DE19819797A1 - Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung - Google Patents

Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung

Info

Publication number
DE19819797A1
DE19819797A1 DE19819797A DE19819797A DE19819797A1 DE 19819797 A1 DE19819797 A1 DE 19819797A1 DE 19819797 A DE19819797 A DE 19819797A DE 19819797 A DE19819797 A DE 19819797A DE 19819797 A1 DE19819797 A1 DE 19819797A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alloy
silver
gold
indium
assembly according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19819797A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19819797C2 (de
Inventor
Lynn M Seifried
Joseph F Lessar
William D Wolf
Mary A Fraley
Kevin K Tidemand
David B Engmark
Ronald R Hoch
Craig L Wiklund
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Medtronic Inc
Original Assignee
Medtronic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Medtronic Inc filed Critical Medtronic Inc
Publication of DE19819797A1 publication Critical patent/DE19819797A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19819797C2 publication Critical patent/DE19819797C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/18Applying electric currents by contact electrodes
    • A61N1/32Applying electric currents by contact electrodes alternating or intermittent currents
    • A61N1/36Applying electric currents by contact electrodes alternating or intermittent currents for stimulation
    • A61N1/372Arrangements in connection with the implantation of stimulators
    • A61N1/375Constructional arrangements, e.g. casings
    • A61N1/3752Details of casing-lead connections
    • A61N1/3754Feedthroughs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004Details
    • H01G9/08Housing; Encapsulation
    • H01G9/10Sealing, e.g. of lead-in wires
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/18Applying electric currents by contact electrodes
    • A61N1/32Applying electric currents by contact electrodes alternating or intermittent currents
    • A61N1/36Applying electric currents by contact electrodes alternating or intermittent currents for stimulation
    • A61N1/362Heart stimulators
    • A61N1/37Monitoring; Protecting
    • A61N1/3718Monitoring of or protection against external electromagnetic fields or currents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/43Electric condenser making
    • Y10T29/435Solid dielectric type

