DE19681500C2 - Interferometer mit Compound-Optik und Messverfahren mit diesem - Google Patents
Interferometer mit Compound-Optik und Messverfahren mit diesemInfo
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Description
Die Erfindung betrifft Verbesserungen in der Interfero
metrie zum Messen von Prüfoberflächen. Besondere Beachtung da
bei finden die Formung und Übertragung von optischen Wellen
fronten zum Sammeln von Information über die Prüfoberflächen.
Interferometer erzeugen Bilder von Oberflächen in Form
von Interferenzbildern, die Niveaulinienbilder von Oberflä
chenvariationen darstellen. Die Interferenzbilder werden er
zeugt, indem eine Prüfwellenfront (oder ein Prüfstrahl), der
von der Prüfoberfläche reflektiert wird, mit einer Refe
renzwellenfront (oder einem Referenzstrahl), der eine theore
tische Reflexion von der Oberfläche darstellt, kombiniert
wird. Hochreflektierende Oberflächen werden normalerweise ge
messen, indem die Prüfwellenfront so angeordnet wird, daß sie
mit normalem Einfall auf die Prüfoberfläche auftrifft. Ober
flächen mit geringerem Reflexionsgrad werden bei streifendem
Einfall gemessen.
Interferometer werden jedoch selten verwendet, um ande
re Oberflächen als Ebenen oder Kugeln zu messen, da überein
stimmende Wellenfronten schwer zu erzeugen sind. Anamorphoti
sche optische Elemente können verwendet werden, um die über
einstimmenden Wellenfronten zu erzeugen; aber diese Elemente
sind teuer, schwer herzustellen und zu prüfen und in ihrer Ge
nauigkeit begrenzt. Herkömmlichere Optiken können auch verwen
det werden, um die übereinstimmenden Wellenfronten durch Ver
einigen von kleineren Teilen von sphärischen oder nahezu sphä
rischen Wellenfronten herzustellen. Das Vereinigen mehrerer
Messungen mit herkömmlichen Optiken ist jedoch zeitaufwendig
und kann Instrumentenbewegungen erfordern, die ebenfalls die
Genauigkeit beeinträchtigen.
Eine weniger bekannte und wenig entwickelte Interfero
metriemethode zur Messung sowohl von planaren als auch zylin
drischen Oberflächen beruht auf der Verwendung von Beugungsop
tiken zum relativen Formen von Prüf- und Referenzwellenfron
ten. Beispielsweise berichtet ein Beitrag von 1973 mit dem Ti
tel "Oblique Incidence Interferometry Applied to Non-Optical
Surfaces" von K. G. Birch, Journal of Physics E: Scientific
Instruments, Volume 6, über die Verwendung eines Paares iden
tischer Beugungsgitter zum Messen von planaren Oberflächen bei
streifendem Einfall. Das erste Beugungsgitter teilt eine Prüf-
und eine Referenzwellenfront in verschiedene Beugungsordnun
gen. Die relativ geneigte Prüfwellenfront wird von einer
planaren Prüfoberfläche reflektiert und am zweiten Beugungs
gitter wieder mit einer Referenzwellenfront vereinigt.
Das ostdeutsche Patent 106 769, das 1974 an Johannes
Schwider erteilt worden ist, schlägt die Verwendung von zwei
identischen Gittern zum Messen zylindrischer Oberflächen bei
streifendem Einfall vor. Das erste Beugungsgitter teilt eine
planare primäre Wellenfront in eine Prüf- und eine Refe
renzwellenfront. Die Prüfwellenfront wird zu einer achsenkoni
schen Wellenfront gebeugt, die bei streifendem Einfall von ei
ner zylindrischen Prüfoberfläche reflektiert wird. Die Refe
renzwellenfront wird ohne Veränderung durchgelassen. Das zwei
te Beugungsgitter vereinigt die beiden Wellenfronten wieder,
indem die Prüfwellenfront ohne weitere Änderung durchgelassen
und die Referenzwellenfront zu der achsenkonischen Form der
Prüfwellenfront gebeugt wird.
Schwider schlägt außerdem die Verwendung von Compound-
Beugungsoptiken zum gleichzeitigen Messen von zylindrischen
Innen- und Außenflächen vor. Zwei Beugungszonen einer ersten
Compound-Optik beugen zwei Prüfwellenfronten in bezug auf eine
Referenzwellenfront zu entsprechenden achsenkonischen Formen
zum Reflektieren von der zylindrischen Innen- und Außenfläche.
Zwei Beugungszonen einer zweiten identischen Compound-Optik
beugen getrennt Teile der Referenzwellenfront zu achsenkoni
schen Formen, die mit den beiden Prüfwellenfronten überein
stimmen.
Erst in jüngster Zeit ist die praktische Nutzung dieser
Ideen ein wenig vorangekommen. Es stehen viele andere Alterna
tiven zum Messen von planaren Oberflächen zur Verfügung; und
Weiterentwicklungen sind erforderlich, um genaue Messungen
über einen breiten Bereich von Oberflächengeometrien durchzu
führen, insbesondere Prüfoberflächen, die die Form der Prüf
wellenfront weiter beeinflussen. Praktische Überlegungen in
bezug auf alternative Anordnungsmöglichkeiten für bestimmte
Prüfstücke, die Effizienz der Lichtübertragung und die Steue
rung des Bildkontrasts wurden noch nicht ausreichend gelöst.
In jüngster Zeit wurden zwei mitübertragene US-
Patentanmeldungen von einem unserer Miterfinder eingereicht,
die die Verwendung von Beugungsoptiken zur Bildung von Prüf
wellenfronten vorschlagen, die bei streifendem Einfall für
viele verschiedene komplexe Oberflächen geeignet sind. Alter
native Anordnungsmöglichkeiten und Lösungen für die verschie
denen praktischen Probleme wurden offenbart. Beide Anmeldun
gen, nämlich die US-Anmeldung Nr. 08/375 499 vom 19. Januar
1995 und die darauf basierende Conbination-In-Part US-Anmeldung Nr. 08/483 737 vom 7. Juni 1995 (US-A-5 654 798) wer
den hier durch Bezugnahme aufgenommen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Interferometer mit
Compound-Optik sowie ein verbessertes Verfahren zur Durchführung komplexerer
Messungen mit einem solchen Interferometer, zum Beispiel zur Durchführung von
gleichzeitigen Messungen mehrerer Oberflächen oder von mehreren Messungen
einzelner komplexer Oberflächen, bereitzustellen. Diese Aufgabe wird mit den
Merkmalen der unabhängigen Ansprüche gelöst.
Die vorliegende Erfindung erweitert ferner in einer
oder mehreren Ausführungsformen die Möglichkeiten zur Durch
führung komplexerer Messungen mit Interferometern, z. B. zur
Durchführung von gleichzeitigen Messungen mehrerer Oberflächen
oder von mehreren Messungen einzelner komplexer Oberflächen.
Beugungsoptiken sind in die optischen Compound-Elemente mit
mehreren Zonen zum Übertragen von mehr als einer Prüfwellen
front oder zum mehr als einmaligen Übertragen einer einzelnen
Prüfwellenfront einbegriffen. Die mehreren Zonen können auch
zur Selbstausrichtung der optischen Elemente verwendet werden.
Ein erstes Beispiel des erfindungsgemäßen Interferome
ters, das zum gleichzeitigen Messen von mehreren Oberflächen
eines Teststücks eingerichtet ist, weist eine Lichtquelle auf,
die eine primäre Wellenfront, die in zwei Prüfwellenfronten
geteilt wird, und mindestens eine Referenzwellenfront erzeugt.
Ein erster Weg durch das Interferometer überträgt eine der
Prüfwellenfronten, die auf eine der mehreren Oberflächen
fällt, ein zweiter Weg durch das Interferometer überträgt die
andere der Prüfwellenfronten, die auf eine andere der mehreren
Oberflächen fällt, und ein dritter Weg durch das Interferome
ter überträgt die Referenzwellenfront unabhängig von den meh
reren Oberflächen zwischen Ausrichtpositionen mit den beiden
Prüfwellenfronten. Ein optisches System bezieht beide Prüfwel
lenfronten auf die Referenzwellenfront, zum Erzeugen von In
terferenzmustern zwischen jeder der beiden Prüfwellenfronten
und der Referenzwellenfront als Anzeige von Variationen in den
mehreren Oberflächen.
Das optische System weist eine erste Compound-Optik mit
verschiedenen Zonen zum Übertragen der beiden Wellenfronten
auf. Eine erste der Zonen hat ein Beugungsbild, das eine der
Prüfwellenfronten in bezug auf die Referenzwellenfront relativ
umformt. Eine zweite der Zonen weist eine andere optische Cha
rakteristik, z. B. Durchlaßfähigkeit oder Reflexion, zum Über
tragen der anderen Prüfwellenfront ohne Beugung auf. Die erste
Compound-Optik kann außerdem eine dritte Zone zum Übertragen
der Referenzwellenfront unabhängig von den beiden Prüfwellen
fronten aufweisen. Eine zweite Compound-Optik kann verwendet
werden, um die beiden Prüfwellenfronten mit der Referenzwel
lenfront zu vereinigen, um die beiden Wellenfronten aufeinan
der sowie auf die Referenzwellenfront zu beziehen, zum Ver
gleichen der relativen Orientierungen der mehreren Oberflä
chen.
Ein zweites Beispiel des erfindungsgemäßen Interferome
ters, das zur Durchführung mehrerer Messungen einer Prüf
oberfläche eingerichtet ist, erfordert außerdem eine Licht
quelle, die zwei Prüfwellenfronten und zumindest eine Refe
renzwellenfront erzeugt. Ein erster Weg reflektiert eine erste
der Prüfwellenfronten von der Prüfoberfläche, ein zweiter Weg
reflektiert eine zweite der Prüfwellenfronten von der gleichen
Prüfoberfläche, und ein dritter Weg überträgt die Referenzwel
lenfront unabhängig von der Prüfoberfläche in Ausrichtung mit
den beiden Prüfwellenfronten. Die beiden Prüfwellenfronten
werden vorzugsweise von unterschiedlichen Zonen mindestens ei
ner Compound-Optik übertragen, zum Beziehen der Prüfwellen
fronten auf einen gemeinsamen Bezugswert. Die beiden resultie
renden Interferenzbilder können verglichen werden, um sich ge
genseitig zu bestätigen oder verschiedene Ordnungen von Ober
flächenvariationen, z. B. Oberflächenrauhigkeit und Oberflä
chenwelligkeit, zu messen.
Vorzugsweise haben die erste und die zweite Zone einer
ersten Compound-Optik verschiedene Beugungsbilder, die die
beiden Prüfwellenfronten zu verschiedenen Formen relativ um
formen, zum Reflektieren von der Prüfoberfläche bei verschie
denen Streifwinkeln. Eine zweite Compound-Optik mit unter
schiedlichen Zonen mit verschiedenen Beugungsbildern wird au
ßerdem vorzugsweise zur weiteren relativen Umformung der bei
den reflektierten Prüfwellenfronten zu einer Form gemeinsam
mit der gleichen Referenzwellenfront verwendet.
