DE112009003493T5 - Primer layers conferring improved overcoat functionality - Google Patents

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Songwei Lu
Caroline Harris
James McCamy
Ilya Koltover
Mehran Arbab
Cheri M. Boykin
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Abstract

Ein beschichteter Gegenstand enthält ein Substrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung enthält ein Oxidgemisch, das Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr enthält. Eine funktionelle Beschichtung ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet. Die funktionelle Beschichtung ist ausgewählt aus einer elektrisch leitenden Beschichtung und einer photoaktiven Beschichtung. In einer Ausführungsform enthält die funktionelle Beschichtung fluordotiertes Zinnoxid. In einer anderen Ausführungsform enthält die funktionelle Beschichtung Titandioxid.A coated article includes a substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating contains an oxide mixture that contains oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr. A functional coating is formed over at least a portion of the first coating. The functional coating is selected from an electrically conductive coating and a photoactive coating. In one embodiment, the functional coating contains fluorine-doped tin oxide. In another embodiment, the functional coating contains titanium dioxide.

Description

QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNGENCROSS-REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS

Diese Anmeldung beansprucht Priorität gegenüber den US-Anmeldungen Seriennr. 12/273,617; 12/273,623 und 12/273,641, die alle am 19. November 2008 eingereicht wurden, und auf alle drei Anmeldungen wirden hiermit in vollem Umfang ausdrücklich Bezug genommen.This application claims priority over U.S. Serial No.s. 12 / 273.617; 12 / 273,623 and 12 / 273,641, all filed on Nov. 19, 2008, and all three applications are hereby incorporated by reference in their entirety.

ALLGEMEINER STAND DER TECHNIKGENERAL PRIOR ART

1. Gebiet der Erfindung1. Field of the invention

Diese Erfindung betrifft im Allgemeinen beschichtete Gegenstände und insbesondere mehrschichtig beschichtete Gegenstände mit einer funktioneller Deckschicht und zumindest einer Grundierungsschicht.This invention relates generally to coated articles, and more particularly to multi-layer coated articles having a functional overcoat and at least one undercoat layer.

2. Technische Überlegungen2. Technical considerations

Gegenstände mit mehrschichtigen Überzügen werden in zahlreichen Anwendungen verwendet. Ein Beispiel ist im Bereich von Dünnfilmsolarzellen. Eine typische Solarzelle umfasst ein Substrat, wie eine Glasplatte, mit einem transparenten leitenden Film (erste Elektrode). Ein Halbleiterfilm mit einem photoelektrischen Umwandlungsmaterial wird auf dem transparenten leitenden Film abgeschieden. Die Zelle enthält ein weiteres Substrat mit einem transparenten leitenden Film (zweite Elektrode). Zwischen den zwei Elektroden könnte ein Elektrolyt eingeschlossen sein. Wenn das photoelektrische Umwandlungsmaterial, das auf dem Halbleiterfilm absorbiert ist, bestrahlt wird, bewegen sich Elektronen, die durch die Bestrahlung erzeugt werden, durch den Halbleiterfilm und in einen der transparenten leitenden Filme. Zum Beispiel können sich die Elektronen durch die erste Elektrode, durch eine elektrische Leitung und zu der anderen Elektrode bewegen. Für Solarzellen ist es für eine photoelektrische Umwandlungseffzienz wichtig, dass sich die Elektronen so rasch wie möglich durch den ersten leitenden Film zu der anderen Elektrode bewegen. Das heißt, es ist wünschenswert, wenn der Oberflächenwiderstand des transparenten leitenden Films gering ist. Wenn sich die Elektronen nicht rasch bewegen, kann eine Wiedervereinigung der Elektronen mit dem photoelektrischen Umwandlungsmaterial (für gewöhnlich als ”Umkehrstrom” oder ”Gegenstrom” bezeichnet) eintreten. Es ist auch wünschenswert, wenn der leitende Film hoch transparent ist, so dass die maximale Menge der Solarstrahlung zu dem photoelektrischen Umwandlungsmaterial gehen kann. Daher wäre es wünschenswert, einen beschichteten Gegenstand für eine Solarzelle vorzusehen, der den Elektronenfluss durch einen transparenten leitenden Film verstärkt. Das heißt, ein transparenter leitender Film mit geringem Oberflächenwiderstand.Multilayer coated articles are used in numerous applications. An example is in the field of thin-film solar cells. A typical solar cell includes a substrate such as a glass plate with a transparent conductive film (first electrode). A semiconductor film having a photoelectric conversion material is deposited on the transparent conductive film. The cell contains another substrate with a transparent conductive film (second electrode). An electrolyte could be trapped between the two electrodes. When the photoelectric conversion material absorbed on the semiconductor film is irradiated, electrons generated by the irradiation move through the semiconductor film and into one of the transparent conductive films. For example, the electrons may move through the first electrode, through an electrical lead, and to the other electrode. For solar cells, it is important for photoelectric conversion efficiency that the electrons move as quickly as possible through the first conductive film to the other electrode. That is, it is desirable if the surface resistance of the transparent conductive film is low. If the electrons do not move rapidly, reunification of the electrons with the photoelectric conversion material (commonly referred to as "reverse current" or "countercurrent") may occur. It is also desirable if the conductive film is highly transparent so that the maximum amount of solar radiation can go to the photoelectric conversion material. Therefore, it would be desirable to provide a coated article for a solar cell that enhances electron flow through a transparent conductive film. That is, a transparent conductive film with low surface resistance.

Ein anderes Beispiel für ein Gebiet, in dem beschichtete Gegenstände verwendet werden, ist das Gebiet photokatalytischer Gegenstände. Es ist bekannt, eine photokatalytische Beschichtung, wie Titandioxid, auf ein Substrat aufzutragen, um einen beschichteten Gegenstand mit selbstreinigenden Eigenschaften zu erhalten. Wenn dieser einer bestimmten elektromagnetischen Strahlung, wie Ultraviolettstrahlung, ausgesetzt wird, interagiert die photokatalytische Beschichtung mit organischen Kontaminanten auf der Beschichtungsoberfläche, um die organischen Kontaminanten abzubauen oder zu zersetzen. Herkömmliche photokatalytische Gegenstände jedoch haben einen relativ hohen Reflexionsgrad für sichtbares Licht und können daher für die Verwendung in einigen architektonischen Anwendungen ungeeignet sein. Zusätzlich können herkömmliche photokatalytische Beschichtungen einem Abbau durch eine so genannte ”Natriumionenvergiftung” ausgesetzt sein, die durch Natriumionen verursacht wird, die von dem darunter liegenden Glassubstrat in die photokatalytische Beschichtung diffundieren. Ferner neigen herkömmliche photokatalytische Beschichtungen dazu, schillernde Effekte aufzuweisen, die das ästhetische Erscheinungsbild des beschichteten Gegenstandes beeinträchtigen.Another example of an area where coated articles are used is the field of photocatalytic articles. It is known to apply a photocatalytic coating, such as titanium dioxide, to a substrate to obtain a coated article having self-cleaning properties. When exposed to certain electromagnetic radiation, such as ultraviolet radiation, the photocatalytic coating interacts with organic contaminants on the coating surface to degrade or decompose the organic contaminants. However, conventional photocatalytic articles have a relatively high visible light reflectance and therefore may be unsuitable for use in some architectural applications. Additionally, conventional photocatalytic coatings may be subject to degradation by so-called "sodium ion poisoning" caused by sodium ions diffusing from the underlying glass substrate into the photocatalytic coating. Further, conventional photocatalytic coatings tend to have dazzling effects that degrade the aesthetic appearance of the coated article.

Daher wäre es wünschenswert, einen beschichteten Gegenstand mit einer Grundierungsschicht vorzusehen, die zwischen einem Substrat und einer funktionellen Deckschicht positioniert ist (wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, eine leitende photovoltaische, transparente leitende Beschichtung oder eine photokatalytische Beschichtung), die nicht nur als Sperre für eine Natriumionendiffusion dient, sondern auch die Leistung des beschichteten Gegenstandes verbessert. Zum Beispiel könnte die Leistung durch Senkung des Reflexionsgrades des beschichteten Gegenstandes und/oder Vorsehen einer Farbunterdrückung bei dem Gegenstand und/oder Erhöhen der Funktionalität der Deckschicht erhöht werden. Zum Beispiel könnte in photovoltaischen Anwendungen die Grundierungsschicht den Oberflächenwiderstand der Deckschicht (z. B. einer transparenten leitenden Schicht) senken, um den Elektronenfluss zu erhöhen. In photokatalytischen Anwendungen könnte die Grundierungsschicht die photokatalytische Aktivität der photokatalytischen Beschichtung erhöhen.Therefore, it would be desirable to provide a coated article having a primer layer positioned between a substrate and a functional overcoat (such as, but not limited to, a conductive photovoltaic, transparent conductive coating or a photocatalytic coating) other than just Block for a sodium ion diffusion, but also improves the performance of the coated article. For example, performance could be increased by lowering the reflectance of the coated article and / or providing color suppression on the article and / or increasing the functionality of the cover layer. For example, in photovoltaic applications, the primer layer might lower the surface resistance of the capping layer (eg, a transparent conductive layer) to increase the flow of electrons. In photocatalytic applications, the primer layer could increase the photocatalytic activity of the photocatalytic coating.

KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNG BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION

Ein beschichteter Gegenstand enthält ein Substrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung umfasst Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr. Eine funktionelle Beschichtung ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti und Si. In einer anderen nicht einschränkenden Ausführungsform, umfasst die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti, Si und P. In einer weiteren nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti, Si und Al. Andere Ausführungsformen können jede Kombination von zwei oder mehr dieser Materialien enthalten. Beispiele für funktionelle Beschichtungen enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, photoaktive Beschichtungen (wie photokatalytische Beschichtungen und/oder photohydrophile Beschichtungen), und elektrisch leitende Beschichtungen. Die funktionelle Beschichtung kann über einer ersten Beschichtung mit einer beliebigen Kombination der oben stehenden Komponenten aufgetragen werden.A coated article includes a substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating comprises oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr. A functional coating is formed over at least a portion of the first coating. In a non-limiting embodiment, the first coating comprises at least oxides of Ti and Si. In another non-limiting embodiment, the first coating comprises at least oxides of Ti, Si and P. In a further non-limiting embodiment, the first coating comprises at least oxides of Ti, Si and Al. Other embodiments may include any combination of two or more of these materials. Examples of functional coatings include, but are not limited to, photoactive coatings (such as photocatalytic coatings and / or photo-hydrophilic coatings), and electrically conductive coatings. The functional coating may be applied over a first coating with any combination of the above components.

Ein weiterer beschichteter Gegenstand umfasst ein Glassubstrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung umfasst Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr. Eine funktionelle Beschichtung ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet. Die funktionelle Beschichtung ist ausgewählt aus Titandioxid und fluordotiertem Zinnoxid.Another coated article includes a glass substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating comprises oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr. A functional coating is formed over at least a portion of the first coating. The functional coating is selected from titanium dioxide and fluorine-doped tin oxide.

Ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Gegenstandes umfasst das Vorsehen eines Glassubstrats; Bilden einer ersten Beschichtung über zumindest einem Teil des Glassubstrats durch CVD, indem eine erste Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die erste Beschichtungszusammensetzung einen Siliciumdioxidvorläufer, einen Titandioxidvorläufer und einen Siliciumdioxidbeschleuniger umfasst, der zumindest ein Beschleunigermaterial mit zumindest einem von P, Al und Zr umfasst; und Bilden einer funktionellen Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung durch CVD, indem eine zweite Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die zweite Beschichtungszusammensetzung eine fluordotierte Zinnoxid-Vorläuferzusammensetzung oder eine Titandioxid-Vorläuferzusammensetzung umfasst.A method for producing a coated article includes providing a glass substrate; Forming a first coating over at least a portion of the glass substrate by CVD by directing a first coating composition onto the glass substrate, the first coating composition comprising a silica precursor, a titania precursor and a silica accelerator comprising at least one accelerator material having at least one of P, Al and Zr includes; and forming a functional coating over at least a portion of the first coating by CVD by directing a second coating composition onto the glass substrate, wherein the second coating composition comprises a fluorine-doped tin oxide precursor composition or a titania precursor composition.

Ein weiterer beschichteter Gegenstand umfasst ein Substrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung umfasst ein Gemisch aus Oxiden, umfassend Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr. Eine leitende Beschichtung ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet. Die leitende Beschichtung umfasst Oxide von einem oder mehr von Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si oder In oder eine Legierung aus zwei oder mehr dieser Materialien.Another coated article comprises a substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating comprises a mixture of oxides comprising oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr. A conductive coating is formed over at least a portion of the first coating. The conductive coating includes oxides of one or more of Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si or In, or an alloy of two or more of these materials.

Ein Verfahren zur Senkung des Oberflächenwiderstandes einer leitenden Beschichtung umfasst das Vorsehen eines Substrats; Bilden einer ersten Beschichtung über zumindest einem Teil des Substrats, wobei die erste Beschichtung Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr umfasst; und Bilden einer leitenden Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung.A method of lowering the surface resistivity of a conductive coating comprises providing a substrate; Forming a first coating over at least a portion of the substrate, the first coating comprising oxides of at least two of P, Si, Ti, Al, and Zr; and forming a conductive coating over at least a portion of the first coating.