Description

Die Erfindung bezieht sich auf elektrische Durchführungen ver­ besserten Aufbaus und auf ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
Elektrische Durchführungen dienen dem Zweck, einen elektrischen Stromkreis zu schaffen, der sich von dem Inneren eines herme­ tisch verschlossenen Behälters aus zu einem äußeren Punkt au­ ßerhalb des Behälters erstreckt. Ein leitfähiger Pfad in Form eines Leiterstiftes erstreckt sich durch die Durchführung, der von dem Behälter elektrisch isoliert ist. Viele derartige Durchführungen sind bekannter Stand der Technik, die den elek­ trischen Pfad schaffen und den elektrischen Behälter vor seiner Umgebung verschließen. Solche Durchführungen weisen üblicher­ weise eine Muffe auf, den Leiter- oder Anschlußstift und eine hermetische Glas- oder Keramikdichtung, die den Stift innerhalb der Muffe trägt. Solche Durchführungen werden gewöhnlich in elektrischen medizinischen Vorrichtungen wie implantierbaren Impulsgeneratoren (implantable pulse generators oder IPGs) ver­ wendet. Kürzlich ist festgestellt worden, daß solche elektri­ schen Vorrichtungen unter gewissen Umständen für elektromagne­ tische Störung (electromagnetic interference oder EMI) empfäng­ lich sind. Zum Beispiel kann bei gewissen Frequenzen die Fre­ quenzsteuerung in einem implantierbaren Impulsgenerator durch die elektromagnetische Störung blockiert werden. Dieses Problem ist gelöst worden, indem ein Kondensatorgebilde in die Durch­ führungsmuffe eingebaut worden ist, so daß jede elektromagneti­ sche Störung an dem Eingang zu dem implantierbaren Impulsgene­ rator über einen Nebenschluß geleitet wird. Das ist mit dem vorgenannten Kondensatorgebilde erreicht worden, indem dieser mit der Durchführung kombiniert worden ist und indem er direkt in die Durchführungsmuffe eingebaut worden ist. Üblicherweise ist der Kondensator mit dem Anschlußstift und der Muffe in elektrischem Kontakt.
Einige der populäreren Materialien, die verwendet werden, um den Anschlußstift zu bilden, sind Tantal und Niobium. Leider kommt es bei Tantal und Niobium zur Bildung von Oxid, das je nach seiner Ausdehnung als ein Isolator statt als ein Leiter auf der Oberfläche des Anschlußstifts wirken kann. Während der Herstellung einer Kombination aus Durchführung und Kondensator wird der Stift einer oder mehreren Wärmebehandlungen unterwor­ fen, die eine Oxidation fördern können, welche die Leitfähig­ keit des Anschlußstifts und dessen Fähigkeit, gute elektrische Verbindungen zwischen anderen Elementen einschließlich des Kon­ densators usw. herzustellen, beeinträchtigen kann.
Viele verschiedene Isolatorgebilde und zugehörige Befestigungs­ methoden sind im Stand zur Verwendung in medizinischen Vorrich­ tungen bekannt, wobei das Isolatorgebilde auch für eine herme­ tische Abdichtung sorgt, um den Eintritt von Körperflüssigkei­ ten in das Gehäuse der medizinischen Vorrichtung zu verhindern. Die Durchführungsanschlußstifte sind jedoch mit einem oder meh­ reren Zuleitungsdrähten verbunden, die effektiv als eine An­ tenne wirken und so dazu tendieren, Streusignale oder elektro­ magnetische Störsignale zur Übertragung in das Innere der medi­ zinischen Vorrichtung zu sammeln. Bei einigen bekannten Vor­ richtungen werden Keramikchipkondensatoren der inneren Elek­ tronik hinzugefügt, um die Auswirkungen von solchen Störsigna­ len zu filtern und so zu steuern. Diese interne, sog. "Bord"- Filtertechnik hat potentielle ernste Nachteile aufgrund von pa­ rasitären Eigenresonanzen der Chipkondensatoren und von Strah­ lung durch elektromagnetische Störung, die in das Innere des Vorrichtungsgehäuses gelangt.
Bei einer weiteren und normalerweise bevorzugten Lösung wird ein Filterkondensator direkt mit einer Anschlußstiftbaugruppe kombiniert, um Störsignale von dem Gehäuse der medizinischen Vorrichtung zu entkoppeln. Bei einer typischen Konstruktion wird ein koaxialer Durchführungsfilterkondensator mit einer Durchführungsbaugruppe verbunden, um eine unerwünschte Übertra­ gung von Störung oder Rauschen längs eines Anschlußstiftes zu unterdrücken und zu entkoppeln.
Sogenannte diskoidale oder scheibenförmige Kondensatoren, die zwei Sätze von Elektrodenbelägen haben, welche in beabstandeter Relation in ein isolierendes Substrat oder Unterteil eingebet­ tet sind, bilden üblicherweise einen Keramikmonolith in solchen Kondensatoren. Der eine Satz von Elektrodenbelägen ist an einer inneren Umfangsoberfläche des scheibenförmigen Gebildes mit dem leitfähigen Anschlußstift elektrisch verbunden, der benutzt wird, um das gewünschte elektrische Signal oder die gewünschten elektrischen Signale weiterzuleiten. Der andere oder zweite Satz von Elektrodenbelägen ist an einer äußeren Umfangsoberflä­ che des scheibenförmigen Kondensators mit einer zylindrischen Muffe aus leitfähigem Material verbunden, wobei die Muffe ih­ rerseits mit dem leitfähigen Gehäuse des elektronischen Geräts elektrisch verbunden ist.
Im Betrieb gestattet der scheibenförmige Kondensator den Durch­ gang von elektrischen Signalen relativ niedriger Frequenz längs des Anschlußstiftes, wogegen er unerwünschte Störsignale von üblicherweise hoher Frequenz abschirmt und zu dem leitfähigen Gehäuse hin über einen Nebenschluß leitet. Durchführungskonden­ satoren dieses allgemeinen Typs werden üblicherweise in implan­ tierbaren Herzschrittmachern, Defibrillatoren und dgl. verwen­ det, wobei ein Vorrichtungsgehäuse aus einem leitfähigen, bio­ kompatiblen Metall wie Titan aufgebaut ist und mit dem Durch­ führungsfilterkondensator elektrisch verbunden ist. Die Bau­ gruppe aus Filterkondensator und Anschlußstift hindert Störsi­ gnale am Eindringen in das Innere des Vorrichtungsgehäuses, wo solche Störsignale sonst eine gewünschte Funktion wie die Frequenzsteuerung oder Defibrillation nachteilig beeinflussen könnten.
In der Vergangenheit sind Durchführungsfilterkondensatores für Herzschrittmacher und dgl. üblicherweise hergestellt worden durch Vormontage des scheibenförmigen Kondensators mit einer Anschlußstiftunterbaugruppe, welche den leitfähigen Anschluß­ stift und die Muffe umfaßt. Die Anschlußstiftunterbaugruppe wird vorfabriziert, so daß sie einen oder mehrere leitfähige Anschlußstifte aufweist, die innerhalb der leitfähigen Muffe mit Hilfe eines hermetisch abgedichteten Isolatorringes oder einer hermetisch abgedichteten Isolierwulst gehaltert sind. Verwiesen sei hierzu beispielsweise auf die Anschlußstiftun­ terbaugruppen, die in den US-Patenten Nr. 3 920 888, 4 152 540, 4 421 947 und 4 424 551 beschrieben sind. Die Anschluß­ stiftunterbaugruppe bildet so einen kleinen ringförmigen Raum oder Spalt, der radial zwischen dem inneren Anschlußstift und der äußeren Muffe angeordnet ist. Ein kleiner diskoidaler oder scheibenförmiger Kondensator von passender Größe und Form wird dann in den ringförmigen Raum oder Spalt in leitfähiger Rela­ tion mit dem Anschlußstift und der Muffe mit Hilfe von Löten, leitfähigem Klebstoff usw. installiert. Die so aufgebaute Durchführungskondensatorbaugruppe wird dann in einer Öffnung in dem Herzschrittmachergehäuse befestigt, und zwar mit der leit­ fähigen Muffe in elektrischer und hermetisch abgedichteter Re­ lation in bezug auf das Gehäuse, die Abschirmung oder den Be­ hälter der medizinischen Vorrichtung.
Durchführungsfilterkondensatorbaugruppen des oben beschriebenen Typs haben sich zwar als allgemein zufriedenstellend erwiesen, die Herstellung und die Installation von solchen Filterkonden­ satorbaugruppen ist jedoch relativ teuer und schwierig. Zum Beispiel kann das Einbauen des scheibenförmigen Kondensators in den kleinen Ringraum zwischen dem Anschlußstift und der Muffe eine schwierige und komplexe, aus mehreren Schritten bestehende Prozedur sein, wenn die Herstellung von zuverlässigen elektri­ schen Verbindungen hoher Qualität gewährleistet sein soll. Dar­ über hinaus begrenzt der Einbau des Kondensators an dieser Stelle von Haus aus den Kondensator auf eine geringe Größe und begrenzt so auch dessen Kapazität. Ebenso kann durch das an­ schließende Befestigen der elektrisch leitfähigen Muffe an dem Herzschrittmachergehäuse, was üblicherweise durch Schweiß- oder Hartlötprozesse od. dgl. erfolgt, der zerbrechliche scheiben­ förmige Keramikkondensator Temperaturvariationen ausgesetzt werden, die ausreichen, um die Gefahr zu erzeugen, daß der Kon­ densator bricht und ausfällt.
Es gibt deshalb einen beträchtlichen Bedarf an Verbesserungen bei Durchführungsfilterkondensatorbaugruppen des Typs wie er beispielsweise in implantierbaren medizinischen Vorrichtungen wie Herzschrittmachern und dgl. verwendet wird, wobei der Fil­ terkondensator für eine relativ vereinfachte und wirtschaftli­ che, jedoch äußerst zuverlässige Installation ausgelegt ist. Darüber hinaus gibt es einen Bedarf an einer verbesserten Durchführungsbaugruppe, die einen scheibenförmigen Kondensator hat, der dafür ausgelegt werden kann, eine beträchtlich erhöhte Kapazität für eine verbesserte Filterung bereitzustellen. Die vorliegende Erfindung erfüllt diesen Bedarf und bringt weitere Vorteile mit sich.
Druckschriften, die sich auf implantierbare medizinische Vor­ richtungen, Durchführungen und die kapazitive Filterung von elektromagnetischer Störung beziehen, beinhalten die Patente, die in der folgenden Tabelle 1 aufgelistet sind.
US-Patente
US-Patente
US-Patente
Ausländische Patente
Dem einschlägigen Fachmann wird bei dem Lesen der Zusammenfas­ sung der Erfindung, der ausführlichen Beschreibung der bevor­ zugten Ausführungsformen und der Patentansprüche, die sich hier anschließen, klar werden, daß viele der Vorrichtungen und Ver­ fahren, die in den in Tabelle 1 angegebenen Patenten beschrie­ ben sind, vorteilhafterweise modifiziert werden können, indem die Lehren der vorliegenden Erfindung benutzt werden.
Die vorliegende Erfindung hat gewisse Ziele. Das heißt, die vorliegende Erfindung schafft Lösungen für wenigstens einige der Probleme, die im Stand der Technik bei kapazitiven Filtern in Durchführungsbaugruppen existieren.
Die vorliegende Erfindung schafft Lösungen für wenigstens ei­ nige der Probleme, die mit den herkömmlichen Konstruktionen ei­ ner Kapazitivfilter-Durchführungsbaugruppe verbunden sind, in denen ein scheibenförmiger Kondensator innerhalb von Muffenwän­ den plaziert ist, wie z. B. in dem US-Patent Nr. 4 424 551. We­ nigstens einige Aspekte der Kapazitivfilter-Durchführungsbau gruppen, die in dem US-Patent '551 beschrieben sind, können allgemein folgendermaßen charakterisiert werden:
  • a) Sie beinhalten schwierige Schritte der Plazierung von leitfähigem Epoxy;
  • b) sie haben hohe elektrische Widerstände an Grenzflä­ chen zwischen feuerfestem Material und Metall auf­ grund des Vorhandenseins von leitfähigem Epoxy und unerwünschten Metalloxiden;
  • c) sie haben eine schlechte oder variable elektrische Leistungsfähigkeit in bezug auf die Dämpfung von Si­ gnalen aufgrund von elektromagnetischer Störung;
  • d) sie erfordern mehrere arbeitsintensive Verfahrens­ schritte bei der Fertigung;
  • e) sie haben Durchführungsstifte, die nicht mit Draht oder nur schwierig mit Draht verbunden werden können;
  • f) sie weisen elektrische Kurzschlüsse aufgrund von un­ kontrollierter oder ungenauer Expoxyplazierung auf;
  • g) ihre Kondensatoren reißen aufgrund von unterschiedli­ chen Wärmeausdehnungskoeffizienten des leitfähigen Gehäuses, des Kondensators oder des elektrisch leit­ fähigen Epoxys, das üblicherweise verwendet wird, um den Kondensator an einer Muffe oder einem Behälter zu befestigen;
  • h) sie bieten keine Möglichkeit für eine visuelle In­ spektion der Durchführungsbaugruppe, nachdem diese in der Vorrichtung installiert worden ist.
Die vorliegende Erfindung schafft Lösungen für wenigstens ei­ nige der Probleme, die mit herkömmlichen Kapazitivfilter-Durch­ führungsbaugruppenkonstruktionen verbunden sind, bei denen ein Kondensator auf einer Seite einer Durchführung plaziert wird, wie z. B. in dem US-Patent Nr. 5 333 095. Kapazitivfilter-Durch­ führungsbaugruppen, die in dem US-Patent '095 beschrieben sind, können allgemein folgendermaßen charakterisiert werden:
  • a) Sie gestatten nicht die Verwendung von Paß- oder Zen­ trierelementen;
  • b) sie haben Durchführungsstifte, die nicht mit Draht oder nur schwierig mit Draht verbunden werden können;
  • c) es treten Kondensatorrisse aufgrund von unterschied­ lichen Wärmeausdehnungskoeffizienten des leitfähigen Bechers und des Kondensators auf;
  • d) sie haben eine schlechte mechanische Verbindungsfe­ stigkeit.
