DE2123702B2 - Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes

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    • GPHYSICS
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Description

I-)ic l.rlindiing betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Rclielbildes gemäß Oberbegriff des Anspruchs I.
I.in derartiges Verfahren ist z. B. aus der US-Patent· sJihIi J4 M 482 bekannt. Es wird insbesondere für die Herstellung von Al/schutzsehichtcn fur kopierte Schal Hingen. Iieldruckformen oder zum Eormteilätzen verwendet uik\ hat für derartige Anwendungen erhebliche Vorteile gegenüber dem sonst üblichen Anbringen der Photoresistschieht aus einer Lösung oder Dispersion. Die Schichtübertragung erfolgt in der Weise, dall die freiliegende oder durch Abziehen einer gegebenenfalls vorhandenen Deekfolie freigelegte Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht unter Erwärmen und Druck auf die endgültige Unterlage laminiert und der temporäre Schichtträger, im allgemeinen eine transparente Kunststoffolie, nach dem Belichten von der lichtempfindlichen Schicht abgezogen wird.
I.in Nachteil dieses Schichuiberlragungsverfahrcns isi darm begründet, daß das Laminieren der lichtempfindlichen Schicht mit der zu ätzenden Unterlage unter Erw armen erfolgen muß. um eine ausreichende I laltimg zu erzielen. Damit später der temporäre Schichtträger von der lichtempfindlichen Schicht abgezogen werden
"< kann, muß er stets weniger an der lichtempfindlichen Schicht halten als der endgültige Schichtträger. Da während des Laminierens die lichtempfindliche Schicht erweicht b/vv. klebrig wird, kann auch ihre Haltung am temporären Schichtträger zunehmen, wodurch unter
ι Umständen beim Abziehen die lichtempfindliche Schicht beschädigt werden kann.
Die Belichtung der Schicht erfolgt im allgemeinen durch die temporäre Schichtträgerfolie hindurch, ehe diese abgezogen wird. Daher tritt beim Kontaktkopie-
> ren ein erheblicher Verlust an Auflösungsvermögen auf. der durch den Abstand zwischen Vorlage und lichtempfindlicher Schicht bedingt ist. V» .nn man die Trägerfolie vor dem Belichten abzieht, wird zwar ein direkter Kontakt und damit die Voraussetzung für
> optimale Schärfe der Kopie erreicht. In diesem Fall verklebt jedoch sehr häufig die Vorlage mit der durch das Laminieren erweichten lichtempfindlichen Schicht und läßt sich nicht mehr sauber vor dieser trennen.
Ein ähnliches Verfahren wird in der DE-OS 20 4b 115
< beschrieben. Dort wird ein wasserdurchlässiger temporärer Schichtträger verwendet und zwischen temporärem Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht eine dünne Trennschicht angebracht, die in Wasser oder der Entwicklerlösung löslich ist. Die Übertragung erfolgt in
ι der Weise, daß nach dem Verbinden der lichtempfindlichen Schicht mit dem endgültigen !rager das Laminat mit Wasser oder Entwickler gewaschen und dadurch die Trennschicht aufgelöst und der temporäre Schichtträger entfernt wird. Bei diesem Verfahren wird aber der Vorteil der trockenen Übertragung wieder aufgegeben. Selbst wenn das Laminieren trocken, also unter Druck und Erwärmen erfolgt, verbleibt nach dem Ablosen des temporären Schichtträgers die freie, klebrige Oberflache der lichtempfindlichen Schicht, die zusätzlich durch das Auswaschen angequollen ist. Die oben geschilderten Probleme bei der Kontaktbelichtung bestellen deshalb bei diesem Verfahren fort.
Aufgabe der Erfindung war es. ein trocken, d. h. ohne Anwendung von Lösungsmitteln arbeitendes Schichtübertragungsverfahren zu finden, das ein Kopieren ohne Schärfeverlust und ein einwandfreies Abtrennen der Vorlage ermöglicht.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes. L.-i dem man ein lichtempfindliches Ubertragungsmaterial aus einem Kmporären Schichtträger, einer dünnen Trennschicht, die bei Erwärmen auf Temperaturen bis zu 150 C mehl klebrig wird und an einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht stärker haftet als an dem temporären Schichtträger, einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht — und ggfs. einer Deekfolie. nach Abstreifen der ggfs. vorhandenen Deekfolie — durch Druck und Erwärmen auf einen endgültigen Schichtträger auflaminiert. die lichtempfindliche thermoplastische .Schicht belichtet und entwickelt.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man den temporären Schichtträger nach dem Atiflaminieren des Übertragiingsmaterials auf den endgültigen Schichtträger und vor dem Belichten ohne vorherige Einwirkung eines Lösungsmittels von der lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht abzieht.
Durch die in dem erlindungsgemaß verwendeten
Material enthaltene Trennschicht wird erreicht, daß sich der temporäre Schichtträger unter Erhaltung der Trennschicht sauber abziehen läßt. Da die freigelegte Oberfläche der Trennschicht weder bei ijem Laminieren noch beim Abziehen des Schichtträgers erweicht oder klebrig wird, kann sie wje jede andere lichtempfindliche Schicht, die nicht vor dem Kopieren erwärmt wird, im engen Kontakt mit der Vorlage belichtet werden. Da die Trennschicht sehr dünn, d. h. 0,1 bis 5 μΐη. vorzugsweise 0.5 bis 2 tun stark ist. hat sie praktisch keinen Veilust an Auflösungsvermögen mehr zur Folge. Sie wird bei Anwendung eines geeigneten Entwicklers zusammen mit den bei der Belichtung löslich gebliebenen bzw. löslich gewordenen Schichtteilen entfernt.
Die Trennschicht kann aus Substanzen mit sehr unterschiedlicher Natur bestehen. Ihre Löslichkeitseigenschaften werden zweckmäßig auf die der lichtempfindlichen Schicht abgestimmt. Wenn diese mit organischen Lösungsmitteln oder deren Dämpfen entwickelt werden soll, sollte auch die Trennschicht in diesen Lösungsmitteln löslich oder mindestens quellbar sein. Das gleiche gilt für die bevorzugt verwendeten, mit wäßrigen oder wäßrig-alkalischen Lösungen entwickelbaren Schichten. In jedem Falle sollte die Trennschicht in der verwendeten Entwicklerlösung löslich oder quellbar sein.
Zur Herstellung der Trennschicht sind vorzugsweise hochpolymere organische Substanzen geeignet, da sich mit ihnen besonders gleichmäßige Schichten der erforderlichen gelingen Stärke herstellen lassen. Es können natürliche und synthetische hochpolymere Stoffe ν ervv endfit werden, insbesondere solche mit aliphatischer Kette, bei de·..er. höchstens JO'tli der Einheiten aromatische Substituenien ι .nhalten. Beispiele für geeignete hochpolymere Stoffe sind: Gelatine. Celhi'oseäihcr. wie Carboxymethylcellulose oder Hydroxy a thy !cellulose. Polyvinylalkohol. Polyvinylpyrrolidon. Polyacrylsäure. Styrol-Maleinsäure-Mischpolymerisate. Vinyläther-Maleinsäureanhydrid-Mischpolymeri-Siile. Polyacrylsäureester. Polymethacrylsäureester und Male:nathar/e.
Die Trennschicht kann aber auch ganz oder teilweise aus niedermolekularen filmbildenden organischen Substanzen besiehen. z. B. aus Netzmitteln wie Saponin. wasserlöslichen Kohlenhydraten wie Saccharose, solange diese Substanzen beim Erwärmen auf Temperaturen bis zu I 50 C nicht klebrig werden bzw. erweichen.
