DE102015202411A1 - Illumination optics for EUV projection lithography - Google Patents

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Abstract

Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie hat einen Feldfacettenspiegel und einen Pupillenfacettenspiegel. Über jeweils einen Ausleuchtungskanal ist ein jeweiliges Nutz-Beleuchtungslicht-Teilbündel (16i) zwischen einer Lichtquelle und einem Objektfeld über genau eine Feldfacette und genau eine Pupillenfacette (29) geführt. Zumindest einige Pupillenfacetten (29), die als Korrektur-Pupillenfacetten einsetzbar sind, sind so im Strahlengang des sie beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündels (16i) angeordnet, dass ein Bild der Lichtquelle an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals (16i) beabstandet zur Pupillenfacette (29) liegt. Eine Korrektur-Steuerungseinrichtung (32) zur gesteuerten Verlagerung zumindest einiger als Korrektur-Feldfacetten einsetzbarer Feldfacetten, die mit der Verlagerungs-Aktoren (31) in Signalverbindung stehen, ist so ausgeführt, dass ein Korrektur-Verlagerungsweg für die Korrektur-Feldfacetten so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal (16i) randseitig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel (16i) nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) in das Objektfeld überführt wird.An illumination optics for EUV projection lithography has a field facet mirror and a pupil facet mirror. Via a respective illumination channel, a respective useful illumination light partial bundle (16i) is guided between a light source and an object field via exactly one field facet and exactly one pupil facet (29). At least some pupil facets (29), which can be used as correction pupil facets, are arranged in the beam path of the illumination light sub-beam (16i) acting on them, so that an image of the light source arises at a location which is spaced along the illumination channel (16i) from the pupil facet (29) lies. Correction control means (32) for controlled displacement of at least some field facets usable as correction field facets which are in signal communication with the displacement actuators (31) are designed such that a correction displacement path for the correction field facets is so large, a respective correction illumination channel (16i) is trimmed on the edge side by the correction pupil facet (29) such that the illumination light partial bundle (16i) is not transferred completely from the correction pupil facet (29) into the object field.

Description

Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie zur Beleuchtung eines Objektfeldes, in dem ein abzubildendes Objekt anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht. Ferner betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie ein mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauteil, hergestellt mit einem solchen Verfahren.The invention relates to an illumination optical system for EUV projection lithography for illuminating an object field, in which an object to be imaged can be arranged, with illumination light. The invention further relates to an illumination system with such an illumination optical system, to an optical system having such an illumination optical system, to a projection exposure apparatus comprising such an optical system, to a method for producing a microstructured or nanostructured component having such a projection exposure system, and to a microstructured or nanostructured component manufactured by such a method.

Eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art ist bekannt aus der US 2011/0001947 A1 , der WO 2009/132 756 A1 , der WO 2009/100 856 A1 sowie aus der US 6 438 199 B1 und der US 6 658 084 B2 . An illumination optics of the type mentioned is known from the US 2011/0001947 A1 , of the WO 2009/132756 A1 , of the WO 2009/100 856 A1 as well as from the US Pat. No. 6,438,199 B1 and the US Pat. No. 6,658,084 B2 ,

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine flexible feldabhängige Korrektur von Beleuchtungsparametern gewährleistet ist.It is an object of the present invention to develop an illumination optical system of the type mentioned at the outset such that a flexible field-dependent correction of illumination parameters is ensured.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Beleuchtungsoptik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.This object is achieved by an illumination optical system with the features specified in claim 1.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass eine gezielte Beabstandung eines Lichtquellenbildes von den mit dem Beleuchtungslicht beaufschlagten Pupillenfacetten zu einer feldabhängigen Ortsverteilung einer Beleuchtungslicht-Beaufschlagung auf den Pupillenfacetten führt, die zu Beleuchtungsparameter-Korrekturzwecken genutzt werden kann. Der Abstand der Korrektur-Pupillenfacetten vom Lichtquellen-Bild führt dazu, dass auf den Korrektur-Pupillenfacetten ein Lichtfleck des diese beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündel entsteht, der eine Faltung einer Feldfacetten-Randkontur mit einer Quell-Randkontur der Lichtquelle darstellt. Ein Beschneiden des Beleuchtungslicht-Teilbündels im Rahmen der Korrektur führt dazu, dass abhängig vom Ort auf dem Objektfeld Beleuchtungslicht von dieser Korrektur-Pupillenfacette mit unterschiedlicher Intensität hin zum Objektfeld überführt wird. Durch eine gesteuerte Verlagerung der Korrektur-Feldfacetten lässt sich eine feldabhängige Korrektur einer Beleuchtungswinkelverteilung über das Objektfeld erzielen. Alle Feldfacetten des Feldfacettenspiegels können Korrektur-Feldfacetten darstellen. Alle Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels können Korrektur-Pupillenfacetten darstellen.According to the invention, it has been recognized that a specific spacing of a light source image from the pupil facets impinged by the illumination light leads to a field-dependent spatial distribution of an illumination light impingement on the pupil facets, which can be used for illumination parameter correction purposes. The distance of the correction pupil facets from the light source image causes the correction pupil facets to form a light spot of the illumination light sub-beam which acts on them, which represents a convolution of a field facet edge contour with a source edge contour of the light source. Trimming the illumination light sub-beam as part of the correction results in illumination light being transferred from this correction pupil facet with different intensity to the object field, depending on the location on the object field. By a controlled displacement of the correction field facets, a field-dependent correction of an illumination angle distribution over the object field can be achieved. All field facets of the field facet mirror can represent correction field facets. All pupil facets of the pupil facet mirror can represent correction pupil facets.

Bei der gesteuerten Verlagerung, die über die Korrektur-Steuerungseinrichtung herbeigeführt werden kann, kann es sich um eine gesteuerte Verkippung handeln. Entsprechend kann es sich bei den Korrektur-Aktoren um Korrektur-Kipp-Aktoren handeln. Beim Korrektur-Verlagerungsweg kann es sich um einen Korrektur-Kippwinkel der Korrektur-Feldfacetten handeln, der in einem Korrektur-Kippwinkelbereich so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal von einem Rand der Korrektur-Pupillenfacette so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette in das Objektfeld überführt wird. Neben einer Verkippung kann es sich bei der Verlagerung auch um eine Translation oder auch um die gezielte Herstellung eines Defokus handeln.The controlled displacement that may be brought about by the correction controller may be a controlled tilt. Accordingly, the correction actuators can be correction tilt actuators. The correction displacement path may be a correction tilt angle of the correction field facets that is so large in a correction tilt angle range that a respective correction illumination channel is trimmed from an edge of the correction pupil facet such that the illumination light sub-beam is not completely transferred from the correction pupil facet to the object field. In addition to a tilt, the displacement may also be a translation or the targeted production of a defocus.

Zur flexiblen Vorgabe von Beleuchtungssettings kann die Anzahl der Pupillenfacetten größer sein als die Anzahl der Feldfacetten, wobei über Ansteuerung entsprechender Kipp-Aktoren und entsprechende Verkippung der Feldfacetten zwischen verschiedenen, über diese Feldfacetten beaufschlagten Pupillenfacetten gewechselt werden kann. Trotz dieser Wechselmöglichkeit überführt in einer bestimmten, eingestellten Beleuchtungsgeometrie jede der Feldfacetten Beleuchtungslicht von der Lichtquelle hin zu jeweils genau einer der Pupillenfacetten. Entsprechend ist in dieser Beleuchtungssituation über jeweils einen Ausleuchtungskanal ein jeweiliges Beleuchtungslicht-Teilbündel zwischen der Lichtquelle und dem Objektfeld über genau eine Feldfacette und genau eine Pupillenfacette geführt. Die den Wechsel zwischen verschiedenen, über jeweils eine Feldfacette beaufschlagbaren Pupillenfacetten herbeiführenden Wechsel-Kipp-Aktoren können von den Korrektur-Aktoren unabhängige Aktoren sein. Alternativ ist es möglich, dass die Wechsel-Kipp-Aktoren so ausgelegt sind, dass sie beide Funktionen „wechselndes Beleuchtungssetting“ und „Korrektur von Beleuchtungsparametern“ erfüllen.For flexible specification of illumination settings, the number of pupil facets can be greater than the number of field facets, it being possible to switch between different pupil facets acted on via these field facets via actuation of corresponding tilt actuators and corresponding tilting of the field facets. Despite this possibility of change, each of the field facets transmits illuminating light from the light source to exactly one of the pupil facets in a specific set illumination geometry. Correspondingly, in this illumination situation, a respective illuminating light partial bundle is guided via the respective illumination channel via a field facet and exactly one pupil facet between the light source and the object field. The change-over between different pupil facets which can be acted upon via a respective field facet can be actuators independent of the correction actuators. Alternatively, it is possible that the AC-Tilt actuators are designed to perform both "alternate lighting setting" and "lighting parameter correction" functions.

Der Feldfacettenspiegel muss nicht genau in der Feldebene angeordnet sein. Es reicht, wenn der Feldfacettenspiegel feldnah angeordnet ist. Der Pupillenfacettenspiegel muss nicht genau in einer Pupillenebene angeordnet sein. Es genügt, wenn der Pupillenfacettenspiegel pupillennah angeordnet ist.The field facet mirror need not be located exactly in the field plane. It is sufficient if the field facet mirror is arranged close to the field. The pupil facet mirror need not be located exactly in a pupil plane. It is sufficient if the pupil facet mirror is arranged close to the pupil.

Zur Charakterisierung dieser Begriffe „feldnah“, „pupillennah“ kann folgender Parameter P herangezogen werden, der in der WO 2009/024 164 A ebenfalls erläutert ist: P(M) = D(SA)/(D(SA) + D(CR)) Hierbei gilt:

D(SA)
ist der Durchmesser einer Subapertur, also eines Teil-Strahlbündels, des Nutz-Beleuchtungslichts, welches von genau einem Feldpunkt ausgeht, auf einer bündelformenden Oberfläche der Komponente M, also beispielsweise des Feldfacettenspiegels oder des Pupillenfacettenspiegels;
D(CR)
ist der maximale Abstand von Hauptstrahlen eines effektiven vom Objektiv abgebildeten Objektfeldes, gemessen in einer Referenzebene (z.B. in einer Symmetrie- oder Meridionalebene), auf der bündelformenden Oberfläche von M; in einer Feldebene gilt: P = 0, da D(CR) ungleich 0 und D(SA) = 0; in einer Pupillenebene gilt: P = 1, da D(CR) = 0 und D(SA) ungleich 0.
To characterize these terms "close to the field", "close to the pupil", the following parameter P can be used; WO 2009/024164 A also explained: P (M) = D (SA) / (D (SA) + D (CR)) Where:
D (SA)
is the diameter of a Subapertur, so a partial beam, the useful illumination light, which emanates from exactly one field point on a bundle-forming surface of the component M, that is, for example, the field facet mirror or the pupil facet mirror;
D (CR)
is the maximum distance of principal rays of an effective object field imaged by the lens, measured in a reference plane (eg, in a plane of symmetry or meridional), on the beam-forming surface of M; in a field level: P = 0, because D (CR) is not 0 and D (SA) = 0; in a pupil plane: P = 1, because D (CR) = 0 and D (SA) not equal to 0.