Ein Verfahren zur Erhöhung der Trübung und/oder Erhöhung der Durchlässigkeit für sichtbares Licht eines beschichteten Gegenstandes umfasst das Vorsehen eines Substrats; Bilden einer ersten Beschichtung über zumindest einem Teil des Substrats, wobei die erste Beschichtung Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr umfasst; und Bilden einer funktionellen Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung.One method of increasing haze and / or increasing the visible light transmission of a coated article involves providing a substrate; Forming a first coating over at least a portion of the substrate, the first coating comprising oxides of at least two of P, Si, Ti, Al, and Zr; and forming a functional coating over at least a portion of the first coating.

Ein weiterer beschichteter Gegenstand umfasst ein Substrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung umfasst ein Gemisch aus Oxiden, umfassend Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr. Eine photoaktive Beschichtung wird über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet.Another coated article comprises a substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating comprises a mixture of oxides comprising oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr. A photoactive coating is formed over at least a portion of the first coating.

Ein photoaktiver Gegenstand umfasst ein Glassubstrat und eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist. Die erste Beschichtung umfasst ein Gemisch aus Siliciumdioxid, Titandioxid und Aluminiumoxid. Eine photoaktive funktionelle Beschichtung, die Titandioxid umfasst, ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet.A photoactive article comprises a glass substrate and a first coating formed over at least a portion of the substrate. The first coating comprises a mixture of silica, titania and alumina. A photoactive functional coating comprising titanium dioxide is formed over at least a portion of the first coating.

Ein Verfahren zur Erhöhung der photokatalytischen Aktivität einer photoaktiven Beschichtung umfasst das Vorsehen eines Substrats; Bilden einer ersten Beschichtung über zumindest einem Teil des Substrats, wobei die erste Beschichtung Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr umfasst; und Bilden einer photoaktiven Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung.A method for increasing the photocatalytic activity of a photoactive coating comprises providing a substrate; Forming a first coating over at least a portion of the substrate, wherein the first coating comprises oxides of at least two of P, Si, Ti, Al and Zr; and forming a photoactive coating over at least a portion of the first coating.

Ein Verfahren zur Herstellung eines photoaktiven Gegenstandes umfasst das Vorsehen eines Glassubstrats; Bilden einer ersten Beschichtung auf zumindest einem Teil des Glassubstrats durch CVD, indem eine erste Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die erste Beschichtungszusammensetzung Tetraethylorthosilicat, Titanisopropoxid und Dimethylaluminiumisopropoxid umfasst; und Bilden einer photoaktiven Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung durch CVD, indem eine zweite Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die photoaktive Beschichtung Titandioxid umfasst.A method for producing a photoactive article comprises providing a glass substrate; Forming a first coating on at least a portion of the glass substrate by CVD by directing a first coating composition onto the glass substrate, the first coating composition comprising tetraethyl orthosilicate, titanium isopropoxide, and dimethylaluminum isopropoxide; and forming a photoactive coating over at least a portion of the first coating by CVD by directing a second coating composition onto the glass substrate, the photoactive coating comprising titanium dioxide.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Die folgende Beschreibung ermöglicht in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen ein umfassendes Verständnis der Erfindung.The following description, in conjunction with the accompanying drawings, provides a thorough understanding of the invention.

1 ist eine seitliche Schnittansicht (nicht maßstabgetreu} eines beschichteten Gegenstandes, der die Merkmale der Erfindung aufweist; 1 Figure 3 is a side sectional view (not to scale) of a coated article having the features of the invention;

2 ist eine Grafik eines Oberflächenwiderstandes gegenüber [Sn] für fluordotierte Zinnoxidbeschichtungen, die direkt auf Glas oder auf einer Grundierung der Erfindung gebildet sind; 2 Figure 12 is a graph of surface resistance versus [Sn] for fluorine doped tin oxide coatings formed directly on glass or on a primer of the invention;

3 ist eine Grafik von Prozent Durchlässigkeit gegenüber Wellenlänge für fluordotierte Zinnoxidbeschichtungen, die direkt auf Glas oder auf einer Grundierung der Erfindung gebildet sind; 3 Figure 4 is a graph of percent transmission versus wavelength for fluorine doped tin oxide coatings formed directly on glass or on a primer of the invention;

4. ist eine Grafik des Reflexionsgrades gegenüber Titandioxiddicke für die beschichteten Gegenstände von Beispiel 5; und 4 , Figure 3 is a graph of reflectance versus titanium dioxide thickness for the coated articles of Example 5; and

5 ist eine Grafik einer Farbänderung für den beschichteten Gegenstand von Beispiel 6. 5 FIG. 12 is a graph of a color change for the coated article of Example 6. FIG.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS

Wie hierin verwendet, beziehen sich räumliche oder die Richtung betreffende Begriffe, wie ”links, ”rechts”, ”innen”, ”außen”, ”über”, ”unter” und dergleichen, auf die Erfindung, wie sie in den Figuren dargestellt ist. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung verschiedene alternative Orientierungen einnehmen kann und daher solche Begriffe nicht als einschränkend anzusehen sind. Ferner, wie hierin verwendet, sind alle Zahlen, die Dimensionen, physikalische Eigenschaften, Verarbeitungsparameter, Mengen an Inhaltsstoffen, Reaktionsbedingungen und dergleichen angeben, die in der Beschreibung und den Ansprüchen verwendet werden, so zu verstehen, dass sie in allen Fällen durch den Begriff ”etwa” modifiziert sind. Falls nicht anders angegeben, können daher die numerischen Werte, die in der folgenden Beschreibung und den Ansprüchen angeführt sind, abhängig von den gewünschten Eigenschaften, die durch die vorliegende Erfindung erreicht werden sollen, variieren. Zuletzt, und nicht als ein Versuch, die Anwendung der Äquivalenzlehre auf den Umfang der Ansprüche zu begrenzen, sollte jeder numerische Wert zumindest angesichts der Anzahl der angegebenen signifikanten Stellen und durch Anwendung normaler Abrundungstechniken konstruiert werden. Ferner sind alle hierin angegebenen Bereiche so zu verstehen, dass sie die Werte am Anfang und Ende des Bereichs und sämtliche Teilbereiche, die darin subsumiert sind, umfassen. Zum Beispiel soll ein angegebener Bereich von ”1 bis 10” so verstanden werden, dass er alle dazwischen liegenden Teilbereiche zwischen (und einschließlich des) dem Minimalwert(s) von 1 und (des) dem Maximalwert(s) von 10 enthält; das heißt, alle Teilbereiche, beginnend mit einem Minimalwert von 1 oder mehr und endend mit einem Maximalwert von 10 oder weniger, z. B. 1 bis 3,3, 4,7 bis 7,5, 5,5 bis 10 und dergleichen. Ferner bedeuten die Begriffe ”gebildet über”, ”abgeschieden über” oder ”vorgesehen über”, wie hierin verwendet, auf einer Oberfläche gebildet, abgeschieden oder vorgesehen, aber nicht unbedingt in direktem Kontakt mit dieser. Zum Beispiel schließt eine Beschichtungsschicht, die ”über” einem Substrat ”gebildet” ist, das Vorhandensein einer oder mehrerer anderer Beschichtungsschichten oder Filme derselben oder einer anderen Zusammensetzung nicht aus, die zwischen der gebildeten Beschichtungsschicht und dem Substrat gebildet ist bzw. sind. Wie hierin verwendet, enthalten die Begriffe ”Polymer” oder ”polymer” Oligomere, Homopolymere, Copolymere und Terpolymere, z. B. Polymere, die aus zwei oder mehr Arten von Monomeren oder Polymeren gebildet sind. Die Begriffe ”sichtbarer Bereich” oder ”sichtbares Licht” beziehen sich auf eine elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 380 nm bis 760 nm. Die Begriffe ”Infrarotbereich” oder ”Infrarotstrahlung” beziehen sich auf elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von mehr als 760 nm bis 100.000 nm. Die Begriffe ”Ultraviolettbereich” oder ”Ultraviolettstrahlung” bedeuten elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge im Bereich von 300 nm bis weniger als 380 nm. Die Begriffe ”Mikrowellenbereich” oder ”Mikrowellenstrahlung” beziehen sich auf elektromagnetische Strahlung mit einer Frequenz im Bereich von 300 Megahertz bis 300 Gigahertz. Zusätzlich sind alle Dokumente, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, erteilte Patente und Patentanmeldungen, die hier erwähnt werden, so zu betrachten, dass auf sie in vollem Umfang ”ausdrücklich Bezug genommen wird”. In der folgenden Besprechung sind die Brechungsindexwerte jene für eine Referenzwellenlänge von 550 Nanometern (nm). Der Begriff ”Film” bezieht sich auf einen Beschichtungsbereich mit einer gewünschten oder ausgewählten Zusammensetzung. Eine ”Schicht” umfasst einen oder mehrere ”Filme”. Eine ”Beschichtung” oder ein ”Beschichtungsstapel” umfasst eine oder mehrere ”Schichten”.As used herein, spatial or directional terms such as "left,""right,""inward,""outside,""above,""below," and the like, refer to the invention as illustrated in the figures , However, it should be understood that the invention is capable of various alternative orientations and, therefore, such terms are not to be considered as limiting. Further, as used herein, all numbers indicating dimensions, physical properties, processing parameters, amounts of ingredients, reaction conditions and the like used in the specification and claims are to be understood to be in all instances by the term " about "are modified. Unless otherwise indicated, therefore, the numerical values set forth in the following description and claims may vary depending on the desired properties to be achieved by the present invention. Lastly, and not as an attempt to limit the application of equivalence to the scope of the claims, any numerical value should be construed, at least in light of the number of significant digits indicated, and by the use of normal rounding techniques. Furthermore, all ranges given herein should be understood to include the values at the beginning and end of the range and all subranges subsumed therein. For example, a specified range of "1 to 10" should be understood to include all intervening portions between (and including) the minimum value (s) of 1 and (the) the maximum value (s) of 10; that is, all sub-regions starting with a minimum value of 1 or more and ending with a maximum value of 10 or less, e.g. B. 1 to 3.3, 4.7 to 7.5, 5.5 to 10 and the like. Further, the terms "formed over,""depositedover," or "provided over," as used herein mean formed on, deposited on or provided for, but not necessarily in direct contact with, a surface. For example, a coating layer "formed" over a substrate does not exclude the presence of one or more other coating layers or films of the same or different composition formed between the formed coating layer and the substrate. As used herein, the terms "polymer" or "polymer" include oligomers, homopolymers, copolymers and terpolymers, e.g. For example, polymers formed from two or more types of monomers or polymers. The terms "visible region" or "visible light" refer to electromagnetic radiation having a wavelength in the range of 380 nm to 760 nm. The terms "infrared region" or "infrared radiation" refer to electromagnetic radiation having a wavelength in the range of more as 760 nm to 100,000 nm. The terms "ultraviolet range" or "Ultraviolet radiation" means electromagnetic energy having a wavelength in the range of 300 nm to less than 380 nm. The terms "microwave range" or "microwave radiation" refer to electromagnetic radiation having a frequency in the range of 300 megahertz to 300 gigahertz. In addition, all documents, such as, but not limited to, granted patents and patent applications referred to herein are to be considered "full reference" in their entirety. In the following discussion, the refractive index values are those for a reference wavelength of 550 nanometers (nm). The term "film" refers to a coating area having a desired or selected composition. A "layer" comprises one or more "films". A "coating" or "coating stack" comprises one or more "layers".

Ein beschichteter Gegenstand 10 mit den Merkmalen der Erfindung ist in 1 dargestellt. Der Gegenstand 10 enthält ein Substrat 12 mit zumindest einer Hauptfläche. Eine erste Beschichtung (Grundierungsschicht)14 der Erfindung ist über zumindest einem Teil der Hauptfläche gebildet. Eine zweite Beschichtung (funktionelle Beschichtung) 16 ist über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung 14 gebildet. Während nun spezifische beispielhafte Ausführungsformen beschrieben werden, versteht sich, dass ein oder mehrere der Merkmal(e) der Erfindung, die in diesen Ausführungsformen enthalten sind, mit einem oder mehreren Merkmal(en) der anderen Ausführungsformen kombiniert werden können, und dass die Erfindung nicht auf die in der Folge beschriebenen, spezifischen beispielhaften Ausführungsformen beschränkt ist.A coated object 10 with the features of the invention is in 1 shown. The object 10 contains a substrate 12 with at least one main surface. A first coating (primer layer) 14 The invention is formed over at least a part of the main surface. A second coating (functional coating) 16 is over at least part of the first coating 14 educated. While specific exemplary embodiments are described, it is to be understood that one or more of the features of the invention contained in these embodiments may be combined with one or more features of the other embodiments, and that the invention is not is limited to the specific exemplary embodiments described below.