Ein drittes Beispiel des erfindungsgemäßen Interferome
ters weist eine Compound-Optik zum mehrmaligen Übertragen ei
ner Prüfwellenfront auf. In Verbindung mit den üblichen Merk
malen einer Lichtquelle und den erforderlichen Wegen für Prüf-
und Referenzwellenfronten hat die Compound-Optik mehrere Zonen
zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von einer Prüf
oberfläche. Eine erste der mehreren Zonen weist eine erste op
tische Charakteristik zum Übertragen der Prüfwellenfront zur
Prüfoberfläche auf, und eine zweite der mehreren Zonen weist
eine zweite optische Charakteristik zum Übertragen der Prüf
wellenfront von der Prüfoberfläche auf. Zumindest eine der Zo
nen hat ein Beugungsbild zum relativen Beugen der Prüfwellen
front in bezug auf die Referenzwellenfront.
Eine der Zonen der Compound-Optik weist vorzugsweise
außerdem zumindest partielle Reflexion auf. Beugungsbilder
können verwendet werden, um die Prüfwellenfront vor oder nach
der Reflexion von der Prüfoberfläche umzuformen oder die Prüf-
und Referenzwellenfronten zu trennen oder zu vereinigen. Zu
sätzliche Zonen können verwendet werden, um die Referenzwel
lenfront unabhängig von der Prüfwellenfront zu übertragen oder
andere Prüfwellenfronten zu übertragen.
Ein viertes Beispiel des erfindungsgemäßen Interferome
ters stellt zumindest eines von einem Paar Beugungsoptiken als
Compound-Optik zum Ausrichten des Paares zu einer gemeinsame
Referenzachse dar. Eine erste der Beugungsoptiken hat eine
Meßzone, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwel
lenfront relativ umformt, zum Reflektieren der Prüfwellenfront
von der Prüfoberfläche in einem Streifwinkel. Eine zweite der
Beugungsoptiken hat eine Meßzone, die die Prüfwellenfront in
bezug auf die Referenzwellenfront weiter relativ umformt, zum
Erzeugen eines optischen Interferenzbildes zwischen der Prüf-
und der Referenzwellenfront als Anzeige von Variationen in der
Prüfoberfläche. Zumindest eine der Beugungsoptiken hat außer
dem eine Ausrichtzone, die sich von der Meßzone der gleichen
Beugungsoptik unterscheidet, zum Ausrichten der ersten und der
zweiten Beugungsoptik mit der gemeinsamen Referenzachse.
Die Ausrichtzone ist vorzugsweise eine Beugungszone mit
einem Rastermaß, das in bezug auf die Meßzone der gleichen
Beugungsoptik variiert, aber mit dem Rastermaß der Meßzone der
anderen Beugungsoptik übereinstimmt. Dadurch kann ein resul
tierendes Interferenzbild verwendet werden, um die beiden Op
tiken in einem Null-Zustand auszurichten. Als Alternative
könnten beide Beugungsoptiken Ausrichtzonen mit Fokussierqua
litäten zur Abstandseinstellung der Optiken entlang der Refe
renzachse aufweisen.
Fig. 1 ist eine schematische Darstellung des erfin
dungsgemäßen Interferometers, das für eine Messung mit einfa
chem Durchgang mit zwei Beugungsoptiken eingerichtet ist.
Fig. 2 ist eine Darstellung der im Interferometer ver
wendeten Beugungsoptiken zum Messen von zylindrischen Prüfin
nenflächen.
Fig. 3 ist eine Axialansicht einer Bilderzeugungsoptik,
die ein Interferenzbild wiedergibt, das Abweichungen in der
Prüfoberfläche darstellt.
Fig. 4 ist eine Axialansicht einer der Beugungsoptiken.
Fig. 5 ist eine geschnittene Teilansicht von zwei Beu
gungsoptiken.
Fig. 6A bis 6C sind Darstellungen, die die Anordnung
einer vorangehenden und einer nachfolgenden Beugungsoptik zum
gleichzeitigen Messen von Seiten- und Endflächen eines zylin
drischen Prüfstücks zeigen.
Fig. 7A ist eine Axialansicht der vorangehenden Beu
gungsoptik gemäß Fig. 6A bis 6C.
Fig. 7B ist eine Axialansicht der nachfolgenden Beu
gungsoptik gemäß Fig. 6A bis 6C.
Fig. 7C ist eine Axialansicht eines exemplarischen In
terferenzmusters, das aus der Messung der beiden Oberflächen
des zylindrischen Prüfstücks resultiert.
Fig. 8A bis 8C ist eine Reihe von Darstellungen, die
die Anordnung einer vorangehenden und einer nachfolgenden Beugungsop
tik zum gleichzeitigen Messen der Außenflächen eines Zylin
ders mit Konus zeigen.
Fig. 9A bis 9C ist eine Reihe von Darstellungen, die
die Anordnung einer vorangehender und einer nachfolgenden Beugungsop
tiken zum gleichzeitigen Messen der gleichen Oberfläche eines
Zylinders mit zwei verschiedenen Prüfwellenfronten zeigen.
Fig. 10 ist eine Darstellung einer einzelnen Compound-
Optik, die sowohl als vorangehende als auch als nachfolgende
Beugungsoptik zum Messen der Endfläche eines Zylinders dient.
Fig. 11A bis 11C ist eine Reihe von Darstellungen, die
die Anordnung einer vorangehenden und einer nachfolgenden Beugungsop
tiken sowohl zum Messen einer Prüfoberfläche als auch zum Aus
richten der vorangehenden und der nachfolgenden Beugungsoptik
zeigen.
Die Erfindung kann in den meisten Interferometeranord
nungen, einschließlich Einfach- oder Zweifachdurchgangsinter
ferometer, angewendet werden, ist jedoch zur Durchführung zu
mindest von bestimmten Messungen mit nichtnormalen Einfalls
winkeln besonders gut geeignet. Wir bezeichnen solche Winkel
als "Streifwinkel" bzw. "Glanzwinkel", die wir als nichtnorma
le Winkel definieren, die innerhalb eines Bereichs der spie
gelnden Reflexion gegenüber Prüfflächen geneigt sind.
Die Erfindung schließt vorzugsweise Beugungsoptiken zum
Manipulieren von optischen Wellenfronten (oder Strahlen) ein.
Fig. 2 bis 5 liefern zusätzliche Hintergrundinformation über
eine derartige Verwendung von Beugungsoptiken, wie zuerst in
den bereits genannten älteren, gleichzeitig anhängigen US-Patentanmeldungen
Nr. 08/375 499 und 08/483 737 (US-A-55654798) offenbart worden sind. Die übri
gen Zeichnungen zeigen verschiedene erfindungsgemäße Verbesse
rungen beim Umgang mit optischen Wellenfronten.
Ein exemplarisches Interferometer 10 ist in Fig. 1 in
einer Mach-Zender-Anordnung dargestellt. Das Prüfstück 12, das
auch in Fig. 2 dargestellt ist, ist auf einem Luftlager 16 an
geordnet, das von einer Richtplatte 18 auf einer Basis 20 ge
tragen wird. Das Luftlager 16 ermöglicht sowohl eine Rotati
ons- als auch eine Verschiebungssteuerung des Prüfstücks 12,
um mehrere Messungen von verschiedenen Positionen zu ermögli
chen. Mathematische Vergleiche zwischen den mehreren Messungen
können durchgeführt werden, um systematische Fehler zu besei
tigen.
Eine Lichtquelle 22, z. B. eine Laserdiode oder ein He-
Ne-Laser, erzeugt einen kohärenten Lichtstrahl. Eine optische
Faser 24 überträgt den Lichtstrahl durch die Basis 20 zu einem
Kollimator 26, der den Lichtstrahl zu einer planaren primären
Wellenfront 28 formt, die durch ausgewählte Strahlen darge
stellt wird. Eine vorangehende Beugungsoptik 30, z. B. ein
rundes Durchlaßbeugungsgitter oder eine binäre Optik, teilt
die planare Wellenfront 28 in eine Referenzwellenfront 32 und
eine Prüfwellenfront 34. Die Referenzwellenfront 32 bleibt ei
ne planare Wellenfront. Die Prüfwellenfront 34 wird jedoch von
der führenden Beugungsoptik 30 zu einer achsenkonischen Wel
lenfront umgeformt, die aus Strahlen besteht, die zu einer Re
ferenzachse 11 um einen ersten Beugungswinkel "µ" gleichmäßig
geneigt ist, der innerhalb der axialen Ebenen der Referenzach
se 11 gemessen wird.
Entsprechende transparente Öffnungen 36 und 38 durch
das Luftlager 16 und die Richtplatte 18 stellen einen Zwi
schenraum bereit, damit sich die Referenz- und die Prüfwellen
front 32 und 34 entlang der Referenzachse 11 durch einen hoh
len Mittelpunkt des Prüfstücks 12 ausbreiten können. Die Prüf
wellenfront 34 wird von verschiedenen Positionen der zylindri
schen Prüfoberfläche 14 mit einem konstanten Streifwinkel "θ"
reflektiert. Die nachfolgende Beugungsoptik 40 formt die re
flektierte Prüfwellenfront 34 weiter um einen zweiten Beu
gungswinkel "ν" zu einer planaren Wellenfront um. Zum Messen
von nominal geraden zylindrischen Oberflächen sind die beiden
Beugungswinkel "µ" und "ν" einander und dem konstanten Streif
winkel "θ" gleich.
Sowohl die Referenz- als auch die Prüfwellenfront 32
und 34 treten also aus der nachfolgenden Beugungsoptik 40 als
interferierende planare Wellenfronten aus. Wenn man außerdem
Fig. 3 betrachtet, so erzeugt die Bilderzeugungsoptik 42 ein
als Interferogramm bezeichnetes Bild 44 der Interferenz der
nachfolgenden Beugungsoptik 40 in einer Bildaufzeichnungsvor
richtung, z. B. einer Kamera 46. Das abgebildete Interferenz
bild 44, mit dem die Prüfoberfläche 14 überlagert wird, stellt
Abweichungen der Prüfoberfläche 14 von einer theoretischen zy
lindrischen Oberfläche dar.
Die interferierenden Wellenfronten, nämlich die Prüf-
und die Referenzwellenfront 32 und 34 könnten auch aus der
nachfolgenden Beugungsoptik 40 in einer gemeinsamen Form aus
treten, die sich von der dargestellten planaren Form unter
scheidet. Beispielsweise könnte die Referenzwellenfront zu ei
ner achsenkonischen Wellenfront gebeugt werden, die mit der
Prüfwellenfront übereinstimmt. Die Bilderzeugungsoptik 42 wür
de entsprechend modifiziert werden, um das erforderliche Bild
in der Kamera 46 darzustellen.
Die Kamera 46, die vorzugsweise eine Festkörper- oder
ladungsgekoppelte Vorrichtung (CCD) aufweist, zeichnet das In
terferenzbild zur Verarbeitung in einem Computer 48 auf. Die
Bilderzeugungsoptik kann in die Kamera 46 einbegriffen oder
als eine oder mehrere getrennte Elemente vorhanden sein. Die
Anzeigevorrichtung 50, z. B. eine Kathodenstrahlröhre, Flach
bildschirmvorrichtung oder ein Drucker, geben Information über
die zylindrische Prüfoberfläche 14 in einer geeigneten Form
aus. Zusätzlich zur topographischen Information könnten auch
ableitbare Maße wie etwa Rundheit, Geradheit, Kegelform und
Zylindrizität ausgegeben werden. Als Alternative könnte die
Information elektronisch gespeichert oder zur Verwendung bei
einem anderen Vorgang, z. B. Rückkopplung mit einem Herstel
lungsvorgang, übertragen werden.
