückseitig ein die Schichtanordnung mechanisch stabilisierendes Trägersubstrat aufgpreßt ist. Auf diese Weise kann auf einen im Zusammenhang mit der üblichen Leiterplatten-Herstellung bekannten Verfahrensschritt zurückgegriffen werden. Auf diese Weise wird auch erreicht, daß die so Schichtanordnung einer üblichen Leiterplatte entsprechend im Herstellungsprozeß bearbeitet werden kann. Es ist eine ausreichende mechanische Stabilisierung geschaffen, so daß die Handhabung während der verschiedenen Verfahrensschritte und der Transport zwischen den Verfahrensschritten ohne Beschädigung der Schichtanordnung gewährleistet werden können.A simple and inexpensive execution the invention is achieved in that the back of the layer arrangement mechanically stabilizing carrier substrate aufgpreßt is. In this way it can be used in conjunction with the usual PCB manufacturing resorted to known method step become. In this way it is also achieved that the layer arrangement of a conventional Printed circuit board can be processed accordingly in the manufacturing process. It is provided sufficient mechanical stabilization, so that the Handling during the different process steps and the transport between the process steps without damaging the layer arrangement guaranteed can be.

Die leitenden Durchgänge zum elektrischen Verbinden der gedruckten Leiterelemente mit den Leiterstrukturen können bevorzugt vollständig metallisiert sein. Alternativ kann eine durchgehende Metallisierung auf einer Innenwandung der Durchgänge vorgesehen sein. Die Leiterstrukturen auf der gegenüberliegenden Seite der Isolierschicht dienen insbesondere zur Kontaktierung von elektronischen Bauelementen der aufzunehmenden elektronischen Schaltung, welche ihrerseits dann über die Leiterstrukturen und die Durchgänge mit den gedruckten Leiterelementen und den hierauf galvanisch gebildeten Leiterschichten verbunden ist. Die gedruckten Leiterelemente und die hierauf teilweise galvanisch gebildeten Leiterschichten bilden eine Art Verdrahtungsebene, in welcher optional auch passive Bauelemente gebildet sein können.The conducting passageways for electrically connecting the printed conductor elements to the conductor patterns can preferably completely be metallized. Alternatively, a continuous metallization be provided on an inner wall of the passages. The ladder structures on the opposite side Side of the insulating layer are used in particular for contacting electronic components of the male electronic circuit, which in turn then over the conductor structures and the printed conductor element passages and connected thereto on the galvanically formed conductor layers is. The printed circuit elements and the partially galvanic formed thereon Conductor layers form a kind of wiring plane in which optional also passive components can be formed.

Bevorzugtes Ausführungsbeispiel der ErfindungPreferred embodiment the invention

Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf die Figuren einer Zeichnung näher erläutert. Hierbei zeigen:The Invention will be described below with reference to an embodiment with reference explained in more detail on the figures of a drawing. Hereby show:

1 eine schematische Schnittdarstellung einer Schichtannordnung mit einer Isolierschicht, in welcher metallisierte Durchgänge gebildet sind; 1 a schematic sectional view of a Schichtannordnung with an insulating layer in which metallized passages are formed;

2 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 1, wobei auf die Isolierschicht im Bereich der Durchgänge gedruckte Leiterelemente aufgedruckt sind; 2 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 1 wherein printed on the insulating layer in the region of the passages printed circuit elements;

3 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 2, wobei auf den gedruckten Leiterelementen jeweils eine galvanisch gebildete Leiterschicht abgeschieden ist; 3 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 2 wherein in each case a galvanically formed conductor layer is deposited on the printed conductor elements;

4 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 3, wobei in einer Funktionsschicht Bauelemente auf die Isolierschicht aufgedruckt sind; 4 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 3 , being in one Functional layer components are printed on the insulating layer;

5 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 4, wobei auf die Funktionsschicht eine weitere Isolierschicht mittels Drucken aufgebracht ist und in der weiteren Isolierschicht ein weiterer metallisierter Durchgang gebildet ist; 5 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 4 wherein on the functional layer, a further insulating layer is applied by means of printing and in the further insulating layer, a further metallized passage is formed;

6 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 5, auf die weitere Isolierschicht weitere gedruckte Leiterelemente aufgedruckt sind; 6 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 5 , on the further insulating layer further printed circuit elements are printed;

7 eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 6, wobei auf die weiteren gedruckten Leiterelemente weitere Bauelemente aufgedruckt sind; und 7 a schematic sectional view of the layer arrangement according to 6 , wherein on the other printed circuit elements further components are printed; and

8 eine schematische Schnittdarstellung einer Mehrschichtstruktur mit der Schichtanordnung nach 7, wobei eine rückseitige Isolierschicht aufgepreßt ist und vorderseitig Leiterstrukturen gebildet sind. 8th a schematic sectional view of a multi-layer structure with the layer arrangement according to 7 in which a rear-side insulating layer is pressed on and front side conductor structures are formed.