Die vorliegende Verbindung schafft Lösungen für wenigstens ei­ nige der Probleme, die mit den herkömmlichen Kapazitivfilter Durchführungsbaugruppenkonstruktionen verbunden sind, bei denen Weichlot verwendet wird, um einen Kondensator mit einer Durch­ führung zu verbinden. Kapazitivfilter-Durchführungsbaugruppen des Typs, bei dem Weichlot verwendet wird, um Kondensatoren mit Durchführungen zu verbinden, sind allgemein durch die Verwen­ dung von Flußmittel zum Anlöten eines Kondensators an eine Durchführung gekennzeichnet. Die Verwendung von Flußmittel er­ höht die Zahl der Fertigungsschritte, die erforderlich sind, um eine Vorrichtung herzustellen, wegen der erforderlichen Rei­ nigung, die mit der Verwendung von Flußmittel verbunden ist. Eine Reinigung ist erforderlich, wenn Flußmittel verwendet wird, weil es sonst zu einer Verschlechterung des hermetischen Verschlusses aufgrund des Vorhandenseins von Feuchtigkeit und von korrosiven ionischen Komponenten in dem Flußmittel kommen kann.
Einige Ausführungsformen der vorliegende Erfindung bieten be­ stimmte Vorteile, und zwar, ohne daß darunter eine Beschränkung zu verstehen ist:
  • a) Sie gestatten die Befestigung eines kapazitiven Fil­ ters an Goldhartlot;
  • b) sie steigern die elektrische Leitfähigkeit zwischen einem kapazitiven Filter und einer Durchführung;
  • c) sie steigern das Filtervermögen gegenüber elektroma­ gnetischer Störung, das für eine implantierbare medi­ zinische Vorrichtung vorgesehen ist;
  • d) sie eliminieren das Vorhandensein von mit elektri­ schem Widerstand behafteten Metalloxiden zwischen ei­ nem kapazitiven Filter und einer Abschirmung oder Durchführung;
  • e) sie verlangen nur ein Verfahren zum Verbinden eines kapazitiven Filters mit einem Stift oder einer Muffe;
  • f) sie eliminieren sekundäre Verarbeitungsschritte bei der Fertigung wie Epoxyauftrags- oder zusätzliche Weichlötschritte;
  • g) sie reduzieren die Fertigungskosten;
  • h) sie reduzieren die Kosten von implantierbaren medizi­ nischen Vorrichtungen;
  • i) sie umschließen ein kapazitives Filter wenigstens teilweise mit einer Muffe, um dadurch für zusätzliche mechanische Abstützung des Filters zu sorgen;
  • j) sie eliminieren sekundäre Reinigungsschritte bei den Fertigungsprozessen durch die Verwendung eines fluß­ mittellosen Weichlötprozesses;
  • k) sie gestatten die Verwendung eines kapazitiven Fil­ ters, das höhere Kapazitäten hat als Chipkondensato­ ren, und sorgen deshalb für ein verbessertes Filter­ vermögen gegenüber elektromagnetischer Störung;
  • l) sie bieten ein vorstehendes oberes Drahtanschlußstück an dem kapazitiven Filter, das zum Anschluß von Draht geeignet ist;
  • m) sie verhindern das Abblättern oder Abschleifen eines kapazitiven Filters aufgrund von Biegung bei der Durchführung des Stiftes;
  • n) sie gestatten die Verwendung von durch Zerstäubung hergestellten Kondensatoren;
  • o) sie gestatten die Verwendung von Niedertemperatur­ weichloten, die eine erhöhte Duktilität haben und den Kapazitivfilter-Durchführungsbaugruppen erhöhte Duktilität und Korrosionsfestigkeit verleihen.
Einige Ausführungsformen der vorliegende Erfindung bieten be­ stimmte Vorteile, und zwar, ohne daß darunter eine Beschränkung zu verstehen ist:
  • a) Ein kapazitives Filter, das wenigstens teilweise in­ nerhalb oder umgeben von ersten Seitenwänden angeord­ net ist, die eine erste Öffnung in einer Muffe bil­ den;
  • b) ein kapazitives Filter, das auf einer Muffe an der Oberfläche montiert oder anderweitig angeordnet ist, wobei das Filter weder innerhalb der ersten Öffnung angeordnet noch durch die ersten Seitenwände umgeben ist;
  • c) einen Stift, der einen oberen Teil hat, wobei sich der obere Teil aufwärts in eine zweite Öffnung in ei­ nem Isolator erstreckt und wobei der Stift durch Hartlot- und Weichlotverbindungen mit einem Kontakt­ stück elektrisch und mechanisch verbunden ist, das sich abwärts in eine dritte Öffnung des kapazitiven Filters erstreckt;
  • d) einen Stift, dessen oberer Teil sich durch oder im wesentlichen durch die zweite Öffnung erstreckt, wo­ bei der obere Teil sich wahlweise durch oder im we­ sentlichen durch die erste Öffnung erstreckt;
  • e) eine Durchführungsbaugruppe, die kein Kontaktstück hat, das innerhalb der ersten Muffe angeordnet ist, und bei dem die elektrische und mechanische Verbin­ dung einer inneren Schaltungsanordnung mit dem Stift der Baugruppe hergestellt wird durch Befestigen eines elektrischen Leiters direkt an Weichlot oder Hartlot, das innerhalb der dritten Öffnung des kapazitiven Filters angeordnet ist, wobei das Filter innerhalb oder über der ersten Öffnung angeordnet ist;
  • f) innere Hartlotverbindungen, Zwischenhartlotverbin­ dungen und äußere Hartlotverbindungen gebildet aus: (i) reinem Gold; (ii) Gold-Legierungen, die Gold und wenigstens Titan, Niobium, Vanadium, Nickel, Molyb­ dän, Platin, Palladium, Ruthenium, Silber, Rhodium oder Indium oder eine Legierung derselben oder ein Gemisch davon enthalten; (iii) Kupfer-Silber-Le­ gierungen, zu den eutektische Kupfer-Silber-Legierun­ gen gehören, welche Kupfer und Silber und wahlweise wenigstens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder eine Legierung derselben oder ein Gemisch davon oder eine Kombination davon enthalten; oder (iv) Silber-Palladium-Gallium-Legierungen;
  • g) innere Weichlotverbindungen und äußere Weichlotver­ bindungen, die mit den inneren bzw. äußeren Hartlot­ verbindungen elektrisch und mechanisch verbunden sind, wobei die Weichlotverbindungen gebildet sind aus: (i) nur Indium; (ii) nur Blei; (iii) nur Silber; (iv) nur Zinn; (v) Indium-Silber-Legierungen; (vi) Indium-Zinn-Legierungen; (vii) Zinn-Blei-Legierungen; (viii) Zinn-Silber-Legierungen; (ix) Indium-Blei-Sil­ ber-Legierungen; (x) Zinn-Blei-Silber-Legierungen; (xi) Legierungen, Gemischen oder Kombinationen von (i) bis (x); und (xii) goldhaltige Weichlote wie: 1) Gold-Zinn-Legierungen 2) Gold-Silicium-Legierungen; 3) Gold-Germanium-Legierungen; 4) Gold-Indium-Le­ gierungen oder Legierungen, Gemische oder Kombinatio­ nen von 1) bis 4); und
  • h) wenigstens ein kapazitives Filter, das eine erste und eine zweite elektrische Klemme hat, die durch Hart­ lot- bzw. Weichlotverbindungen mit einer Schaltungs­ anordnung innerhalb einer implantierbaren medizini­ schen Vorrichtung bzw. mit dem Gehäuse oder der Ab­ schirmung der implantierbaren medizinischen Vorrich­ tung elektrisch und mechanisch verbunden sind.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 eine auseinandergezogene perspektivische Darstellung einer Ausführungsform einer einpoligen Durchführungs­ baugruppe nach der Erfindung;
Fig. 2 eine auseinandergezogene perspektivische Darstellung der einpoligen Durchführungsbaugruppe nach Fig. 1;
Fig. 3 eine Querschnittansicht einer Ausführungsform einer mehrpoligen Durchführungsbaugruppe nach der Erfin­ dung;
Fig. 4 eine vergrößerte Ansicht eines Teils der mehrpoligen Durchführungsbaugruppe nach Fig. 3;
Fig. 5 eine auseinandergezogene perspektivische Darstellung von Teilen der mehrpoligen Durchführungsbaugruppe nach den Fig. 3 und 4;
Fig. 6 eine perspektivische, aufgebrochene Darstellung der inneren Bauteile einer implantierbaren medizinischen Vorrichtung nach der Erfindung;
Fig. 7 eine Querschnittansicht der implantierbaren medizini­ schen Vorrichtung nach Fig. 6;
Fig. 8 ein Flußdiagramm eines Verfahrens nach der Erfindung; und
Fig. 9 Diagramme von EMI-Nebenschlußverlustdaten, die mit Kapazitivfilter-Durchführungen nach der Erfindung er­ zielt worden sind.
In den Patentansprüchen und in der Beschreibung bezieht sich das Adjektiv "oben" auf diejenigen Teile einer Durchführungs­ baugruppe 5, die ein benachbartes Kontaktstück 60 haben, be­ zieht sich das Adjektiv "unten" auf diejenigen Teile der Durch­ führungsbaugruppe 5, die einen benachbarten Stift 30 haben, be­ zieht sich das Adjektiv "innen" auf diejenigen Teile der Durch­ führungsbaugruppe 5, die einer zentralen vertikalen Achse 100 des Stiftes 30 benachbart sind, und bezieht sich das Adjektiv "außen" auf diejenigen Teile, der Durchführungsbaugruppe 5, die einer äußeren Oberfläche 80 eines kapazitiven Filters 50 be­ nachbart sind.
Verwiesen sei auf das US-Patent Nr. 4 678 868, das Hörtlöttech­ niken beschreibt, die zur Verwendung in Durchführungsbaugruppen bei implantierbaren medizinischen Vorrichtungen geeignet sind und von denen einige an die Verwendung bei der Erfindung ange­ paßt werden können.
Fig. 1 zeigt eine auseinandergezogene perspektivische Darstel­ lung einer Ausführungsform der einpoligen Durchführungsbau gruppe 5 nach der Erfindung, nachdem diese erfindungsgemäßen Weichlöt- und Hartlötschritten unterzogen worden ist. Fig. 2 zeigt eine auseinandergezogene perspektivische Darstellung der einpoligen Durchführungsbaugruppe nach Fig. 1.
Eine elektrisch leitfähige Muffe 10 ist gemäß der Darstellung in den Fig. 1 und 2 mit einer Abschirmung oder einem Behälter 20 einer hermetisch verschlossenen implantierbaren medizini­ schen Vorrichtung 70 vorzugsweise verschweißt und hat eine er­ ste Durchgangsöffnung 12, die durch erste Seitenwände 14 gebil­ det wird. Ein elektrisch isolierender Isolator 25 ist in der ersten Öffnung 12 angeordnet, sorgt für die elektrische Isolie­ rung zwischen einem elektrisch leitfähigen Durchführungsstift 30 und der Muffe 10 und hat eine zweite Durchgangsöffnung 27, die durch zweite Seitenwände 29 gebildet wird.
Die Muffe 10 wird üblicherweise durch Laserschweißen mit der Abschirmung oder dem Behälter 20 verbunden und kann aus Nio­ bium, Titan, Titan-Legierungen wie Titan-6Al-4V oder Titan-Va­ nadium, Platin, Molybdän, Zirconium, Tantal, Vanadium, Wolf­ ram, Indium, Rhodium, Rhenium, Osmium, Rhuthenium, Palladium oder Silber oder aus Legierungen, Gemischen oder Kombinationen davon bestehen. Die Muffe 10 kann mit der Abschirmung oder dem Behälter 20 auf andere Weise verschweißt oder sogar durch Weichlöten oder Verkleben verbunden werden.
Ein oberer Teil 32 des elektrisch leitfähigen Stiftes 30 ist innerhalb der zweiten Öffnung 27 angeordnet oder kann sich wenigstens teilweise in diese erstrecken. Der untere Teil 34 des Stiftes 30 ist im allgemeinen mit einer elektrischen Schaltungsanordnung, mit Verbindern oder einem Verbinderblock außerhalb des Behälters 20 der Vorrichtung 70 verbunden, kann aber statt dessen direkt mit einem Verbinder an einer medizini­ schen Leitung verbunden sein. In einer Ausführungsform der Er­ findung erstreckt sich der obere Teil 32 des Stiftes 30 auf­ wärts in die zweite Öffnung 27 und ist durch eine innere Hart­ lotverbindung 65 und eine innere Weichlotverbindung 55 mit ei­ nem Kontaktstück 60 elektrisch und mechanisch verbunden, wobei sich das Kontaktstück 60 abwärts in eine dritte Öffnung 35 ei­ nes kapazitiven Filters 50 erstreckt. In einer weitere Ausfüh­ rungsform der Erfindung erstreckt sich der obere Teil 32 des Stiftes 30 durch oder im wesentlichen durch die zweite Öffnung 27 und kann sich wahlweise durch oder im wesentlichen durch die erste Öffnung 12 erstrecken. Der obere Teil 32 des Stiftes 30 kann auch direkt mit einem elektrischen Leiter verbunden sein, der an einer inneren Schaltungsanordnung befestigt ist, wobei kein Kontaktstück 60 in der dritten Öffnung 35 angeordnet ist.
Der Stift 30 kann aus Niobium, Titan, Titan-Liegierungen wie Titan-6Al-4V oder Titan-Vanadium, Platin, Molybdän, Zirconium, Tantal, Vanadium, Wolfram, Indium, Rhodium, Rhenium, Osmium, Ruthenium, Palladium oder Silber oder aus einer Legierung der­ selben oder aus Gemischen und Kombinationen davon bestehen.
Eine elektrisch leitfähige Zwischenhartlotverbindung 15 bildet eine hermetische Hartlotverbindung und Abdichtung zwischen der Muffe 10 und dem Isolator 25 und ist wenigstens zwischen einer äußeren Isolatoroberfläche 90 und den ersten Seitenwänden 14 der ersten Öffnung 12 angeordnet.
Der Isolator 25 besteht vorzugsweise aus Tonerde (oder Alumini­ umoxid), er kann aber aus irgendeinem geeigneten elektrisch­ isolierenden, Keramik enthaltenden Werkstoff bestehen, der bei­ spielsweise Saphir oder Zirconiumoxid umfaßt. Unter gewissen Umständen müssen eine innere Isolatoroberfläche 85 und die äu­ ßere Isolatoroberfläche 90 einen geeigneten Metall- oder Legie­ rungsauftrag haben, damit der Isolator 25 durch Hartlöten mit dem Stift 30 oder mit der Muffe 10 verbunden werden kann. In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, bei der reines Gold verwendet wird, um die Innen- und die Zwischenhartlotver­ bindung 65 bzw. 15 herzustellen, wird eine 25000 Angström dicke Schicht aus Niobium auf die Oberflächen 85 und 90 durch Zer­ stäubung im Vakuum unter Verwendung des Modells Nr. 2400 eines Perkin-Elmer®-Sputtersystems aufgetragen. Die Niobiumschicht ist am bevorzugtesten zwischen etwa 15 000 und etwa 32 000 Angström dick. Andere Metalle können statt Niobium durch Zer­ stäubung auf die Oberflächen 85 und 90 aufgetragen werden, bei­ spielsweise Titan oder Molybdän. Wenn Metalle wie (i) Gold-Le­ gierungen, die Gold und wenigstens Titan, Niobium, Vanadium, Nickel, Molybdän, Platin, Palladium, Ruthenium, Silber, Rho­ dium, Osmium oder Indium oder eine Legierung, Mischung oder Kombination davon enthalten; oder (ii) Kupfer-Silber-Legie­ rungen einschließlich eutektischen Kupfer-Silber-Legierungen, die Kupfer und Silber und wahlweise wenigstens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder eine Legierung, Mi­ schung oder Kombination davon enthalten, verwendet werden, dann braucht die Metallisierung der Oberflächen 85 und 90 nicht er­ forderlich zu sein.