Fig. 3 zeigt das ringförmige Interferenzbild 44, das in
der nachfolgenden Beugungsoptik 40 erscheint. Ein Referenz
punkt 52 im Interferenzbild 44 stimmt mit einem Schnittpunkt
der Referenzachse 11 überein. Exemplarische Reflexionspunkte
54, 56, 58 und 60 von der zylindrischen Prüfoberfläche 14 ent
sprechen den Punkten 54', 56', 58' und 60' im Interferenzmu
ster 44.
Winkel um die Referenzachse 11 herum zwischen den Re
flexionspunkten 54, 56 und 58, 60 von der zylindrischen Prüf
oberfläche 14 entsprechen gleichen Winkeln zwischen den Punk
ten 54', 56' und 58', 60' um den Referenzpunkt 52 herum. Axia
le Abstände entlang der Referenzachse 11 zwischen den Refle
xionspunkten 54, 58 und 56, 60 beziehen sich jedoch auf radia
len Abstände zwischen den Punkten 54', 58' und 56', 60' vom
Referenzpunkt 52. Beispielsweise haben die Reflexionspunkte 54
und 58 an einem Ende 62 der zylindrischen Prüfoberfläche 14
entsprechende Punkte, die sich in einem kürzeren radialen Ab
stand im Interferenzbild 44 befinden als die Reflexionspunkte
56 und 60 am anderen Ende 64 der zylindrischen Prüfoberfläche
14.
Höhenabweichungen der zylindrischen Prüfoberfläche 14
von der theoretischen Prüfoberfläche an den Reflexionspunkten
54, 56, 58 und 60 erscheinen als Phasendifferenzen an den ent
sprechenden Punkten 54', 56', 58' und 60' im Interferenzmuster
44. Genaue Maße dieser Phasendifferenzen werden durch herkömm
liche Phasenverschiebungstechniken ermittelt, bei denen opti
sche Wegdifferenzen zwischen der Referenzwellenfront 32 und
der Prüfwellenfront 34 über ganzzahlige Unterteilungen einer
Wellenlänge abgestuft werden. Intensitätinformation in jeder
Phasenstufe wird gespeichert, und ein vollständiges Phasenab
bild wird nach etablierten Fourier-Reihenverfahren berechnet.
Die Stufung kann auf vielerlei verschiedene Art und Weise er
folgen, z. B. durch Axialverschiebung einer der Beugungsopti
ken 30 oder 40, vorzugsweise der vorangehenden Optik 30, oder
durch Änderung der Wellenlänge der primären Wellenfront 28.
Die Empfindlichkeit des Interferometers 10, die ein Maß
der Abweichungsgröße ist, die durch die angrenzenden Ränder im
Interferenzmuster 44 dargestellt wird, nimmt bei zunehmenden
Streifwinkeln "θ" ab. Demzufolge werden größere Streifwinkel
"θ" innerhalb des Bereichs der spiegelnden Reflexion der Prüf
oberfläche 14 zur Verbesserung der Genauigkeit von einzeln ge
messenen Punkten bevorzugt.
Die Streifwinkel "θ" können jedoch auch die Größe der
Beugungsoptiken sowie das Auflösungsvermögen des Interferome
ters 10 beeinflussen. Die Kamera 46 wird vorzugsweise mit ei
nem einstellbaren Fokus bereitgestellt, um die Auflösung von
Punkten, die entlang dem innersten und dem äußersten Umfang 66
und 68 des Interferenzbildes 44 abgebildet sind, anzugleichen.
Bestimmte Beschränkungen der Abbildungswinkel, die von der Ka
mera 46 gesehen werden, können erwünscht sein, um Differenzen
zwischen der Auflösung von Punkten zu steuern, die entlang dem
innersten und dem äußersten Umfang 66 und 68 des Interferenz
bildes abgebildet sind.
Die vorangehende und die nachfolgende Beugungsoptik 30
und 40 sind ferner in Fig. 4 und 5 dargestellt. In Fig. 4 ist
die vorangehende Beugungsoptik 30 als Beugungsgitter mit einem
Beugungsbild dargestellt, das durch eine Anzahl von konzentri
schen geschlossenen Rillen 70 gebildet wird, zum Teilen des
Lichts in zwei verschiedene Beugungsordnungen. Die nachfolgen
de Beugungsoptik 40 ist vorzugsweise ein ähnliches Gitter, das
so orientiert ist, wie in der geschnittenen Teilansicht in
Fig. 5 dargestellt. Bei der Null-Beugungsordnung, die mit der
Referenzachse 11 ausgerichtet ist, bedeuten die positiven oder
"+"-Beugungsordnungen Lichtstrahlen, die zur Referenzachse 11
hin gebeugt werden, und negative oder "-"-Beugungsordnungen
Lichtstrahlen, die von der Referenzachse 11 weg gebeugt wer
den.
Die Referenzwellenfront 32 wird vorzugsweise von beiden
Beugungsoptiken 30 und 40 mit einer Null-Beugungsordnung
durchgelassen (gebeugt), und die Prüfwellenfront 34 wird vor
zugsweise von beiden Optiken 30 und 40 mit einer ersten Beu
gungsordnung durchgelassen (gebeugt). Die vorangehende Beu
gungsoptik 30 teilt jedoch die Referenz- und die Prüfwellen
front 32 und 34, und die nachfolgende Beugungsoptik 40 verei
nigt die beiden Wellenfronten 32 und 34.
Verschiedene Kombinationen von Beugungsordnungen könn
ten auch verwendet werden, um die Referenz- und die Prüfwel
lenfront zu teilen oder zu vereinigen. Beispielsweise könnte
für ein relatives Umformen beider Wellenfronten die Refe
renzwellenfront zu einer positiven ersten Ordnung und die
Prüfwellenfront zu einer negativen ersten Ordnung gebeugt wer
den. Die nachfolgende Beugungsoptik könnte auch bei einer hö
heren Beugungsordnung als die vorangehende Beugungsoptik (oder
umgekehrt) zum Prüfen von Oberflächen, die einen hohen Nei
gungswinkel zur Referenzachse haben, verwendet werden. Die
Prüfwellenfront könnte auch von der folgenden Beugungsoptik
mit einer Null-Ordnung gebeugt werden, und die Referenzwellen
front könnte von der gleichen Optik mit einer höheren Ordnung
gebeugt werden, um mit der Prüfwellenfront übereinzustimmen.
Die Rillen 70 in beiden Gittern sind mit einem konstan
ten Rastermaß "p" beabstandet, zum gleichmäßigen Neigen des
Prüfstrahls 34 in bezug auf den Referenzstrahl 32 um die Beu
gungswinkel "µ" und "". Die Empfindlichkeit als Maß, nämlich
Einheiten pro Rand entspricht einer Hälfte des Rastermaßes "p"
für die Beugungen erster Ordnung der Prüfwellenfront. Obwohl
sie im Maßstab variieren, haben die Rillen 70 Wege, die ge
formt werden, um mit Querabschnitten der zylindrischen Prüf
oberfläche 14 übereinzustimmen. Beispielsweise stimmt die in
nere Rille 72 mit dem Kreisabschnitt am hinteren Ende 64 der
Prüfoberfläche 14 und die äußere Rille 14 mit dem Kreisab
schnitt am vorderen Ende 61 der Prüfoberfläche 14 überein. Zu
sammengenommen stellen die Form und die Beabstandung der Ril
len 70 eine mathematische Beschreibung der Prüfoberfläche 14
dar.
Profile der Rillen 70 können geformt werden, um Beu
gungsenergien in der Null-, ersten und höheren Beugungsordnun
gen zu steuern. Beispielsweise können die Rillen 70 maximale
Intensität haben, um die Beugungsenergien innerhalb von nur
zwei Beugungsordnungen zu konzentrieren, die zur Beugung der
Referenz- und der Prüfwellenfront 32 und 34 verwendet werden.
Die Tiefe oder Breite der Rillen 70 kann auch verändert wer
den, um die Beugungsenergien zwischen den interferierenden
Wellenfronten, nämlich der Referenz- und der Prüfwellenfront
32 und 34 entsprechend zu teilen, um den Kontrast des Interfe
renzbildes 44 zu maximieren. Was das Reflexionsvermögen der
Prüfoberfläche 14 betrifft, so kann eine von beiden oder beide
Beugungsoptiken 30 oder 40 modifiziert werden, um dieses zu
erreichen.
Die Beugungsoptiken 30 und 40 können durch fotolitho
graphische Behandlung und Ätzung von Schichten unter Computer
steuerung für hohe Genauigkeit ausgeführt werden. Durch dieses
Verfahren der Herstellung kann ohne weiteres eine komplexe ma
thematische Beschreibung der Prüfoberflächen in die Beugungs
optiken einbezogen werden. Als Alternative können die Beu
gungsoptiken 30 und 40 hergestellt werden, indem Glassubstrate
zur Verbesserung der Lebensdauer geätzt oder das darunter lie
gende Substrat modifiziert wird, um ähnliche Modulationen der
Amplitude oder der Phase aufzuweisen.
Die verbleibenden Figuren der Zeichnungen zeigen ver
schiedene Beispiele von Verbesserungen, die durch die Erfin
dung ermöglicht werden. Alle Beispiele beruhen auf Modifika
tionen von Beugungsoptiken zur Erreichung zusätzlicher Funk
tionen. In vielen Fällen überlappen die Wege des Prüf- und des
Referenzstrahls, die die verschiedenen Funktionen erfüllen, so
daß getrennte Zeichnungen von verschiedenen Funktionen vorhan
den sind sowie Zeichnungen, die kombinierte Funktionen dar
stellen.
Beispielsweise zeigen Fig. 6A bis 6C, 7A und 7B voran
gehende und nachfolgende Compound-Beugungsoptiken 80 und 82
zum Messen von zwei Oberflächen 84 und 86 eines zylindrischen
Prüfstücks 88. Fig. 6A zeigt die entsprechenden Wege eines er
sten Prüfstrahls 90 und eines ersten Referenzstrahls 92 zum
Messen der Seitenfläche 84 des Prüfstücks 88. Fig. 6B zeigt
die entsprechenden Wege eines zweiten Prüfstrahls 94 und eines
zweiten Referenzstrahls 96 zum Messen der Endfläche 86 des
Prüfstücks. Fig. 6C zeigt die beiden Prüfstrahlen 90 und 94
und die beiden Referenzstrahlen 92 und 96 zum gleichzeitigen
Messen sowohl der Seitenfläche 84 als auch der Endfläche 86
des Prüfstücks 88.