In der allgemeinen Praxis der Erfindung kann das Substrat 12 jedes gewünschte Material mit beliebigen gewünschten Eigenschaften enthalten. Zum Beispiel kann das Substrat 12 transparent, durchscheinend oder für sichtbares Licht undurchlässig sein. Unter ”transparent” wird eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht von mehr als 0% bis zu 100% verstanden. Als Alternative kann das Substrat 12 durchscheinend oder undurchlässig sein. Unter ”durchscheinend” wird verstanden, dass elektromagnetische Energie (z. B. sichtbares Licht) hindurchgehen kann, aber diese Energie so gestreut wird, dass Objekte an der Seite gegenüber dem Betrachter nicht klar erkennbar sind. Unter ”undurchlässig” wird eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht von 0% verstanden. Beispiele für geeignete Materialien enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Kunststoffsubstrate (wie Acrylpolymere, wie Polyacrylate; Polyalkylmethacrylate, wie Polymethylmethacrylate, Polyethylmethacrylate, Polypropylmethacrylate und dergleichen; Polyurethane; Polycarbonate; Polyalkylterephthalate, wie Polyethylenterephthalat (PET), Polypropylenterephthalate, Polybutylenterephthalate, und dergleichen; Polysiloxanenthaltende Polymere; oder Copolymere beliebiger Monomere zu deren Herstellung; oder beliebige Gemische davon); Metallsubstrate, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, verzinkter Stahl, rostfreier Stahl und Aluminium; keramische Substrate; wie Fliesensubstrate; Glassubstrate; oder beliebige Mischungen oder Kombinationen der oben genannten. Zum Beispiel kann das Substrat herkömmliches Kalknatron-Silikatglas, Borsilikatglas oder Bleiglas enthalten. Das Glas kann klares Glas sein. Unter ”klarem Glas” wird ein nicht getöntes oder nicht gefärbtes Glas verstanden. Als Alternative kann das Glas ein getöntes oder auf andere Weise gefärbtes Glas sein. Das Glas kann ein vergütetes oder wärmebehandeltes Glas sein. Wie hierin verwendet, bedeutet der Begriff ”wärmebehandelt” getempert oder zumindest teilweise getempert. Das Glas kann von jeder Art sein, wie herkömmliches Floatglas, und kann jede Zusammensetzung mit beliebigen optischen Eigenschaften haben, z. B. jeden Wert einer Durchlässigkeit für sichtbares Licht, Ultraviolettdurchlässigkeit, Infrarotdurchlässigkeit und/oder Gesamtdurchlässigkeit für Sonnenenergie. Unter ”Floatglas” wird Glas verstanden, das durch ein herkömmliches Floatverfahren erzeugt wird, in dem geschmolzenes Glas auf einem Metallschmelzbad abgeschieden und kontrollierbar abgekühlt wird, um ein Floatglasband zu bilden. Wenn auch für die Erfindung nicht einschränkend, sind Beispiele für Glas, die für das Substrat geeignet sind, in U.S.-Patent Nr. 4,746,347 ; 4,792,536 ; 5,030,593 ; 5,030,594 ; 5,240,886 ; 5,385,872 und 5,393,593 beschrieben. Nicht einschränkende Beispiele für Glas, das für die Ausführung der Erfindung verwendet werden kann, enthalten Solargreen®-, Solextra®-, GL-20®-, GL-35TM-, Solarbronze®-, Starphire®-, Solarphire®-, Solarphire PV®- und Solargray®- Glas, die alle im Handel von PPG Industries Inc. of Pittsburgh, Pennsylvania, erhältlich sind. Das Glas kann eine glatte Oberfläche haben oder kann als Alternative eine raue oder texturierte Oberfläche haben. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform kann die Glasoberfläche eine Oberflächenrauheit (RMS) im Bereich von 100 nm bis 5 mm haben.In the general practice of the invention, the substrate 12 contain any desired material with any desired properties. For example, the substrate 12 transparent, translucent or opaque to visible light. By "transparent" is meant a transmittance of visible light of more than 0% to 100%. As an alternative, the substrate 12 translucent or impermeable. By "translucent" is meant that electromagnetic energy (eg, visible light) can pass through, but this energy is scattered so that objects on the side are not clearly visible to the viewer. By "opaque" is meant a transmission of visible light of 0%. Examples of suitable materials include, but are not limited to, plastic substrates (such as acrylic polymers such as polyacrylates, polyalkyl methacrylates such as polymethyl methacrylates, polyethyl methacrylates, polypropyl methacrylates and the like; polyurethanes; polycarbonates; polyalkyl terephthalates such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene terephthalates, polybutylene terephthalates, and the like Polysiloxane-containing polymers, or copolymers of any monomers for their preparation, or any mixtures thereof); Metal substrates such as, but not limited to, galvanized steel, stainless steel and aluminum; ceramic substrates; like tile substrates; Glass substrates; or any mixtures or combinations of the above. For example, the substrate may contain conventional soda lime silicate glass, borosilicate glass or lead glass. The glass can be clear glass. By "clear glass" is meant a non-tinted or non-tinted glass. Alternatively, the glass may be a tinted or otherwise colored glass. The glass may be a tempered or heat treated glass. As used herein, the term "heat treated" means tempered or at least partially annealed. The glass may be of any type, such as conventional float glass, and may have any composition with any optical properties, e.g. For example, any value of visible light transmittance, ultraviolet transmittance, infrared transmittance and / or solar energy transmittance. By "float glass" is meant glass produced by a conventional float process in which molten glass is deposited on a molten metal bath and controllably cooled to form a float glass ribbon. Although not limiting for the invention, examples of glass suitable for the substrate are shown in FIG U.S. Patent No. 4,746,347 ; 4,792,536 ; 5,030,593 ; 5,030,594 ; 5,240,886 ; 5,385,872 and 5,393,593 described. Non-limiting examples of glass that can be used for the practice of the invention contain Solar Green ® -, Solextra ® -, GL-20 ® -, GL-35 TM -, solar bronze ® -, Starphire ® -, Solarphire ® -, Solarphire PV ® - and Solargray® ® - glass, all of which are commercially available from PPG Industries Inc. of Pittsburgh, Pennsylvania. The glass may have a smooth surface or, alternatively, may have a rough or textured surface. In a non-limiting embodiment, the glass surface may have a surface roughness (RMS) in the range of 100 nm to 5 mm.

Das Substrat 12 kann jede gewünschten Dimensionen haben, z. B. Länge, Breite, Form oder Dicke. Zum Beispiel kann das Substrat 12 eben oder gekrümmt sein oder kann sowohl ebene wie auch gekrümmte Teile haben. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform kann das Substrat 12 eine Dicke im Bereich von 1 mm bis 10 mm, wie 1 mm bis 5 mm, wie 2 mm bis 4 mm, wie 3 mm bis 4 mm, haben.The substrate 12 can have any desired dimensions, e.g. B. length, width, shape or thickness. For example, the substrate 12 be flat or curved or may have both flat and curved parts. In a non-limiting embodiment, the substrate may be 12 a thickness in the range of 1 mm to 10 mm, such as 1 mm to 5 mm, such as 2 mm to 4 mm, such as 3 mm to 4 mm.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform kann das Substrat 12 eine hohe Durchlässigkeit für sichtbares Licht bei einer Referenzwellenlänge von 550 Nanometer (nm) haben. Unter ”hoher Durchlässigkeit für sichtbares Licht” wird eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht bei 550 nm von größer oder gleich 85%, wie größer oder gleich 87%, wie größer oder gleich 90%, wie größer oder gleich 91%, wie größer oder gleich 92%, verstanden.In a non-limiting embodiment, the substrate may be 12 have a high visible light transmittance at a reference wavelength of 550 nanometers (nm). By "high visible light transmittance", a visible light transmittance at 550 nm becomes equal to or greater than 85%, such as greater than or equal to 87%, such as greater than or equal to 90%, greater than or equal to 91%, greater than or equal to 92%.

Die erste Beschichtung (Grundierungsschicht) 14 verleiht dem beschichteten Gegenstand 10 verschiedene Leistungsvorteile, wie in der Folge ausführlich beschrieben ist. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform der Erfindung kann die erste Beschichtung 14 eine homogene Beschichtung sein. Unter ”homogener Beschichtung” wird eine Beschichtung verstanden, in der die Materialien regellos in der gesamten Beschichtung verteilt sind. Als Alternative kann die erste Beschichtung 14 mehrere Beschichtungsschichten oder -filme umfassen (wie zwei oder mehr getrennte Beschichtungsfilme). Als weitere Alternative kann die erste Beschichtung 14 eine Gradientenschicht sein. Unter ”Gradientenschicht” wird eine Schicht mit zwei oder mehr Komponenten verstanden, wobei sich die Konzentration der Komponenten kontinuierlich mit dem Abstand zu dem Substrat ändert (oder abgestuft ist).The first coating (primer layer) 14 gives the coated object 10 various performance advantages, as described in detail below. In a non-limiting embodiment of the invention, the first coating 14 be a homogeneous coating. By "homogeneous coating" is meant a coating in which the materials are distributed randomly throughout the coating. As an alternative, the first coating 14 multiple coating layers or films include (such as two or more separate coating films). As another alternative, the first coating 14 be a gradient layer. By "gradient layer" is meant a layer having two or more components, wherein the concentration of the components changes (or is stepped) continuously with the distance to the substrate.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die erste Beschichtung 14 ein Gemisch aus zwei oder mehr Oxiden, ausgewählt aus Oxiden von Silicium, Titan, Aluminium, Zirkonium und/oder Phosphor. Die Oxide können in beliebigen Anteilen vorhanden sein. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die erste Beschichtung 14 ein Gemisch aus Siliciumdioxid und Titandioxid, wobei das Siliciumdioxid im Bereich von 0,1 Gewichtsprozent (Gew.-%) bis 99,9 Gew.-% vorhanden ist und das Titandioxid im Bereich von 99,9 Gew.-% bis 0,1 Gew.-% vorhanden ist. Die erste Beschichtung 14 kann eine homogene Beschichtung sein. Als Alternative kann die erste Beschichtung 14 eine Gradientenbeschichtung sein, wobei die relativen Anteile von Siliciumdioxid und Titandioxid durch die Beschichtung variieren. Zum Beispiel kann die erste Beschichtung 14 vorwiegend Siliciumdioxid im Bereich neben der Substratoberfläche und primär Titandioxid am äußeren Bereich der ersten Beschichtung 14 sein.In a non-limiting embodiment, the first coating comprises 14 a mixture of two or more oxides selected from oxides of silicon, titanium, aluminum, zirconium and / or phosphorus. The oxides may be present in any proportions. In a non-limiting embodiment, the first coating comprises 14 a mixture of silica and titania, wherein the silica is present in the range of 0.1 weight percent (wt%) to 99.9 wt% and the titanium dioxide is in the range of 99.9 wt% to 0.1 % By weight is present. The first coating 14 may be a homogeneous coating. As an alternative, the first coating 14 a gradient coating wherein the relative proportions of silica and titania vary throughout the coating. For example, the first coating 14 predominantly silica in the region adjacent to the substrate surface and primarily titanium dioxide at the outer region of the first coating 14 be.

Wie oben besprochen, kann die erste Beschichtung 14 Gemische aus zumindest zwei Oxiden mit Elementen enthalten, die ausgewählt sind aus Silicium, Titan, Aluminium, Zirkonium und/oder Phosphor. Solche Gemische enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Titandioxid und Phosphoroxid; Siliciumdioxid und Aluminiumoxid; Titandioxid und Aluminiumoxid; Siliciumdioxid und Phosphoroxid; Titandioxid und Phosphoroxid; Siliciumdioxid und Zirkondioxid; Titandioxid und Zirkondioxid; Aluminiumoxid und Zirkondioxid; Aluminiumoxid und Phosphoroxid; Zirkondioxid und Phosphoroxid; oder jede beliebige Kombination der oben genannten Materialien. Die relativen Anteile der Oxide können in jeder gewünschten Menge vorhanden sein, wie 0,1 Gew.-% bis 99,9 Gew.-% eines Materials und 99,9 Gew.-% bis 0,1 Gew.-% des anderen Materials.As discussed above, the first coating 14 Mixtures of at least two oxides containing elements selected from silicon, titanium, aluminum, zirconium and / or phosphorus. Such mixtures include, but are not limited to, titanium dioxide and phosphorus oxide; Silica and alumina; Titanium dioxide and alumina; Silica and phosphorus oxide; Titanium dioxide and phosphorus oxide; Silica and zirconia; Titanium dioxide and zirconium dioxide; Alumina and zirconia; Alumina and phosphorus oxide; Zirconia and phosphorus oxide; or any combination of the above materials. The relative proportions of the oxides may be present in any desired amount, such as from 0.1% to 99.9% by weight of one material and from 99.9% to 0.1% by weight of the other material ,

Zusätzlich kann die erste Beschichtung 14 Gemische aus zumindest drei Oxiden enthalten, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, drei oder mehr Oxide mit Elementen, die ausgewählt sind aus Silicium, Titan, Aluminium, Zirkonium und/oder Phosphor. Beispiele enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Gemische, umfassend Siliciumdioxid, Titandioxid und Phosphoroxid; Siliciumdioxid, Titandioxid und Aluminiumoxid; und Siliciumdioxid, Titandioxid und Zirkondioxid. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die erste Beschichtung 14 ein Gemisch aus Siliciumdioxid und Titandioxid mit zumindest einem anderen Oxid, ausgewählt aus Aluminiumoxid, Zirkondioxid und Phosphoroxid. Die relativen Anteile der Oxide können in jeder gewünschten Menge vorhanden sein, wie 0,1 Gew.-% bis 99,9 Gew.-% eines Materials, 99,9 Gew.-% bis 0,1 Gew.-% eines zweiten Materials und 0,1 Gew.-% bis 99,9 Gew.-% eines dritten Materials.In addition, the first coating 14 Mixtures of at least three oxides, such as, but not limited to, three or more oxides with elements selected from silicon, titanium, aluminum, zirconium and / or phosphorus. Examples include, but are not limited to, mixtures comprising silica, titania and phosphorus oxide; Silica, titania and alumina; and silica, titania and zirconia. In a non-limiting embodiment, the first coating comprises 14 a mixture of silica and titania with at least one other oxide selected from alumina, zirconia and phosphorus oxide. The relative proportions of the oxides may be present in any desired amount, such as from 0.1% to 99.9% by weight of a material, from 99.9% to 0.1% by weight of a second material and 0.1% to 99.9% by weight of a third material.