Eine elektrisch leitfähige äußere Hartlotverbindung 40 bietet eine Weichlotplattform für die Befestigung einer äußeren Weichlotverbindung 45. In bevorzugten Ausführungsformen der Er­ findung ist die Hartlotverbindung 40 zwischen den Seitenwänden 14 der ersten Öffnung 12 und der äußeren Oberfläche 80 des ka­ pazitiven Filters 50 angeordnet. In anderen Ausführungsformen der Erfindung ist die äußere Hartlotverbindung 40 auf der Muffe 10 längs der oberen Umfangsoberfläche derselben angeordnet. Die äußere Hartlotverbindung 40 muß nicht, kann aber eine hermeti­ sche Abdichtung herstellen.
Die elektrisch leitfähige äußere Weichlotverbindungen 45 ist zwischen der Muffe 10 und der äußeren Hartlotverbindung 40 ei­ nerseits und einer zweiten Klemme oder Elektrode des kapaziti­ ven Filters 50 andererseits angeordnet und bildet eine Weichlotverbindung zwischen denselben. Die äußere Weichlotver­ bindung 55 muß nicht, kann aber eine hermetische Abdichtung herstellen. Die äußere Weichlotverbindung 55 gestattet, eine zweite Klemme oder Elektrode des Kondensators 50 durch Weichlö­ ten an der Muffe 10 über die äußere Hartlotverbindung 40 mecha­ nisch und elektrisch zu befestigen.
Eine elektrisch leitfähige innere Weichlotverbindung 55 ist in der dritten Öffnung oder dem dritten Durchlaß 35 des Kondensa­ tors 50 zwischen dem Kontaktstück 60 und der inneren Hartlot­ verbindung 65 angeordnet und bildet eine Weichlotverbindung zwischen denselben. Die Weichlotverbindung 55 muß nicht, kann aber eine hermetische Abdichtung herstellen. Die Weichlotver­ bindung 55 gestattet, eine erste Klemme oder Elektrode des Kon­ densators 50 durch Weichlöten an der Muffe 10 über die innere Haftlotverbindung 65 mechanisch und elektrisch zu befestigen.
Die innere Hartlotverbindung 65 bildet eine Hartlotverbindung und Abdichtung zwischen dem Isolator 25 und dem Stift 30 und bildet weiter einen Teil eines elektrisch leitfähigen Pfades, der sich zwischen dem Stift 30 und dem Kontaktstück 60 er­ streckt, wobei der Pfad, ohne notwendigerweise darauf be­ schränkt zu sein, den Stift 30, die innere Hartlotverbindung 65, die innere Weichlotverbindung 35 und das Kontaktstück 60 umfaßt. Die innere Hartlotverbindung 65 ist auf dem oberen Teil 32 des Stiftes 30 angeordnet oder umgibt diesen zumindest teil­ weise. Die innere Hartlotverbindung 65 ist ebenfalls zwischen wenigstens einem Teil des oberen Teils 32 des Stiftes 30 und den zweiten Seitenwänden 85 (oder der inneren Isolatoroberflä­ che 85) der zweiten Öffnung 27 angeordnet.
Die innere Hartlotverbindung 65, die Zwischenhartlotverbindung 15 und die äußere Hartlotverbindung 40 werden am bevorzugtesten aus demselben Metall oder derselben Legierung hergestellt, sie können aber, was weniger bevorzugt wird, aus unterschiedlichen Metallen oder Legierungen hergestellt werden. Die Hartlotver­ bindungen 65, 15 und 40 bestehen erfindungsgemäß am bevorzugte­ sten aus 99,9% reinem oder reinerem Gold, können aber auch be­ stehen aus: a) Gold-Legierungen, die Gold und wenigstens Titan, Niobium, Vanadium, Nickel, Molybdän, Platin, Palladium, Ruthe­ nium, Silber, Rhodium, Osmium oder Indium oder Legierungen der­ selben oder Mischungen oder Kombinationen davon enthalten; b) Kupfer-Silber-Legierungen, zu denen eutektische Kupfer-Silber-Le­ gierungen gehören und die Kupfer und Silber und wahlweise we­ nigstens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder Legierungen derselben oder Mischungen oder Kombinationen davon enthalten; oder c) Silber-Palladium-Gallium-Legierungen.
Die innere Weichlotverbindung 55 und die äußere Weichlotverbin­ dung 45 bestehen am bevorzugtesten aus denselben Metallen oder Legierungen, sie können aber, was weniger bevorzugt wird, aus unterschiedlichen Metallen oder Legierungen bestehen. In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung bestehen die innere Weichlotverbindung 55 und die äußere Weichlotverbindung 45 aus einem Indium-Blei-Weichlot und am bevorzugtesten aus einem In­ dium-Blei-Weichlot, das 70 Gew.-% Indium und 30 Gew.-% Blei ent­ hält. Andere Metalle oder Legierungen zum Herstellen der inne­ ren Weichlotverbindung 55 und der äußeren Weichlotverbindung 45 nach der Erfindung sind: a) nur Indium; b) nur Blei; c) nur Silber; d) nur Zinn; e) Indium-Silber-Legierungen; f) Indium- Zinn-Legierungen; g) Zinn-Blei-Legierungen; h) Zinn-Silber-Le­ gierungen; i) Indium-Blei-Silber-Legierungen; j) Zinn-Blei-Sil­ ber-Legierungen sowie andere Legierungen, Gemische und Kombina­ tionen davon. Noch andere Metalle oder Legierungen zum Herstel­ len der inneren Weichlotverbindung 55 und der äußeren Weichlot­ verbindung 45 nach der vorliegenden Erfindung sind Gold enthal­ tende Weichlote wie: a) Gold-Zinn-Legierungen; b) Gold-Sili­ cium-Legierungen; c) Gold-Germanium-Legierungen; Gold-Indium-Le­ gierungen sowie Legierungen, Gemische und Kombinationen da­ von.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist das Kontaktstück 60 mit einer inneren Schaltungsanordnung elektrisch verbunden, die innerhalb des Behälters oder der Abschirmung 20 der hermetisch verschlossenen implantierbaren medizinischen Vorrichtung 70 angeordnet ist, und ist außerdem mit dem Stift 30 über die in­ nere Hartlotverbindung 65 und die innere Weichlotverbindung 55 elektrisch und mechanisch verbunden. Die elektrische Verbindung von der inneren Schaltungsanordnung zu dem Kontaktstück 60 kann durch eine Drahtverbindung, Weichlöten, Schweißen, Laserschwei­ ßen, Hartlöten, Kleben oder auf andere geeignete Weise herge­ stellt werden.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist kein Kon­ taktstück 60 innerhalb der dritten Öffnung 35 angeordnet, und die elektrische und mechanische Verbindung zu der inneren Schaltungsanordnung der Vorrichtung 70 wird hergestellt durch Befestigen eines elektrischen Leiters direkt an der inneren Weichlotverbindung 55 oder der inneren Hartlotverbindung 65 durch die dritte Öffnung 35 hindurch durch eine geeignete Drahtverbindung, Weichlöten, Schweißen, Laserschweißen, Hartlö­ ten, Kleben oder elektrisch leitfähige Befestigungsmittel.
Das Kontaktstück 60 besteht am bevorzugtesten aus Kovar (einer Eisen-Nickel-Kobalt-Legierung) und ist mit als galvanische Überzüge aufgebrachten Schichten aus zuerst Nickel und dann Gold an seiner Oberfläche überzogen. Das Kontaktstück 60 kann auch bestehen aus: a) Messing, zuerst überzogen mit Nickel und dann mit Gold; b) reinem Gold; c) einer geeigneten Gold-Legie­ rung, überzogen mit Gold; d) vergoldetem Nickel; e) einer geeigneten Nickel-Legierung, überzogen mit Gold; und f) reinem Kupfer oder einer Kupfer-Legierung, zuerst vernickelt und dann vergoldet. Das Kontaktstück 60 muß elektrisch leitfähig sein und eine Schmelztemperatur haben, die die Schmelztemperatur des Weichlots übersteigt, das zum Herstellen der inneren Weichlot­ verbindung 55 oder der äußeren Weichlotverbindung 45 verwendet wird. Darüber hinaus muß das Metall, das auf der äußeren Ober­ fläche des Kontaktstücks 60 angeordnet ist, mit dem Weichlot kompatibel sein, das verwendet wird, um die innere Weichlotver­ bindung 55 oder die äußere Weichlotverbindung 45 herzustellen.
Das Keramik enthaltende kapazitive Filter 50 dämpft und filtert elektromagnetische Störung, um den Durchtritt oder die Fort­ pflanzung derselben in das Innere der Abschirmung oder des Be­ hälters 20 zu verhindern. Das Filter 50 hat eine dritte Öffnung oder einen dritten Durchlaß 35, der in einem Teil desselben an­ geordnet ist, zum elektrischen und mechanischen Verbinden des Kontaktstücks 60 mit der inneren Weichlotverbindung 55. Das ka­ pazitive Filter 50 ist am bevorzugtesten wenigstens teilweise in der ersten Öffnung 12 angeordnet, so daß die Muffe 10 der mechanischen Verbindung zwischen dem Filter 50 und der Muffe 10 zusätzliche mechanische Festigkeit verleiht. Alternativ ist das kapazitive Filter 50 außerhalb der ersten Öffnung 12 an der Oberfläche so montiert, daß die ersten Seitenwände 14 die äu­ ßere Oberfläche 80 des kapazitiven Filters nicht wenigstens teilweise umgeben oder daß das kapazitive Filter 50 auf der Muffe 10 angeordnet ist. Bei diesen alternativen Ausführungs­ formen der Erfindung wird jedoch im allgemeinen verlangt, daß die äußere Weichlotverbindung 45 eine mechanische und elektri­ sche Brücke zwischen der äußeren Hartlotverbindung 40 und der zweiten Klemme oder Elektrode der äußeren Oberfläche 80 des ka­ pazitiven Filter bildet.
In bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung ist das kapazi­ tive Filter 50 ein diskoidaler oder scheibenförmiger, mehr­ schichtiger Keramikkondensator, der eine Ringwulstform und eine zentrale, zylinderförmige Öffnung 35 hat, die sich durch sein Zentrum erstreckt. Kapazitive Filter, die scheibenförmige, mehrschichtige Keramikkondensatoren bilden und besonders wirk­ same Anwendung bei der vorliegenden Erfindung finden, werden hergestellt von AVX Corporation, Myrtle Beach, South Carolina, Maxwell Laboratories, Carson City, Nevada, Ceramic Devices, Inc., Wenatchee, Washington, und Spectrum Control, Inc., Erie, Pennsylvania.
Es hat sich gezeigt, daß kapazitive Filter 50, die Barium-Tita­ nat enthalten, bei der vorliegenden Erfindung besonders gute Ergebnisse erbringen. Beispiele von geeigneten Barium-Titanat Ansätzen oder -typen zum Herstellen des kapazitiven Filters um­ fassen, ohne darauf beschränkt zu sein, X7R-, Z5U- und andere Ansätze. Andere Typen von Keramikkondensatoren können für das kapazitive Filter 50 nach der Erfindung verwendet werden, bei­ spielsweise einschichtige Kondensatoren, rechteckige Kondensa­ toren, quadratische Kondensatoren, elliptische Kondensatoren, ovale Kondensatoren und dgl.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist das ka­ pazitive Filter 50 ein scheibenförmiger, mehrschichtiger Kera­ mikkondensator, der Silberdickfilme, Silber-Palladium-Legie­ rungsdickfilme oder Silber-Palladium-Legierungsdickfilme ange­ ordnet auf der inneren Oberfläche 75 des kapazitiven Filters und der äußeren Oberfläche 80 des kapazitiven Filter hat. Diese Dickfilme oder -schichten werden üblicherweise durch den Her­ steller des kapazitiven Filters vor dem Versand aufgebracht. Die innere Oberfläche 75 des kapazitiven Filters bildet eine erste elektrische Klemme oder einen ersten elektrischen Kontakt des kapazitiven Filters 50.
Die äußere Oberfläche 80 des kapazitiven Filters bildet eine zweite elektrische Klemme oder einen zweiten elektrischen Kon­ takt des kapazitiven Filters 50. Wenn die äußere Oberfläche 80 des kapazitiven Filters mit der Abschirmung oder dem Behälter 20 elektrisch verbunden ist und wenn die innere Oberfläche 75 des kapazitiven Filters mit der Schaltungsanordnung oder mit Verbindern außerhalb des Behälters 20 der implantierbaren medi­ zinischen Vorrichtung 70 über das Kontaktstück 60 elektrisch verbunden ist, ist das kapazitive Filter 50 zu Signalen paral­ lel geschaltet, die in die Vorrichtung 70 eindringen, und ist dadurch in der Lage, elektromagnetische Störung herauszufil­ tern.
Zwei weitere Metallschichten werden am bevorzugtesten auf der inneren und der äußeren Oberfläche 75 bzw. 80 angeordnet, auf denen Silberdickfilme, Silber-Palladium-Legierungsdickfilme oder Silber-Platin-Legierungsdickfilme angeordnet sind, um die Befestigung des kapazitiven Filters 50 an der äußeren Weichlot­ verbindung 45 und der inneren Weichlotverbindung 55 zu gestat­ ten. Erste Schichten von Nickel werden vorzugsweise auf die Dickfilme, welche der inneren Oberfläche 75 und der äußeren Oberfläche 80 überlagert sind, durch Zerstäubung aufgebracht. Danach werden zweite Schichten von Gold vorzugsweise durch Zer­ steubung auf die zuvor aufgebrachten Nickel schichten aufge­ bracht. Die Goldschichten bilden eine Einrichtung zur Weichlöt­ befestigung des kapazitiven Filters 50 an der inneren Weichlot­ verbindung 55 und der äußeren Weichlotverbindung 45. Metalle und Legierungen, bei denen es sich nicht um reines Nickel han­ delt, können zur Bildung der ersten Schichten verwendet werden. Reines Gold wird zum Herstellen der zweiten Schichten bevor­ zugt, wobei aber Gold mit variierenden Reinheiten weniger be­ vorzugt zur Herstellung der zweiten Schichten verwendet werden kann.
Bei einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung können Gold-, Nickel-, Titan-, Titan-Wolfram-Legierungen, Wolf­ ram-, oder Molybdänmetallschichten durch Zerstäubung direkt auf die innere Oberfläche 75 oder auf die äußere Oberfläche 80 auf­ getragen werden, ohne daß darauf Dickfilme angeordnet werden.