Die vorangehende und die nachfolgende Beugungsoptik 80
und 82 werden zu einer gemeinsamen Referenzachse 98 ausgerich
tet, entlang der sich ein primärer Strahl 100 ausbreitet. Die
vorangehende Beugungsoptik 80, die auch in Fig. 7A dargestellt
ist, ist eine Compound-Optik mit einer ersten Beugungszone
102, die einen Teil des primären Strahls 100 in den ersten
Prüfstrahl 90 und den ersten Referenzstrahl 92 einteilt und
die den ersten Prüfstrahl 90 zu einer anderen Form umformt,
zum Reflektieren von der Seitenfläche 84 mit einem ersten vor
bestimmten Streifwinkel. Eine zweite Beugungszone 104 der vor
angehenden Beugungsoptik 80 läßt einen weiteren Teil des pri
mären Strahls 100 als den zweiten Prüfstrahl 94 durch und
formt den zweiten Prüfstrahl 94 zu einer anderen Form um, zum
Reflektieren von der Endfläche 86 mit einem zweiten vorbe
stimmten Streifwinkel. Bei Reflexion von der Endfläche 86 wird
der zweite Prüfstrahl 94 zur vorangehenden Beugungsoptik 80
zurückgeworfen, und zwar an einer anderen Stelle, wo er von
der Reflexionszone 106 wieder reflektiert wird. Schließlich
läßt die Durchlaßzone 108 noch einen weiteren Teil des primä
ren Strahls 100 als die zweite Referenzwellenfront 96 durch.
Die nachfolgende Beugungsoptik 82, die auch in Fig. 7B
dargestellt ist, ist auch eine Compound-Optik. Eine erste Beu
gungszone 110 formt den ersten Prüfstrahl 90 zu einer Form ge
meinsam mit dem ersten Referenzstrahl 92 weiter um und verei
nigt den ersten Prüf- und den ersten Referenzstrahl 90 und 92
zum Erzeugen eines ersten Interferenzbildes 112 (siehe Fig.
7C), das Variationen der Seitenfläche 84 darstellt. Ebenso
formt eine zweite Beugungszone 114 den zweiten Prüfstrahl 94
zu einer Form gemeinsam mit den zweiten Referenzstrahl 96 wei
ter um und vereinigt den zweiten Prüf- und den zweiten Refe
renzstrahl 94 und 96 zum Erzeugen eines zweiten Interferenz
bildes 116, das Variationen in der Endfläche 86 darstellt.
Da die Prüfstrahlen 90 und 94 von den gleichen Beu
gungsoptiken 80 und 82 übertragen werden, werden die resultie
renden Interferenzbilder 112 und 116, die aus der Bilderzeu
gungsoptik 42 austreten, mit einem gemeinsamen Bezugswert auf
einander bezogen. Dadurch kann der Computer 48 in Fig. 1 die
relative Orientierung zwischen der Seiten- und der Endfläche
84 und 86 vergleichen. Vorzugsweise sind die mehreren Zonen
der entsprechenden Beugungsoptiken, nämlich der vorangehenden
und der nachfolgenden, in gemeinsamen Substraten ausgebildet,
um für ein genaues Beziehen der beiden Prüfstrahlen 90 und 94
aufeinander zu sorgen.
Ein weiteres Beispiel der gleichzeitigen Messung von
zwei Oberflächen ist in Fig. 8A bis 8C dargestellt. Ein exem
plarisches Prüfstück 124 hat eine zylindrische Oberfläche 126
ähnlich dem vorhergehenden Beispiel und eine konische Oberflä
che 128. Die vorangehende und die nachfolgende Beugungsoptik
130 und 132 sind jeweils in Zonen geteilt, zum gleichzeitigen
Messen der beiden Oberflächen 126 und 128.
Die vorangehende Beugungsoptik 130 weist eine Beugungs
zone 134 ähnlich der vorhergehenden Ausführungsform auf, zum
Teilen eines Teils eines primären Strahls 136 in einen ersten
Prüfstrahl 138 und einen ersten Referenzstrahl 140 und zum Um
formen des ersten Prüfstrahls 138, um diesen in einem vorbe
stimmten Streifwinkel von der Zylinderfläche 126 zu reflektie
ren. Eine erste Durchlaßzone 142 läßt einen weiteren Teil des
primären Strahl 136 als zweiten Prüfstrahl 144 durch, der von
der konischen Oberfläche 128 in einem zweiten vorbestimmten
Streifwinkel reflektiert wird. Eine zweite Durchlaßzone 146
läßt noch einen weiteren Teil des primären Strahls 136 als
zweiten Referenzstrahl 148 durch. Als Alternative könnte die
erste Durchlaßzone 142 als zweite Beugungszone ähnlich der
vorhergehenden Ausführungsform ausgeführt werden, zum Umformen
des ersten Prüfstrahls 138 vor dem Reflektieren von der koni
schen Oberfläche 128.
Die nachfolgende Beugungsoptik 132 hat zwei Beugungszo
nen 150 und 152. Die Beugungszone 150 formt den ersten Prüf
strahl 138 zu einer Form gemeinsam mit dem ersten Referenz
strahl 140 um und vereinigt den ersten Prüf- und den ersten
Referenzstrahl 138 und 140 zum Erzeugen eines Interferenzbil
des von Variationen in der zylindrischen Oberfläche 126. Die
Beugungszone 152 formt den zweiten Prüfstrahl 144 zu einer
Form gemeinsam mit dem zweiten Referenzstrahl 148 um und ver
einigt den zweiten Prüf- und den zweiten Referenzstrahl 144
und 148 zum Erzeugen eines Interferenzbildes von Variationen
in der konischen Oberfläche 128. Die beiden Interferenzbilder
(nicht dargestellt) werden durch die mehreren Zonen der Beu
gungsoptiken 130 und 132 zum Transportieren des ersten und des
zweiten Prüfstrahls 138 und 144 aufeinander bezogen.
Ein Beispiel für die mehreren Messungen der gleichen
Oberfläche mit Compound-Beugungsoptiken ist in Fig. 9A bis 9C
dargestellt. Wiederum werden eine vorangehende und eine nach
folgende Compound-Beugungsoptik 190 und 192 verwendet. Ein
Prüfstück 194 hat eine zu messende einzelne zylindrische
Prüfoberfläche 196.
Die vorangehende Beugungsoptik 190 weist zwei Beugungs
zonen 198 und 200 auf. Die Beugungszone 198, die den Beugungs
zonen 102 und 134 der beiden vorhergehenden Ausführungsformen
ähnlich ist, teilt einen Teil eines primären Strahls 202 in
einen ersten Prüfstrahl 204 und in einen ersten Referenzstrahl
206. Die Beugungszone 200 teilt einen weiteren Teil des primä
ren Strahls 202 in einen zweiten Prüfstrahl 208 und einen
zweiten Referenzstrahl 210. Die beiden Prüfstrahlen 204 und
208 werden außerdem von ihren entsprechenden Beugungszonen 198
und 200 umgeformt, um diese in verschiedenen Streifwinkeln von
der gleichen Prüfoberfläche 196 zu reflektieren.
Die nachfolgende Beugungsoptik 192 weist außerdem zwei
Beugungszonen 212 und 214 auf. Die Beugungszone 212 formt den
ersten Prüfstrahl 204 um und vereinigt ihn mit dem ersten Re
ferenzstrahl 206. Die Beugungszone 214 formt den zweiten Prüf
strahl 208 um und vereinigt ihn mit dem zweiten Referenzstrahl
210. Die vereinigten Paare der Prüf- und Referenzstrahlen 204,
206 und 208, 210 erzeugen entsprechende Interferenzbilder von
Variationen in der Prüfoberfläche 196. Die beiden Interferenz
bilder können verglichen werden, um einander zu bestätigen
oder um verschiedene Ordnungen von Oberflächenvariationen (z.
B. Oberflächenrauhigkeit und Oberflächenwelligkeit) zu messen.
Fig. 10 zeigt ein Beispiel einer einzelnen Compound-
Optik 220, die sowohl als vorangehende als auch als nachfol
gende Beugungsoptik fungiert. Eine erste Beugungszone 222
formt einen Teil eines primären Strahls 224 zu einem Prüf
strahl 226 um, zum Reflektieren von einer Prüfoberfläche 228
eines Prüfstücks 230 in einem relativ steilen Streifwinkel.
Eine zweite Beugungszone 232 läßt einen weiteren Teil des pri
mären Strahls 224 als Referenzstrahl 234 durch und reflektiert
und formt den Prüfstrahl 226 um und vereinigt ihn wieder mit
dem Referenzstrahl 234. Die vereinigten Strahlen, nämlich der
Prüf- und der Referenzstrahl 226 und 234 erzeugen ein Interfe
renzbild als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche
228. Die erste Beugungszone 222 kann maximale Intensität ha
ben, um Spektralenergie innerhalb einer einzelnen Beugungsord
nung zu konzentrieren, aber die zweite Beugungszone 232 erfor
dert eine erste Beugungsordnung, die durchgelassen wird, und
eine zweite Beugungsordnung, die reflektiert wird.
Als Alternative könnte die zweite Beugungszone 232 so
angeordnet werden, daß ein Teil des primären Strahls 224 als
der Referenzstrahl 234 reflektiert wird und der Prüfstrahl 226
durchgelassen, umgeformt und mit dem Referenzstrahl vereinigt
wird. Außerdem könnte, anstatt den Referenzstrahl 234 durchzu
lassen oder zu reflektieren und den Prüfstrahl 226 umzuformen
und mit dem Referenzstrahl 234 zu vereinigen, die zweite Beu
gungszone so angeordnet werden, daß der Prüfstrahl 226 als
Teil einer Zweifachdurchgangsinterferometerkonfiguration
retroreflektiert wird. Die erste Beugungszone 222 wäre dann
erforderlich, um einen Teil des primären Strahls 224 als den
Referenzstrahl 234 zu reflektieren und den Prüf- und den Refe
renzstrahl 226 und 234 zu vereinigen.
Ein erfindungsgemäßes Beispiel zum Ausrichten eines
Paares einer vorangehenden und einer nachfolgenden Beugungsop
tik 240 und 242 zu einer gemeinsamen Referenzachse 224 ist in
Fig. 11A bis 11C dargestellt. Das Prüfstück 246, das mit der
vorangehenden und der nachfolgende Beugungsoptik 240 und 242
gemessen wird, ist ein konischer Zylinder oder Kegelstumpf mit
einer Prüfoberfläche 248.
Zum Messen der Prüfoberfläche 248 hat die vorangehende
Beugungsoptik 240 eine Beugungsmeßzone 250, die einen Teil ei
nes primären Strahls 252 in einen ersten Prüfstrahl 254 und in
einen ersten Referenzstrahl 256 teilt und die den ersten Prüf
strahl 254 zu einer anderen Form umformt, zum Reflektieren von
der Prüfoberfläche 248 in einem vorbestimmten Streifwinkel.
Die nachfolgende Beugungsoptik 242 hat eine Beugungsmeßzone
258, die den ersten Prüf- und den ersten Referenzstrahl 254
und 256 umformt und vereinigt, zum Erzeugen eines Interferenz
bildes als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche 248.
Zum Ausrichten der beiden Beugungsoptiken 240 und 242
hat die vorangehende Beugungsoptik eine Ausrichtzone 260, die
einen weiteren Teil des primären Strahls 252 als einen zweiten
Prüfstrahl 262 durchläßt und den zweiten Prüfstrahl 262 zu ei
ner Form umformt, die nach Reflexion von der Prüfoberfläche
248 mit der Gesamtform des ersten Prüfstrahls 254 überein
stimmt. Die Meßzone 250 der vorangehenden Beugungsoptik hat
einen erweiterten Teil, der noch einen weiteren Teil des pri
mären Strahls 252 als zweiten Referenzstrahl 264 durchläßt.