Im folgenden wird die Herstellung einer Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung an einem Ausführungsbeispiel im Detail beschrieben. Hierbei werden Druckverfahren zum Aufbringen von Strukturen aus elektrisch leitenden Materialien als auch elektrisch nicht leitenden Materialien verwendet. Solche Verfahren sind dem Fachmann als solche wohl bekannt und werden deshalb hier nicht näher beschrieben.in the The following will be the preparation of a multilayer structure for picking up an electronic circuit to an embodiment described in detail. In this case, printing methods for applying structures from electrically conductive materials as well as electrically non-conductive materials used. Such methods are well known to those skilled in the art and therefore will not be closer here described.

1 zeigt eine schematische Schnittdarstellung einer Schichtanordnung mit einer Isolierschicht 1, die mit Durchgängen 2 versehen ist. Die Isolierschicht 1 ist bevorzugt mittels einer Folie aus einem nicht leitenden Material gebildet. Die Durchgänge werden zweckmäßig mit Hilfe einer selektiven Laserbearbeitung erzeugt. Ein gepulster CO2 Laser trägt hierbei beispielsweise nur die Isolierschicht 1 ab. Die Durchgänge 2 sind vollständig mit einem leitenden Material gefüllt, wobei die Füllung vorzugsweise mittels galvanischen Abscheidens des leitenden Materials ausgeführt wird. Gegenüberliegend ist die Isolierschicht 1 mit einer Metallschicht 3 versehen, die mit dem Material in den Durchgängen 2 in Kontakt ist und beispielsweise aus Kupfer gebildet ist. Die Metallschicht 3 ist entweder in einem Vorschritt auf der Isolierschicht 1 mittels Dünnschichttechnik im Vakuum abgeschieden oder in einem Heißlaminierprozeß als dünne Metallfolie mit der Isolierschicht 1 laminiert. 1 shows a schematic sectional view of a layer arrangement with an insulating layer 1 that with passages 2 is provided. The insulating layer 1 is preferably formed by means of a film of a non-conductive material. The passages are expediently generated by means of a selective laser processing. For example, a pulsed CO 2 laser carries only the insulating layer 1 from. The passages 2 are completely filled with a conductive material, wherein the filling is preferably carried out by means of electrodeposition of the conductive material. Opposite is the insulating layer 1 with a metal layer 3 provided with the material in the passages 2 is in contact and is formed, for example, of copper. The metal layer 3 is either in a preliminary step on the insulating layer 1 deposited by thin-film technique in a vacuum or in a Heißlaminierprozeß as a thin metal foil with the insulating layer 1 laminated.

2 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 1, wobei auf die Isolierschicht 1 im Bereich der Durchgänge 2 gedruckte Leiterelemente 4 aufgedruckt sind. Als Druckverfahren wird beispielsweise ein Irakjet-Verfahren oder dergleichen verwendet, mit dem ein elektrisch leitende Partikel enthaltendes Material aufgedruckt wird. Anstelle des Materials mit leitenden Partikeln können auch ein intrinsisch leitfähiges Polymer oder liposomengestützte Metallcluster gedruckt werden. 2 shows a schematic sectional view of the layer arrangement according to 1 , Wherein, on the insulating layer 1 in the region of the passages 2 printed conductor elements 4 are printed. As the printing method, for example, an Iraqjet method or the like is used, with which an electrically conductive particle-containing material is printed. Instead of the material with conductive particles, it is also possible to print an intrinsically conductive polymer or liposome-supported metal clusters.

3 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 2, wobei auf den gedruckten Leiterelementen 4 jeweils eine galvanisch gebildete, metallische Leiterschicht 5 abgeschieden ist. Mit Hilfe der galvanisch gebildeten Leiterschichten 5 ist es ermöglicht, den elektrischen Widerstand der gedruckten Leiterelemente 4 deutlich zu senken und an vorgegebene Anwendungsparameter anzupassen. Die metallisierten Durchgänge 2 dienen zum Verbinden der gedruckten Leiterelemente 4 mit der Metallschicht 3 und ermöglichen während eines Galvanisierungsprozesses das galvanische Abscheiden der Leiterschichten 5 aus Metall auf den gedruckten Leiterelementen 4. 3 shows a schematic sectional view of the layer arrangement according to 2 , wherein on the printed conductor elements 4 in each case a galvanically formed, metallic conductor layer 5 is deposited. With the help of the galvanically formed conductor layers 5 It allows the electrical resistance of printed circuit elements 4 significantly lower and adapt to given application parameters. The metallized passages 2 serve to connect the printed circuit elements 4 with the metal layer 3 and enable the electrodeposition of the conductor layers during a plating process 5 made of metal on the printed conductor elements 4 ,