Bei dem Zerstäubungsschritt nach der Erfindung wird eine Gleichstrom-Magnetron-Zerstäubungstechnik bevorzugt, wobei aber HF-Zerstäubungstechniken weniger bevorzugt verwendet werden können. Eine Gleichstrom-Magnetron-Maschine, die bei der vor­ liegenden Erfindung Anwendung finden kann, ist das Modell 2011 einer Gleichstrom-Magnetron-Zerstäubungsvorrichtung, die von Advanced Energy, Fort Collins, Colorado, hergestellt wird.
Eine bevorzugte Dicke für die zweiten Schichten, die aus Gold hergestellt werden, beträgt etwa 10 000 Angström. Eine bevor­ zugte Dicke für die ersten Schichten, die aus Nickel herge­ stellt werden, beträgt etwa 25 000 Angström.
Fig. 3 zeigt eine Querschnittansicht einer Ausführungsform ei­ ner mehrpoligen Durchführungsbaugruppe 5 nach der Erfindung, nachdem diese die Weichlöt- und Hartlötschritte nach der Er­ findung durchlaufen haben. Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Dar­ stellung eines Teils einer mehrpoligen Baugruppe 5 nach Fig. 3. Fig. 5 zeigt eine auseinandergezogene perspektivische Ansicht von Teilen einer mehrpoligen Durchführungsbaugruppe 5 nach den Fig. 3 und 4.
In den Fig. 3, 4 und 5 sind mehrere Isolatoren 25, Durchfüh­ rungsstifte 30, kapazitive Filter 50, Kontaktstücke 60 und an­ dere Bauteile direkt in der Muffe 10 angeordnet. Distanzstücke oder Unterlegscheiben 95 in den Fig. 3 und 4 sind wahlweise vorgesehen und müssen nicht, können aber Teil der Baugruppe 5 sein, wenn der Kopfteil des Stiftes 30 geeignet verkürzt ist. Die einstückige mehrpolige Muffe oder Abdeckung 10 nach den Fig. 3, 4 und 5 kann durch mehrere separate Muffen ersetzt wer­ den, die in einer entsprechenden Abdeckung oder Abschirmung oder in einem entsprechenden Substrat oder Behälter angeordnet und daran befestigt sind. Fig. 4 zeigt die innere Hartlotver­ bindung 65, die Zwischenhartlotverbindung 15, die äußere Hart­ lotverbindung 40, die innere Weichlotverbindung 55 und die äu­ ßere Weichlotverbindung 45 nach der Erfindung. Dem Fachmann dürfte nunmehr klar sein, daß viele andere Ausführungsformen und Konfigurationen von einpoligen und mehrpoligen Durchfüh­ rungsbaugruppen im Rahmen der Erfindung liegen.
Fig. 6 zeigt eine perspektivische, aufgebrochene Darstellung der inneren Bauteile von einer Ausführungsform der implantier­ baren medizinischen Vorrichtung 70 nach der Erfindung. In Fig. 6 ist ein grundlegender implantierbarer Impulsgenerator (oder IPG) 70 gezeigt. Der implantierbare Impulsgenerator 70 hat einen Batterieabschnitt 100, einen Hybridelektronikabschnitt oder eine innere Schaltungsanordnung 75 und eine Durchführungs­ baugruppe 5, die alle durch den Becher, die Abschirmung oder den Behälter 20 umschlossen sind. Leitermaterialien für die Durchführungsbaugruppen 5 werden am bevorzugtesten auf der Ba­ sis ihrer bekannten Stabilität, die sie haben, wenn sie mit Körperflüssigkeiten in Kontakt sind, ausgewählt. Die Durchfüh­ rungsbaugruppe kann eine oder mehrere Durchführungen umfassen und bildet einen hermetischen Verschluß für die Vorrichtung 70. Fig. 7 zeigt eine Querschnittansicht der implantierbaren medi­ zinischen Vorrichtung nach Fig. 6.
In dem Hartlötschritt nach der Erfindung müssen die Metalle oder Legierungen, die zum Bilden der Hartlotverbindungen 15, 40 und 65 verwendet werden, auf eine Temperatur erhitzt werden, die etwa 500 Grad Celsius übersteigt. In dem Hartlötschritt nach der Erfindung müssen die Metalle oder Legierungen, welche zum Bilden der Weichlotverbindungen 45 und 55 verwendet werden, auf eine Temperatur erhitzt werden, die etwa 500 Grad Celsius nicht übersteigt.
Bei einem bevorzugten Verfahren nach der Erfindung erfolgt der Hartlötschritt bei Spitzentemperaturen von etwa 1090 Grad Cel­ sius, wobei die Durchführungsbaugruppe 5 für etwa 40 Sekunden auf dieser Spitzentemperatur gehalten und geglüht wird, an­ schließend an eine bevorzugte Aufheizzeitspanne von etwa 1 Stunde, während welcher Zeit die Baugruppe 5 von Raumtemperatur auf die Spitzentemperatur gebracht wird. Darüber hinaus wird bevorzugt, daß die Baugruppe 5 bei einer Temperatur von etwa 1050 Grad Celsius für etwa 2 Minuten geglüht wird, um die Tem­ peraturen in dem gesamten Hartlötofen und in der Graphitspann­ vorrichtung, in der die Baugruppe 5 während des Hartlötschrit­ tes gehalten wird, zu stabilisieren.
Eine bevorzugte Abkühlzeitspanne, die sich an die Spitzentempe­ raturhartlötzeitspanne anschließt, beträgt ebenfalls etwa eine Stunde. Die bevorzugten Aufwärm- und Abkühlzeitspannen des Hartlötschrittes des Verfahrens nach der Erfindung liegen in einem Bereich zwischen etwa 20 Minuten und etwa 6 Stunden. Die Spitzentemperatur des Hartlötschrittes des Verfahrens nach der Erfindung liegt am bevorzugtesten etwa 50 Grad Celsius über der Schmelztemperatur des gewählten Hartmetalls oder der gewählten Hartlötlegierung, kann aber bis zu der Schmelztemperatur des gewählten Hartlötmetalls oder der gewählten Hartlötlegierung herunterreichen.
Ein bevorzugter Ofen für den Hartlötschritt nach der Erfindung ist das Modell Nr. 3040 WORKHORSE® eines Ofens, der von VACUUM INDUSTRIES®, Sommerville, Massachusetts, hergestellt wird. Es wird bevorzugt, daß der Hartlötschritt nach der Erfindung in einem Vakuum oder in einer inerten Atmosphäre ausgeführt wird. Wenn ein Vakuum bei dem Hartlötschritt verwendet wird, werden Drücke von weniger als etwa 8 × 10-5 Torr bevorzugt, bevor das Hartlöten eingeleitet wird. Viel weniger bevorzugt und wegen der resultierenden übermäßigen Oxydation des Stiftes und der Muffe kann der Hartlötschritt nach der Erfindung in Luft oder anderer nichtinerter Atmosphäre ausgeführt werden.
Bei einem bevorzugten Verfahren nach der Erfindung wird der Weichlötschritt bei Spitzentemperaturen von etwa 275 Grad Cel­ suis ausgeführt, wobei die Durchführungsbaugruppe 5 im Anschluß an eine bevorzugte Aufheizzeitspanne von etwa 5 Minuten, wäh­ rend welcher Zeit die Baugruppe 5 von Raumtemperatur auf die Spitzentemperatur gebracht wird, für etwa 30 Sekunden auf die­ ser Spitzentemperatur gehalten wird. Bevorzugte Aufwärm- und Abkühlgeschwindigkeiten betragen etwa 5 Grad pro Sekunde. Ein Widerstandserwärmungsweichlötverfahren wird bei der vorliegen­ den Erfindung bevorzugt.
Vor dem Einleiten des Weichlötens wird bevorzugt, daß die Luft aus der Weichlötkammer durch eine kombinierte Vakuum-Rückfüll-Aus­ laßprozedur entfernt wird. Zuerst wird ein Vakuum von etwa 762 mm (30 Zoll) Hg aufgebaut. Dann wird die Kammer mit Stick­ stoff rückgefüllt, bis ein Überdruck von etwa 0,69 bar (10 psig) erreicht ist. Schließlich wird das Stickstoffgas aus der Kammer abgesaugt, bis Atmosphären- oder Umgebungsdrücke er­ reicht sind. Anschließend wird die vorstehende Vakuum-Rückfüll-Aus­ laßprozedur mehrmals wiederholt, mit anschließendem Füllen der Kammer mit Stickstoff, wobei der Stickstoff ausgestoßen wird, bis ein Überdruck von etwa 0,345 bar (5 psig) erreicht ist, und die Kammer wird auf diesem Druck gehalten.
Eine bevorzugte Abkühlzeitspanne anschließend an die Spitzen­ temperaturweichlötzeitspanne beträgt etwa 5 Minuten. Bevorzugte Aufwärm- und Abkühlzeitspannen des Weichlötschrittes des Ver­ fahrens nach der Erfindung können von etwa 20 Sekunden bis etwa 10 Minuten reichen. Die Spitzentemperatur des Weichlötschrittes des Verfahrens nach der Erfindung liegt am bevorzugtesten etwa 75 Grad Celsius über der Schmelztemperatur des gewählten Weichlötmetalls oder der gewählten Weitlötlegierung, kann aber bis herunter zu der Schmelztemperatur des gewählten Weichlötme­ talls oder der gewählten Weichlötlegierung reichen.
Ein bevorzugter Ofen für den Weichlötschritt nach der Erfindung ist das Modell DAP 2200 eines Ofens, der von SCIENTIFIC SEALING, INC.®, Downey, Kalifornien, hergestellt wird. Es wird bevorzugt, daß der Weichlötschritt nach der Erfindung in einem Vakuum, in einer Stickstoffatmosphäre oder in einer anderen inerten Atmosphäre ausgeführt wird. Weniger bevorzugt und unter der Voraussetzung, daß in dem Weichlötschritt Flußmittel ver­ wendet wird, kann der Weichlötschritt nach der Erfindung in Luft oder in anderer nichtinerter Atmosphäre ausgeführt werden.
Fig. 8 zeigt ein Flußdiagramm eines Verfahrens nach der Erfin­ dung. In einem Schritt 81 werden die Muffe oder Abdeckung 10, der Stift 30, der Isolator 25 und die Hartlotverbindungs­ vorformlinge, die der inneren Hartlotverbindung 65, der Zwi­ schenhartlotverbindung 15 und der äußeren Hartlotverbindung 40 entsprechen, bereitgestellt. In einem Schritt 82 werden die vorgenannten Bauteile in einer Hartlötspannvorrichtung und am bevorzugtesten in einer Graphithartlötspannvorrichtung zusam­ mengebaut. Anschließend werden in einem Hartlötschritt 83 die Muffe oder Abdeckung 10, der Stift 30, der Isolator 25 und die Hartlotverbindungsvorformlinge, welche der inneren Hartlotver­ bindung 65, der Zwischenhartlotverbindung 15 und der äußeren Hartlotverbindung 40 entsprechen, im Zusammengebauten Zustand auf eine geeignete Hartlöttemperatur, die etwa 500 Grad Celsius übersteigt, erhitzt. Anschließend an den Hartlötschritt 83 wer­ den in einem Schritt 84 das kapazitive Filter 50, das Kontakt­ stück 60 und die Weichlötvorformlinge, welche der inneren Weichlotverbindung 55 und der äußeren Weichlotverbindung 45 entsprechen, der hartgelöteten Baugruppe hinzugefügt. Die vor­ genannten Bauteile und die hartgelötete Baugruppe werden in ei­ nem Weichlötschritt 85 auf eine geeignete Temperatur, die nied­ riger als oder gleich etwa 500 Grad Celsius ist, erhitzt.
Fig. 9 zeigt drei Diagramme von Nebenschlußverlustdaten auf­ grund von elektromagnetischer Störung, die mit Kapazitivfilter-Durch­ führungen erzielt worden sind, welche in herkömmlichen Herzschrittmachern angeordnet waren. Der Nebenschlußverlust ist ein Maß für die Dämpfung von unerwünschten Signalen wie solchen aufgrund von elektromagnetischer Störung. Der Nebenschlußver­ lust wurde unter Verwendung eines Spektralanalysators gemessen, der Wechselstromsignale erzeugte, die Frequenzen hatten, welche von 0 bis 2,9 Gigahertz reichten. Die Analysatorausgangssignale wurden über ein erstes Kabel an die Durchführungsstifte 30 an­ gelegt. Der Analysator empfing Eingangssignale über ein zweites Kabel an dem Kontaktstück 60. Der Nebenschlußverlust ist folgendermaßen definiert:
wobei E1 = Ausgangsspannung mit Durchführung in der Schaltung
E2 = Ausgangsspannung ohne Durchführung in der Schaltung.
Die Nebenschlußverlustkurven nach Fig. 9 wurden erzeugt, indem Testfrequenzen zwischen 0 und 2,9 Gigahertz durchlaufen wurden und gleichzeitig der Nebenschlußverlust gemessen wurde. Fig. 9 zeigt, daß die Durchführungsbaugruppen nach der Erfindung elektromagnetische Störung beträchtlich dämpfen.
Es sind oben zwar nur einige exemplarische Ausführungsformen der Erfindung im einzelnen beschrieben worden, dem Fachmann dürfte jedoch ohne weiteres klar sein, daß viele Modifikationen bei den exemplarischen Ausführungsformen möglich sind, ohne die neuen Lehren und die Vorteile der Erfindung materiell aufzuge­ ben. Demgemäß sollen alle derartigen Modifikationen als in dem Schutzbereich der Erfindung, wie er in den folgenden Ansprüchen definiert ist, liegend aufgefaßt werden. Zum Beispiel, die in­ nere Weichlotverbindung, die äußere Weichlotverbindung und die äußere Hartlotverbindung nach der Erfindung können durch ein elektrisch leitfähiges Polymer wie z. B. ein Silberflocken enthaltendes Polyimid oder geeignetes Epoxy ersetzt werden.
Der Schutzbereich der Erfindung beschränkt sich nicht auf Herz­ schrittmacher, Überwachungs- oder Erfassungszwecke, sondern er­ streckt sich auch auf Defibrillation, Kardialabbildung und an­ dere medizinische Zwecke und Anwendungen bei medizinischen Vor­ richtungen und Verfahren. Der Schutzbereich der Erfindung be­ schränkt sich nicht auf Anwendungsfälle, in denen ein menschli­ ches Herz erfaßt, überwacht, frequenzgesteuert oder defibril­ liert wird, sondern beinhaltet ähnliche Anwendungsfälle bei an­ deren Säugetieren und Säugetierorganen.
Die vorstehenden speziellen Ausführungsformen sind für die Aus­ führung der Erfindung illustrativ. Es ist deshalb klar, daß an­ dere Maßnahmen, die dem Fachmann bekannt oder hier offenbart sind, verwendet werden können, ohne die Erfindung oder den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche zu verlassen.
In den Ansprüchen sollen Vorrichtung-plus-Funktion-Merkmale die hier beschriebenen Gebilde abdecken, welche die angegebene Funktion erfüllen, und nicht nur bauliche Äquivalente, sondern auch äquivalente Gebilde. Obwohl ein Nagel und eine Schraube keine baulichen Äquivalente zu sein brauchen, weil ein Nagel eine zylindrische Oberfläche hat, um hölzerne Teile aneinander zu befestigen, wohingegen eine Schraube eine wendelförmige Oberfläche hat, sind in dem Fall der Befestigung von hölzernen Teilen ein Nagel und eine Schraube äquivalente Gebilde.
Alle Patentschriften, die in Tabelle 1 und anderswo oben aufge­ listet sind, werden hiermit durch Bezugnahme in die Beschrei­ bung aufgenommen, und zwar jeweils in ihrer Gesamtheit.