Eine besondere erste Beschichtung 14 der Erfindung umfasst ein Gemisch aus Siliciumdioxid, Titandioxid und Phosphoroxid. Das Siliciumdioxid kann im Bereich von 30 Volumenprozent (Vol.-%) bis 80 Vol-% vorhanden sein. Das Titandioxid kann im Bereich von 5 Vol.-% bis 69 Vol.-% vorhanden sein. Das Phosphoroxid kann im Bereich von 1 Vol.-% bis 15 Vol.-% vorhanden sein.A special first coating 14 of the invention comprises a mixture of silica, titania and phosphorus oxide. The silica may be present in the range of 30% by volume (vol.%) To 80% by volume. The titanium dioxide may be present in the range of 5% to 69% by volume. The phosphorus oxide may be present in the range of 1% to 15% by volume.

Die erste Beschichtung 14 kann jede gewünschte Dicke haben, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, 10 nm bis 120 nm, wie 30 nm bis 80 nm, wie 40 nm bis 80 nm, wie 30 nm bis 70 nm.The first coating 14 may be any desired thickness, such as, but not limited to, 10 nm to 120 nm, such as 30 nm to 80 nm, such as 40 nm to 80 nm, such as 30 nm to 70 nm.

Die zweite Beschichtung (Deckschicht) 16 umfasst eine funktionelle Beschichtung. Beispiele für eine funktionelle Beschichtung, die für die Erfindung nützlich ist, enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, leitende Beschichtungen, Solarkontrollbeschichtungen, Beschichtungen mit geringem Emissionsgrad und photoaktive Beschichtungen.The second coating (cover layer) 16 includes a functional coating. Examples of a functional coating useful in the invention include, but are not limited to, conductive coatings, solar control coatings, low emissivity coatings, and photoactive coatings.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die zweite Beschichtung 16 zumindest eine elektrisch leitende Oxidschicht, wie eine dotierte Oxidschicht. Zum Beispiel kann die zweite Beschichtung 16 ein oder mehr Oxidmaterialien enthalten, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, ein oder mehrere Oxide von einem oder mehreren von Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si oder in oder eine Legierung von zwei oder mehr dieser Materialien, wie Zinkstannat. Die zweite Beschichtung 16 kann auch ein oder mehr Dotierungsmaterialien enthalten, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, F, In, Al und/oder Sb. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform ist die zweite Beschichtung 16 eine fluordotierte Zinnoxidbeschichtung, wobei das Fluor in den Beschichtungsvorläufermaterialien in einer Menge von weniger als 20 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der Vorläufermaterialien, vorhanden ist, wie weniger als 15 Gewichtsprozent, wie weniger als 13 Gew.-%, wie weniger als 10 Gew.-%, wie weniger als 5 Gew.-%. Die zweite Beschichtung 16 kann amorph, kristallin oder zumindest teilweise kristallin sein.In a non-limiting embodiment, the second coating comprises 16 at least one electrically conductive oxide layer, such as a doped oxide layer. For example, the second coating 16 contain one or more oxide materials, such as, but not limited to, one or more oxides of one or more of Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si or in or one Alloy of two or more of these materials, such as zinc stannate. The second coating 16 may also contain one or more dopants, such as, but not limited to, F, In, Al and / or Sb. In one non-limiting embodiment, the second coating is 16 a fluorine doped tin oxide coating, wherein the fluorine is present in the coating precursor materials in an amount of less than 20 weight percent, based on the total weight of the precursor materials, such as less than 15 weight percent, such as less than 13 weight percent, such as less than 10% by weight, such as less than 5% by weight. The second coating 16 may be amorphous, crystalline or at least partially crystalline.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die zweite Beschichtung 16 fluordotiertes Zinnoxid mit einer Dicke von größer als 200 nm, wie größer als 250 nm, wie größer als 350 nm, wie größer als 380 nm, wie größer als 400 nm, wie größer als 420 nm. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform ist die Dicke im Bereich von 350 nm bis 420 nm.In a non-limiting embodiment, the second coating comprises 16 fluorine-doped tin oxide having a thickness greater than 200 nm, greater than 250 nm, greater than 350 nm, greater than 380 nm, greater than 400 nm, and greater than 420 nm. In a non-limiting embodiment, the thickness is Range from 350 nm to 420 nm.

Die Grundierungsschicht 14 der Erfindung verleiht der Deckschicht 16 (z. B. fluordotiertes Zinnoxid) einen Oberflächenwiderstand von weniger als 15 Ohm pro Quadrat (Ω/☐), wie weniger als 14 Ω/☐, wie weniger als 13,5 Ω/☐, wie weniger als 13 Ω/☐, wie weniger als 12 Ω/☐, wie weniger als 11 Ω/☐, wie weniger als 10 Ω/☐.The primer layer 14 The invention gives the topcoat 16 (e.g., fluorine doped tin oxide) has a surface resistance of less than 15 ohms per square (Ω / □), such as less than 14 Ω / □, such as less than 13.5 Ω / □, such as less than 13 Ω / □, such as less than 12 Ω / □, such as less than 11 Ω / □, such as less than 10 Ω / □.

In einer anderen nicht einschränkenden Ausführungsform kann die zweite Beschichtung 16 eine photoaktive Beschichtung sein. Das Adjektiv oder Adverb ”photoaktiv” bezieht sich auf die Photogeneration eines Loch-Elektron-Paares bei Bestrahlung mit einer bestimmten Frequenz, z. B. Ultraviolett (”UV”)-Licht. Die photoaktive Beschichtung kann photokatalytisch, photoaktiv hydrophil oder beides sein. Unter ”photokatalytisch” wird eine Beschichtung mit selbstreinigenden Eigenschaften verstanden, d. h. eine Beschichtung, die, wenn sie einer bestimmten elektromagnetischen Strahlung, wie UV, ausgesetzt wird, mit organischen Kontaminanten auf der Beschichtungsoberfläche interagiert, um die organischen Kontaminanten abzubauen und zu zersetzen. Unter ”photoaktiv hydrophil” wird eine Beschichtung verstanden, für die der Kontaktwinkel eines Wassertropfens auf der Beschichtung im Laufe der Zeit infolge der elektromagnetischen Bestrahlung der Beschichtung im Photoabsorptionsband des Materials abnimmt. Zum Beispiel kann der Kontaktwinkel nach einer Strahlungsbelastung von sechzig Minuten im Photoabsorptionsband des Materials mit einer Stärke von 24 W/m2 an der Beschichtungsoberfläche auf einen Wert von weniger als 15°, wie weniger als 10°, abnehmen und superhydrophil werden, z. B. auf weniger als 5° abnehmen. Obwohl photoaktiv, muss die Beschichtung nicht unbedingt in dem Ausmaß photokatalytisch sein, dass sie selbstreinigend ist, d. h., könnte nicht ausreichend photokatalytisch sein, um organisches Material wie Schmutz auf der Beschichtungsoberfläche in einer angemessenen oder ökonomisch nützlichen Zeitperiode zu zersetzen. Zum Beispiel kann die photokatalytische Aktivität weniger als 4 × 10–3 pro Zentimeter-Minute (cm–1min–1) sein, wie weniger als 3 × 10–3 cm–1min–1, wie weniger als 2 × 10–3 cm–1min–1, wie weniger als 1 × 10–3 cm–1min–1.In another non-limiting embodiment, the second coating 16 be a photoactive coating. The adjective or adverb "photoactive" refers to the photogeneration of a hole-electron pair when irradiated at a particular frequency, e.g. B. Ultraviolet ("UV") light. The photoactive coating may be photocatalytic, photoactive hydrophilic, or both. By "photocatalytic" is meant a coating having self-cleaning properties, ie, a coating which, when exposed to a particular electromagnetic radiation, such as UV, interacts with organic contaminants on the coating surface to degrade and decompose the organic contaminants. By "photoactively hydrophilic" is meant a coating for which the contact angle of a water drop on the coating decreases over time as a result of the electromagnetic radiation of the coating in the photoabsorption band of the material. For example, after a radiation exposure of sixty minutes in the photoabsorption band of the 24 w / m 2 gauge material at the coating surface, the contact angle may decrease to less than 15 °, such as less than 10 °, and become superhydrophilic, e.g. B. decrease to less than 5 °. Although photoactive, the coating need not necessarily be photocatalytic to the extent that it is self-cleaning, ie, could not be sufficiently photocatalytic to decompose organic matter such as dirt on the coating surface in an appropriate or economically useful period of time. For example, the photocatalytic activity may be less than 4 x 10 -3 per centimeter minute (cm -1 min -1 ), such as less than 3 x 10 -3 cm -1 min -1 , such as less than 2 x 10 -3 cm -1 min -1 , such as less than 1 x 10 -3 cm -1 min -1 .

Die photoaktive Beschichtung kann zumindest ein photoaktives Beschichtungsmaterial und gegebenenfalls zumindest einen Zusatz oder ein Dotierungsmittel enthalten, das so konfiguriert ist, dass es die Photoaktivität der Beschichtung im Vergleich zu jener der Beschichtung ohne Dotierungsmittelmaterial beeinflusst. Das photoaktive Beschichtungsmaterial kann zumindest ein Oxid enthalten, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, ein oder mehr Oxide oder Oxidhalbleiter, wie Titanoxide, Siliciumoxide, Aluminiumoxide, Eisenoxide, Silberoxide, Kobaltoxide, Chromoxide, Kupferoxide, Wolframoxide, Zinkoxide, Zink/Zinnoxide, Strontiumtitanat und Gemische davon. Das Oxid kann Oxide, Superoxide oder Suboxide des Elements enthalten. Das Oxid kann kristallin oder zumindest teilweise kristallin sein. In einer beispielhaften Beschichtung der Erfindung ist das photoaktive Beschichtungsmaterial Titandioxid. Titandioxid liegt in einer amorphen Form und drei kristallinen Formen vor, d. h., in den kristallinen Anatas-, Rutil- und Brookit-Formen. Das Titandioxid der Anastas-Phase ist besonders nützlich, da es eine starke Photoaktivität aufweist, während es auch eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber einem chemischen Angriff und eine ausgezeichnete physikalische Haltbarkeit aufweist. Die Rutil-Phase oder Kombinationen der Anatas- und/oder Rutil-Phasen mit der Brookit- und/oder amorphen Phase sind jedoch auch für die vorliegende Erfindung annehmbar.The photoactive coating may include at least one photoactive coating material and optionally at least one additive or dopant configured to affect the photoactivity of the coating as compared to that of the coating without dopant material. The photoactive coating material may include at least one oxide, such as, but not limited to, one or more oxides or oxide semiconductors such as titanium oxides, silicon oxides, aluminum oxides, iron oxides, silver oxides, cobalt oxides, chromium oxides, copper oxides, tungsten oxides, zinc oxides, zinc / tin oxides. Strontium titanate and mixtures thereof. The oxide may include oxides, superoxides or suboxides of the element. The oxide may be crystalline or at least partially crystalline. In an exemplary coating of the invention, the photoactive coating material is titanium dioxide. Titanium dioxide exists in an amorphous form and three crystalline forms, i. h., in the crystalline anatase, rutile and brookite forms. The titania of the Anastas phase is particularly useful because it has strong photoactivity, while also having excellent resistance to chemical attack and physical durability. However, the rutile phase or combinations of the anatase and / or rutile phases with the brookite and / or amorphous phase are also acceptable for the present invention.