„Pupillennah“ bedeutet: P beträgt mindestens 0,7, z.B. 0,75, mindestens 0,8, z.B. 0,85 oder mindestens 0,9, z.B. 0,95."Near the pupil" means: P is at least 0.7, e.g. 0.75, at least 0.8, e.g. 0.85 or at least 0.9, e.g. 0.95.

„Feldnah“ bedeutet: P beträgt höchstens 0,3, z.B. 0,25, höchstens 0,2, z.B. 0,15 oder höchstens 0,1, z.B. 0,05."Field close" means: P is at most 0.3, e.g. 0.25, at most 0.2, e.g. 0.15 or at most 0.1, e.g. 0.05.

Bei bestimmten Beleuchtungsgeometrien kann Beleuchtungslicht über genau eine Feldfacette auch gleichzeitig hin zu mehreren Pupillenfacetten überführt werden. Nutz-Beleuchtungslicht wird dabei aber genau zu einer Pupillenfacette überführt. Das ggf. noch andere Pupillenfacetten treffende Beleuchtungslicht ist kein Nutz-Beleuchtungslicht und wird von diesen anderen Pupillenfacetten nicht hin zum Beleuchtungsfeld überführt, sondern entweder zu anderen Zwecken genutzt oder kontrolliert entsorgt.For certain illumination geometries, illumination light can also be transferred simultaneously to a plurality of pupil facets via exactly one field facet. However, useful illumination light is transferred exactly to a pupil facet. The possibly still other pupil facets striking illumination light is no useful illumination light and is not transferred from these other pupil facets to the illumination field, but either used for other purposes or disposed of in a controlled manner.

Einige oder alle der Feldfacetten und/oder der Pupillenfacetten können ihrerseits aus einer Mehrzahl von Einzelspiegelchen aufgebaut sein. insbesondere kann der Feldfacettenspiegel und/oder der Pupillenfacettenspiegel als MEMS(mikro-elektromechanischer Spiegel)-array aufgebaut sein, wobei jede der Feldfacetten bzw. jede der Pupillenfacetten dann aus einer Mehrzahl von MEMS-Spiegelchen aufgebaut sein kann. Ein Beispiel für einen solchen MEMS-Aufbau liefert die WO 2009/100 856 A1 .Some or all of the field facets and / or the pupil facets may in turn be constructed from a plurality of individual mirrors. In particular, the field facet mirror and / or the pupil facet mirror can be constructed as a MEMS (microelectromechanical mirror) array, wherein each of the field facets or each of the pupil facets can then be constructed from a plurality of MEMS mirrors. An example of such a MEMS structure provides the WO 2009/100 856 A1 ,

Bei einer derartigen MEMS-Ausführung kann ein gezielter Defokus als Möglichkeit für die zu erzeugende Korrektur-Verlagerung durch Vorgabe einer Änderung eines Krümmungswinkels der jeweiligen Feldfacette herbeigeführt werden.In such a MEMS design, a targeted defocus can be brought about as a possibility for the correction shift to be generated by prescribing a change in a bending angle of the respective field facet.

Die im jeweiligen Ausleuchtungskanal der Feldfacetten nachgeordnete Übertragungsoptik kann ausschließlich durch die innerhalb des Ausleuchtungskanals jeweils nachgeordnete Pupillenfacette gebildet sein. Alternativ kann die Übertragungsoptik auch noch weitere Komponenten, insbesondere weitere Spiegel aufweisen, die der Pupillenfacette eines jeweiligen Ausleuchtungskanals noch nachgeordnet und dem Objektfeld vorgeordnet sind.The subordinate transmission optics in the respective illumination channel of the field facets can be formed exclusively by the respective pupil facets within the illumination channel. Alternatively, the transmission optics may also have further components, in particular further mirrors, which are arranged downstream of the pupil facet of a respective illumination channel and are arranged upstream of the object field.

Verlagerungs-Aktoren nach Anspruch 2 ermöglichen eine feine Beeinflussung von zu korrigierenden Beleuchtungsparametern. Alternativ ist es möglich, die Verlagerungs-Aktoren so auszugestalten, dass mehrere diskrete Kippzustände der Korrektur-Feldfacetten erreicht werden können. Eine solche Gestaltung der Verlagerungs-Aktoren kann beispielsweise sicher reproduzierbare Verlagerungsstellungen gewährleisten. Eine kontinuierliche Verlagerung der Korrektur-Feldfacetten führt zu einer stufenlosen Vorgabe eines Verlagerungsweges.Displacement actuators according to claim 2 allow a fine influence of correcting illumination parameters. Alternatively, it is possible to design the displacement actuators such that a plurality of discrete tilt states of the correction field facets can be achieved. Such a design of the displacement actuators can ensure, for example, reliably reproducible displacement positions. A continuous shift of the correction field facets leads to a stepless specification of a displacement path.

Korrektur-Aktoren nach Anspruch 3 ermöglichen besonders flexible Korrektur-Verlagerung der Korrektur-Feldfacetten.Correction actuators according to claim 3 allow particularly flexible correction shift of the correction field facets.

Ausgestaltungen der Beleuchtungsoptik nach den Ansprüchen 4 bis 6 ermöglichen eine flexible Beleuchtungskorrektur, über die Einfluss auf unterschiedliche Feldabhängigkeiten und/oder Einfluss auf unterschiedliche, feldabhängige Beleuchtungsparameter genommen werden kann.Embodiments of the illumination optics according to claims 4 to 6 enable a flexible illumination correction, via which influence on different field dependencies and / or influence on different field-dependent illumination parameters can be taken.

Mit bogenförmigen Feldfacetten nach Anspruch 7 lässt sich ein über die Faltung mit der Quellstruktur entstehender, entsprechend bogenförmiger Lichtfleck des Beleuchtungslicht-Teilbündels auf den Korrektur-Pupillenfacetten erreichen, dessen Randkontur sich zur Beschneidungs-Korrektur besonders eignet, da je nach Verlagerungsrichtung des Lichtflecks ein Beschnitt am Rand der Korrektur-Pupillenfacette resultiert, der zu einer anderen feldabhängigen Beleuchtungsparameter-Korrekturwirkung führt. Alternativ können die Feldfacetten auch gerade, also nicht bogenförmig, und beispielsweise rechteckig ausgeführt sein.With arcuate field facets according to claim 7, a correspondingly arcuate light spot of the illumination light partial beam on the correction pupil facets resulting from the convolution with the source structure whose edge contour is particularly suitable for circumcision correction can be achieved since, depending on the direction of displacement of the light spot, a trimming on Edge of the correction pupil facet results, which leads to a different field-dependent illumination parameter correction effect. Alternatively, the field facets may also be straight, that is not arcuate, and rectangular, for example.

Die Vorteile eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 8, eines optischen Systems nach Anspruch 9, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 10, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 11 und eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils nach Anspruch 12 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik bereits erläutert wurden. The advantages of a lighting system according to claim 8, an optical system according to claim 9, a projection exposure apparatus according to claim 10, a manufacturing method according to claim 11 and a micro- or nanostructured component according to claim 12 correspond to those already explained above with reference to the illumination optical system according to the invention were.

Bei der Einstellung des Ist-Beleuchtungssettings im Rahmen des Herstellungsverfahrens kann eine feldabhängige Einzelkanalintensitätskorrektur zum Einsatz kommen. Die feldabhängige Einzelkanalintensitätskorrektur kann folgende Abfolge von Verfahrensschritten beinhalten:

  • 1. Bestimmung eines Beleuchtungslicht-Teilbündels mindestens eines zur Korrektur ausgewählten Ausleuchtungskanals durch Messung und/oder durch Berechnung. Bei der Messung kann das Beleuchtungslicht-Teilbündel in einer vorgegebenen Korrekturebene beispielsweise durch Einsatz eines ortsaufgelösten Intensitätsdetektors vermessen werden. Eine Berechnung des Beleuchtungslicht-Teilbündels kann durch rechnerische Bestimmung einer Point-Spread-Function (Punktausbreitungsfunktion) beispielsweise mit Hilfe eines optischen Designprogramms erfolgen. Diese Berechnung kann analytisch oder numerisch oder auch im Wege einer Simulation geschehen.
  • 2. Bestimmung einer Korrekturinformation, insbesondere eines Satzes von Aktorpositionen der Korrektur-Aktoren der Korrektur-Feldfacetten. Bei der Korrekturinformation kann es sich insbesondere um einen Satz von Kippwinkeln der Korrektur-Feldfacetten handeln. Diese Korrekturinformations-Bestimmung kann durch ein numerisches und/oder durch ein analytisches Rechenverfahren erfolgen.
  • 3. Verwendung der Korrekturinformation zur Korrekturverlagerung der Korrektur-Feldfacetten. Dies kann durch Ansteuerung der Korrektur-Aktoren geschehen.
  • 4. Verifikation der Wirkung der Korrekturinformation als optionaler Schritt. Diese Verifikation kann durch Messung und/oder durch Simulation erfolgen.
When setting the actual illumination setting within the manufacturing process, a field-dependent single-channel intensity correction can be used. The field-dependent single-channel intensity correction can include the following sequence of method steps:
  • 1. Determination of an illumination light sub-beam of at least one illumination channel selected for correction by measurement and / or by calculation. In the measurement, the illumination light sub-beam in a predetermined correction plane can be measured, for example by using a spatially resolved intensity detector. A computation of the illumination light sub-beam can be carried out by arithmetic determination of a point spread function, for example with the aid of an optical design program. This calculation can be done analytically or numerically or also by means of a simulation.
  • 2. Determining a correction information, in particular a set of actuator positions of the correction actuators of the correction field facets. The correction information may in particular be a set of tilt angles of the correction field facets. This correction information determination can be carried out by a numerical and / or by an analytical calculation method.
  • 3. Use of the correction information for correction displacement of the correction field facets. This can be done by controlling the correction actuators.
  • 4. Verification of the effect of the correction information as an optional step. This verification can be done by measurement and / or by simulation.