Wenn als lichtempfindliche Schicht eine gegen Sauerstoff empfindliche phoiopolymensierbare Schicht verwendet werden soll, wird zweckmäßig eine Trennschicht verwendet, die für l.uftsaucrstoff wenig durchlässig ist. Hierfür sind z. B. Schichten aus Polyvinylalkohol. Polyvinylpyrrolidon. Gelatine. Mischpolymerisaten von Mcthylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, aus Saponin und Rohrzucker geeignet.
Als lichtempfindliche Schichten eignen sich sowohl negativ als auch positiv arbeitende Systeme. Es kommen z. Fi. Photopolymerschichtcp. photovcrnctzbarc Schichten, mit Chmondiazidcn. Diazoniumverbindungen oder Aziden sensibilisierte .Schichten oder mil bestimmten Heterocyclen sensibilisicite Polymerisatschichten in Betracht.
Wesentlich ist es, daß die lichtempfindliche Schicht thermoplastisch ist, d. h. daß sie unter den Bedingungen der Kaschierung, die bei Temperaturen bis zu 150° C vorgenommen wird, erweicht oder klebrig wird. Obwohl ein großer Teil der bekannten lichtempfindlichen Schichten, insbesondere der Photopolymerschichten, diese Eigenschaft von sich qus hat, bedarf ein Teil der bekannten lichtempfindlichen Schichten hierfür einer Modifizierung. Diese kann in einfacher Weise durch Zusatz von thermoplastischen Bindemitteln erfolgen oder bei bereits bindemittelhaltigen Schichten durch Einverleiben von verträglichen Weichmachern. Beispiele für geeignete lichtempfindliche Schichten sind in der USA-Patentschrift 34 69 982 beschrieben.
Von den negativ arbeitenden Schichten sind insbesondere die photopolymerisierbaren Schichten geeignet, die im wesentlichen aus einem hochmolekularen Bindemittel, polymeiisierbaren ungesättigten Verbindungen und Photoinitiatoren bestehen.
Ms polymerisierbare Verbindungen werden Vinyl- oder Vinylidenverbindungen verwendet, die am Licht zu polymerisieren vermögen. Geeignete polymerisierbare Verbindungen sind bekannt und z. B. in den US-Patentschriften 27 60 863 und 30 60 023 beschrieben. Beispiele sind Acryl- und Methacrylsäureester, wie Diglycerindiacryliit. Giuijakolglycerinä'.herdiacrylat. Neopentv.IgIykoldiacrylat. 2.2-Dimethylol-butanol-(3)-diacrylat Lind Acrylate bzw. Methacrylate hydroxyIgruppenhaliiger Polyester. Ferner sind Vorpolymerisate derartiger polymerisierbarer Verbindungen, z. B. Vorpolymerisaie von Allylestern, die selbst noch polvmerisierbare Gruppen enthalten, al·. Zusatz zu Photopolymerschichten geeignet. Im allgemeinen werden Verbindungen bevorzugt, die zwei oder mehrere polymerisierbare Gruppen enthalten.
Die Photopolymerschicht enthält ferner mindestens einen Photoinitiator. Geeignete Initiatoren sind z. Ii. Hydrazone, fiinfgliedrige stickstoffhaltige Heterocyclen. Mercaptoverbindungen. Pyrylium- oder Thiopv ryliumsalze. mehrkernige Chinone, synergistische Mischungen von verschiedenen Ketonen. Farbstoff Redoxsysteme und bestimmte Acridin-. Phenazin- und Ch inoxa Ii η verbindungen.
Die Bindemittel sollten vorzugsweise in wäßrigen Alkalien löslich oder mindestens quellbar sein, damit die Schicht mit den bevorzugten schwach alkalischen Entwicklerlösungen entwickelt werden kann. Geeignet sind z. B. Polyamide. Polyvinylacetate. Poly methy !methacrylate. Polyvinylbutyral, ungesättigte Polyester. Sivrol/M a lcinsä urea nhydrid-Misch polymerisate. Maleina iharze und Tcrpcnphcnolharze.
Den lichtempfindlichen Schichten können ferner Farbstoffe. Pigmente. Polymerisationsinhibitoren. 1 ;irb· bildner und Wassers.'offdonatorcn zugesetzt werden. Weitere geeignete negativ arbeitende Schichten werden z. B. aus hochmolekularen Zimtsäurcderivaten und Chalkonverbindungen und mit Aziden oder Diazoniumsalzen lichtempfindlich gemachten vernetzbaren Bindemitteln erhalten.
Als positiv arbeitende Schichten kommen vor allem solche aus Chinondiaziden und Harzen in Betracht, von denen mindestens ein Teil alkalilöslich sein sollte. Derartige Schichten sind z. B. in den deutschen Patentschriften 9 38 233 und 9 60 335 beschrieben. Weiterhin sind positiv arbeitende Schichten gut geeignet, die hochmolekulare thermoplastische Polymerisate, besonders solche mit sauren Substituenten. w ic
Carbonsäure-, Phosphonsäuren
Sulfonsäurc- oder
N-Arylsulfonyl-ureihangruppen.
und mehrkernige N-hctcrocyclische Verbindungen, z. B. 9-Phcnvl-acridin.
9.|0-Dimethy|-benz(a)phenazin.
1I Meihoxy-dibenz(a,c)phenazin.
6,4'.4"-Trimcthoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin und
2,3-Bis-(4'-methoxj phenyl)-5,6-dihydro-pyrazin.
;ils Sensibilisatoren enthalten.
Die Photoresistschichten können je nach ihrem Verwendungszweck I bis 60 μπι stark sein. Wenn sie auf Kupfer enthaltende Unterlagen laminiert werden sollen, können sie zur Verbesserung der Haftung kleine Mengen organischer Schwefelverbindungen, z. B. 2-Mercapto-benzthiazol, enthalten.
Auf der Seite der Photoresistschicht. die mit der Trennschicht überzogen ist. befindet sich der blatt- bzw. bahnförmige biegsame temporäre Schichtträger. Er kann aus transparentem Materia!, z. B. Kunststoffolie eider Transparentpapier, oder aus opakem Material. z. B. pigmentierten Kunststoffolien. Papier oder Metallfolien, bestehen. Im Gegensatz zu dem bekannten Schichtüberlragungsmateria! kann es sogar von Vor'.ei! sein, wenn er gegenüber aktinischer S' -ahlupg undurchlässig ist. weil sich dann in Kombination mit einer ebenfalls undurchlässigen Deckfolie auf der anderen Seite der Schicht ein Material herstellen läßt, das bis zum Abtrennen der Deckfolie oder des Trägers ohne Gefahr bei Tageslicht gehandhabt werden kann. In vielen Fällen ist es vorteilhaft. Folien aus bestimmten Kunststoffen, z. B. Polyesterfolien, zu verwenden, die infolge ihrer besonderen mechanischen Eigenschaften, uic Biegsamkeit. Maßbeständigkeit, besonders glatter Oberfläche und geringer Haftung, für diesen Zweck hervorragend geeignet sind.
Der temporäre Schichtträger kann je nach seiner Beschaffenheit und der Art der übrigen Bestandteile des Schichiübertragungsmaterials eine Stärke von 5 bis zu mehreren Hundert μηι haben, wobei Stärken von 20 bis 100 um im allgemeinen bevorzugt werden.
