DE2328606B2 - Verfahren zur kontinuierlichen vorbehandlung von aluminiumband fuer die herstellung lithografischer platten - Google Patents
Verfahren zur kontinuierlichen vorbehandlung von aluminiumband fuer die herstellung lithografischer plattenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen Vorbehandlung von Aluminiumband für die
Herstellung lithografischer Platten, bei dem das Aluminiumband, gegebenenfalls nach einer elektrolytischen
oder mechanischen Aufrauhung, einer anodischen Oxydation in einem Schwefelsäureelektrolyten unterzogen
wird.
Für Druckzwecke können bekanntlich Aluminiumplatten verwendet werden, die mit einer lichtempfindlichen
Beschichtung versehen sind. Durch Belichtung der lichtempfindlichen Beschichtung über ein Negativbild
kann diese in wasserabstoßende, bildhafte und wasserbindende, bildlose Bereiche — letztere nehmen nicht die
beim lithografischen Drucken verwendeten Druckfarben auf — aufgeteilt werden. Zur besseren Haftung der
lichtempfindlichen Beschichtung als auch zur Verbesserung der wasserbindenden Verhaltensweise der bildlosen
Bereiche kann die Oberfläche der Aluminiumplatte auf mechanischem oder elektrolytischem Wege zuvor
aufgerauht werden. Bevorzugt wird hierbei das elektrolytische Aufrauhen aufgrund der damit erzielbaren
ungerichteten Rauhigkeitsverteilung. Beim mechanischen Aufrauhen bedient man sich häufig einer
Polyamidbürste in Verbindung mit Bimsstein als abrasivem Mittel.
Insbesondere in Verbindung mit einer solchen Aufrauhungsbehandlung, jedoch auch ohne diese,
konnte festgestellt werden, daß sich die Lebensdauer von lithografischen Aluminiumdruckplatten deutlich
erhöhen läßt, wenn die Plattenoberfläche mit einer anodischen Oxidschicht vor Aufbringen der lichtempfindlichen
Beschichtung versehen wird. Die anodische Oxidschicht erzeugt einerseits zufriedenstellende wasserbindende
Eigenschaften an den später bildlosen Bereichen, und andererseits eine solide dauerhafte
Unterlage für die bildbehafteten Bereiche.
Aus der GB-PS 12 24 226 wird, nach einer elektrolytischcn
Aufrauhungsbehandlung, zur Schaffung der anodischen Oxidschicht in einem kontinuierlichen
Prozeß die Oxydation des Aluminiumbandes in einem Schwefelsäureelektrolyten bei Stromdichten von bis zu
30 A/dm2 und Temperaturen bis 500C vorgenommen.
Auf diese Weise gebildete Oxidschichten haben in der Regel eine Dicke von wenigstens einigen Mikrometern
und sind relativ hart, so daß damit versehene Aluminiumplatten ohne Absplittern der Oxidschicht nur
in geringem Umfang verformt bzw. gebogen werden können. Außerdem weist die Oxidschicht eine offensichtlich
nur geringe Porosität auf, da die Haftung der lichtempfindlichen Beschichtung darauf nicht immer
zufriedenstellend ist. Im wesentlichen mit den gleichen Nachteilen verbundene Verfahren zur Erzeugung
anodischer Oxidschichten auf Aluminiumplatten werden in der DT-OS 19 56 795 und DT-OS 17 96159
beschrieben. In beiden Fällen handelt es sich um diskontinuierliche, eine relativ lange Behandlungszeit
erfordernde Prozesse, so daß neben den schon erwähnten Nachteilen die auf diese Weise hergestellten
lithografischen Platten wegen der mit der anodischen Oxydation verbundenen Kosten relativ teuer sind.
Schließlich wird in der Dt-OS 17 71 057 ein Verfahren
beschrieben, bei dem die Oberfläche des Aluminiumbandes durch einen Schwefelsäureelektrolyten mit einer
Temperatur von etwa 900C als vorbehandelnden Schritt für die spätere Aufbringung einer Lackschutzschicht
geführt wird. Zwischen dem Band und einer in den Elektrolyten eingetauchten Elektrode fließt ein Wechselstrom
mit einer Stromdichte von etwa 11 A/dm2. Bei
einer Verweilzeit von 2 bis 5 Sekunden läßt sich auf diese Weise eine anodische Oxidschicht mit einer Dicke
von etwa 0,05 μηι aufbauen. Elektronenmikroskopische
Untersuchungen zeigten, daß die sehr dünne anodische Oxidschicht sich durch eine große Anzahl von Poren mit
einer Größe von 300 bis 400 Ä auszeichnet, die zwar eine gute Haftung für eine darauf aufgebrachte
Schutzlackierung gibt. Jedoch erwies sich das so vorbehandelte Band für eine Beschichtung mit einem
lichtempfindlichen Material als nicht geeignet.
Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs erwähnten
Gattung zu schaffen, mit dem sich in einen; kontinuierlichen Prozeß dünne anodische Oxidschichten mit
verbesserten Eigenschaften, insbesondere hinsichtlich des Haftungsvermögens für lichtempfindliche Beschichtungen,
kostensparend herstellen lassen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die anodische Oxydation während eines Zeitraumes
von 10 bis 60 Sekunden bei einer Temperatur oberhalb
700C unter Zuführung einer Ladungsmenge von 53,8 bis 538 C/dm2 zur Bildung einer anodischen Oxidschicht mit
einer Dicke von 0,1 —1,0 μΐη vorgenommen wird.
Bei der Erfindung erfolgt die anodische Oxydation, gegebenenfalls nach einer vorausgehenden elektrolytischen
oder mechanischen Aufrauhungsbehandlung, in einem Schwefelsäureelektrolyten, der wenigstens bei
einer Temperatur von 700C1 vorzugsweise 80 bis 900C,
gehalten wird. Die Behandlung wird so lange durchgeführt, bis die Dicke der anodischen Oxidschicht
mindestens 0,1 μιη, vorzugsweise 0,5 bis 1 μπι beträgt
Unter solchen Bedingungen und unter Beachtung der angegebenen elektrischen Ladungsmenge geschaffene
anodische dünne Oxidschichten weisen eine hohe Porosität neben einer guten Verformbarkeit auf. Die
Porosität der erfindungsgemäß hergestellten Oxidschichten ergibt eine außerordentlich gute Grundlage
für das Aufbringen einer lichtempfindlichen Beschichtung. In der Tat wurde festgestellt, daß lichtempfindliche
Beschichtungen an solchen anodischen Oxidschichten besser haften, die in einem Schwefelsäureelektrolyten
bei Temperaturen von über 70°C gebildet wurden. Wegen der Flexibilität der Oxidschicht, die einmal durch
deren geringe Dicke und zum anderen durch die Weichheit des abgelagerten Materials bedingt ist, lassen
sich Aluminiumplatten ohne Ablösen der anodischen Oxidschicht in größerem Umfang biegen oder verformen.
Des weiteren ermöglicht das erfindungsgemäße
Verfahren die Bereitstellung von fertigen, lichtempfindlich beschichteten Platten, die fix und fertig zum
Druckbetrieb versandt werden können. In einem solchen Fall muß die lichtempfindliche Beschichtung
getrocknet werden und sind die Platten erhöhten Beanspruchungen während des Transports ausgesetzt.
Während die nach herkömmlichen Verfahren gebildeten, mit Oxidschichten bedeckten Platten eine nur
mäßige Haftung aufweisen, so daß während solcher Beanspruchungen die Gefahr besteht, daß die getrock- ι ο
nete, lichtempfindliche Beschichtung abblättert, können erfindungsgemäß vorbehandelte Platten aufgrund der
hohen Haftkraft solchen Beanspruchungen beschädigungsfrei standhalten.
Während des Durchganges des Aluminiumbandes i>
durch den wäßrigen Schwefelsäureelektrolyten wird es einem Wechsel- oder Gleichstrom mit einer Ladungsmenge
von mindestens 53,8 C/dm2 ausgesetzt. Bessere Ergebnisse werden bei einer Ladungsmenge von 161
C/dm2 und besonders gute Ergebnisse bei einer Ladungsmenge von 323 C/dm2 erhalten. Die Dauer der
anodischen Behandlung sollte mindestens 10 Sekunden bei einer Stromdichte von mindestens 16,1 A/dm2
betragen. Aus wirtschaftlichen Gründen liegt die obere Verweilzeitdauer bei etwa 60 Sekunden. Die obere
Grenze der Stromdichte ist durch die Gefahr des Verbrennens der Oberfläche des Aluminiumbandes
aufgrund übermäßigen Temperaturanstieges festgelegt. Obschon höhere Stromdichten vorgesehen werden
können, dürfte die für eine wirtschaftliche Herstellung maximale Stromdichte bei etwa 108 A/dm2 liegen, wobei
gewöhnlich mit Stromdichten unterhalb 53,8 A/dm2 gearbeitet wird. Ein Stromdichlenbereich zwischen 16,1
bis 26,9 A/dm2 wird vorgezogen. Gewöhnlich beträgt die obere Grenze der zugeführten Ladungsmenge aus
wirtschaftlichen Gründen etwa 538 C/dm2.