Das Bauteil kann mit extrem hoher Strukturauflösung hergestellt sein. Auf diese Weise kann beispielsweise ein Halbleiterchip mit extrem hoher Integrations- bzw. Speicherdichte hergestellt werden. The component can be manufactured with extremely high structural resolution. In this way, for example, a semiconductor chip with extremely high integration or storage density can be produced.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. Show it:

1 schematisch einen Meridionalschnitt durch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie; 1 schematically a meridional section through a projection exposure system for EUV projection lithography;

2 und 3 Anordnungsvarianten von Feldfacettenspiegeln, die mit monolithischen Feldfacetten ausgeführt sein können, aber auch Feldfacetten aufweisen können, die jeweils aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebaut sind; 2 and 3 Arrangement variants of field facet mirrors, which may be implemented with monolithic field facets, but may also have field facets, which are each constructed from a plurality of individual mirrors;

4 schematisch eine Aufsicht auf einen Pupillenfacettenspiegel, der gemeinsam mit dem Feldfacettenspiegel Teil einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage ist. 4 schematically a plan view of a pupil facet mirror, which is part of an illumination optical system of the projection exposure system together with the field facet mirror.

5 eine Variante einer Pupillenfacette, die beim Pupillenfacettenspiegel nach 4 zum Einsatz kommen kann, wobei auf der Pupillenfacette eine Randkontur eines Beleuchtungslicht-Teilbündels dargestellt ist, mit dem die Pupillenfacette über genau einer der Feldfacetten und einen vorgegebenen Ausleuchtungskanal beaufschlagt ist, wobei das Beleuchtungslicht-Teilbündel die Pupillenfacette derart beaufschlagt, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel vollständig von der Pupillenfacette reflektiert wird; 5 a variant of a pupil facet following the pupil facet mirror 4 can be used, wherein on the Pupillenfacette an edge contour of an illumination light partial bundle is shown, with which the pupil facet is acted upon by exactly one of the field facets and a predetermined illumination channel, the illumination light partial bundle acts on the pupil facet such that the illumination light partial bundle completely is reflected from the pupil facet;

6 in einem Diagramm eine Intensitätsabhängigkeit einer Kanalintensität IK einer Beleuchtungslicht-Beaufschlagung des Objektfeldes von einer Feldhöhe x, also von einer Dimension senkrecht zu einer Objektverlagerungsrichtung, wobei die Intensität IK, aufgetragen für genau einen Ausleuchtungskanal, scanintegriert aufgetragen ist und wobei der Effekt einer Verlagerung und Beschneidung des Beleuchtungslicht-Teilbündels auf der Pupillenfacette in –x-Richtung dargestellt ist; 6 in a diagram, an intensity dependence of a channel intensity I K of illumination light exposure of the object field of a field height x, that is, a dimension perpendicular to an object displacement direction, the intensity I K , plotted for exactly one illumination channel, scan integrated applied and wherein the effect of a displacement and trimming the illuminating light sub-beam on the pupil facet in the -x direction;

7 in einer zu 6 ähnlichen Darstellung den Effekt einer Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels auf der Pupillenfacette in +x-Richtung auf die Feldhöhenabhängigkeit der Kanalintensität IK(x); 7 in one too 6 similar representation of the effect of a shift of the illumination light partial beam on the pupil facet in the + x direction on the field height dependence of the channel intensity I K (x);

8 in einer zu 6 ähnlichen Darstellung den Effekt einer Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels auf der Pupillenfacette in +y-Richtung auf die Feldhöhenabhängigkeit der Kanalintensität IK(x); 8th in one too 6 similar view showing the effect of a displacement of the illuminating light beam on the pupil part in the + y-direction of the field height function of the channel intensity I K (x);

9 in einer zu 6 ähnlichen Darstellung den Effekt einer Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels auf der Pupillenfacette in –y-Richtung auf die Feldhöhenabhängigkeit der Kanalintensität IK(x); 9 in one too 6 similar representation of the effect of a shift of the illumination light partial beam on the pupil facet in the -y direction on the field height dependence of the channel intensity I K (x);

10 schematisch in einem Diagramm eine Abhängigkeit einer x-Telezentrie Tx von der Feldhöhe x vor einer Korrektur durch gezielte Verlagerung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln auf Korrektur-Pupillenfacetten nach Art der Pupillenfacette nach 5 in +x-Richtung (vgl. 7); und 10 schematically in a diagram dependency of an x-telecentricity T x of the field height x before a correction by targeted displacement of illumination light partial beams on correction pupil facets on the type of pupil facet after 5 in the + x direction (cf. 7 ); and

11 schematisch eine Intensitätsverteilung über eine Pupille der Beleuchtungsoptik für einen Objektfeldpunkt am Ort x = xmax vor einer Korrektur der x-Telezentrie, wobei Pupillenspots hervorgehoben sind, die über Pupillenfacetten ausgeleuchtet werden, die sich als Korrektur-Pupillenfacetten, auf denen eine +x-Verlagerung nach 7 herbeigeführt wird, eignen. 11 schematically an intensity distribution over a pupil of the illumination optics for an object field point at location x = x max before a correction of the x-telecentricity, wherein pupil spots are highlighted, which are illuminated via pupil facets, which are as correction pupil facets on which a + x displacement to 7 is brought about.

1 zeigt schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikro-Lithografie. Zur Projektionsbelichtungsanlage 1 gehört eine Licht- bzw. Strahlungsquelle 2. Ein Beleuchtungssystem 3 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat eine Beleuchtungsoptik 4 zur Belichtung eines mit einem Objektfeld 5 zusammenfallenden Beleuchtungsfeldes in einer Objektebene 6. Das Beleuchtungsfeld kann auch größer sein als das Objektfeld 5. Belichtet wird hierbei ein Objekt in Form eines im Objektfeld 5 angeordneten Retikels 7, das von einem Objekt- bzw. Retikelhalter 8 gehalten ist. Das Retikel 7 wird auch als Lithographiemaske bezeichnet. Der Objekthalter 8 ist über einen Objektverlagerungsantrieb 9 längs einer Objekt-Verlagerungsrichtung verlagerbar. Eine Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 synchronisiert zum Objekthalter 8 parallel zur Objekt-Verlagerungsrichtung verlagerbar. 1 schematically shows in a meridional section a projection exposure system 1 for micro lithography. To the projection exposure system 1 belongs to a light or radiation source 2 , A lighting system 3 the projection exposure system 1 has a lighting look 4 to expose one with an object field 5 coincident illumination field in an object plane 6 , The illumination field can also be larger than the object field 5 , An object in the form of an object field is exposed in this case 5 arranged reticle 7 that of an object or reticle holder 8th is held. The reticle 7 is also called lithography mask. The object holder 8th is about a object displacement drive 9 along an object Displacement direction relocatable. A projection optics 10 serves to represent the object field 5 in a picture field 11 in an image plane 12 , A structure is shown on the reticle 7 on a photosensitive layer in the area of the image field 11 in the picture plane 12 arranged wafers 13 , The wafer 13 is from a wafer holder 14 held. The wafer holder 14 is via a wafer displacement drive 15 synchronized to the object holder 8th displaceable parallel to the object displacement direction.

Bei der Strahlungsquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, gasdischarge-produced plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, laser-produced plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron oder auf einem freien Elektronenlaser (FEL) basiert, ist für die Strahlungsquelle 2 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Strahlungsquelle findet der Fachmann beispielsweise aus der US 6,859,515 B2 . EUV-Strahlung 16, die von der Strahlungsquelle 2 ausgeht, insbesondere das das Objektfeld 5 beleuchtende Nutz-Beleuchtungslicht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Ein entsprechender Kollektor ist aus der EP 1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor 17 propagiert die EUV-Strahlung 16 durch eine Zwischenfokusebene 18, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 19 trifft. Der Feldfacettenspiegel 19 ist ein erster Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 4. Der Feldfacettenspiegel 19 hat eine Mehrzahl von reflektierenden Feldfacetten, die in der 1 nicht dargestellt sind. Der Feldfacettenspiegel 19 ist in einer Feldebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Objektebene 6 optisch konjugiert ist. At the radiation source 2 It is an EUV radiation source with an emitted useful radiation in the range between 5 nm and 30 nm. It can be a plasma source, for example a GDPP source (plasma generation by gas discharge, gasdischarge-produced plasma) or an LPP source. Source (plasma generation by laser, laser-produced plasma) act. Also, a radiation source based on a synchrotron or on a free electron laser (FEL) is for the radiation source 2 used. Information about such a radiation source is the expert, for example from the US Pat. No. 6,859,515 B2 , EUV radiation 16 coming from the radiation source 2 goes out, in particular the object field 5 Lighting utility lighting light, is from a collector 17 bundled. A corresponding collector is from the EP 1 225 481 A known. After the collector 17 propagates the EUV radiation 16 through an intermediate focus level 18 before moving to a field facet mirror 19 meets. The field facet mirror 19 is a first facet mirror of the illumination optics 4 , The field facet mirror 19 has a plurality of reflective field facets included in the 1 are not shown. The field facet mirror 19 is in a field level of the illumination optics 4 arranged to the object level 6 is optically conjugated.

Die EUV-Strahlung 16 wird nachfolgend auch als Beleuchtungslicht oder als Abbildungslicht bezeichnet. The EUV radiation 16 is hereinafter also referred to as illumination light or as imaging light.