Beispiele für Dotierungsmittel für die photoaktive Beschichtung, die für die Erfindung nützlich sind, enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, ein oder mehr von Chrom (Cr), Vanadium (V), Mangan (Mn), Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Magnesium (Mg), Scandium (Sc), Yttrium (Y), Niob (Nb), Molybdän (Mo), Ruthenium (Ru), Wolfram (W), Silber (Ag), Blei (Pb), Nickel (Ni), Rhenium (Re), Zinn (Sn) und/oder beliebige Gemische oder Kombinationen davon in entweder elementarem oder ionischem Zustand.Examples of photoactive coating dopants useful in the invention include, but are not limited to, one or more of chromium (Cr), vanadium (V), manganese (Mn), copper (Cu), iron ( Fe), magnesium (Mg), scandium (Sc), yttrium (Y), niobium (Nb), molybdenum (Mo), ruthenium (Ru), tungsten (W), silver (Ag), lead (Pb), nickel ( Ni), rhenium (Re), tin (Sn) and / or any mixtures or combinations thereof in either elemental or ionic state.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform umfasst die zweite Beschichtung 16 Titandioxid mit einer Dicke größer als 10 nm, wie größer als 20 nm, wie größer als 30 nm, wie größer als 40 nm, wie größer als 50 nm, wie größer als 60 nm, wie größer als 70 nm, wie größer als 80 nm, wie größer als 90 nm, wie größer als 100 nm, wie im Bereich von 10 nm bis 150 nm.In a non-limiting embodiment, the second coating comprises 16 Titanium dioxide having a thickness greater than 10 nm, such as greater than 20 nm, greater than 30 nm, greater than 40 nm, and larger than 50 nm, such as greater than 60 nm, such as greater than 70 nm, greater than 80 nm, greater than 90 nm, and greater than 100 nm, such as in the range from 10 nm to 150 nm.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform kann die erste Beschichtung 14 der Erfindung den Gegenstand 10 mit einer zweiten Titandioxidbeschichtung 16 mit einem Reflexionsgrad im sichtbaren Bereich von weniger als 23%, wie weniger als 20%, wie weniger als 19%, wie weniger als 18%, wie weniger als 17%, wie weniger als 16%, wie weniger als 15%, wie weniger als 14%, wie weniger als 12%, wie weniger als 11%, wie weniger als 10% versehen.In a non-limiting embodiment, the first coating 14 the invention the subject 10 with a second titanium dioxide coating 16 with a reflectance in the visible range of less than 23%, such as less than 20%, such as less than 19%, less than 18%, less than 17%, less than 16%, less than 15%, and less than 14%, less than 12%, less than 11%, less than 10%.

Die erste Beschichtung 14 und/oder zweite Beschichtung 16 kann bzw. können über zumindest einem Teil des Substrats 12 durch jedes herkömmliche Verfahren gebildet werden, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Sprühpyrolyse, chemische Dampfabscheidung (CVD) oder Magnetron-Sputter-Vakuumabscheidung (MSVD). In der Sprühpyrolysemethode wird eine organische oder Metall enthaltende Vorläuferzusammensetzung mit einem oder mehreren Oxidvorläufermaterialien, z. B. Vorläufermaterialien für Titandioxid und/oder Siliciumdioxid und/oder Aluminiumoxid und/oder Phosphoroxid und/oder Zirkondioxid, in einer Suspension mitgeführt, z. B. einer wässerigen oder nicht wässerigen Lösung, und auf die Oberfläche des Substrats gerichtet, während das Substrat eine ausreichend hohe Temperatur aufweist, um eine Zersetzung der Vorläuferzusammensetzung und Bildung einer Beschichtung auf dem Substrat zu verursachen. Die Zusammensetzung kann ein oder mehrere Dotierungsmaterial(ien) enthalten. In einer CVD-Methode wird eine Vorläuferzusammensetzung in einem Trägergas, z. B. einem Stickstoffgas, mitgeführt und auf das erwärmte Substrat gerichtet. in der MSVD-Methode werden ein oder mehrere Metall enthaltende Targets unter vermindertem Druck in einer inerten oder sauerstoffhaltigen Atmosphäre gesputtert, um eine Sputterbeschichtung über dem Substrat abzuscheiden. Das Substrat kann während oder nach der Beschichtung erwärmt werden, um eine Kristallisierung der gesputterten Beschichtung zur Bildung der Beschichtung zu verursachen.The first coating 14 and / or second coating 16 may be over at least part of the substrate 12 by any conventional method such as, but not limited to, spray pyrolysis, chemical vapor deposition (CVD) or magnetron sputtering vacuum deposition (MSVD). In the spray pyrolysis method, an organic or metal-containing precursor composition having one or more oxide precursor materials, e.g. As precursor materials for titanium dioxide and / or silica and / or alumina and / or phosphorus oxide and / or zirconium dioxide, carried in suspension, z. An aqueous or nonaqueous solution, and directed onto the surface of the substrate while the substrate is at a sufficiently high temperature to cause decomposition of the precursor composition and formation of a coating on the substrate. The composition may contain one or more dopant materials. In a CVD method, a precursor composition in a carrier gas, e.g. As a nitrogen gas, carried and directed to the heated substrate. in the MSVD method, one or more metal-containing targets are sputtered under reduced pressure in an inert or oxygen-containing atmosphere to deposit a sputter coating over the substrate. The substrate may be heated during or after the coating to cause crystallization of the sputtered coating to form the coating.

In einer nicht einschränkenden Praxis der Erfindung kann ein oder können mehrere CVD-Beschichtungsapparat(e) an einer oder mehreren Position(en) in einem herkömmlichen Floatglasband-Herstellungsprozess verwendet werden. Zum Beispiel kann ein CVD-Beschichtungsapparat verwendet werden, während sich das Floatglasband durch das Zinnbad bewegt, nachdem es das Zinnbad verlassen hat, bevor es in den Kühlofen eintritt, während es sich durch den Kühlofen bewegt oder nachdem es den Kühlofen verlassen hat. Da die CVD-Methode ein sich bewegendes Floatglasband beschichten, aber dennoch der rauen Umgebung widerstehen kann, die mit der Herstellung des Floatglasbandes verbunden ist, ist die CVD-Methode besonders gut zur Abscheidung von Beschichtungen auf dem Floatglasband in dem Zinnschmelzbad geeignet. U.S.-Patent Nr. 4,853,257 ; 4,971,843 ; 5,536,718 ; 5,464,657 ; 5,714,199 und 5,599,387 beschreiben CVD-Beschichtungsapparate und Verfahren, die in der Ausführung der Erfindung zum Beschichten eines Floatglasbandes in einem Zinnschmelzbad verwendet werden können.In a non-limiting practice of the invention, one or more CVD coating apparatus (s) may be used at one or more positions in a conventional float glass ribbon manufacturing process. For example, a CVD coating apparatus may be used while the float glass ribbon is moving through the tin bath after exiting the tin bath before entering the cooling furnace as it moves through the cooling furnace or after leaving the cooling furnace. Because the CVD method is capable of coating a moving float glass ribbon but can still withstand the harsh environment associated with making the float glass ribbon, the CVD method is particularly well suited for depositing coatings on the float glass ribbon in the molten tin bath. U.S. Patent No. 4,853,257 ; 4,971,843 ; 5,536,718 ; 5,464,657 ; 5,714,199 and 5,599,387 describe CVD coating apparatuses and methods that can be used in the practice of the invention to coat a float glass ribbon in a molten tin bath.

In einer nicht einschränkenden Ausführungsform können ein oder mehrere CVD-Beschichter in dem Zinnbad über dem Zinnschmelzpool angeordnet sein. Während sich das Floatglasband durch das Zinnbad bewegt, kann die verdampfte Vorläuferzusammensetzung einem Trägergas zugegeben und auf die obere Fläche des Bandes gerichtet werden. Die Vorläuferzusammensetzung zersetzt sich zur Bildung einer Beschichtung (z. B. erste Beschichtung 14 und/oder zweite Beschichtung 16) auf dem Band. In einer nicht einschränkenden Ausführungsform wird die Beschichtungszusammensetzung auf dem Band an einer Stelle abgeschieden, an der die Temperatur des Bandes weniger als 1300°F (704°C) ist, wie weniger als 1250°F (677°C), wie weniger als 1200°F (649°C), wie weniger als 1190°F (643°C), wie weniger als 1150°F (821°C), wie weniger als 1130°F (610°C), wie im Bereich von 1190°F bis 1200°F (643°C bis 649°C). Dies ist beim Abscheiden einer zweiten Beschichtung 16 (z. B. fluordotiertes Zinnoxid) mit verringertem Oberflächenwiderstand besonders nützlich, da der erhaltene Oberflächenwiderstand umso geringer ist, je geringer die Abscheidungstemperatur ist.In one non-limiting embodiment, one or more CVD coater may be disposed in the tin bath over the tin melt pool. As the float glass ribbon moves through the tin bath, the vaporized precursor composition may be added to a carrier gas and directed onto the top surface of the belt. The precursor composition decomposes to form a coating (eg, first coating 14 and / or second coating 16 ) on the tape. In one non-limiting embodiment, the coating composition is deposited on the belt at a location where the temperature of the belt is less than 1300 ° F (704 ° C), such as less than 1250 ° F (677 ° C), such as less than 1200 ° F (649 ° C) as less than 1190 ° F (643 ° C) as less than 1150 ° F (821 ° C) as less than 1130 ° F (610 ° C) as in the range of 1190 ° F up to 1200 ° F (643 ° C to 649 ° C). This is when depositing a second coating 16 (For example, fluorine-doped tin oxide) with reduced surface resistance particularly useful, since the lower the deposition temperature is the lower the surface resistance obtained.

Zum Beispiel umfasst die Zusammensetzung zur Bildung einer ersten Beschichtung 14, die Slliciumdioxid und Titandioxid umfasst, sowohl einen Siliciumdioxidvorläufer wie auch einen Titandioxidvorläufer. Ein nicht einschränkendes Beispiel eines Siliciumdioxidvorläufers ist Tetraethylorthosilicat (TEOS).For example, the composition comprises for forming a first coating 14 which includes silica and titania, both a silica precursor and a titania precursor. A non-limiting example of a silica precursor is tetraethyl orthosilicate (TEOS).

Beispiele für Titandioxidvorläufer enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Oxide, Suboxide oder Superoxide von Titan. In einer Ausführungsform kann das Titandioxidvorläufermaterial ein oder mehrere Titanalkoxide enthalten, wie, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Titanmethoxid, Ethoxid, Propoxid, Butoxid und dergleichen; oder Isomere davon, z. B. Titanisopropoxid, Tetraethoxid und dergleichen. Beispielhafte Vorläufermaterialien, die für die Ausführung der Erfindung geeignet sind, enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Tetraisopropyltitanat (TPT). Als Alternative kann das Titandioxidvorläufermaterial Titantetrachlorid sein. Beispiele für Aluminiumoxidvorläufer enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Dimethylaluminiumisopropoxid (DMAP) und Aluminiumtri-sec-butoxid (ATSB). In einer nicht einschränkenden Ausführungsform kann das Dimethylaluminiumisopropoxid durch Mischen von Trimethylaluminium und Aluminiumisopropoxid bei einem Molverhältnis von 2:1 in einer inerten Atmosphäre bei Raumtemperatur hergestellt werden. Beispiele für Phosphoroxidvorläufer enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Triethylphosphit. Beispiele für Zirkondioxidvorläufer enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Zirkoniumalkoxide.Examples of titania precursors include, but are not limited to, oxides, suboxides or superoxides of titanium. In one embodiment, the titania precursor material may include one or more titanium alkoxides such as, but not limited to, titanium methoxide, ethoxide, propoxide, butoxide, and the like; or isomers thereof, e.g. For example, titanium isopropoxide, tetraethoxide and the like. Exemplary precursor materials useful in the practice of the invention include, but are not limited to, tetraisopropyl titanate (TPT). Alternatively, the titania precursor material may be titanium tetrachloride. Examples of alumina precursors include, but are not limited to, Dimethylaluminum isopropoxide (DMAP) and aluminum tri-sec-butoxide (ATSB). In a non-limiting embodiment, the dimethylaluminum isopropoxide may be prepared by mixing trimethylaluminum and aluminum isopropoxide at a molar ratio of 2: 1 in an inert atmosphere at room temperature. Examples of phosphorus oxide precursors include, but are not limited to, triethyl phosphite. Examples of zirconia precursors include, but are not limited to, zirconium alkoxides.

Eine erste Beschichtung 14 mit einer Kombination aus Siliciumdioxid und Titandioxid bietet Vorteile gegenüber früheren Oxidkombinationen. Zum Beispiel ermöglicht die Kombination eines Materials mit niederem Brechungsindex, wie Siliciumdioxid (Brechungsindex von 1,5 bei 550 nm) mit einem Material mit hohem Brechungsindex, wie Titandioxid (Brechungsindex von 2,4 bei 550 nm), die Variation des Brechungsindexes der ersten Beschichtung 14 zwischen diesen zwei Extremen durch Variation der Menge an Siliciumdioxid und Titandioxid. Dies ist besonders nützlich, wenn die erste Beschichtung 14 mit Farb- oder Irisierungsunterdrückungseigenschaften versehen wird.A first coating 14 with a combination of silica and titania offers advantages over previous oxide combinations. For example, the combination of a low refractive index material such as silica (refractive index of 1.5 at 550 nm) with a high refractive index material such as titanium dioxide (refractive index of 2.4 at 550 nm) enables the refractive index variation of the first coating 14 between these two extremes by varying the amount of silica and titania. This is especially useful when the first coating 14 provided with color or iris suppression properties.