Ein ähnlich erweiterter Teil der Meßzone 258 der nachfolgenden
Beugungsoptik formt den zweiten Prüf- und den zweiten Refe
renzstrahl 262 und 264 um und vereinigt sie zur Erzeugung ei
nes Interferenzbildes als Anzeige von Variationen in der Aus
richtung der vorangehenden und der nachfolgenden Beugungsoptik
240 und 242 zur Referenzachse 244.
Vorzugsweise hat die Ausrichtzone 260 der vorangehenden
Beugungsoptik ein Beugungsbild, das mit einem Beugungsbild der
Meßzone 258 der nachfolgenden Beugungsoptik übereinstimmt,
sich jedoch von der Meßzone 250 der vorangehenden Beugungsop
tik unterscheidet. Beispielsweise haben beide Zonen 260 und
258 vorzugsweise das gleiche oder ein ähnliches Rastermaß zum
Ausrichten der beiden Beugungsoptiken 240 und 242 in einem so
genannten Null-Zustand, der vom resultierenden Interferenzbild
registriert wird. Das heißt, jede Variation gegenüber der ge
wünschten Ausrichtung ist aus dem resultierenden Interferenz
bild ersichtlich.
Als Alternative könnten die Beugungsoptiken 240 und 242
entsprechende Ausrichtzonen mit ähnlichen Beugungsbildern auf
weisen. Die beiden Ausrichtzonen könnten auch mit variierendem
Rastermaß ausgeführt sein, um Fokussierqualitäten zum Einstel
len der gewünschten Entfernung zwischen den Beugungsoptiken
240 und 242 aufzuweisen. Unabhängig davon, welche Fokussier
qualitäten durch die vorangehende Beugungsoptik 240 in den
zweiten Prüfstrahl 262 eingeführt werden, sie werden vorzugs
weise von der nachfolgenden Beugungsoptik 242 beseitigt, zum
Vergleichen des zweiten Prüf- und Referenzstrahls 262 und 264
in einem Null-Zustand.
Obwohl es möglich wäre, die Prüfoberfläche 248 gleich
zeitig zu messen, während die Ausrichtung der vorangehenden
und der nachfolgenden Beugungsoptiken 240 und 242 überwacht
wird, werden die Meß- und die Ausrichtfunktion vorzugsweise
getrennt durchgeführt. Während der Messung der Prüfoberfläche
262 kann ein Raumfilter 268 verwendet werden, um zum Ausrich
ten der Beugungsoptiken verwendetes Licht zu blockieren. Das
Raumfilter kann viele verschiedene Formen haben, einschließ
lich einer einstellbaren Apertur. Das Prüfstück 246 selbst
könnte auch verwendet werden, um das zum Ausrichten verwendete
Licht zu blockieren.
Alle vorhergehenden Beispiele, die unsere bevorzugten
erfindungsgemäßen Ausführungsformen offenbaren, sind in erster
Linie für Einfachdurchgangsmessungen unter Verwendung einer
vorangehenden und nachfolgenden Beugungsoptik zum Übertragen
sowohl einer Prüf- als auch einer Referenzwellenfront einge
richtet. Es wäre jedoch möglich, Reflexionsoptiken zur Durch
führung ähnlicher Zweifachdurchgangsmessungen einzurichten und
eine oder mehrere Referenzwellenfronten unabhängig von der
vorangehenden oder nachfolgenden Beugungsoptik zu übertragen.
Die Erfindung kann außerdem verwendet werden, um andere
und komplexere dreidimensionale Oberflächen, einschließlich
Innen-, Außen- und Endflächen von nichtkreisförmigen Zylindern
und Konen sowie Evolventenprofile, zu messen. Die Erfindung
ist jedoch besonders zum Messen von bearbeiteten Oberflächen,
z. B. Zylinderbohrungen, Kolben, Kegelrollenlagern und Getrie
bezähnen, geeignet. Die nichtlinearen Wege der Beugungsoptiken
können verändert werden, um nichtkreisförmige Querabschnitte
von Prüfoberflächen übereinzustimmen, und der Rastermaßabstand
der Beugungsbilder kann verändert werden, um mit Krümmungen in
axialen Teilen der Prüfoberflächen übereinzustimmen. Die Beu
gungsoptiken können auch abgestuft oder gekrümmt sein, um die
Wellenfronten weiter umzuformen oder Fokussierqualitäten be
reitzustellen. Begrenzte gekrümmte Abschnitte der Gitter kön
nen verwendet werden, um Oberflächen zu messen, die keine Sym
metrieachse haben. Wenn möglich, wird die Empfindlichkeit des
Interferometers vorzugsweise konstantgehalten, kann jedoch
durch Ändern des Rastermaßes des Beugungsbildes variiert wer
den.
Die mehreren Zonen der Compound-Optiken werden vorzugs
weise in einem gemeinsamen Substrat ausgebildet. Die Zonen
könnten jedoch auch in getrennten Strukturen ausgebildet wer
den, die durch einen gemeinsamen Bezugspunkt, z. B. eine Befe
stigungsvorrichtung, aufeinander bezogen sind. Die anderen Re
ferenzstrahlen, die tatsächlich Teile der gleichen Refe
renzwellenfront sind, können auch als einzelner Referenzstrahl
oder einzelne Referenzwellenfront angesehen werden. Zusätzli
che Zonen könnten auch zum gleichzeitigen Messen mehrerer
Oberflächen oder zur Durchführung mehrerer Messungen einer
einzigen Oberfläche verwendet werden. Der Fachmann wird auch
anerkennen, daß mehrere Funktionen der verschiedenen Beispiele
ausgetauscht und kombiniert werden können, um Compound-Optiken
zur Durchführung von noch mehr Funktionen aufzubauen.
Claims (66)
1. Interferometer zum Messen von mehreren Oberflächen
eines Prüfstücks, mit:
einer Lichtquelle, die zwei Prüfwellenfronten und min destens eine Referenzwellenfront erzeugt;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine der Prüfwellenfronten übertragen wird, die auf eine der mehreren Oberflächen fällt, einem zweiten opti schen Weg, entlang dem die andere der Prüfwellenfronten über tragen wird, die auf eine andere der mehreren Oberflächen fällt, einem dritten optischen Weg, entlang dem die Refe renzwellenfront unabhängig von den mehreren Oberflächen in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten übertragen wird;
wobei das optische System jede der beiden Prüfwellen fronten auf die Referenzwellenfront bezieht, zum Erzeugen von Interferenzmustern zwischen jeder der beiden Prüfwellenfronten und der Referenzwellenfront als Anzeige von Variationen in den mehreren Oberflächen;
das optische System außerdem eine erste Compound-Optik mit verschiedenen Zonen zum ertragen der beiden Prüfwellenfron ten entlang dem ersten oder zweiten optischen Weg aufweist;
eine erste der Zonen eine Beugungszone ist, die eine der Prüfwellenfronten in bezug auf die Referenzwellenfront re lativ umformt, und
eine zweite der Zonen eine andere optische Charakteri stik zum Übertragen der anderen Prüfwellenfront ohne Beugung aufweist.
einer Lichtquelle, die zwei Prüfwellenfronten und min destens eine Referenzwellenfront erzeugt;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine der Prüfwellenfronten übertragen wird, die auf eine der mehreren Oberflächen fällt, einem zweiten opti schen Weg, entlang dem die andere der Prüfwellenfronten über tragen wird, die auf eine andere der mehreren Oberflächen fällt, einem dritten optischen Weg, entlang dem die Refe renzwellenfront unabhängig von den mehreren Oberflächen in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten übertragen wird;
wobei das optische System jede der beiden Prüfwellen fronten auf die Referenzwellenfront bezieht, zum Erzeugen von Interferenzmustern zwischen jeder der beiden Prüfwellenfronten und der Referenzwellenfront als Anzeige von Variationen in den mehreren Oberflächen;
das optische System außerdem eine erste Compound-Optik mit verschiedenen Zonen zum ertragen der beiden Prüfwellenfron ten entlang dem ersten oder zweiten optischen Weg aufweist;
eine erste der Zonen eine Beugungszone ist, die eine der Prüfwellenfronten in bezug auf die Referenzwellenfront re lativ umformt, und
eine zweite der Zonen eine andere optische Charakteri stik zum Übertragen der anderen Prüfwellenfront ohne Beugung aufweist.
2. Interferometer nach Anspruch 1, bei dem die zweite
Zone eine Durchlaß zone zum Übertragen der anderen der Prüfwel
lenfronten ist.
3. Interferometer nach Anspruch 2, bei dem die erste Com
pound-Optik eine dritte Zone zum Übertragen der Referenzwel
lenfront unabhängig von den beiden Prüfwellenfronten aufweist.
4. Interferometer nach Anspruch 3, bei dem die erste
Compound-Optik eine vierte Zone zum weiteren Übertragen einer
der Prüfwellenfronten aufweist.
5. Interferometer nach Anspruch 4, bei dem die vierte
Zone eine Reflexionszone ist.
6. Interferometer zur Durchführung mehrerer Messungen
eines Prüfstücks bei streifendem Einfall, mit:
einer Lichtquelle, die zwei Prüfwellenfronten und zu mindest eine Referenzwellenfront erzeugt;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine erste der Prüfwellenfronten von einer wesent lichen Fläche des Prüfstücks in einem Streifwinkel reflektiert wird, einem zweiten optischen Weg, entlang dem eine zweite der Prüfwellenfronten von der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks in einem Streifwinkel reflektiert wird, einem drit ten Weg, entlang dem die Referenzwellenfront unabhängig vom Prüfstück in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten übertragen wird;
wobei das optische System eine erste Compound-Optik aufweist, die unterschiedliche Zonen aufweist, zum optischen Beziehen der beiden Prüfwellenfronten auf einen gemeinsamen Bezugswert;
die unterschiedlichen Zonen an der ersten Compound- Optik positioniert sind, zum getrennten Übertragen der beiden Prüfwellenfronten entlang dem ersten und dem zweiten optischen Weg;
eine erste der Zonen ein Beugungsbild zum relativen Beugen der ersten Prüfwellenfront in bezug auf die Refe renzwellenfront aufweist;
eine zweite der Zonen ein anderes Beugungsbild zum re lativen Beugen der zweiten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront aufweist; und
das optische System die erste und die zweite Prüfwel lenfront entlang den ersten und dem zweiten optischen Weg in verschiedenen Streifwinkeln zu der gleichen wesentlichen Flä che des Prüfstücks überträgt.
einer Lichtquelle, die zwei Prüfwellenfronten und zu mindest eine Referenzwellenfront erzeugt;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine erste der Prüfwellenfronten von einer wesent lichen Fläche des Prüfstücks in einem Streifwinkel reflektiert wird, einem zweiten optischen Weg, entlang dem eine zweite der Prüfwellenfronten von der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks in einem Streifwinkel reflektiert wird, einem drit ten Weg, entlang dem die Referenzwellenfront unabhängig vom Prüfstück in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten übertragen wird;
wobei das optische System eine erste Compound-Optik aufweist, die unterschiedliche Zonen aufweist, zum optischen Beziehen der beiden Prüfwellenfronten auf einen gemeinsamen Bezugswert;
die unterschiedlichen Zonen an der ersten Compound- Optik positioniert sind, zum getrennten Übertragen der beiden Prüfwellenfronten entlang dem ersten und dem zweiten optischen Weg;
eine erste der Zonen ein Beugungsbild zum relativen Beugen der ersten Prüfwellenfront in bezug auf die Refe renzwellenfront aufweist;
eine zweite der Zonen ein anderes Beugungsbild zum re lativen Beugen der zweiten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront aufweist; und
das optische System die erste und die zweite Prüfwel lenfront entlang den ersten und dem zweiten optischen Weg in verschiedenen Streifwinkeln zu der gleichen wesentlichen Flä che des Prüfstücks überträgt.