Vorzugsweise trägt die Pholorcsistschicht bei der Lager'iig auf der dem Schichtträger gegenüberliegenden Seite zum Schutz gegen Verunreinigung und Beschädigung eine dünne Dcckfoiie. Die Deckfolie kann aus gleichen oder ähnlichen Materialien bestehen wie der Schichtträger, braucht jedoch nicht unbedingt dimensionsstabil zu sein und muß sich leichter von der Schivht trennen lassen als der Schichtträger. Als Dcckfolienmaierial sind z. B. .Silikonpapier. Polyolefinodcr Polytetrafluoräthylcnfolicn geeignet. Die Stinke der Deckfolic kann 5 bis 100 μηι betragen.
Das erfindungf/remäß verwendete Schiehtübertrag'ingsmatcrial u ird hergestellt, indem man entweder auf den temporären Schichtträger eine Lösung des T'xnnschichtmalerials aufbringt, trocknet und darauf die Photoresistschichl aus einem Lösungsmittel aufbringt, das die Trennschicht nicht löst, oder den Schichtträger mit der Trennschicht und die Deckfolie mit der lichtempfindlichen Schicht beschichtet und beide Blätter miteinander kaschiert. Das Schichlübcriragungsmatcrial ist in diesem Zustand sehr lange lagerfähig und unempfindlich.
Die Anwendung des Sehichtübertragiingsmiilerials geschieht folgendermaßen: Der mit der Photoresistschicht zu überziehende endgültige Schichtträger wird gereinigt, die Deckfolie des Schichtiibcrtragungsmaterials wird entfernt und die Photoresistschicht unier Druck und Erwärmen auf den endgültigen Schichtträger kaschiert. Das k?nn in der in der US-Patentschrift 34 69 982 beschriebenen Weise geschehen. Darauf wird der temporäre Schichtträger abgezogen und die Photoresistschicht in bekannter Weise im Kontakt unter einer Vorlage belichtet und dann entwickelt. Die Entwicklung erfolgt in ebenfalls bekannter Weise durch Überwischen mit einem Lösungsmittel oder einer
ϊ Eniwicklerlösung. bevorzugt einer wäßrig-alkalischen Lösung, oder durch Behandeln mit Lösungsmitteldampf.
Der endgültige Schichtträger kann nun an den
freigelegten Stellen in üblicher Weise geätzt. gal\ anisch oder stromlos metallisiert oder anodisien werden.
ίο Hauptanwendungsgebiet des erfindungsgemäßen Verfahrens ist die Herstellung von kopierten Schaltungen. Tief- oder Hochdruckformen. Namensschildern, von integrierten Schaltkreisen, sowie die Mikroelektronik und das Formteiläizcn.
Die folgenden Beispiele erläutern Ausführungsformen des erfindungsgemäß verwendeten Schichtübertragungsmaterials und des erfindungsgemäßen Verfahrens. Gewichtsteile (Gt.) und Volumteilc (Vt.) stehen im Verhältnis von g zu cerr Die den Beispielen vorausgehenden Rezepte I bis !X =.ind Beschichiungsiosungen. die zur Herstellung von Trennschichten für das erfindungsgemäß verwendete Material verwendet wurden.
r> Kezepi I
5.5 Gt. Gelatine
0.035 Gt. Natriumalkylarylsulfonat
1.82Gt. Äthanol
92.645Gt. Wasser
Rezept Il
1.5Gt. Polyvinylalkohol
0.15 Gt. äthoxyliertcr Phosphorsäureoley !ester
48.5 Cii. Wasser
U Rezept III
1.0 Gt. Carboxymethylcellulose
0.1 (it. NatriumalkylaryIsulfonai
99.0(Jt. Wasser
''' Rezept IV
5.0Gt. Saponin
95.0Gt. Wasser
0.02 Ci . Äthylviolell
Rezept V
5.OCi . Rohrzucker
5.OCj . Carboxymethylcellulose.
0.5 Ci . Sorbinsäure
5.0Ci . Saponin
484.5 Ci . Wasser
Rezept Vl
3.0 Cjt. Mischpolymerisat von Metliylvinyläther
und Maleinsäureanhydrid
0.3 Gt. .Saponin
97.OGt. Wasser
Rezept VII
10.0 Gt. Sty rol/'Malcinsäurc-Mischpolymerisat mit dem mittleren Molekulargewicht I 500 um] der Säurezahl 300
LOGt. l.4Bu!andiol
89.0 Gt. Ätliylcnglykolmonobutyläther
Rezept VIII
5.0 Gi. Malcinaihar/ mit einem Schmelzpunkt von 126— 140 C und einer Säurezahl von etwa 165
95.0 Gt. Älhylcnglykolmonoätln lälher
Rc/epl IX
3 Gl. I'ofvhiilNlme-th;ier>IiIl
47 Cii. Aihvlcnglvk<iliiion< >;ith\liiilicr
H c i s ρ i c I I I !ine lieschichlungslosung mis
1.4 Cii. I.I.I -"! rimcthvlol-älhan-triacrvlat.
1.4 Cii. eines Methvlmelhacrvlal/Melhacrvlsäu· re-Mischpokmerisats mil 11 c m mutieren Molekulargewicht 4(1001) utnl einer Sum re/ahl um 4(1- 1 Π.
0.2 Cii. I.h-Di Imlroxvathoxv hexan.
0.0") ( ii. M IMh-iiv I-acridin.
ii.d'iCii. 2 Melt .iplo ben/lhia/ol.
0.02 ( 11. Supi-ii MCiIhIiIIi Ci I. (( . I. 30 i 3 5) und I 3.0 (11. ΛI Iu le η t.'l\ keil mc > nc i.i I In hull lt
wird.ml CiML 37 um dicke, biaxial ν cisiieckte lOlvalhv k-Mierephlh.il.iiIhIil. die mn einer 0.3—1 ιιιιι diekeii I iLiiriSL hiL In aus (lei.nine (Rc/epl I) versehen ist. aiilgeschleiidcrt und getrocknet. Die sei erhaltene Oberfläche wird ,ihm hlicUend mn einer 2 3 um sunken DcL'klolie ;iiis lOlvalhv len inner leichlem Druck hei /immerleinper.üur kan hielt. Die lichtempfindliche Schic. In kiinn in dieser Saudw ichlorm sehr lunge aulhcw .ihn b/vv. ν erst, hickl «erden.
/iir I lcrsicllung einer ■Vi/schiil/schichl w ird vv κ folgt geiirhcitel: Die von der Konservierung belrcitc Kupleri'herll.u he einer kupier ΛΙ-Himeiallplatte wird durch K
I πι hi< ii",
[ ,Uli !len
befreit
die ()I-Li!
die l!'
1I1Li' Hi;: Schlämmkreide aiilgerauhl. mn ;ivk-:-i entlellei und durch 30 Sekunden • '.51 ι· ige S.i I pe I e rsa ι ire von ihrer Oxidschicht
■l-'es'.ei ung iler ll.iltuiiL' wird sie nut einer ;Ί Kiilii liivv hen Losung ν i>n 2-Mercaplo-benz-■i.ind·.·1!. D,inri eniler'ii man die l'oivathv len-Ie-- \!iiempli!id!i( t\·;: M.ilen.ils ::-^d lamimerl ,:■ '-,e uLi !reigelegte1· IMiolor - stschichl aiii . k,. ne Me'alloh.'i' ',il'il Ms n.iLlisies wird die jn
!'■irik;iii. liti.i'iifie ei"wiii,ell
^i 1\ίι I j isuni: (p!'. ' '■■. i) d'e .i
l Ik 1IiIeI wird ! Minute eine:' 3 K W Xencineiner vv .iHng-.ilkiili-
' 3.0 d; \,i!rii:mmet.is]|ik.it-\on,irivdr.!t.