Claims (19)

1. Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung (70), mit:
  • a) einer elektrisch leitfähigen Muffe (10), durch die sich eine erste Öffnung (12) erstreckt, wobei die er­ ste Öffnung (12) erste Seitenwände (14) hat und wobei die Muffe (10) aus wenigstens Titan, Niobium, Platin, Molybdän, Zirconium, Tantal, Vanadium, Wolfram, In­ dium, Rhodium, Rhenium, Osmium, Ruthenium, Palladium oder Silber oder einer Legierung derselben oder einer Mischung oder Kombination davon gebildet ist;
  • b) einem Isolator (25), durch den sich eine zweite Öff­ nung (27) erstreckt, wobei die zweite Öffnung (27) zweite Seitenwände (29) hat und wobei der Isolator (25) innerhalb der ersten Öffnung (12) angeordnet und aus einem Keramik enthaltenden, elektrisch isolieren­ den Material gebildet ist;
  • c) einem elektrisch leitfähigen Stift (30), der einen oberen und einen unteren Teil (32, 34) hat, wobei sich wenigstens der obere Teil (32) des Stiftes (30) in die zweite Öffnung (27) erstreckt und wobei der Stift (30) aus wenigstens Titan, Niobium, Platin, Mo­ lybdän, Zirconium, Tantal, Vanadium, Wolfram, Indium, Rhodium, Rhenium, Osmium, Ruthenium, Palladium oder Silber oder einer Legierung derselben oder einer Mi­ schung oder Kombination davon gebildet ist;
  • d) einer elektrisch leitfähigen inneren Hartlotverbin­ dung (65), die auf dem oberen Teil (32) des Stiftes (30) oder zwischen dem Stift (30) und den zweiten Seitenwänden (29) der zweiten Öffnung (27) angeordnet ist, um dazwischen eine Abdichtung zu bilden, wobei die innere Hartlotverbindung (65) gebildet ist aus wenigstens: 1) reinem Gold oder 2) einer Gold-Legie­ rung, die aus Gold und wenigstens Titan, Niobium, Va­ nadium, Nickel, Molybdän, Platin, Palladium, Ruthe­ nium, Silber, Rhodium, Osmium oder Indium oder einer Legierung derselben oder einer Mischung oder Kombina­ tion davon besteht; oder 3) einer Kupfer-Silber-Le­ gierung, die aus Kupfer, Silber und wahlweise wenig­ stens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder einer Legierung derselben oder einer Mi­ schung oder Kombination davon besteht; oder 4) einer Silber-Palladium-Gallium-Legierung;
  • e) einer elektrisch leitfähigen Zwischenhartlotverbin­ dung (15), die zwischen dem Isolator (25) und den er­ sten Seitenwänden (14) der ersten Öffnung (12) ange­ ordnet ist, um dazwischen eine Abdichtung zu bilden, wobei die Zwischenhartlotverbindung (15) gebildet ist aus wenigstens 1) reinem Gold; oder 2) einer Gold-Le­ gierung, die aus Gold und wenigstens Titan, Nio­ bium, Vanadium, Nickel, Molybdän, Platin, Palladium, Ruthenium, Silber, Rhodium, Osmium oder Indium oder einer Legierung derselben oder einer Mischung oder Kombination davon besteht; oder 3) einer Kupfer-Sil­ ber-Legierung, die aus Kupfer, Silber und wahlweise wenigstens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder einer Legierung derselben oder einer Mischung oder Kombination davon besteht; oder 4) ei­ ner Silber-Palladium-Gallium-Legierung;
  • f) einem Keramik enthaltenden kapazitiven Filter (50), durch das sich eine dritte Öffnung (35) oder ein Durchlaß erstreckt, wobei eine erste elektrische Klemme innerhalb der dritten Öffnung (35) oder des Durchlasses angeordnet ist und wobei eine zweite elektrische Klemme auf einer äußeren Oberfläche (80) des kapazitiven Filters (50) angeordnet ist;
  • g) einer elektrisch leitfähigen inneren Weichlotverbin­ dung (55), die innerhalb der dritten Öffnung (35) oder des Durchlasses angeordnet ist, wobei die innere Weichlotverbindung (55) mit der inneren Hartlotver­ bindung (65) und der ersten Klemme elektrisch und me­ chanisch verbunden ist und wobei die innere Weichlot­ verbindung (55) gebildet ist aus wenigstens: 1) einer Indium-Blei-Legierung; oder 2) nur Indium; oder 3) nur Blei; oder 4) nur Silber; oder 5) nur Zinn; oder 6) einer Indium-Silber-Legierung; oder 7) einer In­ dium-Zinn-Legierung; oder 8) einer Zinn-Blei-Legie­ rung; oder 9) einer Zinn-Silber-Legierung; oder 10) einer Indium-Blei-Silber-Legierung; oder 11) einer Zinn-Blei-Silber-Legierung; oder 12) einer Gold-Zinn-Le­ gierung; oder 13) einer Gold-Silicium-Legierung; oder 14) einer Gold-Germanium-Legierung; oder 15) ei­ ner Gold-Indium-Legierung;
  • h) einer elektrisch leitfähigen äußeren Hartlotverbin­ dung (40), die zwischen der Muffe (10) und der äuße­ ren Oberfläche (80) des kapazitiven Filters (50) an­ geordnet ist, wobei die äußere Hartlotverbindung (40) gebildet ist aus wenigstens: 1) reinem Gold; oder 2) einer Gold-Legierung, die aus Gold und wenigstens Ti­ tan, Niobium, Vanadium, Nickel, Molybdän, Platin, Palladium, Ruthenium, Silber, Rhodium, Osmium oder Indium oder einer Legierung derselben oder einer Mi­ schung oder Kombination davon besteht; oder 3) einer Kupfer-Silber-Legierung, die aus Kupfer, Silber und wahlweise wenigstens Indium, Titan, Zinn, Gallium, Palladium oder Platin oder einer Legierung derselben oder einer Mischung oder Kombination davon besteht; oder 4) einer Silber-Palladium-Gallium-Legierung; und
  • i) einer elektrisch leitfähigen äußeren Weichlotverbin­ dung (45), die zwischen der äußeren Hartlotverbindung (40) und der zweiten elektrischen Klemme angeordnet ist, wobei die äußere Weichlotverbindung (45) die äu­ ßere Hartlotverbindung (40) mit der zweiten Klemme elektrisch und mechanisch verbindet und wobei die äu­ ßere Weichlotverbindung (45) gebildet ist aus wenig­ stens: 1) einer Indium-Blei-Legierung; oder 2) nur Indium; oder 3) nur Blei; oder 4) nur Silber; oder 5) nur Zinn; oder 6) einer Indium-Silber-Legierung; oder 7) einer Indium-Zinn-Legierung; oder 8) einer Zinn- Blei-Legierung; oder 9) einer Zinn-Silber-Legierung; oder 10) einer Indium-Blei-Silber-Legierung; oder 11) einer Zinn-Blei-Silber-Legierung; oder 12) einer Gold-Zinn-Legierung; oder 13) einer Gold-Silicium-Le­ gierung; oder 14) einer Gold-Germanium-Legierung oder 15) einer Gold-Indium-Legierung;
wobei das kapazitive Filter (50) in Kombination mit den elektrischen Verbindungen, die mit der ersten und der zweiten Klemme desselben von dem Stift (30) bzw. der Muffe (10) aus hergestellt sind, elektromagnetische Störung dämpft, wenn es in einer implantierbaren medizinischen Vorrichtung installiert ist.
2. Durchführungsbaugruppe nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das kapazitive Filter (50) wenigstens teil­ weise in der ersten Öffnung (12) angeordnet ist.
3. Durchführungsbaugruppe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge­ kennzeichnet, daß eine untere Oberfläche eines elektrisch leitfähigen Kontaktstückes (60) mit der inneren Weichlot­ verbindung (55) elektrisch und mechanisch verbunden ist, wobei das Kontaktstück (60) eine obere Oberfläche hat, die zum Drahtanschluß, Weichlöten, Kleben, Schweißen, Laser­ schweißen oder Hartlöten einer elektrischen Verbindung darauf oder daran geeignet ist.
4. Durchführungsbaugruppe nach Anspruch 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Kontaktstück (60) aus einer der folgen­ den Komponenten gebildet ist: a) Kovar, das eine erste Schicht Nickel und dann eine Schicht Gold angeordnet auf dessen Oberfläche hat; b) Messing, das eine erste Schicht Nickel und dann eine auf deren Oberfläche angeordnete Schicht Gold hat; c) reines Gold; d) Nickel, das eine Schicht Gold angeordnet auf seiner Oberfläche hat; und e) reines Kupfer oder eine Kupfer-Legierung mit einer ersten Schicht Nickel und dann einer auf deren Oberfläche ange­ ordneten Schicht Gold.
5. Durchführungsbaugruppe nach Anspruch 3 oder 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Kontaktstück (60) mit einer inneren Schaltungsanordnung, die innerhalb einer implantierbaren medizinischen Vorrichtung angeordnet ist, elektrisch ver­ bunden ist.
6. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine hermetische Abdichtung zwischen der Muffe (10) und dem kapazitiven Filter (50) wenigstens durch die äußere Hartlotverbindung (40) oder durch die äußere Weichlotverbindung (45) gebildet ist.
7. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine hermetische Abdichtung zwischen dem Isolator (25) und dem Stift (30) durch die innere Hartlotverbindung (65) und die äußere Weichlotver­ bindung (45) gebildet ist.
8. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine hermetische Abdichtung zwischen dem Isolator (25) und der ersten Öffnung (12) durch die Zwischenhartlotverbindung (15) gebildet ist.
9. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Muffe (10) mit einem Ge­ häuse, einem Behälter, einer Abdeckung oder einer Abschir­ mung (20) in einer implantierbaren medizinischen Vorrich­ tung elektrisch und mechanisch verbunden ist.
10. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Muffe (10) einen Teil ei­ nes Gehäuses, eines Behälters (20), einer Abdeckung, einer Hülle oder einer Abschirmung in einer implantierbaren me­ dizinischen Vorrichtung bildet und baulich einstückig da­ mit ausgebildet ist.
11. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die implantierbare medizini­ sche Vorrichtung ein Herzschrittmacher, ein implantierba­ rer Impulsgenerator, ein Defibrillator, ein Herzschrittma­ cher-Kardioverter-Defibrillator, ein neurologischer Sti­ mulator oder ein gastrointestinaler Stimulator ist.
12. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Stift (30) mit einem Ver­ binderblock oder einem Verbinder, der außerhalb der im­ plantierbaren medizinischen Vorrichtung angeordnet ist, elektrisch verbunden ist.
13. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das kapazitive Filter (50) ein scheibenförmiger Kondensator ist.
14. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das kapazitive Filter (50) ein mehrschichtiger Kondensator ist.
15. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das kapazitive Filter (50) Ba­ rium-Titanat enthält.
16. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das kapazitive Filter (50) aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einschichtigen Konden­ satoren, rechteckigen Kondensatoren, quadratischen Konden­ satoren, elliptischen Kondensatoren und ovalen Kondensato­ ren besteht.
17. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das kapazitive Filter (50) we­ nigstens einen Silberdickfilm, einen Silber-Palladium-Le­ gierungsdickfilm oder einen Silber-Platin-Legierungsdick­ film angeordnet auf der inneren Oberfläche des kapazitiven Filters oder auf der äußeren Oberfläche des kapazitiven Filters hat.
18. Durchführungsbaugruppe nach Anspruch 17, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das kapazitive Filter (50) wenigstens eine Nickel- oder eine Goldschicht aufgetragen durch Zerstäu­ bung auf seinen Dickfilmoberflächen hat.
19. Durchführungsbaugruppe nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens Niobium, Titan, eine Titan-Wolfram-Legierung, Wolfram oder Molybdän auf eine innere Oberfläche oder auf eine äußere Oberfläche des Isolators (25) durch Zerstäubung aufgetragen ist.
DE19819797A 1997-05-06 1998-05-04 Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung Expired - Fee Related DE19819797C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/852,198 US5870272A (en) 1997-05-06 1997-05-06 Capacitive filter feedthrough for implantable medical device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19819797A1 true DE19819797A1 (de) 1998-12-24
DE19819797C2 DE19819797C2 (de) 2002-11-21