7. Interferometer nach Anspruch 6, bei dem das optische
System außerdem eine zweite Compound-Optik aufweist, die auf
weist: eine erste Zone mit einem Beugungsbild zum weiteren re
lativen Beugen der ersten Prüfwellenfront in Ausrichtung mit
der Referenzwellenfront entlang dem dritten optischen Weg und
eine zweite Zone mit einem anderen Beugungsbild zum weiteren
relativen Beugen der zweiten Prüfwellenfront in Ausrichtung
mit der Referenzwellenfront entlang dem dritten optischen Weg.
8. Interferometer nach Anspruch 7, bei dem die erste
und die zweite Zone der ersten Compound-Optik die erste und
die zweite Prüfwellenfront von einer gemeinsamen Form zu ver
schiedenen Formen relativ umformen und die erste und die zwei
te Zone der zweiten Compound-Optik die Prüfwellenfronten von
den verschiedenen Formen zu einer Form gemeinsam mit der glei
chen Referenzwellenfront relativ umformen.
9. Interferometer nach Anspruch 8, bei dem die erste
und die zweite Zone der zweiten Compound-Optik die beiden
Prüfwellenfronten mit der gleichen Referenzwellenfront verei
nigen.
10. Interferometer nach Anspruch 9, bei dem die erste
und die zweite Zone der Compound-Optik die entsprechenden
Prüfwellenfronten mit der Referenzwellenfront vereinigen, in
dem die Prüf- und Referenzwellenfronten mit verschiedenen Beu
gungsordnungen gebeugt werden.
11. Interferometer zum Messen einer Prüfoberfläche,
mit:
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in eine Prüfwellenfront und eine Referenzwellen front geteilt wird;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem die Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche reflek tiert wird, und einem zweiten optischen Weg, entlang dem die Referenzwellenfront unabhängig von der Prüfoberfläche in Aus richtung mit der Prüfwellenfront übertragen wird;
einer Compound-Optik mit verschiedenen Zonen zum Über tragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
wobei eine der Zonen eine erste optische Charakteristik aufweist, die die Übertragung der Prüfwellenfront zur Prüf oberfläche beeinflußt;
eine zweite der Zonen eine zweite optische Charakteri stik aufweist, die die Übertragung der Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche beeinflußt;
zumindest eine der ersten und zweiten Zone ein Beu gungsbild aufweist, zum relativen Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront; und
eine der ersten oder zweiten Zone zumindest partiell reflektierend ist;
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in eine Prüfwellenfront und eine Referenzwellen front geteilt wird;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem die Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche reflek tiert wird, und einem zweiten optischen Weg, entlang dem die Referenzwellenfront unabhängig von der Prüfoberfläche in Aus richtung mit der Prüfwellenfront übertragen wird;
einer Compound-Optik mit verschiedenen Zonen zum Über tragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
wobei eine der Zonen eine erste optische Charakteristik aufweist, die die Übertragung der Prüfwellenfront zur Prüf oberfläche beeinflußt;
eine zweite der Zonen eine zweite optische Charakteri stik aufweist, die die Übertragung der Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche beeinflußt;
zumindest eine der ersten und zweiten Zone ein Beu gungsbild aufweist, zum relativen Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront; und
eine der ersten oder zweiten Zone zumindest partiell reflektierend ist;
12. Interferometer nach Anspruch 11, bei dem die Com
pound-Optik außerdem die primäre Wellenfront in die Prüf- und
Referenzwellenfronten teilt.
13. Interferometer nach Anspruch 12, bei dem die zweite
Zone die Prüf- und Referenzwellenfronten vereinigt.
14. Interferometer nach Anspruch 13, bei dem die zweite
Zone zumindest partiell reflektierend ist.
15. Interferometer nach Anspruch 14, bei dem die zweite
Zone ein Beugungsbild hat, das die Prüfwellenfront in Ausrich
tung mit der Referenzwellenfront relativ beugt.
16. Interferometer nach Anspruch 12, bei dem die erste
Zone ein Beugungsbild hat, das die Prüfwellenfront in bezug
auf die Referenzwellenfront relativ umformt, zum Reflektieren
von der Prüfoberfläche in einem Streifwinkel.
17. Interferometer nach Anspruch 16, bei dem die Com
pound-Optik eine dritte Zone hat, die die Referenzwellenfront
unabhängig von der Prüfwellenfront überträgt.
18. Interferometer nach Anspruch 16, ferner mit einer
Beugungsoptik zum Vereinigen der Prüf- und Referenzwellenfron
ten.
19. Interferometer nach Anspruch 11, bei dem die opti
sche Charakteristik der ersten Zone Beugung aufweist.
20. Interferometer nach Anspruch 19, bei dem die opti
sche Charakteristik der zweiten Zone zumindest partielle Re
flexion aufweist.
21. Interferometer nach Anspruch 20, bei dem die opti
sche Charakteristik der ersten Zone außerdem Durchlaßfähigkeit
aufweist.
22. Interferometer nach Anspruch 20, bei dem die opti
sche Charakteristik der zweiten Zone außerdem Beugung auf
weist.
23. Interferometer nach Anspruch 22, bei dem die erste
und die zweite Zone Beugungsbilder aufweisen, die sich im Ra
stermaß unterscheiden.
24. Interferometer zum Messen einer Prüfoberfläche,
mit:
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in eine Prüfwellenfront und eine Referenzwellen front geteilt wird;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine erste der Prüfwellenfronten von der Prüfober fläche reflektiert wird, und einem zweiten optischen Weg, ent lang dem die Referenzwellenfront unabhängig von der Prüfober fläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront übertragen wird;
einer Compound-Optik mit einer ersten und einer zweiten Zone zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüf oberfläche;
wobei die erste Zone durchlässig zum Übertragen der Prüfwellenfront zur Prüfoberfläche ist; und
die zweite Zone reflektierend zum Übertragen der Prüf wellenfront von der Prüfoberfläche ist; und
einer Beugungsoptik mit einem Beugungsbild zum Kombi nieren der reflektierten Prüfwellenfront mit der Referenzwel lenfront zum Erzeugen eines Interferenzbildes als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche.
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in eine Prüfwellenfront und eine Referenzwellen front geteilt wird;
einem optischen System mit einem ersten optischen Weg, entlang dem eine erste der Prüfwellenfronten von der Prüfober fläche reflektiert wird, und einem zweiten optischen Weg, ent lang dem die Referenzwellenfront unabhängig von der Prüfober fläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront übertragen wird;
einer Compound-Optik mit einer ersten und einer zweiten Zone zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüf oberfläche;
wobei die erste Zone durchlässig zum Übertragen der Prüfwellenfront zur Prüfoberfläche ist; und
die zweite Zone reflektierend zum Übertragen der Prüf wellenfront von der Prüfoberfläche ist; und
einer Beugungsoptik mit einem Beugungsbild zum Kombi nieren der reflektierten Prüfwellenfront mit der Referenzwel lenfront zum Erzeugen eines Interferenzbildes als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche.
25. Interferometer nach Anspruch 24, bei dem die Com
pound-Optik eine dritte Zone aufweist, die durchlässig zum
Übertragen der Referenzwellenfront ist.
26. Interferometer nach Anspruch 25, bei dem die zweite
Zone die erste und die dritte Zone trennt.
27. Interferometer nach Anspruch 26, bei dem die erste
Zone außerdem ein Beugungsbild zum Beugen der Prüfwellenfront
hat.
28. Interferometer nach Anspruch 27, bei dem die erste
Zone die Prüfwellenfront umformt, zum Reflektieren von der
Prüfoberfläche in einem Streifwinkel.
29. Interferometer mit einer Vorrichtung zum Ausrichten
von optischen Elementen, die verwendet werden, um eine Prüf
oberfläche zu messen, mit:
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in Prüf- und Referenzwellenfronten geteilt wird;
einer ersten und einer zweiten Beugungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse;
wobei die erste Beugungsoptik eine Meßzone aufweist, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront relativ umformt, zum Reflektieren der Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche in einem Streifwinkel;
die zweite Beugungsoptik eine Meßzone aufweist, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront weiter relativ umformt, zur Erzeugen eines optischen Interferenzmu sters zwischen den Prüf- und Referenzwellenfronten als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche; und
zumindest eine der Beugungsoptiken eine Ausrichtzone aufweist, die sich von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik unterscheidet, zum Ausrichten der ersten und der zweiten Beu gungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse.
einer Lichtquelle, die eine primäre Wellenfront er zeugt, die in Prüf- und Referenzwellenfronten geteilt wird;
einer ersten und einer zweiten Beugungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse;
wobei die erste Beugungsoptik eine Meßzone aufweist, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront relativ umformt, zum Reflektieren der Prüfwellenfront von der Prüfoberfläche in einem Streifwinkel;
die zweite Beugungsoptik eine Meßzone aufweist, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront weiter relativ umformt, zur Erzeugen eines optischen Interferenzmu sters zwischen den Prüf- und Referenzwellenfronten als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche; und
zumindest eine der Beugungsoptiken eine Ausrichtzone aufweist, die sich von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik unterscheidet, zum Ausrichten der ersten und der zweiten Beu gungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse.
30. Interferometer nach Anspruch 29, bei dem die Meßzo
nen der ersten und der zweiten Beugungsoptik Beugungsbilder
aufweisen, die sich im Rastermaß unterscheiden.
31. Interferometer nach Anspruch 30, bei dem die Aus
richtzone eine Beugungszone mit einem Beugungsbild ist, das
sich im Rastermaß von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik
unterscheidet.
32. Interferometer nach Anspruch 31, bei dem die Aus
richtzone einer der Beugungsoptiken das gleiche Rastermaß wie
die Meßzone der anderen Beugungsoptik hat.
33. Interferometer nach Anspruch 32, bei dem es die
Ausrichtzone ermöglicht, daß sich die erste und die zweite
Beugungsoptik im wesentlichen in einem Null-Zustand ausrich
ten.
34. Interferometer nach Anspruch 29, bei dem die beiden
Beugungsoptiken Ausrichtzonen zum Ausrichten der ersten und
der zweiten Beugungsoptik mit der gemeinsamen Referenzachse
haben.
35. Interferometer nach Anspruch 34, bei dem die Aus
richtzonen der ersten und der zweiten Beugungsoptik Beugungs
bilder haben, die im Rastermaß übereinstimmen.
36. Interferometer nach Anspruch 35, bei dem die Meßzo
nen der ersten und der zweiten Beugungsoptik Beugungsbilder
haben, die sich im Rastermaß in bezug aufeinander und in bezug
auf die Beugungsbilder der Ausrichtzonen unterscheiden.