3.(iCi
ilvi'lvkc.l bOOO.
(i.h dl. I.,'.'. iihnvü!ii l.
ο. j C ic S'nin'!iiPih\i!n>M(l-< )cl.ihvdr.il und !Olli' CiI. \S iis>.er
hc-'eh!. und d.m.ic'1 τι; einer l.iscn· I ll-chicirui.ü/loMinL' 2.3— 3 Mmulcii gc.ü/i.
Nuch [intlernung der Ai/schutzschichl mit Methvlenchiorid ist die Kupfer/ -\l-[3irnel;illpl;ille druckfcrtig.
•\MstelIe des Polvesier-Trägcrs können ,inch nicht tnmsp.ircnte Nhileri.ilien. /. Ii. f\ipier. Metiillfrilien f>der pigmentierte Folien. ;ils Trägermaterial Anwendung finden. Die Verarbeitung bleib! in diesen Fällen die gleiche.
Beispiel 2 Fine Bescliichiungslösungaus
1.4Gl. eines Mischpolymerisats aus Mcthyl-
ΠΊCiΓιΓιί_Τ\ !ii c Und N-(p-To!üoisülftiiV\ !J-
C'arbaminsäure-(i)-methacrvloylov.y)· nthylcsler im Ciew ichlsverhälinis 65:35 (Säiirc/ahl 60).
bO 2.(ICiI. eines Ilexiimethacrylals. das durch Umset/ung von Penlaervlhrillrimelhacrvlal mil Seba/insiiuredichlorid erhallen wurde.
0.1 Cii. h.4'.4"- Frimelho\y-2.3-tliphenvlchino\a-
Im.
0.03 CiI. 2-Meicaplo-ben/lhia/Ol.
0.02Cii. SupranolblauCil.lC. 1.30 333)und
14.0 Cit. Äthvlenglykolmonoiiihvliither
w ird aiii eine 37 um dicke, biaxial ν erslreckle l'olv ,ilhv knii-rephlhalatlolie. die nut einer 1—2 um dicken Schicht von Gelatine (Ke/ept I) versehen ist. aufge schleudert und gelrocknet.
Diese Oberfläche wird dann mn einer 25 um dicken Decklolie aus l'olvathvk-n unter leichtem Druck kaschiert.
/nr llrru.-lliiiur ,.,Mi-I- L,inii;rl.;n S1, li.ihiiiij. ι. i,-,j ,. ,.j
ΙοΙμΙ gearbeitet:
Die von der Konservierung belreile Kiipferoberlläche eines Iriigers. der aus einer Kuiislsioflplalle mn aiilkaschierler Kiipferliaut besieht, wird durch Reiben mil Schlämmkreide aufgerauht, mit Trichloiiitlulen entfeltel. liiirch laiichen in 1.3".'nige Salpetersäure von seiner (Niilschichl befrei! und /nr Verbesserung der Haltung mn einer 2"'mgen alkoholischen Lösung von 2 Mercap''i-hen/thia/oi behaiulell.
D,inn entfernt man die l'olvalhvlendeckfolie des lichtempfindlichen Materials und laminiert die Ireigelcg-Ie Oberflache der Phoiopolv merschicht auf clic trockene Metalloberfläche. Anschließend wi:\!ilie l'olvesierfolie abgezogen. Man belichtet unter einer Negativ vorlage 3 Minuten mn einem Rohrcnbehchtungsgeräi. das auf einer (lache von h0 χ h(l cm I ! Leuchtstoffröhren von 40 W angeordnet enthält, und einwickelt I Minire mit dem in lieispiel I beschriebenen I Mlwickler.
C ie.it/i w ird 20 Minuten mn einer l.isen-lll-chlondlo sung von 42 lic.
Beispiel 3
line Heschichtungslosung aus
2.3Cii. eines Mischpolymerisats aus Methvlmelhacrvlal und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 32 000 und der Säure/ahl 137.
0.01 Cit. SupranolblauGI.(C. I. 30 335).
0.2 Gt. q-Phenyl-acridin.
0.23 Cj;. Pnhowäthvlen-sorbitan-monolaurat und 7.3 Cii. ΛϊΙινlenglvkolmonoäthvläther
w ird auf eine 37 um dicke, biaxial \'erstreckte Polvesierfolie. die eine I— 2 μηι dicke Trennschicht aus Carboxymethylcellulose (Rezept III) trägt, aufgebracht und nach dem Trocknen mil einer Polyäthylenfolie kaschiert.
Zur Herstellung einer Ätzschutzschicht wird die Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteht und die entsprechend Beispiel 2 vorbehandelt wurde, mit der lichtempfindlichen Schicht nach Abziehen der Polyäthylendeckfolie unter Erwärmen laminiert.
Dann wird die Polyesterfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Positivvorlage 10 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät wie in Beispiel 2 belichtet. Entwickelt wird 2;/j Minuten mi; Äthylenglykolmonoäthyläther. der etwa 10% Wasser und etwa 10% konz. Schwefelsäure enthält. Danach ätzt man 15 Minuten mit einer Eisen-lll-chloridäizlösnnp
von 42 HO.
Die Al/schul/schichl
Alkohol L'Mli.Tiil uerden.
kanu durch Behandeln mil
Beispiel 4
!nie Dcscfiichlungslosung aus
3.OGl. 2.3.4-TnhvdiowTx'n/ophenonesier der Naphlhochinon-(l.2)-dia/id-(2)-5-sulfoii-
s.line.
I on (ίι ni k resol I οι ma klein d - No\ olak
KOO Vt. Hulvlacelal.
I. i (ii. I libuivlplnhalai und
0.5Gl. Melhvlviolell BH (Schuh/ I arbsiolftabel len. 7. Ausgabe. I. Hand (I1MI). Seile !27. Nr. 7«!)
vv ird auf eine !7 um dicke, bi.mal ν erstreckte Polyester lohe, die mit einer 1—2 um dicken trennschicht von ( arbow melhslcellulose (Ke/epl III) versehen isl. aulgebrachi um! geirocknei (I'rockenschichtgcw ichi: 10 g in').
Die Al/schul/schichl wird einsprecheiul den vorangehenden Beispielen hergestellt. Da/u laminierl man eine kupferoberllache mil der lichicmpliiullichen Sc h ic Ii I und /ic In die I rage rl ο he aus Poly esl er ab. Dann belichlel man h Minuten inner einer Positiv vorlage nut einer HKW Xenonl.impe und einwickelt anschließend mil 10-13"'HgCi wäßriger 1 nnati uimpliosphailosuiiL'. (:':iil/l vv ird mn einer I ei I r Losung von 42 He.
Beispiel 3
line BeschichiuiiL'slosunL' .ms
70.0 (it.
70.0 (ii.
10.0 (it.
2.0 (it.
1.23 (it.
3.0 (it.
32 3.0 (It.
4-Dimethylaniino-ben/a!aceton.
Supranolb!au(il.(C. I. 30 i S3) und
Athy Ienglvkolmonoalhv lather
vv ird auf eine 2 3 um dicke, biaxial ν erstreckte Pol·, esterfolie, die mn einer 1—2 um dicken Lrennschicht aus Polyvinylalkohol (Re/epi II) versehen ist. aufgeschleudert. Nach dem Trocknen beträgt das Schichtgewicht 17 gin-. Anschließend wird die Oberflache /um Sehnt/ gegen Staub mit einer Polya'thvlenfolie kaschiert.
Zur Identifizierung erhält dieses (ibertragungsmaierial die Bezeichnung X.