Nach dem Feldfacettenspiegel 19 wird die EUV-Strahlung 16 von einem Pupillenfacettenspiegel 20 reflektiert. Der Pupillenfacettenspiegel 20 ist ein zweiter Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 4. Der Pupillenfacettenspiegel 20 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Zwischenfokusebene 18 und zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 und der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist oder mit dieser Pupillenebene zusammenfällt. Der Pupillenfacettenspiegel 20 hat eine Mehrzahl von reflektierenden Pupillenfacetten, die in der 1 nicht dargestellt sind. Mit Hilfe der Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels 20 und einer nachfolgenden abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 21 mit in der Reihenfolge des Strahlengangs bezeichneten Spiegeln 22, 23 und 24 werden die Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 19 einander überlagernd in das Objektfeld 5 abgebildet. Der letzte Spiegel 24 der Übertragungsoptik 21 ist ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing Incidence-Spiegel“).After the field facet mirror 19 becomes the EUV radiation 16 from a pupil facet mirror 20 reflected. The pupil facet mirror 20 is a second facet mirror of the illumination optics 4 , The pupil facet mirror 20 is in a pupil plane of the illumination optics 4 arranged to the Zwischenfokusebene 18 and to a pupil plane of the illumination optics 4 and the projection optics 10 is optically conjugated or coincides with this pupil plane. The pupil facet mirror 20 has a plurality of reflective pupil facets included in the 1 are not shown. With the help of the pupil facets of the pupil facet mirror 20 and a subsequent imaging optical assembly in the form of a transmission optics 21 with mirrors in the order of the beam path 22 . 23 and 24 become the field facets of the field facet mirror 19 overlapping each other in the object field 5 displayed. The last mirror 24 the transmission optics 21 is a grazing incidence mirror.

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 1 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem als globales Koordinatensystem für die Beschreibung der Lageverhältnisse von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 eingezeichnet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Achse verläuft in der 1 nach rechts und parallel zur Verlagerungsrichtung des Objekthalters 8 und des Waferhalters 14. Die z-Achse verläuft in der 1 nach unten, also senkrecht zur Objektebene 6 und zur Bildebene 12. To facilitate the description of positional relationships is in the 1 a Cartesian xyz coordinate system as a global coordinate system for the description of the positional relationships of components of the projection exposure apparatus 1 between the object plane 6 and the picture plane 12 located. The x-axis runs in the 1 perpendicular to the drawing plane into this. The y-axis runs in the 1 to the right and parallel to the direction of displacement of the object holder 8th and the wafer holder 14 , The z-axis runs in the 1 down, that is perpendicular to the object plane 6 and to the picture plane 12 ,

Die x-Dimension über das Objektfeld 5 bzw. das Bildfeld 11 wird auch als Feldhöhe bezeichnet. Die Objektverlagerungsrichtung verläuft parallel zur y-Achse. The x-dimension over the object field 5 or the image field 11 is also called field height. The object displacement direction is parallel to the y-axis.

In den weiteren Figuren sind lokale kartesische xyz-Koordinatensysteme eingezeichnet. Die x-Achsen der lokalen Koordinatensysteme verlaufen parallel zur x-Achse des globalen Koordinatensystems nach 1. Die xy-Ebenen der lokalen Koordinatensysteme stellen Anordnungsebenen der jeweils in der Figur dargestellten Komponente dar. Die y- und z-Achsen der lokalen Koordinatensysteme sind entsprechend um die jeweilige x-Achse um einen bestimmten Winkel verkippt.The further figures show local Cartesian xyz coordinate systems. The x-axes of the local coordinate systems run parallel to the x-axis of the global coordinate system 1 , The xy planes of the local coordinate systems represent arrangement planes of the component shown in the figure. The y and z axes of the local coordinate systems are tilted by a certain angle about the respective x-axis.

Die 2 und 3 zeigen Beispiele verschiedener Facettenanordnungen für den Feldfacettenspiegel 19. Jede der dort dargestellten Feldfacetten 25 kann als Einzelspiegel-Gruppe aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebaut sein, wie beispielsweise aus der WO 2009/100 856 A1 bekannt. Jeweils eine der Einzelspiegel-Gruppen hat dann die Funktion einer Facette eines Feldfacettenspiegels, wie dieser beispielsweise in der US 6,438,199 B1 oder der US 6,658,084 B2 offenbart ist. The 2 and 3 show examples of different facet arrangements for the field facet mirror 19 , Each of the field facets displayed there 25 can be constructed as a single-mirror group of a plurality of individual mirrors, such as from WO 2009/100 856 A1 known. In each case one of the individual mirror groups then has the function of a facet of a field facet mirror, as this example in the US Pat. No. 6,438,199 B1 or the US 6,658,084 B2 is disclosed.

Der Feldfacettenspiegel 19 nach 2 hat eine Vielzahl gebogen ausgeführter Feldfacetten 25. Diese sind gruppenweise in Feldfacetten-Blöcken 26 auf einem Feldfacetten-Träger 27 angeordnet. Insgesamt hat der Feldfacettenspiegel 19 nach 2 sechsundzwanzig Feldfacetten-Blöcke 26, zu denen drei, fünf oder zehn der Feldfacetten 25 gruppenweise zusammengefasst sind. The field facet mirror 19 to 2 has a variety of curved executed field facets 25 , These are in groups in field facet blocks 26 on a field facet carrier 27 arranged. Overall, the field facet mirror has 19 to 2 twenty-six field faceted blocks 26 to which three, five or ten of the field facets 25 grouped together.

Zwischen den Feldfacetten-Blöcken 26 liegen Zwischenräume 28 vor. Between the field facet blocks 26 there are gaps 28 in front.

Der Feldfacettenspiegel 19 nach 3 hat rechteckige Feldfacetten 25, die wiederum gruppenweise Feldfacetten-Blöcken 26 angeordnet sind, zwischen denen Zwischenräume 28 vorliegen. The field facet mirror 19 to 3 has rectangular field facets 25 , in turn, groupwise field facet blocks 26 are arranged, between which spaces 28 available.

4 zeigt schematisch eine Aufsicht auf den Pupillenfacettenspiegel 20. Pupillenfacetten 29 des Pupillenfacettenspiegels 20 sind im Bereich einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet. Die Anzahl der Pupillenfacetten 29 ist in der Realität größer als in 4 dargestellt. Die Pupillenfacetten 29 sind auf einem Pupillenfacetten-Träger des Pupillenfacettenspiegels 20 angeordnet. Eine Verteilung von über die Feldfacetten 25 mit dem Beleuchtungslicht 16 beaufschlagten Pupillenfacetten 29 innerhalb der Beleuchtungspupille gibt eine Ist-Beleuchtungswinkelverteilung im Objektfeld 5 vor. 4 schematically shows a plan view of the pupil facet mirror 20 , pupil facets 29 of the pupil facet mirror 20 are in the range of an illumination pupil of the illumination optics 4 arranged. The number of pupil facets 29 is greater in reality than in 4 shown. The pupil facets 29 are on a pupil facet-bearer of the pupil facet mirror 20 arranged. A distribution of over the field facets 25 with the illumination light 16 applied pupil facets 29 within the illumination pupil gives an actual illumination angle distribution in the object field 5 in front.

Jede der Feldfacetten 25 dient zur Überführung eines Teils des Beleuchtungslichts 16, also eines Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i, von der Lichtquelle 2 hin zu einer der Pupillenfacetten 29. Each of the field facets 25 serves to transfer part of the illumination light 16 , that is, an illumination light sub-beam 16 i , from the light source 2 towards one of the pupil facets 29 ,

Nachfolgend wird bei einer Beschreibung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln 16 i davon ausgegangen, dass die zugehörige Feldfacette 25 jeweils maximal, also über ihre gesamte Reflexionsfläche, ausgeleuchtet ist. In diesem Fall fällt eine Randkontur des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i mit einer Randkontor des Ausleuchtungskanals zusammen, weswegen die Ausleuchtungskanäle nachfolgend auch mit 16 i bezeichnet werden. Der jeweilige Ausleuchtungskanal 16 i stellt einen möglichen Lichtweg eines die zugehörige Feldfacette 25 maximal ausleuchtenden Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i über die weiteren Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 dar. The following is a description of illumination light sub-beams 16 i assumed that the associated field facet 25 each maximum, so over their entire reflection surface is illuminated. In this case, an edge contour of the illumination light sub-beam drops 16 i together with a Randkontor the illumination channel, which is why the illumination channels below with 16 i be designated. The respective illumination channel 16 i represents a possible light path of the associated field facet 25 maximum illuminating illumination light sub-beam 16 i about the other components of the illumination optics 4 represents.

Die Übertragungsoptik 21 weist für jeden der Ausleuchtungskanäle 16 i jeweils eine der Pupillenfacetten 29 zur Überführung des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i von der Feldfacette 25 hin zum Objektfeld 5 auf.The transmission optics 21 points to each of the illumination channels 16 i one each of the pupil facets 29 for transferring the illumination light partial bundle 16 i from the field facet 25 towards the object field 5 on.

Jeweils ein Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i, von denen in der 1 schematisch zwei Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i (i = 1, ..., N; N: Anzahl der Feldfacetten) dargestellt sind, ist zwischen der Lichtquelle 2 und dem Objektfeld 5 über genau eine der Feldfacetten 25 und über genau eine der Pupillenfacetten 29 über jeweils einen Ausleuchtungskanal geführt. In each case a lighting light partial bundle 16 i , of which in the 1 schematically two illumination light sub-beams 16 i (i = 1, ..., N; N: number of field facets) is between the light source 2 and the object field 5 over exactly one of the field facets 25 and about exactly one of the pupil facets 29 each guided by a lighting channel.

Zumindest einige der Pupillenfacetten 29, im betrachteten Ausführungsbeispiel alle Pupillenfacetten 29 des Pupillenfacettenspiegels 20, sind als Korrektur-Pupillenfacetten einsetzbar. Diese Korrektur-Pupillenfacetten sind so im Strahlengang des sie beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i angeordnet, dass ein Bild 2' der Lichtquelle 2 an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals 16 i beabstandet zur Pupillenfacette 29 liegt. At least some of the pupil facets 29 , In the considered embodiment, all pupil facets 29 of the pupil facet mirror 20 , are used as correction pupil facets. These correction pupil facets are thus in the beam path of the illumination light sub-beam acting on them 16 i arranged that a picture 2 ' the light source 2 arises at a picture location along the illumination channel 16 i spaced from the pupil facet 29 lies.

In der 1 sind zwei Varianten einer solchen Anordnung der Lichtquellen-Bilder 2' schematisch dargestellt. Ein erstes Lichtquellen-Bild 2' 1 ist an einem Bildort angeordnet, der im Strahlengang des zugehörigen Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i vor Reflexion an der Pupillenfacette des Pupillenfacettenspiegels 20 liegt. Ein zweites Lichtquellen-Bild 2' 2 ist im Strahlengang eines weiteren Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i an einem Bildort nach Reflexion an der Pupillenfacette des Pupillenfacettenspiegels 20 angeordnet. In the 1 are two variants of such an arrangement of light source images 2 ' shown schematically. A first light source image 2 ' 1 is arranged at a picture location in the beam path of the associated illumination light partial beam 16 i before reflection on the pupil facet of the pupil facet mirror 20 lies. A second light source image 2 ' 2 is in the beam path of another illumination light sub-beam 16 i at a location after reflection on the pupil facet of the pupil facet mirror 20 arranged.