Die unter den erwähnten Bedingungen gebildete Oxidschicht hat eine Dicke von etwa 0,3 bis 0,5 μΐη,
wobei eine Porengröße von etwa 0,05 μηι und ein Porendurchmesser von etwa 0,02 μιη vorliegt.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren gebildete anodische Oxidschicht kann für lithografische
Zwecke entweder alleine oder in Kombination mit einem vorausgehenden elektrolytischen oder mechanischen
Aufrauhen eingesetzt werden. Der anodischen Behandlung kann weiter eine chemische Behandlung
der Oberfläche folgen, z. B. eine Silikatbehandlung, wenn negativ arbeitende lichtempfindliche Beschichtungen
vorgesehen werden.
Es kann irgendeine bei der anodischen Behandlung verwendete Schwefelsäurekonzentration vorgesehen
werden. So kann der Elektrolyt beispielsweise 5 bis 30 Gew.-°/o Schwefelsäure enthalten.
Zusammengefaßt wird durch die Erfindung ein Verfahren zur kontinuierlichen Bildung einer anodisehen
Oxidschicht auf einem Aluminiumband geschaffen, bei dem sich die gebildete Oxidschicht durch ein
gutes Haftungsvermögen für lichtempfindliche Beschichtungen in Verbindung mit einer hohen Flexibilität
auszeichnet. Wegen der relativ hohen Durchlaufgeschwindigkeit des Aluminiumbades liegt eine große
Ausstoßleistung vor, so daß insbesondere gegenüber dem herkömmlichen chargenmäßigen Arbeiten eine
wesentliche Senkung der Produktionskosten erzielbar ist, Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Beispielen
näher erläutert.
Ein Aluminiumband mil einem Reinheitsgrad von 99,5% und einer Dicke von 0,3 mm wurde mit
rotierenden, schwingenden Polyamidbürsten aufgerauht, wobei eine Schlämme aus Bimsstein und Wasser
auf die Oberfläche des Bandes aufgesprüht wurde. Das Band wurde dann unter Wechselstrombedingungen
durch ein Bad geführt, das einen Elektrolyten mit 15 Gew.-% Schwefelsäure bei einer Temperatur von 8O0C
enthielt. Die Verweilzeit im Bad betrug 15 Sekunden, die
Stromdichte ungefähr 20 A/dm2 und die Spannung 8 V. Das so behandelte Band wurde dann gespült und
anschließend in eine 5gew.%ige Lösung aus Natriumsilikat bei einer Temperaiur von 8O0C eine Minute lang
eingetaucht, wieder sorgfältig gespült, getrocknet und zu Platten geschnitten. Eine negativ arbeitende,
handelsüblich verfügbare lichtempfindliche Beschichtung wurde dann darauf aufgebracht, über ein Negativ
belichtet und entwickelt. Es wurde eine lithografische Platte erhalten, die ein kontrastreiches Bild mit
sauberen bildfreien Bereichen ergab. Es wurde festgestellt, daß diese Platte eine Lebensdauer von mehr als
50 000 Drucken ohne Verlust an Klarheil aufwies.
Beispiel Il
Ein Aluminiumband mit einem Reinheitsgrad von 99% und einer Dicke von 0,15 mm wurde unter
Wechselstrombedingungen durch einen Elektrolyten mit 15Gew.-% Schwefelsäure bei einer Temperatur von
80°C 15 Sekunden lang bei einer Stromdichte von ungefähr 20 A/dm2 und einer Spannung von 8 V geführt.
Das Band wurde dann sorgfältig gewaschen und getrocknet. Eine im Handel erhältliche lichtempfindliche
Beschichtung aus Polyvinyl-Zinnamat wurde auf von diesem Band abgeschnittene Platten aufgebracht,
einer Negativbelichtung ausgesetzt und dann entwikkelt. Von dieser Platte wurden Probedrucke erhalten,
die ein kontrastreiches Bild mit sauberen bildlosen Bereichen zeigten. Es wurde festgestellt, daß die Platten
eine Lebensdauer von mehr als 40 000 Drucken bei gleichbleibender Bildqualität hatten.
Bei einer weiteren Reihe von Versuchen wurde festgestellt, daß bei derselben Beschichtung die
Stromdichte auf ungefähr 5 A/dm2 und einer Behandlungszeit von 10 bis 20 Sekunden verringert werden
kann, um Platten zu erzeugen, die eine Lebensdauer von 30 000 bis 50 000 Drucken aufweisen. Wenn die
Behandlungszeit jedoch unter 10 Sekunden lag, nahm die Anzahl an erzielbaren Drucken stark ab.