Die Schichtdicke der galvanisch gebildeten Leiterschichten 5 kann individuell gemäß den Anforderungen für die jeweilige Mehrschichtstruktur mit Hilfe des Galvanisierungsprozesses eingestellt werden. Während die gedruckten Leiterelemente 4, welche elektrisch leitende Par tikel enthalten, hinsichtlich ihrer Ausgestaltung zum Erzeugen von Leiter- und/oder Bauelementestrukturen beschränkt sind, ermöglicht das Abscheiden der galvanisch gebildeten Leiterschichten 5 die Überwindung dieser Grenzen.The layer thickness of the galvanically formed conductor layers 5 can be adjusted individually according to the requirements for the respective multi-layer structure by means of the galvanization process. While the printed conductor elements 4 , which contain electrically conductive particles, are limited in their design for the production of conductor and / or component structures, allows the deposition of the electrodeposited conductor layers 5 overcoming these limits.

4 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 3, wobei in einer gedruckten Funktionsschicht 6 ein oder mehrere Bauelemente 7, die zumindest teilweise an die vorher galvanisch gebildeten Leiterschicht 5 ankoppeln, auf die Isolierschicht 1 aufgedruckt sind. 4 shows a schematic sectional view of the layer arrangement according to 3 , being in a printed functional layer 6 one or more components 7 , which at least partially to the previously galvanically formed conductor layer 5 connect to the insulating layer 1 are printed.

5 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 4, wobei auf die gedruckte Funktionsschicht 6 eine weitere Isolierschicht 8 mittels Drucken aufgebracht ist. In der weiteren Isolierschicht 8 ist ein weiterer Durchgang 8a gebildet, welcher wiederum bevorzugt mit galvanisch erzeugtem Metall gefüllt sein kann. 5 shows a schematic sectional view of the layer arrangement according to 4 , being on the printed functional layer 6 another insulating layer 8th applied by means of printing. In the further insulating layer 8th is another passage 8a formed, which in turn may preferably be filled with galvanized metal.

6 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 5, wobei auf die weitere Isolierschicht 8 weitere gedruckte Leiterelemente 9 aufgedruckt sind. Dies wird in ähnlicher Weise ausfgeführt wie dies oben für die gedruckten Leiterelemente 4 in Verbindung mit 2 erläutert wurde. 6 shows a schematic sectional view of the layer arrangement according to 5 , wherein on the further insulating layer 8th further printed conductor elements 9 are printed. This is done in a similar manner as above for the printed circuit elements 4 combined with 2 was explained.

7 zeigt eine schematische Schnittdarstellung der Schichtanordnung nach 6, wobei auf die weiteren gedruckten Leiterelemente 9 weitere Bauelemente 10 mittels Druckverfahren aufgedruckt sind. 7 shows a schematic sectional view position of the layer arrangement 6 , wherein the other printed circuit elements 9 other components 10 printed by means of printing process.

8 zeigt eine schematische Schnittdarstellung einer Mehrschichtstruktur 11 auf Basis der Schichtanordnung nach den 1 bis 7, bei der rückseitig ein Trägersubstrat 12 aus einem nicht leitenden Material aufgepreßt ist und die Metallschicht 3 zum Ausbilden von Leiterbahn- und/oder Pad-Strukturen 13 bearbeitet ist. Die Leiterbahn- und/oder Pad-Strukturen 13 werden mit Hilfe der für die Leiterplattenfertigung bekannten Prozesse hergestellt, beispielsweise Fotomaskieren und Ätzen. Auf die Leiterbahn- und/oder Pad-Strukturen 13 können in üblicher Weise, wie dieses für Leiterplatten oder andere Schichtstrukturen bekannt ist, elektronische Bauelemente (nicht dargestellt) mittels bekannter Technologien aufgebracht werden, insbesondere Löten oder Leitkleben. 8th shows a schematic sectional view of a multi-layer structure 11 based on the layer arrangement according to 1 to 7 , at the back a carrier substrate 12 is pressed from a non-conductive material and the metal layer 3 for forming printed conductor and / or pad structures 13 is edited. The trace and / or pad structures 13 are fabricated using the processes known for printed circuit board fabrication, such as photomasking and etching. On the trace and / or pad structures 13 In the usual way, as is known for printed circuit boards or other layer structures, electronic components (not shown) can be applied by means of known technologies, in particular soldering or conductive bonding.