Zumindest einige der Feldfacetten 25, im dargstellten Ausführungsbeispiel alle Feldfacetten 25, sind als Korrektur-Feldfacetten einsetzbar, die jeweils über einen der Ausleuchtungskanäle 16 i einer jeweiligen Korrektur-Pupillenfacette 29 zugeordnet sind. Die Korrektur-Feldfacetten 25 sind mit Korrektur- bzw. Verlagerungs-Aktoren in Form von Kipp-Aktoren 31 verbunden, von denen in der 2 lediglich einige Verlagerungs-Aktoren 31 schematisch dargestellt sind. Die Verlagerungs-Aktoren 31 sind zur kontinuierlichen Verlagerung, nämlich zur kontinuierlichen Verkippung der Korrektur-Feldfacetten 25 ausgebildet. Die Verlagerungs-Aktoren 31 sind zur Verkippung der Korrektur-Feldfacetten 25 um zwei zueinander senkrecht stehende Achsen ausgebildet, die parallel zur x-Achse und zur y-Achse beispielsweise durch ein jeweiliges Zentrum bzw. durch einen Schwerpunkt einer Reflexionsfläche der Korrektur-Feldfacette 25 verlaufen. At least some of the field facets 25 , in the illustrated embodiment all field facets 25 , are used as correction field facets, each via one of the illumination channels 16 i a respective correction pupil facet 29 assigned. The correction field facets 25 are with correction or displacement actuators in the form of tilt actuators 31 connected, of which in the 2 only a few relocation actuators 31 are shown schematically. The relocation actuators 31 are for continuous displacement, namely for continuous tilting of the correction field facets 25 educated. The relocation actuators 31 are for tilting the correction field facets 25 formed about two mutually perpendicular axes, parallel to the x-axis and the y-axis, for example, by a respective center or by a center of gravity of a reflection surface of the correction Feldfacette 25 run.

Die Verlagerungs-Aktoren 31 stehen über eine nicht dargestellte Signalverbindung mit einer Korrektur-Steuerungseinrichtung 32 der Projektionsbelichtungsanlage 1 in Signalverbindung (vgl. 1). Die Korrektur-Steuerungseinrichtung 32 dient zur gesteuerten Verkippung der Korrektur-Feldfacetten 25. The relocation actuators 31 are connected via a signal connection, not shown, with a correction control device 32 the projection exposure system 1 in signal connection (cf. 1 ). The correction control device 32 serves for the controlled tilting of the correction field facets 25 ,

Die Korrektur-Steuerungseinrichtung 32 und die Verlagerungs-Aktoren 31 sind so ausgeführt, dass ein Korrektur-Verlagerungsweg, nämlich ein Korrektur-Kippwinkel der Korrektur-Feldfacetten 25 in einem Korrektur-Verlagerungsbereich, nämlich in einem Korrektur-Kippwinkelbereich so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal 16 i von einem Rand der zugehörigen Korrektur-Pupillenfacette 29 so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette 29 in das Objektfeld 5 überführt wird. Dies wird nachfolgend anhand der 5 ff. näher erläutert. The correction control device 32 and the relocation actuators 31 are designed so that a correction displacement path, namely a correction tilt angle of the correction field facets 25 in a correction displacement area, namely in a correction tilt angle range is so large that a respective correction illumination channel 16 i from one edge of the associated correction pupil facet 29 is trimmed so that the illumination light sub-beam 16 i not completely from the correction pupil facet 29 in the object field 5 is transferred. This will be explained below with reference to 5 ff. explained in more detail.

5 zeigt eine der Pupillenfacetten 29, die beim Pupillenfacettenspiegel 20 zum Einsatz kommen kann. Die Pupillenfacette 29 nach 5 hat keine kreisrunde Randkontur, wie in der 4 dargestellt, sondern eine annähernd quadratische Randkontur mit abgerundeten Ecken. Eine solche Randkontur, die auch ohne abgerundete Ecken, also quadratisch oder rechteckig gestaltet sein kann, ermöglicht es, den Pupillenfacetten-Träger 30 relativ dicht mit den Pupillenfacetten 29 zu belegen. 5 shows one of the pupil facets 29 at the pupil facet mirror 20 can be used. The pupil facet 29 to 5 has no circular edge contour, as in the 4 shown, but an approximately square edge contour with rounded corners. Such a border contour, which can be designed without rounded corners, so square or rectangular, allows the pupil facet carrier 30 relatively close to the pupil facets 29 to prove.

Die Pupillenfacette 29 nach 5 wird von einer bogenförmigen Feldfacette 25 des Feldfacettenspiegels 19 nach 2 mit dem Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i beaufschlagt. The pupil facet 29 to 5 is from an arcuate field facet 25 of the field facet mirror 19 to 2 with the illumination light sub-beam 16 i charged.

Die 5 zeigt eine Lage des von der Pupillenfacette 29 reflektierten Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i in einer Kippwinkelstellung der dieser Pupillenfacette 29 zugeordneten Feldfacette 25, bei der keine Beleuchtungs-Korrektur stattfindet. Bei dieser, in der 5 dargestellten Anordnung liegt ein gesamter Querschnitt des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Pupillenfacette 29, so dass das Beleuchtungs-Teilbündel 16 i randseitig nicht vom Rand der Pupillenfacette 29 beschnitten ist. Eine Randkontur des Querschnitts des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Pupillenfacette 29 hat eine angenähert bogen-, bohnen- oder nierenförmige Form und kann verstanden werden als Faltung der bogenförmigen Feldfacetten 25 nach 2 mit einer runden Quellfläche der Lichtquelle 2. Diese Faltung entsteht aufgrund der Tatsache, dass, wie vorstehend bereits ausgeführt, das Bild 2' der Lichtquelle 2 an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals 16 i beabstandet zur Pupillenfacette 29, im Strahlengang also entweder vor oder nach der Pupillenfacette 29, liegt. The 5 shows a position of the pupil facet 29 reflected illumination light sub-beam 16 i in a tilt angle position of this pupil facet 29 associated field facet 25 in which no illumination correction takes place. In this, in the 5 illustrated arrangement is an entire cross section of the illumination light sub-beam 16 i on the pupil facet 29 so that the lighting sub-beam 16 i not on the edge from the edge of the pupil facet 29 is cropped. An edge contour of the cross section of the illumination light partial bundle 16 i on the pupil facet 29 has an approximate arcuate, bean or kidney-shaped shape and can be understood as folding the arcuate field facets 25 to 2 with a round source surface of the light source 2 , This folding arises due to the fact that, as already stated above, the image 2 ' the light source 2 arises at a picture location along the illumination channel 16 i spaced from the pupil facet 29 , in the beam path either before or after the pupil facet 29 , lies.

Die bogenförmige Randkontur des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Pupillenfacette 29 stellt einen Lichtfleck des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i dar.The arcuate edge contour of the illumination light partial bundle 16 i on the pupil facet 29 represents a light spot of the illumination light sub-beam 16 i dar.

Gestrichelt sind in die Randkontur des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Pupillenfacette 29 drei Subbündel 16 i 1, 16 i 2 und 16 i 3 eingezeichnet. Das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i setzt sich aus einer Vielzahl derartiger Subbündel 16 i j zusammen. Das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i kann, sofern die optischen Parameter der Beleuchtung bekannt sind, beispielsweise mit Hilfe eines optischen Designprogramms, berechnet werden und wird in diesem Zusammenhang auch als „Point-Spread-Function“ (Punktausbreitungsfunktion) bezeichnet. Dashed are in the edge contour of the illumination light sub-beam 16 i on the pupil facet 29 three subbundles 16 i 1 , 16 i 2 and 16 i 3 drawn. The illumination light sub-beam 16 i is made up of a large number of such subbundles 16 i j together. The illumination light sub-beam 16 i can, if the optical parameters of light are known, for example by means of an optical design program, are calculated and is referred to herein as the "point spread function" (point spread function).

Das Beleuchtungslicht 16 dieser Subbündel 16 i 1 bis 16 i 3 geht aus von einem linken Randpunkt 25 1, von einem zentralen Punkt 25 2 und von einem rechten Randpunkt 25 3 der zugehörigen Feldfacette 25. In der 2 sind beispielhaft diese Ausgangspunkte 25 1 bis 25 3 auf einer der Feldfacetten 25 eingezeichnet. The illumination light 16 this subbundel 16 i 1 to 16 i 3 starts from a left edge point 25 1 , from a central point 25 2 and from a right edge point 25 3 of the associated field facet 25 , In the 2 are exemplary of these starting points 25 1 to 25 3 on one of the field facets 25 located.

Durch Korrektur-Verkippung der Feldfacette 25, die die Pupillenfacette 29 nach 5 beaufschlagt, kann eine feldabhängige Korrektur einer Beleuchtungswinkelverteilung über das Objektfeld 5 erreicht werden. By corrective tilting of the field facet 25 that the pupil facet 29 to 5 applied, a field-dependent correction of an illumination angle distribution over the object field 5 be achieved.

6 zeigt eine Abhängigkeit einer scanintegrierten Intensität IK, die einer der Ausleuchtungskanäle 16 i zur Beleuchtung des Objektfeldes 5 beiträgt, von der Feldhöhe x. Eine Scanintegration bedeutet eine Integration der Beleuchtungsintensität längs der y-Koordinate des Objektfeldes 5. 6 shows a dependence of a scan-integrated intensity I K , one of the illumination channels 16 i for illumination of the object field 5 contributes, from the field height x. A scan integration means an integration of the illumination intensity along the y-coordinate of the object field 5 ,

Gestrichelt ist ein nominaler Feldverlauf eingezeichnet, der sich ergibt, wenn das gesamte Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i von der Pupillenfacette 29 hin zum Objektfeld 5 reflektiert wird. Dashed lines show a nominal field profile that results when the entire illumination light sub-beam 16 i from the pupil facet 29 towards the object field 5 is reflected.