Zum Vergleich wird die gleiche Beschichtungslösung direkt auf eine 25 iim dicke Polyesterfolie aufgebracht: das Material erhält die Bezeichnung Y. Es ähnelt in seinem Aufbau den Beispielen des US-Patentes 34 69 982. Das Gewicht der lichtempfindlichen Schicht beträgt ebenfalls 17 g/m-. Zum Schutz wird die Schichtoberfläche wiederum mit einer 25 um dicken Polyäthylenfolie laminiert.
Zur Prüfung des Auflösungsvermögens verfährt man wie folgt:
Man entfernt in beiden Fällen die Polyäthyiendeckfolie und laminiert die freigelegte Oberfläche unter leichtern Druck bei etwa !2(TC auf gebürstetes Aluminium.dessen Rautiefe 2.5 um beträgt.
Im Falle von X wird nun die Polyesterfolie entfernt.
Dann belichtet man beide Proben 1 Minute unter einer (iillerieslplalle, die /iir Messung des Auflösungsvermögens verwendet wird.
Als l.ichU|uelle dient eine Xeiionpiinkllichtlaiiipe entsprechend lieispiel I.
Die l'robe X wird sofort, die l'rohe Y nach dein I iillerncn der l'olvcslcrlrägerlolic nut dem unter Beispiel I beschriebenen Lnlwickler /ur DilTeren/ieruiig tier UiId- und Nichtbiklslellen überwischl. Anschließend wird mil Wasser abgespult und geirocknei.
Das Auflösungsvermögen belri' ι für
\ 20.S I .mien, mm (konstante 0.I)-(K nun)
N : 0.1IH Linien nun (konstante 1.1)2 nun).
Heispiel ti
Line Ucschiclilungslosuiig aus
S.ο Cii. i nmcihy ioiprop.iiiinacrviai.
ll.o ( it. M.ilemalhai/
0.2 (it. h-Γ .·( Tn me I how 2. i di ρ lien ν Ich ι no\ a h η. O.I (it. I n 14 (i methν I-phcnν I,imino) ■ pneu ν 11-
methv lacelat.
!().(! ( il. AlIn leiiL'K kolmonomelh» lather
I.I.I -TnmetInIoI -älhjntriacry IaI.
eines Mischpolvmerisats aus Mcthylmethacrylai und Mcthacrvlsaure mil dem mittleren Molekulargewicht 40 000 und der Saure/ahl W — I I 3.
Diät hvlenglvkolmonohewl.il her.
_'i w ird durch Aiifschleuilern auf eine mn Poly \ unlalkohol (Ke/epl II) beschiclnele l'olvesiei lohe /u einem Schichlgew ich! von 2!' g m- aufgelragen.
Dann laminierl man die gesäuberte Kupferoberllache eines Irakers. ί\κ:ν aus einer Kunststollplaiie mit
in aulkaschierter Kuplerhaul besieht, mn dem hergeslelllen I 'beriragungsmalei i.il. /ichl die Polveslerlolie von dem I .uiiin.il ab und belichlel die l'hotopoly iiierschichl unter einer Negaliv\orlage I Minnie einsprechend Beispiel I. I nlwickell wird durch I'herwischen mn der
'"' in Beispiel I angegebenen Losung, danach wird iO Minuten mil einer Lisen-Ml-Chloridlosiing von 42 Be geal/t.
Beispiel 7
>ii Line Heschichuingslosung aus
hO.O (il. Athy I eng I ν kolmoiioäih \ la ι lic r.
14.0 (ii. PrIiIiCihy lolpropainnacry !al.
14.0CiI. eines Mischpolymei isais aus Melhylmeihacrvku und Methacrylsäure mit dem mutleren Molekulargewicht 33 000 und einer Saure/ahl ν on ungelähr I 23.
2.0 (it. Diathy'engly kolmonohew lather.
0.2 (ίι. 4-Plienyl-acridin.
0.07Gt. 4-Dimeth\lamino-ben/alaceton.
0.2 (it. des in Beispiel b angegebenen l-'arbstoffs und
1.4Gt. eines Mischpolymerisats aus Styrol und Maleinsäureanhydrid mit dem mittleren Molekulargewicht! 1500. der Säurezahl 300 und der Erweichungstemperatur I20C
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept II) beschichtete Harl-PVC-Folie zu einem Schichtgcwicht von 17.5 g/m2 aufgetragen.
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf anodisiertes Aluminium, dessen Oxidschicht mit Supranolblau GL (C. I. 50 355) angefärbt ist, zieht die Trägenolie ab und belichtet unter einer Positivvorlage
" 1.5 Minuten entsprechend Beispiel 1. Entwickelt wird ebenfalls wie in Beispiel 1 und dann mit 20%iger wäßriger Natronlauge 45 Sekunden geätzt. Nach dem Entfernen der Ätzschutzschicht mit Methvläihvlketon
im cm kontrastreiches liikl zu erkennen, das als Namensschild Verwendung finden kiinn.
U e i s ρ i c I 8
I -I i 11 IIbertragunpsmalerial einsprechend Heispiel 7 Ί uird iiuf eine ebene, mil Aceton enlletlclc (iliisseheibe laminiert, die l'oiyeslerlriigerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer konirastreichcn Slriclnorlage 3 Minuten entsprechend Heispiel I belichtet, dann mil der dort angeführten Lösung to ciilu κ kell. Danach und i Minuten iiachbehchlci und die freigelegte (ilasoberlliiehe mil 48%igcr ualtnger I 1IHIiAWiSSeISi(IHSiJUrC 2 Minuten geätzt. Dann spult man mn Wasser ab und entfernt die Ätzscliui/schicht mn Metlnläthslkelon. r>
I! e ι s ρ i e I M ,,,,...,,,ι ,, ,,,ι ,„,ι ,ι.,
II..,.„...I 7
bcschi iebenen lieschichlungslösung unter I instellimg eines 1 nickcnschichlgeu ichtes von 5,5 g/nr hergestellt _>» uiul dann aiii einen \on der Konservierung befreilen Messmg/( hrom-Dnickplallcnti äger laminiert. Die Ir.igcrfolie wird abgezogen und die lichtempfindliche Schicht linier einer l'osilivvorlage 5 Minuten einsprechend Heispiel I belichtet. Dann uird wie in Beispiel I r> einwickelt und das freigelegte Chrom mit einer Lösung aus 42.4% CaCI... 4.8%/.nCl·. 10.8% I ICl und 57% M-O innerhalb von 2 Minuten weggeätzt und die Äl/schut/ schicht mn Methylethylketon enlfertii. Anschließend wird mit l%.ger Phosphorsäure überuischl und mn )o I eltf irbe emgefärbl. Die Mchrmctallplatu· isi in dieser I ι υ πι drucklertig.
lic i spie I IO I'.ine Bcschichtungslösung aus »
h().() (it. Athylenglykolmonoeihyläiher. 14.0 (it. Triinethylolpropanlriacry let. 14.0 (It. eines Mischpolymerisats aus Meihylmethecrylei und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargew ichi 5)000 und einer Siiure/.inl um etwa 125. 0.2 (it. 1.2-Ben/aeridin.
2.0 (it. Diäthylengly kolmonohewlather. 0.07 (it. 4-Dimethylaniino-benzalaceton. 0.2 (it. 2-Mereapto-benzo\azol und 0.2 (it. des in Beispiel 6 angegebenen Karhstoffs
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Re/ept II) beschichtete Polystyrolfolie /u einem Trockcnschichtgewichtvon 17,0 g/rn-'aufgetragen. in
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf rostfreien Stahl, der mit Aceton entfettet wurde, zieht die Trägerfolie ab und belichtet unter einer Negativvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1. Entwickelt wird durch Überwischen mit der Lösung nach Beispiel I, geäl/t mit Eisen-lll-chloridlösung von42° Be (3 Minuten bei 80°C). mit 30%iger Salpetersäure kurz überwischt, mit Wasser abgespült und die Ätzschutzschicht abschließend mit Methyläthylketon entfernt.