Die Abscheidungsrate von Titandioxid ist für gewöhnlich viel rascher als jene von Siliciumdioxid. Unter typischen Abscheidungsbedingungen begrenzt dies die Menge an Siliciumdioxid auf nicht mehr als etwa 50 Gew.-%, wodurch wiederum der untere Bereich des Brechungsindexes der erhaltenen Siliciumdioxid/Titandioxidbeschichtung begrenzt wird. Daher kann ein Dotierungsmaterial der Siliciumdioxid- und Titandioxidvorläuferzusammensetzung zugegeben werden, um die Abscheidungsrate von Siliciumdioxid zu beschleunigen. Das Dotierungsmittel bildet Teil des erhaltenen Oxidgemisches und kann daher so gewählt werden, dass es der erhaltenen Beschichtung verbesserte Leistungseigenschaften verleiht. Beispiele für Dotierungsmittel, die für die Ausführung der Erfindung nützlich sind, enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, Materialien, die eines oder mehrere von Phosphor, Aluminiumoxid und Zirkonium enthalten, zur Bildung von Oxiden dieser Materialien in der erhaltenen Beschichtung. Beispiele für Phosphoroxidvorläufermaterialien enthalten Triethylphosphit. Beispiele für Aluminlumoxidvorläufermaterialien enthalten Aluminiumtri-sec-butoxid (ATSB) und Dimethylaluminiumisopropoxid (DMAP). Beispiele für Zirkondioxidvorläufer enthalten Zirkoniumalkoxid.The deposition rate of titania is usually much faster than that of silica. Under typical deposition conditions, this limits the amount of silica to not more than about 50% by weight, which in turn limits the lower refractive index range of the resulting silica / titania coating. Therefore, a doping material may be added to the silica and titania precursor composition to accelerate the deposition rate of silica. The dopant forms part of the resulting oxide mixture and therefore can be selected to impart improved performance to the resulting coating. Examples of dopants useful in the practice of the invention include, but are not limited to, materials containing one or more of phosphorus, alumina and zirconium to form oxides of these materials in the resulting coating. Examples of phosphorus oxide precursor materials include triethyl phosphite. Examples of alumina precursor materials include aluminum tri-sec-butoxide (ATSB) and dimethylaluminum isopropoxide (DMAP). Examples of zirconia precursors include zirconium alkoxide.

BEISPIELEEXAMPLES

Beispiel 1example 1

Dieses Beispiel zeigt die Verwendung einer Grundierungsschicht der Erfindung als eine Farbunterdrückungsschicht für eine Titandioxiddeckschicht. Die Grundierungsschicht war eine Kombination aus Siliciumdioxid, Titandioxid und Phosphoroxid.This example demonstrates the use of a primer layer of the invention as a color suppression layer for a titanium dioxide overcoat. The undercoat layer was a combination of silica, titania and phosphorus oxide.

Die Grundierungsschicht wurde auf einem Glassubstrat durch einen chemischen Dampfabscheidungsprozess mit Hilfe einer Laborrakel aufgetragen. Dann wurde eine Titandioxidbeschichtung auf der Grundierung abgeschieden. Tabelle 1 zeigt die Beschichtungskonfigurationen (Zusammensetzung und Dicke) für Proben 1–4. Die Grundierung wurde als eine Multi-Filmschicht mit drei Grundierungsfilmen abgeschieden; einem ersten Grundierungsfilm über dem Glassubstrat, einem zweiten Grundierungsfilm über dem ersten Grundierungsfilm, und einem dritten Grundierungsfilm über dem zweiten Grundierungsfilm. Die mehrschichtige Konfiguration simuliert eine abgestufte Grundierungsschicht. Tabelle 1 Probe 1 Probe 2 Probe 3 Probe 4 Dicke der ersten Grundierung [nm] 13 11 29 13 Vol.-% Phosphoroxid in der ersten Grundierung 5 10 5 5 Vol.-% Siliciumdioxid in der ersten Grundierung 75 80 70 75 Vol.-% Titandioxid in der ersten Grundierung 20 10 25 20 Dicke der zweiten Grundierung [nm] 23 33 21 27 Vol.-% Phosphoroxid in der zweiten Grundierung 2 2 2 2 Vol.-% Siliciumdioxid in der zweiten Grundierung 49 58 48 62 Vol.-% Titandioxid in der zweiten Grundierung 49 40 50 36 Dicke der dritten Grundierung [nm] 21 18 15 23 Vol.-% Phosphoroxid in der dritten Grundierung 5 11 5 5 Vol.-% Siliciumdioxid in der dritten Grundierung 75 80 70 70 Vol.-% Titandioxid in der dritten Grundierung 20 9 25 25 Dicke der oberen Titandioxidbeschichtung [nm] 115 121 113 118 The primer layer was applied to a glass substrate by a chemical vapor deposition process using a laboratory blade. Then a titania coating was deposited on the primer. Table 1 shows the coating configurations (composition and thickness) for Samples 1-4. The primer was deposited as a multi-film layer with three primer films; a first primer film over the glass substrate, a second primer film over the first primer film, and a third primer film over the second primer film. The multilayer configuration simulates a graded primer layer. Table 1 Sample 1 Sample 2 Sample 3 Sample 4 Thickness of the first primer [nm] 13 11 29 13 Vol .-% phosphorus oxide in the first primer 5 10 5 5 Vol .-% silica in the first primer 75 80 70 75 Vol .-% titanium dioxide in the first primer 20 10 25 20 Thickness of the second primer [nm] 23 33 21 27 Vol .-% phosphorus oxide in the second primer 2 2 2 2 Vol .-% silica in the second primer 49 58 48 62 Vol .-% titanium dioxide in the second primer 49 40 50 36 Thickness of the third primer [nm] 21 18 15 23 Vol .-% phosphorus oxide in the third primer 5 11 5 5 Vol .-% silica in the third primer 75 80 70 70 Vol .-% titanium dioxide in the third primer 20 9 25 25 Thickness of the upper titanium dioxide coating [nm] 115 121 113 118

Tabelle 2 zeigt die reflektierten Farbleistungsdaten für Proben 1–4 und Vergleichsproben (Titandioxid-beschichtete Glasplatten ohne Grundierungsschicht). Die Farbdaten wurden mit herkömmlicher TFCalc®-Software für die beschichtete Seite des Substrats bei 065, 10° Observer, modelliert. Tabelle 2 Probe 1 115 nm TiO2 Probe 2 121 nm TiO2 Probe 3 113 nm TiO2 Probe 4 118 nm TiO2 a* –6,6 17,17 –4,1 –3,5 –6,6 21,3 –4,2 10,4 b* –9,2 –41,4 –12,5 –38,7 –7,7 –40,9 –12,8 –40,7 L* 50,8 42,4 50,8 46,2 51,3 41,5 50,6 44,1 Table 2 shows the reflected color performance data for Samples 1-4 and Comparative Samples (titania-coated glass plates without primer layer). The color data were modeled with conventional TFCalc ® software for the coated side of the substrate at 065, 10 ° Observer. Table 2 Sample 1 115 nm TiO 2 Sample 2 121 nm TiO 2 Sample 3 113 nm TiO 2 Sample 4 118 nm TiO 2 a * -6.6 17.17 -4.1 -3.5 -6.6 21.3 -4.2 10.4 b * -9.2 -41.4 -12.5 -38.7 -7.7 -40.9 -12.8 -40.7 L * 50.8 42.4 50.8 46.2 51.3 41.5 50.6 44.1

Durch die Grundierungsschicht weist diese Probe einen im Allgemeinen geringeren (negativeren) a*-Wert und einen höheren (positiveren) b*-Wert im Vergleich zu dem Gegenstand ohne Grundierungsschicht auf.Through the primer layer, this sample has a generally lower (more negative) a * value and a higher (more positive) b * value compared to the article without a primer layer.

Beispiel 2Example 2

Dieses Beispiel zeigt die Verwendung einer Grundierungsschicht der Erfindung, um einer Titandioxiddeckschicht verbesserte Photoaktivität zu verleihen. Die Grundierungsschicht umfasste Siliciumdioxid, Titandioxid und Phosphoroxid.This example demonstrates the use of a primer layer of the invention to impart improved photoactivity to a titanium dioxide overcoat. The undercoat layer comprised silica, titania and phosphorus oxide.

Sowohl die Grundierungsschicht als auch die Deckschicht (Titandioxid) wurden durch chemische Dampfabscheidungsprozesse gebildet. Der Vorläufer für Phosphoroxid war Triethylphosphit (TEP). Der Vorläufer für Siliciumdioxid war Tetraethylorthosilicat (TEOS). Der Vorläufer für Titandioxid sowohl in der Grundierungsschicht als auch Deckschicht war Tetraisopropyltitanat (TPT). Tabelle 3 zeigt die Abscheidungsparameter für Proben 5–9. Tabelle 3 Probe 5 Probe 6 Probe 7 Probe 8 Probe 9 Molverhältnis von TEP/TEOS 1,25 1,25 0,5 0,5 N/A Molverhältnis von TPT/TEOS 0,25 0,5 0,25 0,5 N/A Vol.-% TEOS des Gesamtflusses für die Grundierungsschicht 0,11 0,12 0,18 0,12 N/A Vol.-% TEP des Gesamtflusses für die Grundierungsschicht 0,14 0,15 0,09 0,06 N/A Vol.-% TPT des Gesamtflusses für die Grundierungsschicht 0,03 0,06 0,05 0,06 N/A Vol.-% TPT des Gesamtflusses für die funktionelle Beschichtung 0,257 0,257 0,257 0,257 0,257 Both the primer layer and the overcoat (titanium dioxide) were formed by chemical vapor deposition processes. The phosphorus oxide precursor was triethyl phosphite (TEP). The precursor for silica was tetraethyl orthosilicate (TEOS). The precursor for titania in both the primer layer and topcoat was tetraisopropyl titanate (TPT). Table 3 shows the deposition parameters for Samples 5-9. Table 3 Sample 5 Sample 6 Sample 7 Sample 8 Sample 9 Molar ratio of TEP / TEOS 1.25 1.25 0.5 0.5 N / A Molar ratio of TPT / TEOS 0.25 0.5 0.25 0.5 N / A Vol .-% TEOS of the total flux for the primer layer 0.11 0.12 0.18 0.12 N / A Vol .-% TEP of the total flux for the primer layer 0.14 0.15 0.09 0.06 N / A Vol .-% TPT of the total flux for the primer layer 0.03 0.06 0.05 0.06 N / A Vol .-% TPT of the total flux for the functional coating 0.257 0.257 0.257 0.257 0.257

Tabelle 4 zeigt die Schichtdicken für Proben 5–9. Tabelle 4 Probe 5 Probe 6 Probe 7 Probe 8 Probe 9 Phosphoroxid [Mikrogramm/cm2] 1,5 2,1 1,5 1,2 N/A Titandioxid [Mikrogramm/cm2] 34,4 38,4 36,0 37,0 30,2 Dicke der Grundierungsschicht [nm] 37,4 98,9 52,5 83,3 0 Dicke der funktionellen Titandioxidbeschichtung [nm] 132 132 129 121 129 Table 4 shows the layer thicknesses for Samples 5-9. Table 4 Sample 5 Sample 6 Sample 7 Sample 8 Sample 9 Phosphorus oxide [microgram / cm 2 ] 1.5 2.1 1.5 1.2 N / A Titanium dioxide [microgram / cm 2 ] 34.4 38.4 36.0 37.0 30.2 Thickness of primer layer [nm] 37.4 98.9 52.5 83.3 0 Thickness of functional titanium dioxide coating [nm] 132 132 129 121 129

Tabelle 5 zeigt die Ergebnisse eines herkömmlichen Stearinsäuretests für Proben 5–9. Der Stearinsäuretest ist in U.S.-Patent Nr. 6,027,766 beschrieben, auf das hierin ausdrücklich Bezug genommen wird. Wie erkennbar ist, hatte der Gegenstand mit der Grundierungsschicht der Erfindung höhere photokatalytische Aktivität als der Gegenstand ohne Grundierungsschicht (Probe 9). Tabelle 5 PCA (× 10–3 cm–1min–1) Probe 5 121 Probe 6 121 Probe 7 112 Probe 8 92 Probe 9 61 Table 5 shows the results of a conventional stearic acid test for Samples 5-9. The stearic acid test is in U.S. Patent No. 6,027,766 which is incorporated herein by reference. As can be seen, the article having the primer layer of the invention had higher photocatalytic activity than the article without a primer layer (Sample 9). Table 5 PCA (× 10 -3 cm -1 min -1 ) Sample 5 121 Sample 6 121 Sample 7 112 Sample 8 92 Sample 9 61

Beispiel 3Example 3

Dieses Beispiel zeigt die Verwendung einer Grundierungsschicht der Erfindung zur Verringerung des Oberflächenwiderstandes einer fluordotierten Zinnoxiddeckschicht.This example demonstrates the use of a primer layer of the invention to reduce the surface resistivity of a fluorine doped tin oxide liner.