Family

ID=25312716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19819797A Expired - Fee Related DE19819797C2 (de) 1997-05-06 1998-05-04 Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung

Country Status (3)

Country Link
US (3) US5870272A (de)
DE (1) DE19819797C2 (de)
FR (1) FR2766719B1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001037929A1 (de) * 1999-11-20 2001-05-31 BIOTRONIK MESS- UND THERAPIEGERäTE GMBH & CO. INGENIEURBüRO BERLIN Filterdurchführung
DE102011003397A1 (de) * 2011-01-31 2012-08-02 Il-Metronic Sensortechnik Gmbh Glas-Titan-Dichtung und Verfahren zur Herstellung einer Glas-Titan-Dichtung
DE102016209134A1 (de) * 2016-05-25 2017-11-30 Siemens Aktiengesellschaft Wärmeleitende Keramikdurchführung für Schaltanlagen

Families Citing this family (163)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7336468B2 (en) 1997-04-08 2008-02-26 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US6603646B2 (en) * 1997-04-08 2003-08-05 X2Y Attenuators, Llc Multi-functional energy conditioner
US7321485B2 (en) * 1997-04-08 2008-01-22 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US7301748B2 (en) 1997-04-08 2007-11-27 Anthony Anthony A Universal energy conditioning interposer with circuit architecture
US7274549B2 (en) * 2000-12-15 2007-09-25 X2Y Attenuators, Llc Energy pathway arrangements for energy conditioning
US9054094B2 (en) 1997-04-08 2015-06-09 X2Y Attenuators, Llc Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit
US5870272A (en) * 1997-05-06 1999-02-09 Medtronic Inc. Capacitive filter feedthrough for implantable medical device
US6643903B2 (en) 1997-11-13 2003-11-11 Greatbatch-Sierra, Inc. Process for manufacturing an EMI filter feedthrough terminal assembly
US5978710A (en) 1998-01-23 1999-11-02 Sulzer Intermedics Inc. Implantable cardiac stimulator with safe noise mode
EP0959517A1 (de) * 1998-05-18 1999-11-24 TRT Lucent Technologies (SA) Justierfreier Duplexer mit niedrigem Verlust
DE19835843C2 (de) * 1998-08-07 2000-06-29 Epcos Ag Lötfreies, koaxiales Durchführungs-Bauelement
US6349025B1 (en) 1999-11-30 2002-02-19 Medtronic, Inc. Leak testable capacitive filtered feedthrough for an implantable medical device
US6415182B1 (en) * 2000-01-31 2002-07-02 Cts Corporation Hermetic ground pin assembly and method of making
US6414835B1 (en) 2000-03-01 2002-07-02 Medtronic, Inc. Capacitive filtered feedthrough array for an implantable medical device
US6795730B2 (en) 2000-04-20 2004-09-21 Biophan Technologies, Inc. MRI-resistant implantable device
US8527046B2 (en) 2000-04-20 2013-09-03 Medtronic, Inc. MRI-compatible implantable device
US6459935B1 (en) 2000-07-13 2002-10-01 Avx Corporation Integrated filter feed-thru
US7193831B2 (en) * 2000-10-17 2007-03-20 X2Y Attenuators, Llc Energy pathway arrangement
WO2002033798A1 (en) * 2000-10-17 2002-04-25 X2Y Attenuators, Llc Amalgam of shielding and shielded energy pathways and other elements for single or multiple circuitries with common reference node
DE60134493D1 (de) * 2000-12-12 2008-07-31 Japan Science & Tech Agency Lenkmechanismus für elektrisches fahrzeug
US6829509B1 (en) 2001-02-20 2004-12-07 Biophan Technologies, Inc. Electromagnetic interference immune tissue invasive system
US20020116029A1 (en) * 2001-02-20 2002-08-22 Victor Miller MRI-compatible pacemaker with power carrying photonic catheter and isolated pulse generating electronics providing VOO functionality
US7010856B2 (en) * 2001-03-16 2006-03-14 Nihon Kohden Corporation Lead wire attachment method, electrode, and spot welder
US6545854B2 (en) 2001-05-25 2003-04-08 Presidio Components, Inc. Fringe-field non-overlapping-electrodes discoidal feed-through ceramic filter capacitor with high breakdown voltage
US6760215B2 (en) * 2001-05-25 2004-07-06 Daniel F. Devoe Capacitor with high voltage breakdown threshold
US6619763B2 (en) 2001-05-25 2003-09-16 Presidio Components, Inc. Feed-through filter capacitor with non-overlapping electrodes
US6521350B2 (en) * 2001-06-18 2003-02-18 Alfred E. Mann Foundation For Scientific Research Application and manufacturing method for a ceramic to metal seal
US7054686B2 (en) * 2001-08-30 2006-05-30 Biophan Technologies, Inc. Pulsewidth electrical stimulation
US6731979B2 (en) 2001-08-30 2004-05-04 Biophan Technologies Inc. Pulse width cardiac pacing apparatus
US7215993B2 (en) * 2002-08-06 2007-05-08 Cardiac Pacemakers, Inc. Cardiac rhythm management systems and methods for detecting or validating cardiac beats in the presence of noise
US6917830B2 (en) * 2001-10-29 2005-07-12 Cardiac Pacemakers, Inc. Method and system for noise measurement in an implantable cardiac device
US6892092B2 (en) * 2001-10-29 2005-05-10 Cardiac Pacemakers, Inc. Cardiac rhythm management system with noise detector utilizing a hysteresis providing threshold
WO2003037399A2 (en) * 2001-10-31 2003-05-08 Biophan Technologies, Inc. Hermetic component housing for photonic catheter
US6871091B2 (en) * 2001-10-31 2005-03-22 Medtronic, Inc. Apparatus and method for shunting induced currents in an electrical lead
US6490148B1 (en) 2002-01-02 2002-12-03 Greatbatch-Hittman, Incorporated Installation of filter capacitors into feedthroughs for implantable medical devices
US6985347B2 (en) * 2002-02-28 2006-01-10 Greatbatch-Sierra, Inc. EMI filter capacitors designed for direct body fluid exposure
WO2003073449A1 (en) 2002-02-28 2003-09-04 Greatbatch-Sierra, Inc. Emi feedthrough filter terminal assembly for human implant applications utilizing oxide resistant biostable conductive pads for reliable electrical attachments
US20030191505A1 (en) * 2002-04-09 2003-10-09 Mark Gryzwa Magnetic structure for feedthrough filter assembly
US6711440B2 (en) 2002-04-11 2004-03-23 Biophan Technologies, Inc. MRI-compatible medical device with passive generation of optical sensing signals
US6725092B2 (en) 2002-04-25 2004-04-20 Biophan Technologies, Inc. Electromagnetic radiation immune medical assist device adapter
AU2003279616A1 (en) * 2002-06-28 2004-01-19 Advanced Bionics Corporation Microstimulator having self-contained power source and bi-directional telemetry system
US6925322B2 (en) * 2002-07-25 2005-08-02 Biophan Technologies, Inc. Optical MRI catheter system
US6945331B2 (en) * 2002-07-31 2005-09-20 Schlumberger Technology Corporation Multiple interventionless actuated downhole valve and method
US6791845B2 (en) * 2002-09-26 2004-09-14 Fci Americas Technology, Inc. Surface mounted electrical components
US7180718B2 (en) * 2003-01-31 2007-02-20 X2Y Attenuators, Llc Shielded energy conditioner
US7038900B2 (en) * 2003-02-27 2006-05-02 Greatbatch-Sierra, Inc. EMI filter terminal assembly with wire bond pads for human implant applications
US7623335B2 (en) * 2003-02-27 2009-11-24 Greatbatch-Sierra, Inc Hermetic feedthrough terminal assembly with wire bond pads for human implant applications
US20040197284A1 (en) * 2003-04-04 2004-10-07 Frederic Auguste Cosmetic composition comprising a volatile fatty phase
US6935549B2 (en) * 2003-05-23 2005-08-30 Medtronic, Inc. Brazing fixtures and methods for fabricating brazing fixtures used for making feed-through assemblies
US6852925B2 (en) * 2003-05-23 2005-02-08 Medtronic, Inc. Feed-through assemblies having terminal pins comprising platinum and methods for fabricating same
US7719854B2 (en) 2003-07-31 2010-05-18 Cardiac Pacemakers, Inc. Integrated electromagnetic interference filters and feedthroughs
US7966070B2 (en) * 2003-09-12 2011-06-21 Medtronic, Inc. Feedthrough apparatus with noble metal-coated leads
US20070260282A1 (en) * 2003-09-12 2007-11-08 Taylor William J Feedthrough apparatus with noble metal-coated leads
US6899545B2 (en) * 2003-10-16 2005-05-31 Special Hermetic Products, Inc. Coupling and method for producing a hermetic seal
JP2007515794A (ja) 2003-12-22 2007-06-14 エックストゥーワイ アテニュエイターズ,エルエルシー 内部で遮蔽されたエネルギー調節器
US7085126B2 (en) * 2004-03-01 2006-08-01 Wilson Greatbatch Technologies, Inc. Molded polymeric cradle for containing an anode in an electrolytic capacitor from high shock and vibration conditions
US7035077B2 (en) * 2004-05-10 2006-04-25 Greatbatch-Sierra, Inc. Device to protect an active implantable medical device feedthrough capacitor from stray laser weld strikes, and related manufacturing process
US20050284850A1 (en) * 2004-06-24 2005-12-29 Medtronic, Inc. Method and apparatus for automated assembly and laser welding of medical devices
US20050284919A1 (en) * 2004-06-24 2005-12-29 Medtronic, Inc. Method and apparatus for automated assembly and laser welding of medical devices
US7210966B2 (en) 2004-07-12 2007-05-01 Medtronic, Inc. Multi-polar feedthrough array for analog communication with implantable medical device circuitry
US7327553B2 (en) * 2004-07-27 2008-02-05 Brendel Richard L Feedthrough capacitor filter assemblies with laminar flow delaminations for helium leak detection
US7168979B2 (en) * 2004-08-05 2007-01-30 Agilent Technologies, Inc. Microwave connector
US7771838B1 (en) 2004-10-12 2010-08-10 Boston Scientific Neuromodulation Corporation Hermetically bonding ceramic and titanium with a Ti-Pd braze interface
US8329314B1 (en) 2004-10-12 2012-12-11 Boston Scientific Neuromodulation Corporation Hermetically bonding ceramic and titanium with a palladium braze
US8014867B2 (en) 2004-12-17 2011-09-06 Cardiac Pacemakers, Inc. MRI operation modes for implantable medical devices
US7561915B1 (en) 2004-12-17 2009-07-14 Cardiac Pacemakers, Inc. MRI system having implantable device safety features
TWI258123B (en) * 2005-02-03 2006-07-11 Lite On It Corp Apparatus for positioning a clamper of a disc driver
KR20070107746A (ko) * 2005-03-01 2007-11-07 엑스2와이 어테뉴에이터스, 엘.엘.씨 내부 중첩된 조절기
WO2006093831A2 (en) 2005-03-01 2006-09-08 X2Y Attenuators, Llc Energy conditioner with tied through electrodes
US20060247714A1 (en) * 2005-04-28 2006-11-02 Taylor William J Glass-to-metal feedthrough seals having improved durability particularly under AC or DC bias
US7493166B2 (en) * 2005-04-28 2009-02-17 Medtronic, Inc. Electrical contact for a feedthrough/electrode assembly
US7092242B1 (en) 2005-09-08 2006-08-15 Greatbatch, Inc. Polymeric restraints for containing an anode in an electrolytic capacitor from high shock and vibration conditions
US20070083244A1 (en) * 2005-10-06 2007-04-12 Greatbatch-Sierra, Inc. Process for tuning an emi filter to reduce the amount of heat generated in implanted lead wires during medical procedures such as magnetic resonance imaging
US7564674B2 (en) * 2005-12-12 2009-07-21 Greatbatch Ltd. Feedthrough filter capacitor assemblies having low cost terminal pins
US8145313B2 (en) * 2006-01-13 2012-03-27 Medtronic, Inc. Feed-through assembly
US7725190B2 (en) * 2006-01-30 2010-05-25 Medtronic, Inc. Implantable medical device feedthrough assembly including flange plate
US8160707B2 (en) * 2006-01-30 2012-04-17 Medtronic, Inc. Method and apparatus for minimizing EMI coupling in a feedthrough array having at least one unfiltered feedthrough
EP1991996A1 (de) 2006-03-07 2008-11-19 X2Y Attenuators, L.L.C. Energiekonditionierungsstrukturen
US7668597B2 (en) * 2006-03-31 2010-02-23 Medtronic, Inc. Feedthrough array for use in implantable medical devices
US7281305B1 (en) * 2006-03-31 2007-10-16 Medtronic, Inc. Method of attaching a capacitor to a feedthrough assembly of a medical device
EP2030210A4 (de) * 2006-04-12 2010-04-14 Proteus Biomedical Inc Lückenfreie implantierbare, hermetisch verschlossene strukturen
US7498516B1 (en) * 2006-06-14 2009-03-03 Boston Scientific Neuromodulation Corporation Feedthru assembly
US7391601B1 (en) 2006-07-12 2008-06-24 Pacesetter, Inc. Feedthrough filter assembly
DE102006041939A1 (de) * 2006-09-07 2008-03-27 Biotronik Crm Patent Ag Elektrische Durchführung
US8288654B2 (en) * 2006-11-30 2012-10-16 Medtronic, Inc. Feedthrough assembly including a ferrule, an insulating structure and a glass
US8129622B2 (en) * 2006-11-30 2012-03-06 Medtronic, Inc. Insulator for feedthrough
JP5355867B2 (ja) * 2007-07-10 2013-11-27 ローム株式会社 集積回路素子
US7839620B2 (en) * 2007-09-20 2010-11-23 Medtronic, Inc. Filtered feedthrough assemblies for implantable devices and methods of manufacture
US20090079517A1 (en) * 2007-09-25 2009-03-26 Iyer Rajesh V Novel capacitive elements and filtered feedthrough elements for implantable medical devices
US8059386B2 (en) * 2007-09-25 2011-11-15 Medtronic, Inc. Capacitive elements and filtered feedthrough elements for implantable medical devices
US7928818B2 (en) 2007-09-25 2011-04-19 Medtronic, Inc. Capacitive elements and filtered feedthrough elements for implantable medical devices
US8032228B2 (en) 2007-12-06 2011-10-04 Cardiac Pacemakers, Inc. Method and apparatus for disconnecting the tip electrode during MRI
US8086321B2 (en) 2007-12-06 2011-12-27 Cardiac Pacemakers, Inc. Selectively connecting the tip electrode during therapy for MRI shielding
US20090179716A1 (en) * 2008-01-09 2009-07-16 Anaren, Inc. RF Filter Device
US8311637B2 (en) 2008-02-11 2012-11-13 Cardiac Pacemakers, Inc. Magnetic core flux canceling of ferrites in MRI
US8160717B2 (en) 2008-02-19 2012-04-17 Cardiac Pacemakers, Inc. Model reference identification and cancellation of magnetically-induced voltages in a gradient magnetic field
US10080889B2 (en) 2009-03-19 2018-09-25 Greatbatch Ltd. Low inductance and low resistance hermetically sealed filtered feedthrough for an AIMD
US9108066B2 (en) 2008-03-20 2015-08-18 Greatbatch Ltd. Low impedance oxide resistant grounded capacitor for an AIMD
CN102037528A (zh) 2008-03-20 2011-04-27 格瑞巴奇有限公司 屏蔽三端子平通emi/消能滤波器
US8571661B2 (en) 2008-10-02 2013-10-29 Cardiac Pacemakers, Inc. Implantable medical device responsive to MRI induced capture threshold changes
US8179658B2 (en) * 2008-11-12 2012-05-15 Greatbatch Ltd. Electromagnetic interference filter and method for attaching a lead and/or a ferrule to capacitor electrodes
US8331077B2 (en) 2009-01-12 2012-12-11 Medtronic, Inc. Capacitor for filtered feedthrough with annular member
US20100177458A1 (en) * 2009-01-12 2010-07-15 Medtronic, Inc. Capacitor for filtered feedthrough with conductive pad
US8373965B2 (en) * 2009-02-10 2013-02-12 Medtronic, Inc. Filtered feedthrough assembly and associated method
WO2010096138A1 (en) * 2009-02-19 2010-08-26 Cardiac Pacemakers, Inc. Systems and methods for providing arrhythmia therapy in mri environments
US9009935B2 (en) * 2009-05-06 2015-04-21 Medtronic, Inc. Methods to prevent high voltage arcing under capacitors used in filtered feedthroughs
WO2011011736A2 (en) 2009-07-23 2011-01-27 Proteus Biomedical, Inc. Solid-state thin film capacitor
US8725263B2 (en) 2009-07-31 2014-05-13 Medtronic, Inc. Co-fired electrical feedthroughs for implantable medical devices having a shielded RF conductive path and impedance matching
US20110032658A1 (en) * 2009-08-07 2011-02-10 Medtronic, Inc. Capacitor assembly and associated method
US20110048770A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 Medtronic Inc. Injection molded ferrule for cofired feedthroughs
US20110094768A1 (en) * 2009-10-28 2011-04-28 Pacesetter, Inc. Implantable medical device having feedthru with an integrated interconnect/filter substrate
US8565874B2 (en) * 2009-12-08 2013-10-22 Cardiac Pacemakers, Inc. Implantable medical device with automatic tachycardia detection and control in MRI environments
EP2371417B1 (de) * 2010-03-29 2019-07-24 BIOTRONIK SE & Co. KG Elektrische Durchführung, Verfahren zur Herstellung und Verwendung einer solchen
EP2371418B1 (de) * 2010-03-29 2021-11-03 BIOTRONIK SE & Co. KG Elektrische Durchführung für elektromedizinische Implantate
US8675338B2 (en) * 2010-03-29 2014-03-18 Biotronik Se & Co. Kg Electrical feedthrough of a capacitor for medical implants and method for the production and use thereof
DE102011009862B4 (de) 2011-01-31 2012-11-08 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Cermethaltige Durchführung mit Halteelement für eine medizinisch implantierbare Vorrichtung
DE102011009858B8 (de) 2011-01-31 2013-11-07 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Cermethaltige Durchführung für eine medizinisch inplantierbare Vorrichtung mit Verbindungsschicht
DE102011009855B8 (de) 2011-01-31 2013-01-03 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Keramikdurchführung mit induktivem Filter
DE102011009859B4 (de) 2011-01-31 2012-09-20 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Keramikdurchführung mit Filter
DE102011009861B4 (de) 2011-01-31 2012-09-20 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer cermethaltigen Durchführung
DE102011009860B4 (de) 2011-01-31 2013-03-07 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Implantierbare Vorrichtung mit integrierter Keramikdurchführung
DE102011009867B4 (de) 2011-01-31 2013-09-05 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Keramikdurchführung für eine medizinisch implantierbare Vorrichtung
DE102011009866B4 (de) * 2011-01-31 2013-09-05 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Direkt aufbringbare elektrische Durchführung
DE102011009865B4 (de) 2011-01-31 2012-09-20 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Kopfteil für eine medizinisch implantierbare Vorrichtung
DE102011009856B8 (de) 2011-01-31 2012-12-27 W.C. Heraeus Gmbh Elektrische Durchführung und Verfahren zur Herstellung einer cermethaltigen Durchführung für eine medizinisch implantierbare Vorrichtung
DE102011009857B8 (de) 2011-01-31 2013-01-17 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Elektrische Durchführung mit cermethaltigem Verbindungselement für eine aktive, implantierbare, medizinische Vorrichtung
US8744556B2 (en) 2011-02-04 2014-06-03 Cardiac Pacemakers, Inc. Noise detection in implantable medical devices
US10350421B2 (en) 2013-06-30 2019-07-16 Greatbatch Ltd. Metallurgically bonded gold pocket pad for grounding an EMI filter to a hermetic terminal for an active implantable medical device
US10272252B2 (en) 2016-11-08 2019-04-30 Greatbatch Ltd. Hermetic terminal for an AIMD having a composite brazed conductive lead
US11198014B2 (en) 2011-03-01 2021-12-14 Greatbatch Ltd. Hermetically sealed filtered feedthrough assembly having a capacitor with an oxide resistant electrical connection to an active implantable medical device housing
US9427596B2 (en) 2013-01-16 2016-08-30 Greatbatch Ltd. Low impedance oxide resistant grounded capacitor for an AIMD
US10596369B2 (en) 2011-03-01 2020-03-24 Greatbatch Ltd. Low equivalent series resistance RF filter for an active implantable medical device
US9931514B2 (en) 2013-06-30 2018-04-03 Greatbatch Ltd. Low impedance oxide resistant grounded capacitor for an AIMD
US8644002B2 (en) 2011-05-31 2014-02-04 Medtronic, Inc. Capacitor including registration feature for aligning an insulator layer
US20130058004A1 (en) * 2011-09-01 2013-03-07 Medtronic, Inc. Feedthrough assembly including underfill access channel and electrically insulating material
US8593816B2 (en) 2011-09-21 2013-11-26 Medtronic, Inc. Compact connector assembly for implantable medical device
DE102011119125B4 (de) 2011-11-23 2014-01-23 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Kontaktierungsanordnung mit Durchführung und Filterstruktur
US8644936B2 (en) 2012-01-09 2014-02-04 Medtronic, Inc. Feedthrough assembly including electrical ground through feedthrough substrate
EP2814567B1 (de) 2012-02-15 2019-11-06 Cardiac Pacemakers, Inc. Hülse für eine implantierbare medizinische vorrichtung
USRE46699E1 (en) 2013-01-16 2018-02-06 Greatbatch Ltd. Low impedance oxide resistant grounded capacitor for an AIMD
US9351436B2 (en) 2013-03-08 2016-05-24 Cochlear Limited Stud bump bonding in implantable medical devices
US9478959B2 (en) 2013-03-14 2016-10-25 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Laser welding a feedthrough
US9431801B2 (en) 2013-05-24 2016-08-30 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Method of coupling a feedthrough assembly for an implantable medical device
US9403023B2 (en) 2013-08-07 2016-08-02 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Method of forming feedthrough with integrated brazeless ferrule
US9610451B2 (en) * 2013-12-12 2017-04-04 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Direct integration of feedthrough to implantable medical device housing using a gold alloy
US9504841B2 (en) 2013-12-12 2016-11-29 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Direct integration of feedthrough to implantable medical device housing with ultrasonic welding
US9610452B2 (en) 2013-12-12 2017-04-04 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Direct integration of feedthrough to implantable medical device housing by sintering
US9138821B2 (en) 2014-01-17 2015-09-22 Medtronic, Inc. Methods for simultaneously brazing a ferrule and lead pins
EP4213298A1 (de) 2014-09-22 2023-07-19 Tc1 Llc Antennenentwürfe zur kommunikation zwischen einem drahtlos betriebenen implantat mit einer externen vorrichtung ausserhalb des körpers
US9620293B2 (en) * 2014-11-17 2017-04-11 Avx Corporation Hermetically sealed capacitor for an implantable medical device
DE102015001508B4 (de) * 2015-02-05 2023-10-26 Kostal Automobil Elektrik Gmbh & Co. Kg Elektrisches Durchführungsfilter
EP3069757A1 (de) 2015-03-20 2016-09-21 BIOTRONIK SE & Co. KG Durchführung eines implantierbaren medizinelektronischen gerätes und implantierbares medizinelektronisches gerät
KR101656723B1 (ko) * 2015-06-30 2016-09-12 재단법인 오송첨단의료산업진흥재단 피드스루 제조방법
CN105287047B (zh) * 2015-11-03 2017-03-01 深圳硅基仿生科技有限公司 植入式器件的密封结构及其制造方法
US10249415B2 (en) 2017-01-06 2019-04-02 Greatbatch Ltd. Process for manufacturing a leadless feedthrough for an active implantable medical device
US10350422B2 (en) * 2017-06-09 2019-07-16 Medtronic, Inc. Feedthrough assembly including ferrule with tapered extension(s)
US10874865B2 (en) 2017-11-06 2020-12-29 Avx Corporation EMI feedthrough filter terminal assembly containing a resin coating over a hermetically sealing material
US10912945B2 (en) 2018-03-22 2021-02-09 Greatbatch Ltd. Hermetic terminal for an active implantable medical device having a feedthrough capacitor partially overhanging a ferrule for high effective capacitance area
US10905888B2 (en) 2018-03-22 2021-02-02 Greatbatch Ltd. Electrical connection for an AIMD EMI filter utilizing an anisotropic conductive layer
US11648408B2 (en) * 2018-11-07 2023-05-16 Pacesetter, Inc. Filtered feedthrough assembly for use in implantable medical device and method of manufacturing the same
US11806542B2 (en) 2020-02-11 2023-11-07 Inspire Medical Systems, Inc. Feedthrough mounting for an electronic device, such as an implantable medical device, and methods of making the same
EP3900783B1 (de) 2020-02-21 2023-08-16 Heraeus Medical Components, LLC Hülse für ein nicht-planares gehäuse einer medizinischen vorrichtung
EP3900782B1 (de) 2020-02-21 2023-08-09 Heraeus Medical Components, LLC Hülse mit zugentlastendem abstandshalter für implantierbare medizinische vorrichtung