Das entstandene Reliefbild ist etwa 200 um tief und to kann als Druckform verwendet werden.
Beispiel 11
Ein Übertragungsmaterial entsprechend Beispiel i0 wird auf einen mit Scheuersand angerauhten Polyacetalbogen laminiert, die Trägerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Strichvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet. Dann wird wie in Heispiel ι entwickelt und die freigelegte Oberfläche mil kon/entrierier Salzsäure JO Minuten geäl/t. Man spült mil Wasser ab und entfernt die Äl/schulzschichl mil Methylethylketon. Das entstände nc Reliefbild ist etwa 100 um lief und kann als Druckform verwendet werden.
Beispiel 12
Hin IJberliagungsmatcrial enlsprechend Heispiel 10 wird auf eine gesäuberte l.instiilen -/mkälzplalte I,IMIiMUTi. (he I rägcrlolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Negativ \ cn I.ige .? Mm, Jen enlsprechend Heispiel I belichtet. Danach wird mn dem im Beispiel I angegebenen l.nlu ickler cnlu ickell und die freigelegte /inkobei Hache "> Minuten mn b"niger Salpetersäure geätzt. Die so entstandene I orin eignet sich für den Buchdruck.
Beispiel Ii
Der Beschichtungslosiing \on Beispiel 7 weiden 0.2CiI. des llmset/ungsprodukles aus I Mol 2.2.4-Inmelhyl hexainethylendiisdcsanat und 2 Mol Isopropatiol zugesetzt, und die Losung wird aiii emc mil Polyvinylalkohol beschichtete PoKestcrfolic (Rezept II) aufgell .men und getrocknet. Schichlgew teilt: IKg in'. Nun lainimerl man die lichtempfindliche Schicht auf eine von tier Konservierung befreite Aluminium Kupicr/('liroin-1 rimetallplatte unter leichtem Druck bei etwa 120 C. Dann wird die 1 ragerlolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Positiv \orlage 5 Minuten enlsprechend Beispiel 1 belichtet. Ks wird w ic dorl beschrieben einwickelt und daiuuh d.is Chrom mn einer Schnellätzlösung entsprechend Beispiel 1I 5 Minuten geätzt. Die Äi/schüt/schicht uird mit Metlnläthylketon entlernt, die Platlenoberlliiche mit l"mger Phosphorsäure übe rui seht μ nc I mit I et I farbe eingelärbl. Die Trimetallplatte ist in dieser I orm druckfortig.
Beispiel 14 Line Heschiehiungslösung aus
5.6 (it. des Umset/ungsproduktes aus I Mol 2.2.4-Trimethyl-he\amethslendiisoc\anai und 2 Mol 2-1 Iy tlro\> -;ϊιh> Inicthacry lat.
5.6 (it. eines Terpolymerisats aus Meth\lnicihacrylat. n-Hex\lmethacrylat und Methacrylsäure ((ieu ichts\ erhältnis 150:750:360) mit einer Saure/ahl '.on 173-178.
0.5 (it. Triäthylenglykoldiacetat. 0.1 Cit. 9-Phenyi-acridin.
0,06Gl. des in Beispiel 6 angegebenen Farbstoffs
und
30,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept II) beschichtete Celluloseacetatfolie aufgetragen und getrocknet. Das Schichtgewicht beträgt 17.6g/m:. Die Herstellung einer kopierten Schaltung erfolgt entsprechend Beispiel 6.
Beispiel 15
Eine Beschichtungslösung entsprechend Beispiel 10 wird auf eine Polyäthylenfolie zu einem Trockenschichtge-'icht von 17.5 g/m-aufgetragen.
in einem zweiten Arbeitsgang wird eine Lösung entsprechend Rezept VII auf 25 μπι starke Polyesterfolie aufgetragen und getrocknet. Trockenschichtgevvicht: ]-2g/nV.
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf die ebenfalls wäßrig-alkalisch entwickelbare Trennschicht und erhält ein 1 Ibertragungsm.iterial. das entsprechend den zuvor beschriebenen Beispielen zur Herstellung einer Älzschiitzscliicht verwende! werden kann.
Beispiel 16
Line 100 um dicke pigmentierte I larl-PV(-Folie und
ein mil Polyäthylen beschichtetes Papier, das auf diese Weise wasscrlesl gemacht wurde, werden nut einer Losung nach Rezept Il beschichtet und getrocknet.
Dara'il wird die unter Beispiel 7 angeführte Heschichtiingslösung aulgeschleudert, dabei kann das I rockenschichigewicht je nach Bedarf zwischen 12 und 60g in·' eingestellt werden. Die Oberfläche der licht eniplmd-ichen Schicht schützt man durch I.aminierung mn einer 2') um dicken IOIyiithy lenlohe gegen Staub.
/ui Herstellung einer Äl/schut/sehicht gellt man ähnlich den anfangs beschriebenen Beispielen vor.
Beispiel 17 Line Besc h ich lungs lösung aus
1.4 (it. des in Beispiel I beschriebenen Bindemittels.
1.4 (it. Ί rimethy ■· Ί propan triacryla I. 0.04 Ct. 4-|>|ien\l ,lcridm.
0.1 (it. Mclhylphthalylathvlglykukit 3.25 (it. ÄlhylenglykolnionoällnlitOier.
1.5 (it. Aceton und
0.4!1Gi. einer Pigmentdispersion, die durch Vermählen von
16.0Gi. Monaslralblau B (C. I. Pigment
Blue: I 5).
10.0 Gt. des in Beispiel I beschriebenen
Bindemittels und 1.0Gi. Dioctylesier der Natriumsulfo-
bernsteinsäure sowie 85.0 Gt. Äthylenglykolmonoälhvlälher hergestellt w urde.
wird auf eine 75 um dicke, biaxial versteckte Polyäthy lenierephthalatfolie. die mit einer 1—2 um dicken Trennschicht aus Polyvinylalkohol (Rezept II) versehen ist. mit Hilfe eines Drahtrakels aufgetragen und getrocknet. Das Trockenschichttiewichl beirägt I 3 g/m-\
Die Herstellung einer Ätzschuizschiehi erfolgt wie in den zuvor beschriebenen Beispielen.
Beispiel 18 F.ine Beschichiungslösung aus
8.0Gt. eines Präpolymeren des Diallylisophthalats, hergestellt nach US-Patentschrift 30 30 341
2.0 Gt. Pentaerythrittriacrylat. 90.0Gt. Xylol und
0.5 Gt. eines Gemisches aus Anisil, Michlers Keton und Xanthon im Gewichtsverhältnis 1 : 1 :4
wird auf eine 37 um dicke, biaxial verstreckte Polyesterfolie, die mit einer 1— 2 Jim dicken Schicht aus Polybutyimethacrylat (Rezept IX) versehen ist, mit Hilfe eines Drahtrakels aufgebracht und getrocknet.