Durchgezogen ist in der 6 ein Feldverlauf der Kanalintensität IK dargestellt, der entsteht, wenn das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i durch Verkippung des Korrektur-Aktors 31 der zugehörigen Korrektur-Feldfacette 25 in –x-Richtung so auf der Pupillenfacette 29 verlagert ist, dass der zugehörige Korrektur-Ausleuchtungskanal 16 i – und damit auch das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i – vom Rand der Korrektur-Pupillenfacette 29 beschnitten ist. Dieser, in den 5 und 6 linke Rand des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i trägt nun nicht mehr zur Beleuchtung des Objektfeldes 5 bei, so dass der in der 6 durchgezogene Feldverlauf resultiert, bei dem die Kanalintensität IK bei kleinen Feldhöhe-Werten x schneller auf den Wert 0 abfällt als der gestrichelte, nominale Feldverlauf. Im Ergebnis resultiert über diesen Ausleuchtungskanal ein feldabhängiger Verlauf einer Beleuchtung über diese Pupillenfacette 29, also ein feldabhängiger Verlauf der Intensität des zugehörigen Beleuchtungs-Winkels. In der Korrektur-Kippstellung nach 6 „sieht“ ein Objektfeldpunkt beim x-Wert xmin Beleuchtungslicht 16 aus Richtung der Pupillenfacette 29 praktisch nicht, da Beleuchtungslicht 16, das von einem Urbild entsprechend dieser Feldhöhe xmin von der zugehörigen Feldfacette des Ausleuchtungskanals 16 i ausgeht, nicht von der Pupillenfacette 29 reflektiert wird. Oberhalb einer Grenz-Feldhöhe xG geht der Korrektur-Feldverlauf der Kanalintensität IK wieder in den nominalen Feldverlauf über. Is pulled through in the 6 a field profile of the channel intensity I K , which arises when the illumination light sub-beam 16 i by tilting the correction actuator 31 the associated correction field facet 25 in -x-direction so on the pupil facet 29 is shifted that the associated correction illumination channel 16 i - and thus also the illumination light partial bundle 16 i - from the edge of the correction pupil facet 29 is cropped. This, in the 5 and 6 left edge of the illumination light sub-beam 16 i no longer supports the illumination of the object field 5 at, so that in the 6 solid field response results in which the channel intensity I K at small field height values x falls faster to the value 0 than the dashed, nominal field profile. The result is a field-dependent course of illumination over this pupil facet via this illumination channel 29 , ie a field-dependent course of the intensity of the associated illumination angle. In the correction tilt position after 6 An object field point "sees" illumination light at the x value x min 16 from the direction of the pupil facet 29 practically not, because illumination light 16 , that of a prototype corresponding to this field height x min of the associated field facet of the illumination channel 16 i , not from the pupil facet 29 is reflected. Above a limit field height x G , the correction field profile of the channel intensity I K returns to the nominal field profile.

7 zeigt entsprechend eine Korrekturwirkung, wenn der Kipp-Aktor 31 die Korrektur-Feldfacette 25 so verkippt, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i in positiver x-Richtung auf der Korrektur-Pupillenfacette 29 verlagert und vom Rand der Korrektur-Pupillenfacette 29 beschnitten ist. Dargestellt ist wieder durchgezogen der Verlauf der Kanalintensität IK über die Feldhöhe x nach erfolgter Verlagerung im Vergleich zum gestrichelt dargestellten, nominalen Feldverlauf. Im Bereich einer maximalen Feldhöhe xmax sehen die Objektfeldpunkte dann praktisch kein Beleuchtungslicht, welches von der zugehörigen Korrektur-Pupillenfacette 29 ausgeht. Unterhalb einer Grenz-Feldhöhe xG geht der durchgezogene Korrektur-Feldverlauf nach 7 wieder in den gestrichelten, nominalen Feldverlauf über. 7 Correspondingly shows a correction effect when the tilt actuator 31 the correction field facet 25 tilted so that the illumination light sub-beam 16 i in the positive x-direction on the correction pupil facet 29 shifted and from the edge of the correction pupil facet 29 is cropped. The progression of the channel intensity I K is shown again across the field height x after the displacement has taken place in comparison to the nominal field course represented by dashed lines. In the area of a maximum field height x max , the object field points then see virtually no illumination light, which of the corresponding correction pupil facet 29 emanates. Below a limit field height x G , the solid correction field course follows 7 again in the dashed, nominal field profile over.

Zur Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i in +/–x-Richtung wird die zugehörige Korrektur-Feldfacette 25 über den zugehörigen Kipp-Aktor um eine zur y-Achse in der 2 parallele Achse verkippt.For shifting the illumination light partial bundle 16 i in the +/- x direction becomes the associated correction field facet 25 about the associated tilt actuator to one to the y-axis in the 2 tilted parallel axis.

Eine Anordnungsgeometrie einer Führung des Beleuchtungslichts 16 über die Ausleuchtungskanäle 16 i ist also derart, dass ein Querschnitt des Ausleuchtungskanals 16 i auf den Korrektur-Pupillenfacetten 29 eine Randkontur derart hat, dass über eine Größe des Korrektur-Kippwinkels ein randseitiges Beschneiden des Querschnitts in einer Richtung +/–x senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung y vorgegeben werden kann.An arrangement geometry of a guide of the illumination light 16 over the illumination channels 16 i is thus such that a cross section of the illumination channel 16 i on the correction pupil facets 29 an edge contour has such that over a size of the correction tilt angle edge-side trimming the cross section in a direction +/- x can be specified perpendicular to the object displacement direction y.

8 zeigt das Ergebnis einer Korrektur-Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Korrektur-Pupillenfacette 29 nach 5 in positiver y-Richtung, hervorgerufen durch eine entsprechende Korrektur-Verkippung der zugehörigen Korrektur-Feldfacette 25 um eine zur x-Achse parallele Achse. Aufgrund der Bogenform des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i auf der Korrektur-Pupillenfacette 29 wird aufgrund dieser +y-Verlagerung zunächst der in +y-Richtung führende Rand des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i im Bereich des Subbündels 16 i 2 vom Rand der Korrektur-Pupillenfacette 29 beschnitten. Es resultiert eine Reduktion bzw. ein Dip der Kanalintensität IK im Bereich einer zentralen Feldhöhe x0. Oberhalb einer Feldhöhe x0 + xA2 und unterhalb einer Feldhöhe x0 – xA1 geht der in der 8 durchgezogen dargestellte Korrektur-Feldverlauf der Kanalintensität IK wieder in den gestrichelten, nominalen Feldverlauf über. 8th shows the result of a correction shift of the illumination light sub-beam 16 i on the correction pupil facet 29 to 5 in the positive y-direction, caused by a corresponding correction tilting of the associated correction field facet 25 around an axis parallel to the x-axis. Due to the arc shape of the illumination light sub-beam 16 i on the correction pupil facet 29 Due to this + y displacement, the edge of the illumination light sub-beam leading in the + y direction first becomes 16 i in the range of the subbundle 16 i 2 from the edge of the correction pupil facet 29 circumcised. The result is a reduction or a dip of the channel intensity I K in the region of a central field height x 0 . Above a field height x 0 + x A2 and below a field height x 0 - x A1 is in the 8th drawn through the correction field characteristic of the channel intensity I K again in the dashed, nominal field profile over.

9 zeigt die Korrekturauswirkungen einer Verlagerung des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i gemäß 5 in negativer y-Richtung, hervorgerufen durch eine Verkippung der zugehörigen Korrektur-Feldfacette 25 um eine Kippachse parallel zur x-Achse. Es resultiert aufgrund eines Beschnitts beider Enden der Bogenform des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i im Bereich der Subbündel 16 i 1 und 16 i 3 ein Abfall der Kanalintensität IK an beiden Feldhöhen-Rändern, also gleichzeitig im Bereich der Feldhöhe xmin und xmax. Im Bereich der zentralen Feldhöhe x0 geht der korrigierte, in der 9 durchgezogene Feldverlauf wieder über in den gestrichelten, nominalen Feldverlauf der Kanalintensität IK. 9 shows the correction effects of a shift of the illumination light sub-beam 16 i according to 5 in the negative y-direction, caused by a tilt of the associated correction field facet 25 around a tilting axis parallel to the x-axis. It results due to a truncation of both ends of the arc shape of the illumination light sub-beam 16 i in the range of subbundles 16 i 1 and 16 i 3 is a drop of the channel intensity I K at both field height edges, ie simultaneously in the field height x min and x max . In the area of the central field height x 0 , the corrected, in the 9 solid field shape again into the dashed, nominal field profile of the channel intensity I K.

Eine Anordnungsgeometrie einer Führung des Beleuchtungslichts 16 über die Ausleuchtungskanäle 16 i ist also derart, dass ein Querschnitt des Ausleuchtungskanals 16 i auf den Korrektur-Pupillenfacetten 29 eine Randkontur derart hat, dass über eine Größe des Korrektur-Kippwinkels ein randseitiges Beschneiden des Querschnitts in einer Richtung +/–y längs der bzw. parallel zur Objektverlagerungsrichtung y vorgegeben werden kann.An arrangement geometry of a guide of the illumination light 16 over the illumination channels 16 i is thus such that a cross section of the illumination channel 16 i on the correction pupil facets 29 has an edge contour such that over a size of the correction tilt angle edge-side trimming of the cross-section in a direction +/- y along or parallel to the object displacement direction y can be specified.

Über eine Richtung +/–y des Korrektur-Kippwinkels kann also vorgegeben werden, ob ein Beschneiden des Querschnitts des Ausleuchtungskanals 16 i, gesehen in einer Dimension x senkrecht zur einem beschnittenen Rand +/–y zentral (also im Bereich x0) oder randseitig (also in den Bereichen xmin und xmax) erfolgt.Via a direction +/- y of the correction tilt angle, it is therefore possible to specify whether a trimming of the cross section of the illumination channel 16 i , seen in a dimension x perpendicular to a trimmed edge +/- y centrally (ie in the range x 0 ) or edge (ie in the ranges x min and x max ).

Ein Beschneiden des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i führt also dazu, dass abhängig vom Ort auf dem Objektfeld 5 Beleuchtungslicht 16 von dieser Korrektur-Pupillenfacette 29 mit unterschiedlicher Intensität hin zum Objektfeld 5 überführt wird. Durch gesteuerte Verkippung der Korrektur-Feldfacetten 25 lässt sich also eine feldabhängige Korrektur einer Beleuchtungsintensitätsverteilung über das Objektfeld 5 erzielen.A trimming of the illumination light sub-beam 16 i thus causes, depending on the location on the object field 5 illumination light 16 from this correction pupil facet 29 with different intensity towards the object field 5 is transferred. By controlled tilting of the correction field facets 25 Thus, a field-dependent correction of an illumination intensity distribution over the object field can be achieved 5 achieve.