Die Grundierungsschicht war eine Siliciumdioxid-, Titandioxid-, Phosphoroxidgrundierungsschicht, die durch CVD abgeschieden wurde. Die verwendeten Vorläufer waren TEOS (Siliciumdioxid), TPT (Titandioxid), und TEP (Phosphoroxid).The undercoat layer was a silica, titania, phosphorus oxide undercoat layer deposited by CVD. The precursors used were TEOS (silica), TPT (titanium dioxide), and TEP (phosphorus oxide).

Fluordotierte Zinnoxiddeckschichten unterschiedlicher Dicke wurden auf der Grundierungsschicht und auch auf unbeschichtetem Glas (als Vergleichsproben) abgeschieden. Der Oberflächenwiderstand beider Beschichtungen, gemessen mit dem R-Chek+ 4 point-Messgerät, das im Handel von Electronic Design To Market, Inc., erhältlich ist, wurde verglichen. Die Menge an [Sn] wurde durch Röntgenfluoreszenz bestimmt, die der Dicke der fluordotierten Zinnoxidbeschichtungen entspricht. 2 zeigt, dass der Oberflächenwiderstand von fluordotierten Zinnoxidbeschichtungen auf einer Grundierungsschicht der Erfindung im Durchschnitt 1 bis 3 Ohm/Quadrat niedriger ist als bei fluordotierten Zinnoxidbeschichtungen derselben Dicke auf Glas. In 2 zeigen die offenen Quadrate und Punktlinien fluordotiertes Zinnoxid auf Glas. Die geschlossenen Kreise und Volllinien zeigen die fluordotierten Zinnoxidbeschichtungen auf der Grundierungsschicht der Erfindung. Die Grundierungsschicht (Zusammensetzung und Dicke) war für jede Probe dieselbe.Fluorine doped tin oxide coatings of different thickness were deposited on the primer layer and also on uncoated glass (as comparative samples). The surface resistivity of both coatings, as measured by the R-Chek + 4 point meter, commercially available from Electronic Design To Market, Inc., was compared. The amount of [Sn] was determined by X-ray fluorescence, which corresponds to the thickness of the fluorine-doped tin oxide coatings. 2 shows that the surface resistance of fluorine doped tin oxide coatings on a primer layer of the invention is on average 1 to 3 ohms / square lower than that of fluorine doped tin oxide coatings of the same thickness on glass. In 2 the open squares and dotted lines show fluorine-doped tin oxide on glass. The closed circles and solid lines show the fluorine doped tin oxide coatings on the primer layer of the invention. The primer layer (composition and thickness) was the same for each sample.

Beispiel 4 Example 4

Ein Stück klares Glas (12 Inch mal 24 Inch; 30 cm mal 61 cm) wurde durch Anwendung eines CVD-Prozesses mit den oben beschriebenen Vorläufern beschichtet. Die Hälfte des Glases wurde mit einer fluordotierten Zinnoxidbeschichtung direkt auf dem Glas beschichtet und die andere Hälfte des Glases wurde mit einer Siliciumdioxid-, Titandioxid-, Phosphorgrundierungsschicht und einer fluordotierten Zinnoxiddeckschicht beschichtet.A piece of clear glass (12 inches by 24 inches, 30 cm by 61 cm) was coated with the precursors described above using a CVD process. Half of the glass was coated with a fluorine-doped tin oxide coating directly on the glass and the other half of the glass was coated with a silica, titania, phosphorus undercoat and a fluorine doped tin oxide topcoat.

Proben wurden aus jedem Teil der Glasplatte geschnitten und wie unten beschrieben analysiert.Samples were cut from each part of the glass plate and analyzed as described below.

(1) Daten der Röntgenfluoreszenz (XRF)(1) X-ray fluorescence (XRF) data

Die XRF-Daten in Tabelle 6 zeigen eine ähnliche Menge an [Sn] für beide Beschichtungen (im Falle des FTO/UL-Beschichtungsstapels etwas höher). Tabelle 6 Nur FTO FTO/UL Ohne [P] 0,09 0,56 0,09 [Ti] 0 1,87 0 [Sn] 145,8 147 0,2 The XRF data in Table 6 shows a similar amount of [Sn] for both coatings (somewhat higher in the case of the FTO / UL coating stack). Table 6 Only FTO FTO / UL Without [P] 0.09 0.56 0.09 [Ti] 0 1.87 0 [Sn] 145.8 147 0.2

(2) Trübung und Durchlässigkeit(2) turbidity and permeability

Die Proben wurden auch auf Trübung und Durchlässigkeit getestet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 dargestellt. Die Durchlässigkeitsspektren sind in 4 dargestellt. Die Trübung war höher und die Durchlässigkeit war ebenso für den fluordotierten Zinnoxid (FTO)/Grundierungsschicht (UL)-Beschichtungsstapel im Vergleich zur fluordotierten Zinnoxid (FTO)-Beschichtung direkt auf Glas höher. Somit bietet die Grundierungsschicht der Erfindung auch eine Möglichkeit, die Trübung und Durchlässigkeit eines beschichteten Gegenstandes zu erhöhen. Dies könnte im Bereich von Solarzellen nützlich sein, wo eine erhöhte Trübung den Absorptionspfad der elektromagnetischen Energie erhöht, wodurch wiederum eine verbesserte Möglichkeit für eine Absorption elektromagnetischer Energie geboten wird. Tabelle 7 Nur FTO FTO/UL Trübung 0,89% 1,77% Durchlässigkeit 80,78% 81,37% The samples were also tested for haze and permeability. The results are shown in Table 7. The transmission spectra are in 4 shown. The haze was higher and the transmission was also higher for the fluorine doped tin oxide (FTO) / primer layer (UL) coating stack compared to the fluorine doped tin oxide (FTO) coating directly on glass. Thus, the undercoat layer of the invention also provides a way to increase the haze and permeability of a coated article. This could be useful in the field of solar cells, where increased turbidity increases the absorption path of the electromagnetic energy, which in turn provides an improved opportunity for absorption of electromagnetic energy. Table 7 Only FTO FTO / UL cloudiness 0.89% 1.77% permeability 80.78% 81.37%

(3) Oberflächenwiderstand(3) surface resistance

Daten zum Oberflächenwiderstand sind in Tabelle 8 dargestellt. Die FTO/UL-Beschichtung hatte einen Oberflächenwiderstand, der 1,5 Ohm/Quadrat niedriger war als jener einer FTO-Beschichtung auf Glas. Tabelle 8 Nur FTO FTO/UL 13,55 Ohm/Quadrat 12,05 Ohm/Quadrat Surface resistivity data are shown in Table 8. The FTO / UL coating had a surface resistance that was 1.5 ohms / square lower than that of an FTO coating on glass. Table 8 Only FTO FTO / UL 13.55 ohms / square 12.05 ohms / square

(4) Beschichtungsdicke(4) coating thickness

Die FTO-Beschichtungsdicke war im Falle der FTO-Beschichtung auf Glas (356 nm) gegenüber FTO auf der UL(FTO-Deckbeschichtung 334 nm) etwas dicker, wie durch die Ätzmethode bestimmt wurde.The FTO coating thickness was somewhat thicker in the case of FTO coating on glass (356 nm) versus FTO on the UL (FTO top coat 334 nm), as determined by the etching method.

(5) Beschichtungsporosität (5) Coating porosity

Die Beschichtungen wurden mit Hilfe der Rasterelektronenmikroskopie (SEM) betrachtet. In der FTO-Beschichtung direkt auf Glas wurden zahlreiche kleine Löcher beobachtet. In dem FTO/UL-Beschichtungsstapel wurden keine Löcher bemerkt.The coatings were viewed using Scanning Electron Microscopy (SEM). Numerous small holes were observed in the FTO coating directly on glass. No holes were noted in the FTO / UL coating stack.

(6) Oberflächenrauheit(6) surface roughness

Die Oberflächenrauheit wurde mittels Atomkraftmikroskopie (AFM) für Flächen von 10 Mikrometer (μm) mal 10 μm; 5 μm mal 5 μm; und 1 μm mal 1 μm analysiert. Die Ergebnisse sind in Tabelle 9 dargestellt. Die Oberflächenrauheit war im Falle des FTO/UL-Beschichtungsstapels höher als für FTO direkt auf Glas. Eine erhöhte Oberflächenrauheit erhöht die Beschichtungstrübung und erhöht somit den Absorptionspfad sämtlicher aufprallender elektromagnetischer Energie. Tabelle 9 Probe RMS Rauheit (nm) Ra Rauheit (nm) Nur FTO 10 μm × 10 μm 13,39 10,69 FTO/UL 10 μm × 10 μm 17,45 13,74 Nur FTO 5 μm × 5 μm 12,53 9,99 FTO/UL 5 μm × 5 μm 18,03 14,09 Nur FTO 1 μm × 1 μm 8,99 7,18 FTO/UL 1 μm × 1 μm 9,96 8,03 The surface roughness was determined by atomic force microscopy (AFM) for areas of 10 microns (μm) by 10 μm; 5 μm by 5 μm; and 1 μm by 1 μm. The results are shown in Table 9. The surface roughness was higher in the case of the FTO / UL coating stack than for FTO directly on glass. Increased surface roughness increases coating haze and thus increases the absorption path of all impacting electromagnetic energy. Table 9 sample RMS roughness (nm) Ra roughness (nm) Only FTO 10 μm × 10 μm 13.39 10.69 FTO / UL 10 μm × 10 μm 17.45 13.74 Only FTO 5 μm × 5 μm 12.53 9.99 FTO / UL 5 μm × 5 μm 18.03 14.09 Only FTO 1 μm × 1 μm 8.99 7.18 FTO / UL 1 μm × 1 μm 9.96 8.03

Beispiel 5Example 5

Dieses Beispiel zeigt die Wirkung einer Grundierungsschicht der Erfindung auf den Reflexionsgrad eines beschichteten Gegenstandes.This example demonstrates the effect of a primer layer of the invention on the reflectance of a coated article.

4 zeigt die Änderung des Reflexionsgrades für eine 10 nm bis 120 nm TiO2-Beschichtung auf klarem Glas (offene Raute mit Punktlinie) und für dieselbe TiO2-Schicht auf einer Grundierungsschicht der Erfindung auf klarem Glas. Die Grundierungsschicht war 13 nm 75% SiO2-20% TiO2-5% P2O5/23 nm 49% SiO2-49% TiO2-2% P2O5/21 nm 75% SiO2-20% TiO2-5% P2O5 (geschlossener Kreis und Volllinie). Die TiO2-Dicke variiert von 10 nm bis 120 nm in 5 nm-Intervallen. 4 Fig. 10 shows the change in reflectance for a 10 nm to 120 nm TiO 2 coating on clear glass (dotted line diamond) and for the same TiO 2 layer on a primer layer of the invention on clear glass. The primer layer was 13 nm 75% SiO 2 -20% TiO 2 -5% P 2 O 5 / SiO 2 23 nm 49% -49% TiO 2 2% P 2 O 5 / SiO 2 21 nm 75% -20% TiO 2 -5% P 2 O 5 (closed circle and solid line). The TiO 2 thickness varies from 10 nm to 120 nm at 5 nm intervals.

4 zeigt, dass, wenn die funktionelle TiO2-Beschichtungsdicke auf Glas erhöht wird, der Reflexionsgrad stark variiert (d. h. von 11,7% < R < 38,8%). Wenn jedoch die funktionelle TiO2-Beschichtung auf der Grundierungsschicht abgeschieden wird, sind die Änderungen im Reflexionsgrad viel geringer (d. h. im Bereich von 17,2% bis 27,4%). Dies zeigt, dass mit der Variation der Deckbeschichtungsdicke der Reflexionsgrad des gesamten Beschichtungsstapels mit einer Unterlagenbeschichtung nicht so empfindlich ist, wie ohne Unterlagenbeschichtung. 4 shows that as the functional TiO 2 coating thickness on glass is increased, the reflectance varies widely (ie, 11.7% <R <38.8%). However, when the functional TiO 2 coating is deposited on the primer layer, the reflectance changes are much lower (ie, in the range of 17.2% to 27.4%). This shows that with the variation in topcoat thickness, the reflectance of the entire coating stack with a backsize coating is not as sensitive as without a backsize coating.

In einigen Bereichen könnte der Reflexionsgrad mit einer Grundierungsschicht der Erfindung signifikant verringert werden. Tabelle 10 zeigt den Unterschied im Reflexionsgrad bei Titandioxidwerten von 55 nm und 165 nm. Tabelle 10 Reflexionsgrad ohne Unterlage Reflexionsgrad mit Unterlage 55 nm TiO2 38,8% 26,4% 165 nm TiO2 35,6% 25,5% In some areas, the reflectance with a primer layer of the invention could be significantly reduced. Table 10 shows the difference in reflectance for titania values of 55 nm and 165 nm. Table 10 Reflectance without underlay Reflectance with underlay 55 nm TiO 2 38.8% 26.4% 165 nm TiO 2 35.6% 25.5%

Beispiel 6 Example 6

Dieses Beispiel zeigt die Wirkung einer Grundierungsschicht der Erfindung auf die Farbe (z. B. a* und b*) eines Gegenstandes.This example demonstrates the effect of a primer layer of the invention on the color (e.g., a * and b *) of an article.