Die Mehrschichtstruktur 11 nach 8 und das Verfahren zu deren Herstellung, was oben unter Bezugnahme auf die 1 bis 8 erläutert wurde, bilden nur ein Beispiel für die Nutzung der galvanisch gebildeten Leiterschichten 5 auf den gedruckten Leiterelementen 4. Grundsätzlich können aufbauend auf die Schichtanordnung in 3 nachfolgend beliebige Schichtstrukturen mit Schichten aus elektrisch leitendem und/oder nicht leitendem Material aufgebracht werden. Insbesondere kann vorgesehen sein, die Mehrschichtstruktur als eine HDI-Leiterplatte (HDI – „High Density Interconnections”) mit den vergrabenen Bauelementen 7 und den weiteren Bauelementen 10 auszuführen.The multi-layer structure 11 to 8th and the process for their preparation, which is described above with reference to the 1 to 8th have been explained form only an example of the use of the electrodeposited conductor layers 5 on the printed conductor elements 4 , Basically, based on the layer arrangement in 3 Subsequently, any layer structures with layers of electrically conductive and / or non-conductive material can be applied. In particular, it is possible to provide the multilayer structure as an HDI printed circuit board (HDI - "High Density Interconnections") with the buried components 7 and the other components 10 perform.

Die in der vorstehenden Beschreibung, den Ansprüchen und der Zeichnung offenbarten Merkmale der Erfindung können sowohl einzeln als auch in beliebiger Kombination für die Verwirklichung der Erfindung in ihren verschiedenen Ausführungsformen von Bedeutung sein.The in the foregoing description, claims and drawings Features of the invention can both individually and in any combination for the realization of the invention in its various embodiments of importance be.

Claims (6)

Mehrschichtstruktur zum Aufnehmen einer elektronischen Schaltung, insbesondere Leiterplatte, mit einer Schichtanordnung mehrerer Isolierschichten und mehrerer Leiterschichten, in welcher auf einer Seite einer Isolierschicht (1) eine gedruckte Funktionsschicht (6) mit gedruckten Leiterelementen (4) aufgebracht ist und auf der zu der Seite gegenüberliegenden Seite der Isolierschicht (1) eine Leiterschicht (3) mit Leiterstrukturen (13) gebildet ist, wobei die gedruckten Leiterelemente (4) der gedruckten Funktionsschicht (6) über leitende Durchgänge (2) in der Isolierschicht (1) mit den Leiterstrukturen (13) verbunden sind und wobei auf zumindest einem Teil der gedruckten Leiterelemente (4) in der gedruckten Funktionsschicht (6) eine galvanisch gebildete, metallische Leiterschicht (5) angeordnet ist, wobei rückseitig ein die Schichtanordnung mechanisch stabilisierendes Trägersubstrat (12) aufgepresst ist.Multilayer structure for receiving an electronic circuit, in particular printed circuit board, with a layer arrangement of a plurality of insulating layers and a plurality of conductor layers, in which on one side an insulating layer ( 1 ) a printed functional layer ( 6 ) with printed circuit elements ( 4 ) is applied and on the side opposite to the side of the insulating layer ( 1 ) a conductor layer ( 3 ) with ladder structures ( 13 ), wherein the printed conductor elements ( 4 ) of the printed functional layer ( 6 ) via conducting passages ( 2 ) in the insulating layer ( 1 ) with the ladder structures ( 13 ) and wherein on at least a part of the printed circuit elements ( 4 ) in the printed functional layer ( 6 ) a galvanically formed, metallic conductor layer ( 5 ), wherein at the back a layer arrangement mechanically stabilizing carrier substrate ( 12 ) is pressed. Mehrschichtstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die gedruckte Funktionsschicht (6) gedruckte Bauelemente (7) umfaßt.Multilayer structure according to Claim 1, characterized in that the printed functional layer ( 6 ) printed components ( 7 ). Mehrschichtstruktur nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gedruckten Bauelemente (7) ein oder mehrere mit Hilfe der gedruckten Leiterelemente (4) und der jeweiligen hierauf galvanisch gebildeten, metallischen Leiterschicht (5) gebildete, passive Bauelemente umfassen.Multilayer structure according to Claim 2, characterized in that the printed components ( 7 ) one or more using the printed circuit elements ( 4 ) and the respective galvanically formed metallic conductor layer ( 5 ) formed passive components. Mehrschichtstruktur nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolierschicht (1) mit Hilfe einer Folie ausgeführt ist.Multilayer structure according to one of the preceding claims, characterized in that the insulating layer ( 1 ) is carried out with the aid of a film. Mehrschichtstruktur nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Durchgänge (2) vollständig metallisiert sind.Multilayer structure according to one of the preceding claims, characterized in that the conductive passages ( 2 ) are completely metallized. Mehrschichtstruktur nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtanordnung als eine HDI-Leiterplatte (HDI – „High Density Interconnections”) gebildet ist.Multilayer structure according to one of the preceding Claims, characterized in that the Layer arrangement as an HDI board (HDI - "High Density Interconnections") formed is.
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