Ein entsprechend beschnittener Ausleuchtungskanal 16 i stellt einen Korrektur-Ausleuchtungskanal dar.A correspondingly trimmed illumination channel 16 i represents a correction illumination channel.

Die Korrektur-Verlagerungen des Beleuchtungslicht-Teilbündels 16 i in positiver oder negativer x-Richtung können mit den Korrekturverlagerungen in negativer oder positiver y-Richtung kombiniert werden. Dies kann durch gleichzeitige Verkippung der Korrektur-Feldfacette 25, die der betrachteten Korrektur-Pupillenfacette 29 zugeordnet ist, um die y- und um die x-Achse um einen entsprechenden Korrektur-Kippwinkel erfolgen. Die entstehenden Korrektur-Feldverläufe der Kanalintensität IK ergeben sich als Überlagerungen beispielsweise der Korrektur-Feldverläufe nach den 6 und 8, nach den 6 und 9, nach den 7 und 8 oder nach den 7 und 9. Auf diese Weise können auch komplexere Korrektur-Feldverläufe erzeugt werden.The correction shifts of the illumination light sub-beam 16 i in the positive or negative x direction can be combined with the correction displacements in the negative or positive y direction. This can be done by simultaneously tilting the correction field facet 25 , those of the considered correction pupil facet 29 is assigned to the y- and around the x-axis by a corresponding correction tilt angle. The resulting correction field profiles of the channel intensity I K arise as overlays, for example, the correction field courses after the 6 and 8th , after the 6 and 9 , after the 7 and 8th or after the 7 and 9 , In this way even more complex correction field courses can be generated.

Anhand der 10 und 11 wird nachfolgend beispielhaft eine konkrete Korrekturanwendung der vorstehend beschriebenen Beleuchtungsoptik 4 erläutert. Based on 10 and 11 Below, by way of example, a concrete correction application of the illumination optical system described above 4 explained.

10 zeigt einen zu korrigierenden Feldverlauf einer x-Telezentrie Tx. Es gilt:

Figure DE102015202411A1_0002
wobei x den Feldpunkt beschreibt, K ein Normierungsfaktor ist, und IC (x, ρx, ρy) die Intensität in der Pupille des c-ten Kanals am Ort ρx, ρy am Feldpunkt x bezeichnet. 10 shows a field course to be corrected of an x-telecentricity T x . The following applies:
Figure DE102015202411A1_0002
where x is the field point, K is a normalization factor, and I c (x, ρ x , ρ y ) is the intensity in the Pupille of the c-th channel at the location ρ x , ρ y at the field point x.

Der Telezentriewert Tx steigt zwischen einem Minimalwert Tx,min bei der Feldhöhe xmin über die Feldhöhe x monoton bis zu einem Wert Tx,max bei der maximalen Feldhöhe xmax an. The telecentricity value T x increases between a minimum value T x, min at the field height x min over the field height x monotonically up to a value T x, max at the maximum field height x max .

Ein Verlauf der x-Telezentrie Tx ist in der 10 bei 33 durchgezogen dargestellt. A course of the x-telecentricity T x is in the 10 at 33 shown in solid lines.

11 zeigt eine Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4, die von Punkten des Objektfeldes 5 bei der maximalen Feldhöhe xmax gesehen wird. Dargestellt ist schematisch und nicht maßstabsgerecht ein x-Dipol-Setting. Ein linker Pol 34 dieses Dipol-Beleuchtungssettings wird gebildet durch Intensitätsbeiträge bzw. Pupillenspots 35, die durch Beaufschlagung dieser Feldhöhe xmax mit entsprechenden Pupillenfacetten 29 erzeugt wird. Die Intensitätsbeiträge 35 sind relativ schwach, was in der 11 durch kleine Radien dieser Intensitätsbeiträge 35 veranschaulicht ist. 11 shows an illumination pupil of the illumination optics 4 that are from points of the object field 5 is seen at the maximum field height x max . Shown schematically and not to scale is an x-dipole setting. A left pole 34 This dipole illumination setting is formed by intensity contributions or pupil spots 35 , by applying this field height x max with corresponding pupil facets 29 is produced. The intensity contributions 35 are relatively weak, which is in the 11 through small radii of these intensity contributions 35 is illustrated.

Ein rechter Pol 36 des Dipol-Beleuchtungssettings nach 11 beinhaltet Intensitätsbeiträge bzw. Pupillenspots 37, ausgehend von entsprechenden Pupillenfacetten 29 des Pupillenfacettenspiegels 20. Die Intensitätsbeiträge 37 sind stärker als die Intensitätsbeiträge 35, was in der 11 durch entsprechend größere Radien der Intensitätsbeiträge 37 verdeutlicht ist. Aufgrund der stärkeren Intensitätsbeiträge 37 ist die integrierte Beleuchtungsintensität über den Pol 36 größer als die integrierte Beleuchtungsintensität über den Pol 34, was am Ort xmax zum positiven x-Telezentriewert Tx,max führt. A right pole 36 of the dipole lighting bezel 11 includes intensity contributions or pupil spots 37 , starting from corresponding pupil facets 29 of the pupil facet mirror 20 , The intensity contributions 37 are stronger than the intensity contributions 35 what in the 11 by correspondingly larger radii of the intensity contributions 37 is clarified. Due to the stronger intensity contributions 37 is the integrated illumination intensity across the pole 36 greater than the integrated illumination intensity across the pole 34 , which at location x max leads to the positive x telecentricity value T x, max .

Es können nun die in der 11 über eine gestrichelte Berandung hervorgehobenen Intensitätsbeiträge 37 durch Auswahl der zugehörigen Pupillenfacetten 29 als Korrektur-Pupillenfacetten korrigiert, also hinsichtlich ihrer Intensitäten reduziert werden. Bei diesen zugehörigen Pupillenfacetten 29 erfolgt dann eine Verlagerung der Beleuchtungslicht-Teilbündel 16 i in positiver x-Richtung, so dass eine Feldkorrektur entsprechend der 7 resultiert. Eine integrale Intensität über den Beleuchtungspol 36 und somit der Wert Tx,max können somit reduziert werden.It can now be in the 11 Intensity contributions highlighted by a dashed border 37 by selecting the corresponding pupil facets 29 corrected as a correction pupil facets, so be reduced in terms of their intensities. In these associated pupil facets 29 then takes place a shift of the illumination light sub-beams 16 i in the positive x-direction, so that a field correction according to the 7 results. An integral intensity across the illumination pole 36 and thus the value T x, max can thus be reduced.

11 zeigt diese, scanintegrierte Beleuchtungspupille an der Feldkoordinate x, aufgetragen über Pupillenkoordinaten σx, σy. 11 shows this, scan-integrated illumination pupil at the field coordinate x, plotted on pupil coordinates σx, σy.

Bei der Projektionsbelichtung mithilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird zunächst ein vorgegebenes Beleuchtungssetting eingestellt und hinsichtlich seiner Beleuchtungsparameter vermessen. Anschließend erfolgt eine Auswahl von Korrektur-Pupillenfacetten und über die gesteuerte Vorgabe entsprechender Korrektur-Kippwinkel der zugeordneten Korrektur-Feldfacetten erfolgt eine Korrektur von Vorgabewerten nicht eingehaltener Beleuchtungsparameter, bis diese innerhalb vorgegebener Toleranzgrenzen um vorgegebene Sollwerte der Beleuchtungsparameter liegen. In the projection exposure using the projection exposure machine 1 First, a predetermined lighting setting is set and measured with regard to its lighting parameters. Subsequently, a selection of correction pupil facets takes place and, via the controlled specification of corresponding correction tilt angles of the assigned correction field facets, a correction of default values of not observed illumination parameters takes place until they lie within predefined tolerance limits around predefined desired values of the illumination parameters.

Bei der Projektionsbelichtung mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird zunächst mit Hilfe des vorstehend erläuternden Einstellungsverfahrens eine Beleuchtungsgeometrie eingestellt. Dann wird wenigstens ein Teil des Retikels 7 im Objektfeld 5 auf einen Bereich der lichtempfindlichen Schicht auf den Wafer 13 im Bildfeld 11 zur lithografischen Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils, insbesondere eines Halbleiterbauteils, beispielsweise eines Mikrochips, abgebildet. Hierbei werden das Retikel 7 und der Wafer 13 zeitlich synchronisiert in der y-Richtung kontinuierlich im Scannerbetrieb verfahren.In the projection exposure using the projection exposure system 1 First, an illumination geometry is set with the aid of the above-explained adjustment method. Then at least part of the reticle becomes 7 in the object field 5 on a portion of the photosensitive layer on the wafer 13 in the image field 11 for the lithographic production of a microstructured or nanostructured component, in particular a semiconductor component, for example a microchip. This will be the reticle 7 and the wafer 13 synchronized in time in the y-direction continuously in scanner operation.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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  • US 6859515 B2 [0035] US Pat. No. 685,951 B2 [0035]
  • EP 1225481 A [0035] EP 1225481A [0035]

Claims (12)