5 zeigt die Änderung von a* und b* für 10 nm bis 120 nm TiO2 auf klarem Glas (offene Raute mit Punktlinie) und für dieselbe Beschichtung auf einer Grundierungsschicht (13 nm 75% SiO2-20% TiO2-5% P2O5/23 nm 49% SiO2-49% TiO2-2% P2O5/21 nm 75% SiO2-20% TiO2-5% P2O5) auf klarem Glas (geschlossener Kreis und Volllinie). Die TiO2-Dicke variiert von 10 nm bis 120 nm in 5 nm-Intervallen. 5 shows the change of a * and b * for 10 nm to 120 nm TiO 2 on clear glass (open diamond with dotted line) and for the same coating on a primer layer (13 nm 75% SiO 2 -20% TiO 2 -5% P 2 O 5 / SiO 2 23 nm 49% -49% TiO 2 2% P 2 O 5 / SiO 2 21 nm 75% -20% TiO 2 -5% P 2 O 5) on a clear glass (closed circle and solid line) , The TiO 2 thickness varies from 10 nm to 120 nm at 5 nm intervals.

5 zeigt, dass, wenn die funktionelle TiO2-Beschichtungsdicke zunimmt, die Farbe (a* und b*) der TiO2-Beschichtung ohne Unterlage stark variiert (–24 < a* < +37, und –42 < b* < +34). Wenn die funktionelle TiO2-Beschichtung jedoch auf einer Grundierungsschicht wie oben beschrieben abgeschieden wird, ändern sich a* und b* in geringerem Maße (im Bereich von –8 < a* < +12, und –10 < b* < +7). Dies bedeutet, dass mit der Variation der Deckbeschichtungsdicke die Farbe des gesamten Beschichtungsstapels mit einer Unterlagenbeschichtungsschicht der Erfindung nicht so empfindlich ist wie ohne Unterlagenbeschichtung. 5 shows that as the functional TiO 2 coating thickness increases, the color (a * and b *) of the undoped TiO 2 coating varies greatly (-24 <a * <+37, and -42 <b * <+34 ). However, when the functional TiO 2 coating is deposited on a primer layer as described above, a * and b * change to a lesser extent (in the range of -8 <a * <+ 12, and -10 <b * <+ 7) , This means that with the variation in topcoat thickness, the color of the entire coating stack with a backing layer of the invention is not as sensitive as without backing.

Beispiel 7Example 7

Dieses Beispiel zeigt die Wirkung einer Gradientengrundierungsschicht von Siliciumdioxid und Titandioxid auf die photokatalytische Aktivität einer Titandioxiddeckschicht (120 nm dick).This example demonstrates the effect of a gradient undercoating layer of silica and titania on the photocatalytic activity of a titanium dioxide overcoat (120 nm thick).

Tabelle 11 zeigt die Zusammensetzungen von zwei Gradientengrundierungsschichten. Tabelle 11 Durchschnittliches TiO2 (%) Durchschnittliches SiO2 (%) Geschätzte Dicke (nm) XRD-Ergebnis a* b* R(%) Probe 10 68,9 31,1 23 Amorph –0,937 –8,174 14,51 Probe 11 68,1 31,9 32 Amorph –1,129 –7,904 15,81 Table 11 shows the compositions of two gradient primer layers. Table 11 Average TiO 2 (%) Average SiO 2 (%) Estimated thickness (nm) XRD results a * b * R (%) Sample 10 68.9 31.1 23 Amorphous -0.937 -8.174 14.51 Sample 11 68.1 31.9 32 Amorphous -1.129 -7.904 15.81

Tabelle 12 zeigt die Wirkung der zwei Grundierungsschichten von Tabelle 11 auf die photokatalytische Aktivität einer 120 nm dicken Deckschicht aus Titandioxid im Vergleich zu der Aktivität des Titandioxids ohne Grundierungsschichten. [Ti] Einheiten sind Mikrogramm/cm2. Tabelle 12 [Ti] Menge durch XRF (μg/cm2) PCA (× 10–3 cm–1 min–1) [Ti]Grundierung [Ti]Grundierung + Deckschicht [Ti]Deckschicht Probe 12 TiO2-Beschichtung auf Probe 10 56,5 4,10 34,60 30,50 Probe 13 TiO2-Beschichtung auf Probe 11 577 4,60 35,40 30,80 Probe 14 TiO2-Beschichtung auf klarem Glas 51,6 N/A 32,70 32,70 Table 12 shows the effect of the two primer layers of Table 11 on the photocatalytic activity of a 120 nm thick titanium dioxide overcoat as compared to the titanium dioxide without primer layers. [Ti] units are micrograms / cm 2 . Table 12 [Ti] amount by XRF (μg / cm 2 ) PCA (× 10 -3 cm -1 min -1 ) [Ti] primer [Ti] primer + topcoat [Ti] topcoat Sample 12 TiO 2 coating on sample 10 56.5 4.10 34,60 30.50 Sample 13 TiO 2 coating on sample 11 577 4.60 35.40 30,80 Sample 14 TiO 2 coating on clear glass 51.6 N / A 32,70 32,70

Für den Fachmann ist offensichtlich, dass Modifizierungen an der Erfindung vorgenommen werden können, ohne von den Konzepten abzuweichen, die in der vorangehenden Beschreibung offenbart sind. Daher sind die besonderen, hierin ausführlich beschriebenen Ausführungsformen nur veranschaulichend und schränken den Schutzumfang der Erfindung nicht in, dessen volles Ausmaß durch die beiliegenden Ansprüche und sämtliche Äquivalente davon bestimmt wird.It will be apparent to those skilled in the art that modifications may be made to the invention without departing from the concepts disclosed in the foregoing specification. Therefore, the particular embodiments described in detail herein are merely illustrative and do not limit the scope of the invention, the full scope of which is determined by the appended claims and all equivalents thereof.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Claims (20)

Beschichteter Gegenstand, umfassend: ein Substrat; eine erste Beschichtung, die über zumindest einem Teil des Substrats gebildet ist, wobei die erste Beschichtung Oxide von zumindest zwei von P, Si, Ti, Al und Zr umfasst; und eine funktionelle Beschichtung, die über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung gebildet ist, wobei die funktionelle Beschichtung ausgewählt ist aus einer elektrisch leitenden Beschichtung und einer photoaktiven Beschichtung.A coated article comprising: a substrate; a first coating formed over at least a portion of the substrate, the first coating comprising oxides of at least two of P, Si, Ti, Al, and Zr; and a functional coating formed over at least a portion of the first coating, wherein the functional coating is selected from an electrically conductive coating and a photoactive coating. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti und Si umfasst.The article of claim 1, wherein the first coating comprises at least oxides of Ti and Si. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti, Si und P umfasst,The article of claim 1, wherein the first coating comprises at least oxides of Ti, Si and P, Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung zumindest Oxide von Ti, Si und Al umfasst.The article of claim 1, wherein the first coating comprises at least oxides of Ti, Si and Al. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung 30–80 Vol.-% Siliciumdioxid, 1–15 Vol.-% Phosphoroxid und 5–69 Vol.-% Titandioxid umfasst.The article of claim 1, wherein the first coating comprises 30-80 vol.% Silica, 1-15 vol.% Phosphorus oxide, and 5-69 vol.% Titanium dioxide. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung eine Dicke im Bereich von 10 nm bis 120 nm, wie 30 nm bis 70 nm, aufweist.The article of claim 1, wherein the first coating has a thickness in the range of 10 nm to 120 nm, such as 30 nm to 70 nm. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung eine Gradientenbeschichtung ist.The article of claim 1, wherein the first coating is a gradient coating. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung eine mehrschichtige Beschichtung ist, umfassend: eine erste Schicht, umfassend 5–10 Vol.-% Phosphoroxid, 70–80 Vol.-% Siliciumdioxid und 10–25 Vol.-% Titandioxid mit einer Dicke im Bereich von 11 nm bis 29 nm; eine zweite Schicht, umfassend 2 Vol.-% Phosphoroxid, 48–62 Vol.-% Siliciumdioxid und 36–50 Vol.-% Titandioxid mit einer Dicke im Bereich von 21 nm bis 33 nm; und eine dritte Schicht, umfassend 5–11 Vol.-% Phosphoroxid, 70–80 Vol.-% Siliciumdioxid und 9–25 Vol.-% Titandioxid mit einer Dicke im Bereich von 15 nm bis 23 nm.The article of claim 1, wherein the first coating is a multilayer coating comprising: a first layer comprising 5-10% by volume of phosphorus oxide, 70-80% by volume of silica and 10-25% by volume of titanium dioxide having a thickness in the range of 11 nm to 29 nm; a second layer comprising 2% by volume of phosphorus oxide, 48-62% by volume of silica and 36-50% by volume of titanium dioxide having a thickness in the range of 21 nm to 33 nm; and a third layer comprising 5-11% by volume of phosphorus oxide, 70-80% by volume of silica and 9-25% by volume of titanium dioxide having a thickness in the range of 15 nm to 23 nm. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die funktionelle Beschichtung eine leitende Beschichtung ist, umfassend Oxide von einem oder mehr von Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Ca, Cr, Si und In oder eine Legierung von zwei oder mehr dieser Materialien.The article of claim 1, wherein the functional coating is a conductive coating comprising oxides of one or more of Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Ca, Cr , Si and In or an alloy of two or more of these materials. Gegenstand nach Anspruch 9, wobei die funktionelle Beschichtung zumindest ein Dotierungsmittel umfasst, ausgewählt aus F, In, Al und Sb.The article of claim 9, wherein the functional coating comprises at least one dopant selected from F, In, Al and Sb. Gegenstand nach Anspruch 10, wobei die funktionelle Beschichtung fluordotiertes Zinnoxid umfasst.The article of claim 10, wherein the functional coating comprises fluorine-doped tin oxide. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die funktionelle Beschichtung eine photoaktive Beschichtung ist, die Titandioxid umfasst.The article of claim 1, wherein the functional coating is a photoactive coating comprising titanium dioxide. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei der Gegenstand eine Farbe im Bereich von –10 ≤ a* ≤ 2 und –15 ≤ b* ≤ 0 aufweist.The article of claim 1, wherein the article has a color in the range of -10 ≤ a * ≤ 2 and -15 ≤ b * ≤ 0. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei der Gegenstand einen a* im Bereich von –8 bis –4,4, einen b* im Bereich von –12,6 bis –5,2 und einen L* im Bereich von 50,5 bis 52,3 hat.The article of claim 1, wherein the article has an a * in the range of -8 to -4.4, a b * in the range of -12.6 to -5.2, and an L * in the range of 50.5 to 52, 3 has. Gegenstand nach Anspruch 12, wobei das Titandioxid eine Dicke von zumindest 10 nm, wie im Bereich von 113 nm bis 121 nm, hat.The article of claim 12, wherein the titanium dioxide has a thickness of at least 10 nm, such as in the range of 113 nm to 121 nm. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung Oxide von Si, Ti und P umfasst und die funktionelle Beschichtung ausgewählt ist aus Titandioxid und fluordotiertem Zinnoxid.The article of claim 1 wherein the first coating comprises oxides of Si, Ti and P and the functional coating is selected from titanium dioxide and fluorine doped tin oxide. Gegenstand nach Anspruch 1, wobei die erste Beschichtung ein Gemisch aus Siliciumdioxid, Titandioxid und Aluminiumoxid umfasst und die funktionelle Beschichtung Titandioxid umfasst.The article of claim 1, wherein the first coating comprises a mixture of silica, titania, and alumina and the functional coating comprises titania. Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Gegenstandes, umfassend: Vorsehen eines Glassubstrats; Bilden einer ersten Beschichtung über zumindest einem Teil des Glassubstrats durch CVD, indem eine erste Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die erste Beschichtungszusammensetzung einen Siliciumdioxidvorläufer, einen Titandioxidvorläufer und ein Siliciumdioxidbeschleunigungsmittel umfasst, das zumindest ein Beschleunigungsmaterial mit zumindest einem von P, Al, und Zr umfasst; und Bilden einer funktionellen Beschichtung über zumindest einem Teil der ersten Beschichtung durch CVD, indem eine zweite Beschichtungszusammensetzung auf das Glassubstrat gerichtet wird, wobei die zweite Beschichtungszusammensetzung eine fluordotierte Zinnoxidvorläuferzusammensetzung oder eine Titandioxidvorläuferzusammensetzung umfasst. A method of making a coated article, comprising: providing a glass substrate; Forming a first coating over at least a portion of the glass substrate by CVD by directing a first coating composition onto the glass substrate, the first coating composition comprising a silica precursor, a titania precursor, and a silica accelerant comprising at least one accelerating material with at least one of P, Al, and Zr includes; and forming a functional coating over at least a portion of the first coating by CVD by directing a second coating composition onto the glass substrate, the second coating composition comprising a fluorine doped tin oxide precursor composition or a titania precursor composition. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die erste Beschichtung als Gradientenbeschichtung abgeschieden ist.The method of claim 18, wherein the first coating is deposited as a gradient coating. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die erste Beschichtung als mehrschichtige Beschichtung abgeschieden ist.The method of claim 18, wherein the first coating is deposited as a multilayer coating.
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