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1180614A (en) * 1912-10-17 1916-04-25 Siemens Ag Highly-refractory article of tantalum and its alloys.
US2756375A (en) * 1952-02-06 1956-07-24 Sprague Electric Co Feed-through capacitors
US3235939A (en) * 1962-09-06 1966-02-22 Aerovox Corp Process for manufacturing multilayer ceramic capacitors
US3266121A (en) * 1963-02-14 1966-08-16 Illinois Tool Works Method of making a capacitorresistor construction
US3538464A (en) * 1963-08-20 1970-11-03 Erie Technological Prod Inc Multiple pin connector having ferrite core stacked capacitor filter
US3304362A (en) * 1964-12-31 1967-02-14 Inland Electronic Products Cor Glass-to-metal seals in electronic devices
US3624460A (en) * 1969-12-29 1971-11-30 Gen Electric Electrolytic capacitor employing glass-to-metal hermetic seal
US3844921A (en) * 1972-12-18 1974-10-29 Exxon Production Research Co Anode containing pin-type inserts
US3920888A (en) * 1974-06-04 1975-11-18 Nuclear Battery Corp Electrical feed-through assembly suitable for electronic devices implantable in a human body
US4015175A (en) * 1975-06-02 1977-03-29 Texas Instruments Incorporated Discrete, fixed-value capacitor
DE2526130C3 (de) * 1975-06-11 1978-08-24 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung von elektrischen Stapel- oder Schichtkondensatoren
US4010759A (en) * 1975-08-29 1977-03-08 Vitatron Medical B.V. Insulated, corrosion resistant medical electronic devices and method for producing same
US4083022A (en) * 1976-10-12 1978-04-04 Bunker Ramo Corporation Planar pi multi-filter having a ferrite inductance for pin filters in electrical connectors
GB1601857A (en) * 1977-04-07 1981-11-04 Murata Manufacturing Co Feed-through capacitor
US4152540A (en) * 1977-05-03 1979-05-01 American Pacemaker Corporation Feedthrough connector for implantable cardiac pacer
US4107762A (en) * 1977-05-16 1978-08-15 Sprague Electric Company Solid electrolyte capacitor package with an exothermically-alloyable fuse
US4148003A (en) * 1977-07-08 1979-04-03 Globe-Union Inc. Series feed-through capacitor
US4352951A (en) * 1977-09-26 1982-10-05 Medical Components Corp. Ceramic seals between spaced members such as a terminal pin and a ferrule
US4220813A (en) * 1977-09-26 1980-09-02 Medical Components Corp. Terminal for medical instrument
US4421947A (en) * 1977-10-11 1983-12-20 James C. Kyle Polycrystalline insulating material seals between spaced members such as a terminal pin and a ferrule
US4168351A (en) * 1978-02-10 1979-09-18 P. R. Mallory & Co., Inc. Stabilized glass-to-metal seals in lithium cell environments
US4180700A (en) * 1978-03-13 1979-12-25 Medtronic, Inc. Alloy composition and brazing therewith, particularly for _ceramic-metal seals in electrical feedthroughs
JPS54144146U (de) * 1978-03-30 1979-10-06
CH649411A5 (de) * 1979-01-29 1985-05-15 Medtronic Inc Elektrische durchfuehrungsanordnung.
US4247881A (en) * 1979-04-02 1981-01-27 Sprague Electric Company Discoidal monolithic ceramic capacitor
US4678868A (en) 1979-06-25 1987-07-07 Medtronic, Inc. Hermetic electrical feedthrough assembly
US4556613A (en) * 1979-07-03 1985-12-03 Duracell Inc. Resistant glass in glass-metal seal and cell terminal structure for lithium electrochemical cells
US4456786A (en) * 1979-11-19 1984-06-26 James C. Kyle Terminal assembly for heart pacemaker
US4362792A (en) * 1980-12-01 1982-12-07 Emerson Electric Co. Conductor seal assembly
US4424551B1 (en) * 1982-01-25 1991-06-11 Highly-reliable feed through/filter capacitor and method for making same
US4791391A (en) * 1983-03-30 1988-12-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Planar filter connector having thick film capacitors
US4683516A (en) * 1986-08-08 1987-07-28 Kennecott Corporation Extended life capacitor and method
US4737601A (en) * 1986-08-18 1988-04-12 Dynawave Incorporated Hermetically sealed electrical feedthrough and method of making same
US4741710A (en) * 1986-11-03 1988-05-03 Amphenol Corporation Electrical connector having a monolithic capacitor
EP0331959B1 (de) * 1988-02-29 1994-12-28 Pacesetter AB Bipolarer gefilterter Durchführungsanschluss
US5070605A (en) * 1988-04-22 1991-12-10 Medtronic, Inc. Method for making an in-line pacemaker connector system
US4934366A (en) * 1988-09-01 1990-06-19 Siemens-Pacesetter, Inc. Feedthrough connector for implantable medical device
US5032692A (en) * 1989-05-09 1991-07-16 Avx Corporation Process for manufactoring hermetic high temperature filter packages and the products produced thereby
US5104755A (en) * 1989-06-15 1992-04-14 Medtronic, Inc. Glass-metal seals
US5144946A (en) * 1991-08-05 1992-09-08 Siemens Pacesetter, Inc. Combined pacemaker substrate and electrical interconnect and method of assembly
US5406444A (en) * 1993-03-29 1995-04-11 Medtronic, Inc. Coated tantalum feedthrough pin
US5333095A (en) * 1993-05-03 1994-07-26 Maxwell Laboratories, Inc., Sierra Capacitor Filter Division Feedthrough filter capacitor assembly for human implant
US5440447A (en) * 1993-07-02 1995-08-08 The Morgan Crucible Company, Plc High temperature feed-through system and method for making same
US5535097A (en) * 1993-11-23 1996-07-09 Medtronic, Inc. Implantable medical device including a first enclosure portion having a feedthrough in a second interior surface
AU3299995A (en) * 1994-10-04 1996-04-18 Medtronic, Inc. Protective feedthrough
WO1997012645A1 (en) * 1995-10-03 1997-04-10 Intermedics, Inc. Feedthrough assembly with transient voltage suppressor and emi filter for implantable medical devices
US5650759A (en) * 1995-11-09 1997-07-22 Hittman Materials & Medical Components, Inc. Filtered feedthrough assembly having a mounted chip capacitor for medical implantable devices and method of manufacture therefor
US5620476A (en) * 1995-11-13 1997-04-15 Pacesetter, Inc. Implantable medical device having shielded and filtered feedthrough assembly and methods for making such assembly
ATE270126T1 (de) * 1997-04-10 2004-07-15 Greatbatch Hittman Inc Gefilterte durchführung für implantierbare medizinische geräte und entsprechendes herstellungsverfahren
US5870272A (en) * 1997-05-06 1999-02-09 Medtronic Inc. Capacitive filter feedthrough for implantable medical device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001037929A1 (de) * 1999-11-20 2001-05-31 BIOTRONIK MESS- UND THERAPIEGERäTE GMBH & CO. INGENIEURBüRO BERLIN Filterdurchführung
US6519133B1 (en) 1999-11-20 2003-02-11 Biotronik Mess-Und Therapiegerate Gmbh & Co. Filter feedthrough
DE102011003397A1 (de) * 2011-01-31 2012-08-02 Il-Metronic Sensortechnik Gmbh Glas-Titan-Dichtung und Verfahren zur Herstellung einer Glas-Titan-Dichtung
DE102011003397B4 (de) * 2011-01-31 2015-02-12 Il-Metronic Sensortechnik Gmbh Glas-Titan-Dichtung und Verfahren zur Herstellung einer Glas-Titan-Dichtung
DE102016209134A1 (de) * 2016-05-25 2017-11-30 Siemens Aktiengesellschaft Wärmeleitende Keramikdurchführung für Schaltanlagen
US10630063B2 (en) 2016-05-25 2020-04-21 Siemens Aktiengesellschaft Heat-conducting ceramic bushing for switchgear
DE102016209134B4 (de) 2016-05-25 2023-05-17 Siemens Aktiengesellschaft Wärmeleitende Keramikdurchführung für Schaltanlagen

Also Published As

Publication number Publication date
DE19819797C2 (de) 2002-11-21
US6031710A (en) 2000-02-29
US5867361A (en) 1999-02-02
FR2766719B1 (fr) 2000-03-31
US5870272A (en) 1999-02-09
FR2766719A1 (fr) 1999-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19819797A1 (de) Durchführungsbaugruppe für eine implantierbare medizinische Vorrichtung
US10589107B2 (en) Circuit board mounted filtered feedthrough assembly having a composite conductive lead for an AIMD
EP2371418B1 (de) Elektrische Durchführung für elektromedizinische Implantate
US8659870B2 (en) Modular EMI filtered terminal assembly for an active implantable medical device
USRE48348E1 (en) Feedthrough filter capacitor assembly with internally grounded hermetic insulator
DE69835991T2 (de) Hermetisch abgeschlossener EMI-Durchführungsfilter für menschliches Implantat und andere Anwendungen.
DE602004013217T2 (de) Mehrstift-durchführung mit einem Erdungsstift , der einen Isolator durchgeht und mit einem Ferrule direkt gelötet ist
EP1897588B1 (de) Elektrische Durchführung
DE10059373B4 (de) Lecktestgeeignete, kapazitiv gefilterte Durchführung für ein implantierbares medizinisches Gerät
DE102011119125B4 (de) Kontaktierungsanordnung mit Durchführung und Filterstruktur
US10046166B2 (en) EMI filtered co-connected hermetic feedthrough, feedthrough capacitor and leadwire assembly for an active implantable medical device
EP2207594B1 (de) Neue kapazitive elemente und gefilterte durchführungselemente für implantierbare medizinische vorrichtungen
DE102006054249A1 (de) Filterdurchführung für Implantate
JP2007536760A (ja) 人体インプラント用途向きワイヤボンドパッド付きemiフィルタ端子組立体
US9251960B2 (en) Dual stage EMI filter and offset highly efficient multi-polar active capacitor electrodes for an active implantable medical device
WO2010014377A1 (en) Novel capacitive elements and filtered feedthrough elements for implantable medical devices
EP2926864A1 (de) Elektrische Durchführung für elektromedizinische Implantate, elektrisches Kontaktelement mit einer solchen Durchführung sowie elektromedizinisches Implantat
US11202916B2 (en) Hermetic terminal for an AIMD having a pin joint in a feedthrough capacitor or circuit board
US11351387B2 (en) Method of manufacturing a singulated feedthrough insulator for a hermetic seal of an active implantable medical device incorporating a post conductive paste filled pressing step
EP2385861A1 (de) Kondensator für gefilterte durchführung mit leitfähigem polster
US11712571B2 (en) Electrical connection for a hermetic terminal for an active implantable medical device utilizing a ferrule pocket
DE102016107414A1 (de) Durchführung eines implantierbaren medizinelektronischen Gerätes und implantierbares medizinelektronisches Gerät
EP1110313A2 (de) Lötfreies, koaxiales durchführungs-bauelement

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8328 Change in the person/name/address of the agent

Representative=s name: ACKMANN MENGES PATENT- UND RECHTSANWAELTE, 80469 M

R082 Change of representative

Representative=s name: SCHUMACHER & WILLSAU PATENTANWALTSGESELLSCHAFT, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20141202