Beleuchtungsoptik (4) für die EUV-Projektionslithografie für die Beleuchtung eines Objektfeldes (5), in dem ein abzubildendes Objekt (7) anordenbar ist, – mit einem Feldfacettenspiegel (19) mit einer Mehrzahl von Feldfacetten (25), angeordnet im Bereich einer Feldebene der Beleuchtungsoptik (4), – mit einem Pupillenfacettenspiegel (20) mit einer Mehrzahl von Pupillenfacetten (29), angeordnet im Bereich einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik (4), – wobei jede der Feldfacetten (25) zur Überführung von Nutz-Beleuchtungslicht (16) von einer Lichtquelle (2) hin zu jeweils einer der Pupillenfacetten (29) dient, – wobei über jeweils einen Ausleuchtungskanal ein jeweiliges Nutz-Beleuchtungslicht-Teilbündel (16 i) zwischen der Lichtquelle (2) und dem Objektfeld (5) über genau eine Feldfacette (25) und genau eine Pupillenfacette (29) geführt ist, – wobei eine im jeweiligen Ausleuchtungskanal (16 i) der Feldfacette (25) nachgeordnete Übertragungsoptik (21) zur überlagernden Abbildung der Feldfacetten (25) in das Objektfeld (5) ausgebildet ist, – wobei die Übertragungsoptik (21) für jeden Ausleuchtungskanal (16 i) jeweils eine der Pupillenfacetten (29) zur Überführung des Beleuchtungslicht-Teilbündels (16 i) von der Feldfacette (25) hin zum Objektfeld (5) aufweist, – wobei zumindest einige Pupillenfacetten (29), die als Korrektur-Pupillenfacetten einsetzbar sind, so im Strahlengang des sie beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündels (16 i) angeordnet sind, dass ein Bild (2') der Lichtquelle (2) an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals (16 i) beabstandet zur Pupillenfacette (29) liegt, – mit einer Korrektur-Steuerungseinrichtung (32) zur gesteuerten Verlagerung zumindest einiger der Feldfacetten (25), die über jeweilige Ausleuchtungskanäle (16 i) den Korrektur-Pupillenfacetten (29) zugeordnet sind und als Korrektur-Feldfacetten einsetzbar sind, über mit den Korrektur-Feldfacetten (25) verbundene Korrektur-Aktoren (31), – wobei die Korrektur-Steuerungseinrichtung (32) und die Korrektur-Aktoren (31) so ausgeführt sind, dass ein Korrektur-Verlagerungsweg der Korrektur-Feldfacetten (25) in einem Korrektur-Verlagerungsbereich so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal (16 i) von einem Rand der Korrektur-Pupillenfacette (29) so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel (16 i) nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) in das Objektfeld (5) überführt wird.Illumination optics ( 4 ) for the EUV projection lithography for the illumination of an object field ( 5 ), in which an object to be imaged ( 7 ), - with a field facet mirror ( 19 ) with a plurality of field facets ( 25 ) arranged in the region of a field plane of the illumination optics ( 4 ), - with a pupil facet mirror ( 20 ) having a plurality of pupil facets ( 29 ), arranged in the region of a pupil plane of the illumination optics ( 4 ), Wherein each of the field facets ( 25 ) for the transfer of useful illumination light ( 16 ) from a light source ( 2 ) to each one of the pupil facets ( 29 ), wherein a respective useful illumination light partial bundle (in each case via one illumination channel 16 i ) between the light source ( 2 ) and the object field ( 5 ) over exactly one field facet ( 25 ) and exactly one pupil facet ( 29 ), - one in the respective illumination channel ( 16 i ) the field facet ( 25 ) downstream transmission optics ( 21 ) for superimposing the field facets ( 25 ) in the object field ( 5 ), the transmission optics ( 21 ) for each illumination channel ( 16 i ) in each case one of the pupil facets ( 29 ) for transferring the illumination light partial bundle ( 16 i ) of the field facet ( 25 ) to the object field ( 5 ), wherein at least some pupil facets ( 29 ), which can be used as correction pupil facets, in the beam path of the illumination light sub-beam (FIG. 16 i ) arranged that a picture ( 2 ' ) of the light source ( 2 ) arises at a picture location along the illumination channel ( 16 i ) spaced from the pupil facet ( 29 ), - with a correction control device ( 32 ) for controlled displacement of at least some of the field facets ( 25 ), via respective illumination channels ( 16 i ) the correction pupil facets ( 29 ) and can be used as correction field facets, with the correction field facets ( 25 ) associated correction actuators ( 31 ), - wherein the correction control device ( 32 ) and the correction actuators ( 31 ) are carried out such that a correction displacement path of the correction field facets ( 25 ) is so large in a correction displacement area that a respective correction illumination channel ( 16 i ) from an edge of the correction pupil facet ( 29 ) is trimmed so that the illumination light sub-beam ( 16 i ) not completely from the correction pupil facet ( 29 ) in the object field ( 5 ) is transferred. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Korrektur-Aktoren (31) zur kontinuierlichen Verlagerungder Korrektur-Feldfacetten (25) ausgebildet sind.Illumination optics according to claim 1, characterized in that the correction actuators ( 31 ) for continuously shifting the correction field facets ( 25 ) are formed. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Korrektur-Aktoren (31) zur Verlagerungder Korrektur-Feldfacetten (25) um zwei zueinander senkrecht stehende Achsen (x, y) ausgebildet sind.Illumination optics according to claim 1 or 2, characterized in that the correction actuators ( 31 ) for shifting the correction field facets ( 25 ) are formed around two mutually perpendicular axes (x, y). Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Objekt (7) längs einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist, wobei eine Anordnungsgeometrie einer Führung des Beleuchtungslichts (16) über die Ausleuchtungskanäle (16 i) derart ist, dass ein Querschnitt des jeweiligen Ausleuchtungskanals (16 i) auf den Korrektur-Pupillenfacetten (29) eine Randkontur derart hat, dass über eine Größe des Korrektur-Verlagerungswegs ein randseitiges Beschneiden des Querschnitts in einer Richtung (+/–x) senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung (y) vorgegeben werden kann.Illumination optics according to one of claims 1 to 3, characterized in that the object ( 7 ) along an object displacement direction (y) is displaceable, wherein an arrangement geometry of a guide of the illumination light ( 16 ) via the illumination channels ( 16 i ) is such that a cross section of the respective illumination channel ( 16 i ) on the correction pupil facets ( 29 ) has an edge contour such that over a size of the correction displacement path, a marginal cutting of the cross section in a direction (+/- x) perpendicular to the object displacement direction (y) can be specified. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Objekt (5) längs einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist, wobei eine Anordnungsgeomtrie einer Führung des Beleuchtungslichts (16) über die Ausleuchtungskanäle (16 i) derart ist, dass ein Querschnitt des jeweiligen Ausleuchtungskanals (16 i) auf den Korrektur-Pupillenfacetten (29) eine Randkontur derart hat, dass über eine Größe des Korrektur-Verlagerungswegs ein randseitiges Beschneiden des Querschnitts in einer Richtung (+/–y) parallel zur Objektverlagerungsrichtung (y) vorgegeben werden kann.Illumination optics according to one of claims 1 to 4, characterized in that the object ( 5 ) along an object displacement direction (y) is displaceable, wherein a Geordnungsgeomtrie a guide of the illumination light ( 16 ) via the illumination channels ( 16 i ) is such that a cross section of the respective illumination channel ( 16 i) (to the correction-pupil facet 29 ) has an edge contour such that over a size of the correction displacement path edge-side trimming of the cross-section in one direction (+/- y) parallel to the object displacement direction (y) can be specified. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass über eine Richtung (+/–y) des Korrektur-Verlagerungswegs vorgegeben werden kann, ob ein Beschneiden des Querschnitts des Ausleuchtungskanals (16 i), gesehen in einer Dimension (x) senkrecht zu einem beschnittenen Rand zentral (x0) oder randseitig (xmin, xmax) erfolgt.Illumination optics according to one of Claims 1 to 5, characterized in that it is possible to specify via a direction (+/- y) of the correction displacement path whether a trimming of the cross section of the illumination channel ( 16 i ), seen in a dimension (x) perpendicular to a trimmed edge centrally (x 0 ) or edge (x min , x max ) takes place. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch bogenförmige Feldfacetten (25).Illumination optics according to one of Claims 1 to 6, characterized by arcuate field facets ( 25 ). Beleuchtungssystem (3) mit einer Beleuchtungsoptik (4) nach einem Ansprüche 1 bis 7 und mit einer Lichtquelle (2) zur Erzeugung des Beleuchtungslichts (16). Lighting system ( 3 ) with an illumination optics ( 4 ) according to claims 1 to 7 and with a light source ( 2 ) for generating the illumination light ( 16 ). Optisches System mit einer Beleuchtungsoptik (4) nach einem der Ansprüche 1 bis 7 und mit einer Projektionsoptik (10) zur Abbildung des Objektfeldes (5) in ein Bildfeld (11).Optical system with illumination optics ( 4 ) according to one of claims 1 to 7 and with a projection optics ( 10 ) for mapping the object field ( 5 ) in an image field ( 11 ). Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einem optischen System nach Anspruch 9 und einer Lichtquelle (2) zur Erzeugung des Beleuchtungslichts (16), – mit einem Objekthalter (8) mit einem Objektverlagerungsantrieb (9) zur Verlagerung des Objekts (7) längs einer Objektverlagerungsrichtung (y), – mit einem Waferhalter (14) mit einem Waferverlagerungsantrieb (15) zur mit dem Objektverlagerungsantrieb (9) synchronisierten Verlagerung eines Wafers (13).Projection exposure apparatus ( 1 ) with an optical system according to claim 9 and a light source ( 2 ) for generating the illumination light ( 16 ) - with an object holder ( 8th ) with an object displacement drive ( 9 ) for relocating the object ( 7 ) along an object displacement direction (y), - with a wafer holder ( 14 ) with a wafer displacement drive ( 15 ) with the object displacement drive ( 9 ) synchronized displacement of a wafer ( 13 ). Verfahren zur Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils mit folgenden Schritten: – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 10, – Einstellen eines Ist-Beleuchtungsssettings einer Beleuchtungswinkelverteilung über das Objektfeld (5) in Übereinstimmung innerhalb vorgegebener Toleranzgrenzen mit einem Soll-Beleuchtungssetting durch Vorgabe entsprechender Korrektur-Verlagerungswege für ausgewählte Korrektur-Feldfacetten (25) über die Korrektur-Steuerungseinrichtung (32), – Bereitstellen eines Wafers (13), – Bereitstellen einer Lithografiemaske (7), – Projizieren wenigstens eines Teils der Lithografiemaske (7) auf einen Bereich einer lichtempfindlichen Schicht des Wafers (13) mit Hilfe der Projektionsoptik (10) der Projektionsbelichtungsanlage (1). Method for producing a microstructured or nanostructured component comprising the following steps: - providing a projection exposure apparatus ( 1 ) according to claim 10, - setting an actual illumination setting of an illumination angle distribution over the object field ( 5 ) in accordance with predetermined tolerance limits with a target illumination setting by specifying appropriate correction displacement paths for selected correction field facets ( 25 ) via the correction control device ( 32 ), - providing a wafer ( 13 ), - providing a lithography mask ( 7 ), - projecting at least a part of the lithographic mask ( 7 ) to a portion of a photosensitive layer of the wafer ( 13 ) with the aid of the projection optics ( 10 ) of the projection exposure apparatus ( 1 ). Bauteil, hergestellt durch ein Verfahren nach Anspruch 11. Component produced by a method according to claim 11.
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