37. Interferometer nach Anspruch 29, bei dem die Aus
richtzone außerdem Fokussierqualitäten zur Abstandseinstellung
der ersten und der zweiten Beugungsoptik auf einen vorbestimm
ten Abstand entlang der gemeinsamen Referenzachse aufweist.
38. Interferometer nach Anspruch 37, bei dem die Aus
richtzone eine Beugungszone mit einem Beugungsbild mit einem
variierenden Rastermaß ist.
39. Interferometer nach Anspruch 37, bei dem die beiden
Beugungsoptiken Ausrichtzonen mit Fokussierqualitäten zur Ab
standseinstellung der Beugungsoptiken im wesentlichen in einem
Null-Zustand haben.
40. Interferometer nach Anspruch 29, bei dem die erste
Beugungsoptik außerdem die primäre Wellenfront in Prüf- und
Referenzwellenfronten sowie eine Ausrichtwellenfront teilt und
die zweite Beugungsoptik die Prüf- und Ausrichtwellenfronten
mit der Referenzwellenfront vereinigt.
41. Interferometer nach Anspruch 40, bei dem die Aus
richtzone der ersten Beugungsoptik die Ausrichtwellenfront in
bezug auf die Referenzwellenfront zu einer anderen Form als
die Prüfwellenfront, die auf die Prüfoberfläche fällt, relativ
umformt.
42. Interferometer nach Anspruch 41, bei dem die Aus
richtwellenfront ähnlich der Prüfwellenfront, die auf die
zweite Beugungsoptik fällt, geformt wird.
43. Interferometer nach Anspruch 40, bei dem die Aus
richtzone der zweiten Beugungsoptik die Ausrichtwellenfront in
bezug auf die Referenzwellenfront von einer Form, die sich von
der reflektierten Prüfwellenfront unterscheidet, zu einer Form
gemeinsam mit der Referenzwellenfront relativ umformt.
44. Interferometer nach Anspruch 29, ferner mit einem
Raumfilter zum Blockieren von von der Ausrichtzone durchgelas
senem Licht während der Messung der Prüfoberfläche.
45. Interferometer nach Anspruch 44, bei dem das Raum
filter die Aperturgröße zum Blockieren eines Teils zumindest
einer der Prüf- und Referenzwellenfronten einstellt.
46. Verfahren zum Durchführen mehrerer Messungen eines
Prüfstücks mit einem Interferometer bei streifendem Einfall,
mit den Schritten:
Erzeugen von zwei Prüfwellenfronten und zumindest einer Referenzwellenfront;
Übertragen einer ersten der Prüfwellenfronten entlang einem ersten Weg, der diese von einer wesentlichen Fläche des Prüfstücks zurückwirft;
Übertragen einer zweiten der Prüfwellenfronten entlang einem zweiten Weg, der diese von der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem drit ten Weg unabhängig vom Prüfstück in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten;
Beziehen der beiden Prüfwellenfronten aufeinander mit einer ersten Compound-Optik mit unterschiedlichen Zonen zum Übertragen der ersten und der zweiten Wellenfront entlang dem ersten und dem zweiten Weg;
relatives Beugen der ersten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront unter Verwendung einer ersten der unterschiedlichen Zonen; und
relatives Beugen der zweiten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront unter Verwendung einer zweiten der unterschiedlichen Zonen,
wobei die Schritte der Übertragung der ersten und der zweiten Prüfwellenfront aufweisen: Übertragen der ersten und der zweiten Prüfwellenfront in verschiedenen Streifwinkeln zu der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks.
Erzeugen von zwei Prüfwellenfronten und zumindest einer Referenzwellenfront;
Übertragen einer ersten der Prüfwellenfronten entlang einem ersten Weg, der diese von einer wesentlichen Fläche des Prüfstücks zurückwirft;
Übertragen einer zweiten der Prüfwellenfronten entlang einem zweiten Weg, der diese von der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem drit ten Weg unabhängig vom Prüfstück in Ausrichtung mit den beiden Prüfwellenfronten;
Beziehen der beiden Prüfwellenfronten aufeinander mit einer ersten Compound-Optik mit unterschiedlichen Zonen zum Übertragen der ersten und der zweiten Wellenfront entlang dem ersten und dem zweiten Weg;
relatives Beugen der ersten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront unter Verwendung einer ersten der unterschiedlichen Zonen; und
relatives Beugen der zweiten Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront unter Verwendung einer zweiten der unterschiedlichen Zonen,
wobei die Schritte der Übertragung der ersten und der zweiten Prüfwellenfront aufweisen: Übertragen der ersten und der zweiten Prüfwellenfront in verschiedenen Streifwinkeln zu der gleichen wesentlichen Fläche des Prüfstücks.
47. Verfahren nach Anspruch 46, mit den weiteren
Schritten: weiteres Beziehen der beiden Prüfwellenfronten auf
einander mit einer zweiten Compound-Optik mit unterschiedli
chen Zonen zum Übertragen der ersten und der zweiten Wellen
front entlang dem ersten und dem zweiten Weg und weiteres re
latives Beugen der ersten und der zweiten Prüfwellenfront un
ter Verwendung der unterschiedlichen Zonen der zweiten Com
pound-Optik.
48. Verfahren nach Anspruch 47, bei dem die Schritte
des weiteren relativen Beugens der ersten und der zweiten
Prüfwellenfront aufweisen: relatives Umformen der reflektier
ten Prüfwellenfronten von verschiedenen Formen zu einer Form
gemeinsam mit der gleichen Referenzwellenfront.
49. Verfahren nach Anspruch 48, bei dem die Schritte
des weiteren relativen Beugens der ersten und der zweiten
Prüfwellenfront aufweisen: Verwendung verschiedener Beugungs
ordnungen, um die beiden Wellenfronten mit der gleichen Refe
renzwellenfront zu vereinigen.
50. Verfahren zum Messen der Prüfoberfläche unter Ver
wendung einer Compound-Optik in einem Interferometer, mit den
Schritten:
Teilen einer primären Wellenfront in eine Prüfwellen front und eine Referenzwellenfront;
Übertragen der Prüfwellenfront entlang einem ersten Weg, der diese von der Prüfoberfläche zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem zwei ten Weg unabhängig von der Prüfoberfläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront;
Positionieren einer Compound-Optik entlang dem ersten Weg mit verschiedenen Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
Anordnen einer ersten und einer zweiten Zone der Com pound-Optik, um verschiedene optische Charakteristiken aufzu weisen; und
relatives Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront,
wobei der Schritt des Anordnens der ersten und der zweiten Zone aufweist: Anordnen einer der ersten oder der zweiten Zone, um zumindest partielles Reflexionsvermögen auf zuweisen.
Teilen einer primären Wellenfront in eine Prüfwellen front und eine Referenzwellenfront;
Übertragen der Prüfwellenfront entlang einem ersten Weg, der diese von der Prüfoberfläche zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem zwei ten Weg unabhängig von der Prüfoberfläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront;
Positionieren einer Compound-Optik entlang dem ersten Weg mit verschiedenen Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
Anordnen einer ersten und einer zweiten Zone der Com pound-Optik, um verschiedene optische Charakteristiken aufzu weisen; und
relatives Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront,
wobei der Schritt des Anordnens der ersten und der zweiten Zone aufweist: Anordnen einer der ersten oder der zweiten Zone, um zumindest partielles Reflexionsvermögen auf zuweisen.
51. Verfahren nach Anspruch 50, mit dem weiteren
Schritt: außerdem Positionieren der Compound-Optik entlang dem
zweiten Weg zum Teilen der primären Wellenfront in die Prüf-
und Referenzwellenfronten.
52. Verfahren nach Anspruch 51, bei dem der weitere
Schritt des Positionierens der Compound-Optik entlang dem
zweiten Weg für ein Vereinigen der Prüf- und Referenzwellen
fronten sorgt.
53. Verfahren nach Anspruch 50, bei dem der Schritt des
Übertragens der Prüfwellenfront aufweist: Verwendung der er
sten Zone der Compound-Optik, um die Prüfwellenfront zum Prüf
stück zu übertragen.
54. Verfahren Anspruch 53, bei dem die erste Zone
die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront zu
einer Form, die sich von der Referenzwellenfront unterschei
det, zum Reflektieren von der Prüfoberfläche in einem Streif
winkel relativ umformt.
55. Verfahren nach Anspruch 53, bei dem der Schritt des
Übertragens der Prüfwellenfront aufweist: Verwendung der zwei
ten Zone der Compound-Optik, um die Prüfwellenfront vom Prüf
stück zu übertragen.
56. Verfahren nach Anspruch 55, bei dem die zweite Zone
die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront zu
einer Form gemeinsam mit der Referenzwellenfront relativ um
formt.
57. Verfahren nach Anspruch 55, mit dem weiteren
Schritt: Anordnen der Compound-Optik mit einer dritten Zone,
die die Referenzwellenfront unabhängig von der Prüfwellenfront
überträgt.
58. Verfahren zum Messen einer Prüfoberfläche unter
Verwendung einer Compound-Optik in einem Interferometer, mit
den Schritten:
Teilen einer primären Wellenfront in eine Prüf- und ei ne Referenzwellenfront;
Übertragen der Prüfwellenfront entlang einem ersten Weg, der diese von der Prüfoberfläche zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem zwei ten Weg unabhängig von der Prüfoberfläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront;
Positionieren einer Compound-Optik entlang dem ersten Weg mit verschiedenen Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
Anordnen einer ersten und einer zweiten Zone der Com pound-Optik, um verschiedene optische Charakteristiken aufzu weisen; und
relatives Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront,
wobei der Schritt des Anordnens der ersten und der zweiten Zone aufweist: Anordnen einer der Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront und einer weiteren der Zonen zum Reflek tieren der Prüfwellenfront.
Teilen einer primären Wellenfront in eine Prüf- und ei ne Referenzwellenfront;
Übertragen der Prüfwellenfront entlang einem ersten Weg, der diese von der Prüfoberfläche zurückwirft;
Übertragen der Referenzwellenfront entlang einem zwei ten Weg unabhängig von der Prüfoberfläche in Ausrichtung mit der Prüfwellenfront;
Positionieren einer Compound-Optik entlang dem ersten Weg mit verschiedenen Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront zu und von der Prüfoberfläche;
Anordnen einer ersten und einer zweiten Zone der Com pound-Optik, um verschiedene optische Charakteristiken aufzu weisen; und
relatives Beugen der Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront,
wobei der Schritt des Anordnens der ersten und der zweiten Zone aufweist: Anordnen einer der Zonen zum Übertragen der Prüfwellenfront und einer weiteren der Zonen zum Reflek tieren der Prüfwellenfront.
59. Verfahren nach Anspruch 58, bei dem die beiden Zo
nen außerdem die Prüfwellenfront beugen.