/in Herstellung einer kopierten Schaltung wird wie folgt gearbeitet:
Man laminiert das oben beschriebene Sehichtübcriragungsmaterial auf eine gesäuberte .VUpIeIObCIiIaClIe eines Trägers, der aus einer mit Glasfasern verstärkten Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut bestellt, zieht die Polyeslerfolic ab und belichtet 1 Minute "nler einer Negativvorlage mit dem in Beispiel I beschrieneiien (jeriit. lint wickelt wird eine Minute durch Tauchen in Xy Io I. daunspnlzt man mit Xylol ab und ι rock η el nut Wi linier l.ull. (iealzl wird 20 Minuten mn einei l.isen III clilondlosung mn «12 Be. Man einlernt d,is Resist In Ii I durch Sprühen nut w armem Methy Icnchloni I
Beispiel 14 I!ine Beschichluiigslosung aus
lat. Buiylmelhacrylat und acrylierten Glycidylmethacrylat 1:1:1. hergestellt nach Beispiel 4 der US-Palentschnll 34 18 245.
2.34 (it. I riallivlenglvkoldiacryl.il.
1.41 (it. 2-lerl.-Bulyl-anlhrachinon und 100.00 Gi. Tnchiorälhylcn
wird auf 25 um dickes Polypropylen, das mit einer 1—2 um dicken Trennschicht eines Maleinatharzes (Rezept VIII) versehen ist. aufgetragen und getrocknet. Das Schichigewichi der lichtempfindlichen Schicht beträgt etwa 8 g/m-'.
Nun wird die Oberfläche durch Laminieren mil Polyäthylenfolie gegen Staub und mechanische Beschädigung geschützt.
Zur Herstellung einer Äizscliutzschicht arbeitet man ähnlich wie in den zuvor beschriebenen Beispielen.
Beispiel 20
Der Vorteil einer " :ennschicht wird durch folgenden Versuch demonstriert:
Man entfernt die Polyäthylenschutzlolie eines Schichtübertragungsmaterials nach I IS-Patentschrift 34 64 982 und laminiert die freigelegte .S- 'lichloberlläche auf einen gesäuberten Kupfenrägei in der vom I lersteller empfohlenen Weise.
Belichtet wird entsprechend Beispiel 5 unter einer Gillcrtc-tplatte. daran anschließend mit Triehlorälhylen entwickelt. Das Auflösungsvermögen beträgt 5 Li nien/mni (Konstante 0.200).
In einem zweiten Versuch wird ähnlich verfahren, nut daß die Polyesterträgerfolie vor der Belichtung abgezogen wird. In diesem Fall liegt die Vorlage direkt auf der .Schichtoberfläche auf.
F.s wird wie oben belichtet und entwickelt. Will man nun die Auflösung bestimmen, so stellt man fest, daß die Gilterelementc nicht die gleiche Stärke ( = Tiefe) haben bzw. während des F.nlwicklungsvorgangcs teilweise ganz, abgewaschen wurden.
Die Uneinheitlichkeit des Rcsislbildes läßt also die Bestimmung des Auflösungsvermögens nicht zu.
Dieses Ergebnis ist darauf zurückzuführen, daß die Vorlage während des Belichtungsvorgangs zum Teil auf der Schichlobcrfläche aufgeklebt war. wodurch eine unterschiedliche Härtung der Bildstellen erfolgte.
Dieses Erscheinungsbild ist charakteristisch für alle thermoplastischen lichtempfindlichen Schichten.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes, bei dem man ein lichtempfindliches Übenragungsmaterial aus einem temporären Schichtträger, einer dünnen Trennschicht, die bei Erwärmen auf Temperaturen bis /u 150 C nicht klebrig wird und an einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht stärker haftet als an dem temporären Schichtträger, einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht — ggfs. einer Deckfolie, nach Abstreifen der ggfs. vorhandenen Deekfolie — durch Druck und Erwärmen auf einen endgültigen Schichtträger auflaminiert, die lichtempfindliche thermoplastische Schicht belichtet und eniw ickelt. el a d u r c h g e kennzeichnet, daß man den temporären Schichtträger nach dem Auflaminicren des Übertragiingsmaterials auf den endgültigen Schichtträger und vor dem Belichten ohne vorherige Einwirkung eines Lösungsmittels von der lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht abzieht.
2. Verfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, ei a 15 man ein Uhenragungsmaierial mit einer Trennschicht verwendet, die in waldigen oder wäßrig-alkalischen Losungen löslich oder quellbar ist. und daß man die belichtete lichtempfindliche Schicht mn einer wäßrigen oder wäßrig-alkalischen Losung entwickelt.
3. Verfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß man ein I'beriragungsmaierial mit einer Trennschicht verwendet, die fur l.uftsauerstoff wenis: durchlässig ist.
4. \ erfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß man ein rbenragiingsmaterial mit einer Trennschicht verwendet, die aus einer h<(chpolvnieren organischen Substanz mit ahphatischer Kelle besieht, die höchstens 50",■ Einheiten mn aromatischen Subsiituenieii einhalt.
V Verjähren nach Anspruch I. dadurch irekennzeichnet. daß man ein Ubertragungsinaterial mit einem temporären Schichtträger verwendet. d<:r aus einer transparenten Kunststoffolie besieht.
o. \erlahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, d.ilt man ein Übertragungsmaierial verwendet, (lessen lichtempfindliche thermoplastische Schicht ei ne photopol ν men si erbare Sc h ich I ist.
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DE2123702A DE2123702B2 (de) 1971-05-13 1971-05-13 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
NLAANVRAGE7205946,A NL173892C (nl) 1971-05-13 1972-05-03 Werkwijze ter vervaardiging van een kopie op een uiteindelijke drager.
US251351A US3884693A (en) 1971-05-13 1972-05-08 Light-sensitive transfer material
ES402589A ES402589A1 (es) 1971-05-13 1972-05-10 Un procedimiento para la produccion de una copia sobre un soporte.
IT50169/72A IT965783B (it) 1971-05-13 1972-05-10 Materiale di trasporto di strato fotosensibile
BE783297A BE783297A (fr) 1971-05-13 1972-05-10 Materiel de transfert de couche photosensible
AT410172A AT320684B (de) 1971-05-13 1972-05-10 Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
AR241931A AR192639A1 (es) 1971-05-13 1972-05-11 Material de transferencia fotosensible y procedimiento para la produccion de copias sobre este
JP4685872A JPS5640824B1 (de) 1971-05-13 1972-05-11
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BR3016/72A BR7203016D0 (pt) 1971-05-13 1972-05-12 Material para transferencia de camadas sensiveis a luz e processo para obtencao de copias com emprego desse materia
FR7216960A FR2137799B1 (de) 1971-05-13 1972-05-12
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Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4544619A (en) * 1970-03-03 1985-10-01 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
CA1056189A (en) * 1974-04-23 1979-06-12 Ernst Leberzammer Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4191572A (en) * 1975-06-03 1980-03-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for image reproduction using multilayer photosensitive element with solvent-soluble layer
JPS5917414B2 (ja) * 1975-10-07 1984-04-21 村上スクリ−ン (株) スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜
US4273857A (en) 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
JPS6020735B2 (ja) * 1976-06-28 1985-05-23 富士写真フイルム株式会社 剥離現像可能な感光材料を用いる画像形成方法
DE2652942C3 (de) * 1976-11-22 1979-05-31 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Zweikomponenten-Diazotypiematerial
GB2049972B (en) 1977-07-12 1982-06-23 Asahi Chemical Ind Photosensitive element for producing a printed circuit board
JPS5420719A (en) * 1977-07-15 1979-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material for image formation and image formation method
JPS6049301B2 (ja) * 1977-12-06 1985-11-01 富士写真フイルム株式会社 画像形成方法
DE2758575A1 (de) * 1977-12-29 1979-07-05 Hoechst Ag Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial
US4321105A (en) * 1978-07-03 1982-03-23 Standex International Corporation Method of producing embossed designs on surfaces
WO1980001321A1 (en) * 1978-12-25 1980-06-26 N Smirnova Dry film photoresist
US4353978A (en) 1979-08-14 1982-10-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
JPS57208556A (en) 1981-06-18 1982-12-21 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive printing plate material
US4366227A (en) * 1981-06-26 1982-12-28 Polaroid Corporation Diffusion transfer film unit
US4448873A (en) * 1982-03-18 1984-05-15 American Hoechst Corporation Negative working diazo contact film
DE3236560A1 (de) 1982-10-02 1984-04-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
JPH0656486B2 (ja) * 1983-07-27 1994-07-27 日本製紙株式会社 多色画像の形成方法およびこれに使用するための多色画像形成用材料
DE3409888A1 (de) * 1984-03-17 1985-09-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung
US4659642A (en) * 1984-10-22 1987-04-21 American Hoechst Corporation Positive working naphthoquinone diazide color proofing transfer process
US4650738A (en) * 1984-10-22 1987-03-17 American Hoechst Corporation Negative working diazo color proofing method
DE3447355A1 (de) * 1984-12-24 1986-07-03 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Vernetzbares harz, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis dieses vernetzbaren harzes sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungsmaterials
DE3689826T2 (de) * 1985-02-26 1994-09-08 Sumitomo Chemical Co Polarisierender film.