Bei weiteren Versuchen wurde ein Aluminiumband mit einem Reinheitsgrad von 99,5% einer Schlämmaufrauhung
gemäß Beispiel I unterworfen und dann einer Wechselstrombehandlung in 15%iger Schwefelsäure
bei 8O0C über eine Zeitdauer von 15 Sekunden bei 15 A/dm2 ausgesetzt. Von dem so behandelten Aluminiumband
abgeschnittene Platten wurden mit einer positiv arbeitenden, vorsensibilisierenden Beschichtung beschichtet.
Die beschichteten Platten wurden dann mit einem Positivbild belichtet und entwickelt. Die geschaffene
lithografische Platte hatte eine Lebensdauer von ungefähr 50 000 Drucken.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur kontinuierlichen Vorbehandlung von Aluminiumband für die Herstellung lithografischer Platten, bei dem das Aluminiumband, gegebenenfalls nach einer elektrolytischen oder mechanischen Aufrauhung, einer anodischen Oxydation in einem Schwefelsäureelektrolyten unterzogen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die anodisehe Oxydation während eines Zeitraumes von 10 bis ()0 Sekunden bei einer Temperatur oberhalb 700C unter Zuführung einer Ladungsmenge von 53,8 bis 538 C/dm2 bis zur Bildung einer anodischen Oxidschicht mit einer Dicke von 0,1 bis 1,0 μπι vorgenommen wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB2689972A GB1439127A (en) | 1972-06-08 | 1972-06-08 | Production of lithographic plates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2328606A1 DE2328606A1 (de) | 1974-01-03 |
DE2328606B2 true DE2328606B2 (de) | 1977-10-27 |
Family
ID=10250963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732328606 Withdrawn DE2328606B2 (de) | 1972-06-08 | 1973-06-05 | Verfahren zur kontinuierlichen vorbehandlung von aluminiumband fuer die herstellung lithografischer platten |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3873318A (de) |
AT (1) | AT333791B (de) |
AU (1) | AU5662373A (de) |
BE (1) | BE800527A (de) |
BR (1) | BR7304242D0 (de) |
CA (1) | CA1028650A (de) |
CH (1) | CH573817A5 (de) |
DE (1) | DE2328606B2 (de) |
DK (1) | DK137174B (de) |
ES (1) | ES415643A1 (de) |
FR (1) | FR2187938B1 (de) |
GB (1) | GB1439127A (de) |
IT (1) | IT988760B (de) |
NL (1) | NL7307676A (de) |
ZA (1) | ZA733758B (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1973-05-29 IT IT24765/73A patent/IT988760B/it active
- 1973-06-01 US US366191A patent/US3873318A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-06-01 NL NL7307676A patent/NL7307676A/xx not_active Application Discontinuation
- 1973-06-04 ZA ZA733758A patent/ZA733758B/xx unknown
- 1973-06-05 DE DE19732328606 patent/DE2328606B2/de not_active Withdrawn
- 1973-06-06 BR BR4242/73A patent/BR7304242D0/pt unknown
- 1973-06-06 BE BE131934A patent/BE800527A/xx unknown
- 1973-06-06 FR FR7320538A patent/FR2187938B1/fr not_active Expired
- 1973-06-07 DK DK316373AA patent/DK137174B/da unknown
- 1973-06-07 CA CA173,431A patent/CA1028650A/en not_active Expired
- 1973-06-07 AU AU56623/73A patent/AU5662373A/en not_active Expired
- 1973-06-07 ES ES415643A patent/ES415643A1/es not_active Expired
- 1973-06-08 CH CH837173A patent/CH573817A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-06-08 AT AT510173A patent/AT333791B/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR7304242D0 (pt) | 1974-07-25 |
CH573817A5 (de) | 1976-03-31 |
DK137174C (de) | 1978-07-03 |
DE2328606A1 (de) | 1974-01-03 |
AU5662373A (en) | 1974-12-12 |
US3873318A (en) | 1975-03-25 |
ZA733758B (en) | 1974-04-24 |
BE800527A (fr) | 1973-12-06 |
NL7307676A (de) | 1973-12-11 |
DK137174B (da) | 1978-01-30 |
GB1439127A (en) | 1976-06-09 |
ATA510173A (de) | 1976-04-15 |
FR2187938B1 (de) | 1977-05-06 |
FR2187938A1 (de) | 1974-01-18 |
CA1028650A (en) | 1978-03-28 |
AT333791B (de) | 1976-12-10 |
IT988760B (it) | 1975-04-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8230 | Patent withdrawn |