60. Verfahren zum Ausrichten einer ersten und einer
zweiten Beugungsoptik in einem Interferometer zum Messen einer
Prüfoberfläche:
Erzeugen einer primären Wellenfront, die in Prüf- und Referenzwellenfronten geteilt wird;
Anordnen der ersten Beugungsoptik mit einer Meßzone, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront relativ umformt, zum Reflektieren der Prüfwellenfront von den Prüfoberflächen in einem Streifwinkel;
Anordnen der zweiten Beugungsoptik mit einer Meßzone, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront weiter relativ umformt, zum Erzeugen eines optischen Interfe renzmusters zwischen den Prüf- und Referenzwellenfronten als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche; und
Anordnen zumindest einer der ersten oder der zweiten Beugungsoptik, so daß eine Ausrichtzone vorhanden ist, die sich von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik unterscheidet, zum Ausrichten der ersten und der zweiten Beugungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse.
Erzeugen einer primären Wellenfront, die in Prüf- und Referenzwellenfronten geteilt wird;
Anordnen der ersten Beugungsoptik mit einer Meßzone, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront relativ umformt, zum Reflektieren der Prüfwellenfront von den Prüfoberflächen in einem Streifwinkel;
Anordnen der zweiten Beugungsoptik mit einer Meßzone, die die Prüfwellenfront in bezug auf die Referenzwellenfront weiter relativ umformt, zum Erzeugen eines optischen Interfe renzmusters zwischen den Prüf- und Referenzwellenfronten als Anzeige von Variationen in der Prüfoberfläche; und
Anordnen zumindest einer der ersten oder der zweiten Beugungsoptik, so daß eine Ausrichtzone vorhanden ist, die sich von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik unterscheidet, zum Ausrichten der ersten und der zweiten Beugungsoptik mit einer gemeinsamen Referenzachse.
61. Verfahren nach Anspruch 60, bei dem die Schritte
des Anordnens der ersten und der zweiten Brechungsoptik auf
weisen: Anordnen der entsprechenden Meßzonen der ersten und
der zweiten Beugungsoptik, um verschiedene Beugungsbilder auf
zuweisen.
62. Verfahren nach Anspruch 61, bei dem der Schritt des
Anordnens zumindest einer der ersten oder der zweiten Beu
gungsoptik, so daß eine Ausrichtzone vorhanden ist, aufweist:
Anordnen der Ausrichtzone als Beugungszone mit einem Beugungs
bild, das sich von der Meßzone der gleichen Beugungsoptik un
terscheidet.
63. Verfahren nach Anspruch 62, bei dem das Beugungs
bild der Ausrichtzone einer der Beugungsoptiken so angeordnet
wird, daß es mit dem Beugungsbild der Meßzone der anderen der
Beugungsoptiken übereinstimmt, zum Ausrichten der beiden Beu
gungsoptiken im wesentlichen in einem Null-Zustand.
64. Verfahren nach Anspruch 61, bei dem der Schritt des
Anordnens zumindest einer der ersten oder der zweiten Beu
gungsoptik, so daß eine Ausrichtzone vorhanden ist, aufweist:
Anordnen sowohl der ersten als auch der zweiten Optik, so daß
entsprechende Ausrichtzonen vorhanden sind.
65. Verfahren nach Anspruch 64, bei dem die entspre
chenden Ausrichtzonen mit Beugungsbildern angeordnet werden,
zum Ausrichten der beiden Beugungsoptiken im wesentlichen in
einem Null-Zustand.
66. Verfahren nach Anspruch 64, bei dem die entspre
chenden Ausrichtzonen mit Fokussierqualitäten angeordnet wer
den, zur Abstandseinstellung der beiden Beugungsoptiken im we
sentlichen in einem Null-Zustand.
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---|---|---|---|
US08/509,161 US5793488A (en) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | Interferometer with compound optics for measuring cylindrical objects at oblique incidence |
PCT/US1996/012145 WO1997005448A1 (en) | 1995-07-31 | 1996-07-24 | Interferometer with compound optics |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19681500T1 DE19681500T1 (de) | 1999-03-25 |
DE19681500C2 true DE19681500C2 (de) | 2000-04-20 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681500T Expired - Fee Related DE19681500C2 (de) | 1995-07-31 | 1996-07-24 | Interferometer mit Compound-Optik und Messverfahren mit diesem |
Country Status (5)
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---|---|
US (1) | US5793488A (de) |
JP (1) | JP3784415B2 (de) |
DE (1) | DE19681500C2 (de) |
GB (2) | GB2334345B (de) |
WO (1) | WO1997005448A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10039239A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Optische Messvorrichtung |
DE10303364A1 (de) * | 2003-01-29 | 2004-08-05 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co.Kg | Vorrichtung zur Bestimmung des Höhenprofils eines Objekts |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19602445A1 (de) * | 1996-01-24 | 1997-07-31 | Nanopro Luftlager Produktions | Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von zwei einander gegenüberliegenden Oberflächen eines Körpers |
US5719676A (en) * | 1996-04-12 | 1998-02-17 | Tropel Corporation | Diffraction management for grazing incidence interferometer |
US5889591A (en) * | 1996-10-17 | 1999-03-30 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of toric surfaces at grazing incidence |
US5777738A (en) * | 1997-03-17 | 1998-07-07 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of absolute dimensions of cylindrical surfaces at grazing incidence |
EP1103785A1 (de) * | 1999-11-26 | 2001-05-30 | Nova C.O.R.D. Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung von Formveränderungen an torusförmigen Prüfobjekten |
DE10195052B3 (de) * | 2000-01-25 | 2015-06-18 | Zygo Corp. | Verfahren und Einrichtungen zur Bestimmung einer geometrischen Eigenschaft eines Versuchsgegenstands sowie optisches Profilmesssystem |
US7027145B2 (en) * | 2003-06-24 | 2006-04-11 | The Regents Of The University Of Michigan | Reconfigurable surface finish inspection apparatus for cylinder bores and other surfaces |
US7433058B2 (en) * | 2004-07-12 | 2008-10-07 | Solvision Inc. | System and method for simultaneous 3D height measurements on multiple sides of an object |
WO2008110239A1 (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method |
US8018815B2 (en) * | 2008-08-15 | 2011-09-13 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Micro-Fresnel zone plate optical devices using densely accumulated ray points |
US8174695B2 (en) * | 2008-08-15 | 2012-05-08 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Arrayed micro-ring spectrometer system and method of use |
US8094306B2 (en) * | 2008-08-15 | 2012-01-10 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Micro ring grating spectrometer with adjustable aperture |
US8307528B2 (en) * | 2009-10-05 | 2012-11-13 | Sonnax Industries, Inc. | Low clearance machined part mating system |
DE102013203211A1 (de) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD106769A3 (de) * | 1972-01-04 | 1974-07-05 | Verfahren und anordnung zur pr]fung beliebiger mantelfl[chen rotationssymmetrischer festk\rper mittels synthetischer hologramme | |
EP0534795A2 (de) * | 1991-09-27 | 1993-03-31 | Hughes Aircraft Company | Verfahren und Vorrichtung zur Lichtstrahlerzeugung in einem mit mehreren Wellenlängen arbeitenden Interferometer |
US5654798A (en) * | 1995-01-19 | 1997-08-05 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of surfaces with diffractive optics at grazing incidence |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE233644C (de) * | ||||
DE215388C (de) * | ||||
DE106769C (de) * | ||||
GB1142702A (en) * | 1965-06-15 | 1969-02-12 | Nat Res Dev | Interferometric examination of objects and materials |
US3907438A (en) * | 1973-06-22 | 1975-09-23 | Gen Electric | Contour measuring system for cylinders |
US4436424A (en) * | 1981-07-27 | 1984-03-13 | Gca Corporation | Interferometer using transverse deviation of test beam |
US4391526A (en) * | 1981-08-24 | 1983-07-05 | Itek Corporation | Interferometric surface contour measuring arrangement |
US4606640A (en) * | 1984-04-02 | 1986-08-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Method and apparatus for optically testing cylindrical surfaces |
US4678333A (en) * | 1985-05-10 | 1987-07-07 | Nicolet Instrument Corporation | Double-pass optical interferometer |
JPS62177421A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 斜入射干渉計装置 |
US4653522A (en) * | 1986-07-07 | 1987-03-31 | Woodford Manufacturing Company | Ground hydrant and method for operating same |
US4791584A (en) * | 1986-10-15 | 1988-12-13 | Eastman Kodak Company | Sub-nyquist interferometry |
US4898470A (en) * | 1988-07-12 | 1990-02-06 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for testing circular cylindrical or conical surfaces |
US5041726A (en) * | 1990-06-11 | 1991-08-20 | Hughes Aircraft Company | Infrared holographic defect detector |
JP2619566B2 (ja) * | 1990-11-20 | 1997-06-11 | オ−クマ株式会社 | 光学式位置検出器 |
JPH04221704A (ja) * | 1990-12-25 | 1992-08-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 位相シフト斜入射干渉計 |
US5220403A (en) * | 1991-03-11 | 1993-06-15 | International Business Machines Corporation | Apparatus and a method for high numerical aperture microscopic examination of materials |
US5210591A (en) * | 1991-08-02 | 1993-05-11 | Hughes Aircraft Company | Interferometric ball bearing test station |
US5268742A (en) * | 1992-06-15 | 1993-12-07 | Hughes Aircraft Company | Full aperture interferometry for grazing incidence optics |
JPH0611323A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Minolta Camera Co Ltd | 形状測定装置 |
US5526116A (en) * | 1994-11-07 | 1996-06-11 | Zygo Corporation | Method and apparatus for profiling surfaces using diffractive optics which impinges the beams at two different incident angles |
-
1995
- 1995-07-31 US US08/509,161 patent/US5793488A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-07-24 JP JP50769897A patent/JP3784415B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-24 DE DE19681500T patent/DE19681500C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-24 GB GB9909487A patent/GB2334345B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-24 GB GB9800874A patent/GB2318425B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-24 WO PCT/US1996/012145 patent/WO1997005448A1/en active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD106769A3 (de) * | 1972-01-04 | 1974-07-05 | Verfahren und anordnung zur pr]fung beliebiger mantelfl[chen rotationssymmetrischer festk\rper mittels synthetischer hologramme | |
EP0534795A2 (de) * | 1991-09-27 | 1993-03-31 | Hughes Aircraft Company | Verfahren und Vorrichtung zur Lichtstrahlerzeugung in einem mit mehreren Wellenlängen arbeitenden Interferometer |
US5654798A (en) * | 1995-01-19 | 1997-08-05 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of surfaces with diffractive optics at grazing incidence |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JP 4-221704 A, In: Pat. Abstr. of JP, P-1459, Dec. 11, 1992, Vol. 16/No. 571 * |
JP 62-177421 A, In: Pat. Abstr. of JP, P-658, January, 23, 1988, Vol. 12/No. 23 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10039239A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Optische Messvorrichtung |
DE10303364A1 (de) * | 2003-01-29 | 2004-08-05 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co.Kg | Vorrichtung zur Bestimmung des Höhenprofils eines Objekts |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5793488A (en) | 1998-08-11 |
GB9909487D0 (en) | 1999-06-23 |
GB2318425B (en) | 1999-07-14 |
DE19681500T1 (de) | 1999-03-25 |
GB9800874D0 (en) | 1998-03-11 |
JPH11510251A (ja) | 1999-09-07 |
JP3784415B2 (ja) | 2006-06-14 |
WO1997005448A1 (en) | 1997-02-13 |
GB2334345A (en) | 1999-08-18 |
GB2334345B (en) | 2000-01-19 |
GB2318425A (en) | 1998-04-22 |
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