US4596757A (en) * 1985-04-05 1986-06-24 American Hoechst Corporation Photopolymerizable dual transfer negative working color proofing system
DE3736980A1 (de) * 1987-10-31 1989-05-18 Basf Ag Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3803457A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Basf Ag Flaechenfoermiges lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3827245A1 (de) * 1988-08-11 1990-02-15 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5001036A (en) * 1989-03-03 1991-03-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Multi-layer peel-apart photosensitive reproduction element containing a photorelease layer
US5360693A (en) * 1989-03-20 1994-11-01 Siemens Aktiengesellschaft Positive o-quinone diazide photoresist containing base copolymer utilizing monomer having anhydride function and further monomer that increases etch resistance
US5028511A (en) * 1989-05-30 1991-07-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a precolored image using photosensitive reproduction element containing a photorelease layer
DE4202282A1 (de) * 1991-01-29 1992-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches uebertragungsmaterial und bilderzeugungsverfahren
JP2873889B2 (ja) 1991-01-29 1999-03-24 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料及び画像形成方法
US5258236A (en) * 1991-05-03 1993-11-02 Ibm Corporation Multi-layer thin film structure and parallel processing method for fabricating same
JPH0580503A (ja) * 1991-06-25 1993-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
US5298361A (en) * 1991-08-30 1994-03-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator
DE69325296T2 (de) * 1992-02-29 2000-02-24 Agfa Gevaert Nv Bildaufzeichnungselement, als photoempfindliches Element eine photopolymerisierbare Zusammensetzung enthaltend
DE4243912A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben
JP2832409B2 (ja) * 1992-06-09 1998-12-09 富士写真フイルム株式会社 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法
US6479193B1 (en) * 1992-06-30 2002-11-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Optical recording film and process for production thereof
JP3108251B2 (ja) * 1993-07-08 2000-11-13 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料
DE4430680A1 (de) 1994-08-29 1996-03-07 Hoechst Ag Lichtempfindliches Gemisch
DE4446196A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Basf Lacke & Farben Mehrschichtiges, flächenförmiges, lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Druckplatten
US5645963A (en) * 1995-11-20 1997-07-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for making color filter elements using laminable colored photosensitive materials
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
DE19715169A1 (de) * 1997-04-11 1998-10-15 Basf Drucksysteme Gmbh Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichungungsmaterial
US6596391B2 (en) * 1997-05-14 2003-07-22 Honeywell International Inc. Very ultra thin conductor layers for printed wiring boards
DE69808587T2 (de) * 1997-11-27 2003-07-10 Agfa Gevaert Nv Strahlungsempfindliches Material mit einem mehrschichtigen Trägermaterial
DE19859623A1 (de) 1998-12-23 2000-08-24 Basf Drucksysteme Gmbh Photopolymerisierbare Druckformen mit Oberschicht zur Herstellung von Reliefdruckformen
JP2003098674A (ja) * 2001-09-21 2003-04-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
JP4076845B2 (ja) * 2002-11-21 2008-04-16 富士フイルム株式会社 感光性転写材料
JP4905465B2 (ja) * 2007-01-31 2012-03-28 日立化成工業株式会社 感光性エレメント
US20090191491A1 (en) * 2008-01-28 2009-07-30 John Ganjei Method of Creating an Image in a Photoresist Laminate
KR20120055754A (ko) * 2010-11-22 2012-06-01 한국전자통신연구원 클리세 및 그의 제조방법
US9439291B2 (en) 2010-12-16 2016-09-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed circuit board
WO2013080958A1 (ja) * 2011-11-30 2013-06-06 互応化学工業株式会社 版膜形成用部材
CN102799070B (zh) * 2012-08-27 2014-03-05 珠海市能动科技光学产业有限公司 双层涂布的负性光致抗蚀干膜
TWI592760B (zh) * 2014-12-30 2017-07-21 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之塗層組合物

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2650877A (en) * 1949-12-09 1953-09-01 Du Pont Process of producing etched printing plates
BE525225A (de) * 1951-08-20
US2852371A (en) * 1956-11-20 1958-09-16 Eastman Kodak Co Photographic duplicating process
US3057722A (en) * 1958-08-07 1962-10-09 Du Pont Photographic stripping film
NL248860A (de) * 1959-02-27
DE1285876B (de) * 1964-06-16 1968-12-19 Du Pont Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
US3353955A (en) * 1964-06-16 1967-11-21 Du Pont Stratum transfer process based on adhesive properties of photopolymerizable layer
US3408191A (en) * 1964-10-28 1968-10-29 Du Pont Process of double exposing a photo-polymerizable stratum laminated between two supports, said double exposure determining the support which retains the positive image
US3445229A (en) * 1965-05-17 1969-05-20 Du Pont Photopolymerizable compositions,elements,and processes
US3481736A (en) * 1965-06-25 1969-12-02 Du Pont Process for composite color image reproduction by stratum transfer
DE1522515C2 (de) * 1965-08-03 1980-10-09 Du Pont Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US3526504A (en) * 1966-07-07 1970-09-01 Du Pont Photocrosslinkable elements and processes
GB1128850A (en) * 1966-08-03 1968-10-02 Du Pont Improvements relating to the preparation and use of photo-resists
US3518087A (en) * 1967-04-26 1970-06-30 Eastman Kodak Co Gravure etch resist film
US3469982A (en) * 1968-09-11 1969-09-30 Jack Richard Celeste Process for making photoresists
BE755709A (fr) * 1969-10-29 1971-02-15 Shipley Co Procede d'application d'une reserve photographique sur un support et produit obtenu
DE2009733A1 (de) * 1970-03-03 1971-09-16 Siemens Ag Medizinische Gerategruppe
US3703373A (en) * 1970-06-15 1972-11-21 Eastman Kodak Co Processes and elements for preparation of photomechanical images

Also Published As

Publication number Publication date
GB1388144A (en) 1975-03-26
IT965783B (it) 1974-02-11
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ZA723244B (en) 1973-02-28
CA1006741A (en) 1977-03-15
DD99022A5 (de) 1973-07-12
JPS5640824B1 (de) 1981-09-24
NL7205946A (de) 1972-11-15
NL173892C (nl) 1984-03-16

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