DE2426376C3 - Optischer Wellenleiter - Google Patents
Optischer WellenleiterInfo
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Description
ξ-ν | A | > 2; | -ρ2 |
mit | |||
A = | 1/ | ||
1 < | P | i-p2 | |
ν = | < ι; | ||
•β-υ μ | |||
Zc0 = Wellenzahl des zu übertragenden Lichts.
20
25
2. Optischer Wellenleiter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Brechungsindex
an der Grenze zwischen der ersten Schicht (4) und der zweiten Schicht (5) in Radialrichtung
kontinuierlich ändert. so
3. Optischer Wellenleiter nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4)
aus Siliciumoxid und die zweite Schicht (5) aus Glas mit hohem Siliciumdioxidgehalt besteht.
4. Optischer Wellenleiter nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4)
aus Siliciumoxid und die zweite Schicht (5) aus geschmolzenem Quarzglas besteht.
5. Optischer Wellenleiter nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4)
zur Einstellung des Brechungsindexes einen metallischen
Störstoff enthält.
6. Optischer Wellenleiter nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Störstoff aus L, B,
P, Ba, Na oder Ga besteht. v,
Die Erfindung bezieht sich auf einen optischen Wellenleiter nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs
1.
Üblich sind optische Wellenleiter, die aus einem massiven Kern mit verhältnismäßig hohem optischem
Brechungsindex und einem den Kern umgebenden π Mantel mit geringerem Brechungsindex bestehen. Die
sich durch das Innere dieses Wellenleiters ausbreitenden Lichtwellen verhalten sich ähnlich wie elektromagnetische
Wellen in einem Wellenleiter. In Abhängigkeit von der Art der Übertragung lassen sich diese w>
Wellenleiter in Einfach- und Mehrfach-Wellenleiter unterteilen.
Beim Einfach-Wellenleiter liegt ein einzelner Übertragungsmodus vor, so daß keinerlei Gruppenlaufzeitdifferenzen
zwischen verschiedenen Übertragungsmo- μ den auftreten. Ein solcher Wellenleiter weist daher eine
hohe Übertragungsbandbreite auf, die bei Übertragung über eine Entfernung von 1 km mehrere GHz beträgt.
Allerdings ist es erforderlich, daß der Kerndurchmesser sehr Wein (einige μΐη) oder die Differenz der
Brechungsindices zwischen Kern und Mantel gering ist Bei derart geringen Kerndurchmesser ist es äußerst
schwierig, das Licht in den Kern einzuleiten sowie zwei Wellenleiter an einer Verbindungsstelle mit genügender
Genauigkeit aufeinander auszurichten. Ein geringer Brechungsindex-Unterschied hat den Nachteil, daß an
Biegungen des Wellenleiters große Emissionsverluste auftreten. Bei Mehrfach-Wellenleiter haben dagegen
die einzelnen Übertragungsmoden unterschiedlicher Ausbreitungsgeschwindigkeiten, was zu einer Beschränkung
der Übertragungsbandbreite führt
Aus den USA-Patentschriften 35 83 786 und 33 86 043 sind Wellenleiter nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs
1 bekannt, bei denen der Kern von einem gasgefüllten oder evakuierten Hohlraum innerhalb der
ersten Schicht gebildet wird, während die zweite Schicht aus Metall oder einem nicht metallischem Material mit
hohen dielektrischen Verlusten und einem Brechungsindex besteht, der größer ist als der der ersten Schicht
Auch diese bekannten hohlen Wellenleiter sind jedoch so gebaut, daß der Hauptteil der Lichtenergie durch den
inneren Hohlraum übertragen wird. Daher verhalten sich auch diese Wellenleiter ähnlich wie die üblichen
zylindrischen Wellenleiter zur Übertragung elektromagnetischer Wellen mit den oben genannten Nachteilen,
insbesondere geringer Übertragungsbandbreiten infolge von Gruppenlaufzeitdifferenzen zwischen den
verschiedenen auftretenden Übertragungsmoden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen optischen Wellenleiter zu schaffen, der bei großem
Kerndurchmesser große Übertragungsbandbreite aufweist.
Nach der im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Lösung dieser Aufgabe ist der
Wellenleiter bezüglich der Wellenlänge des zu übertragenden Lichts derart dimensioniert, daß die verschiedenen
bei großen Kerndurchmesser auftretenden Wellenmoden »degenerieren«, d. h. in ihren Übertragungseigenschaiten
einander annähern, so daß die Gruppenlaufzeitdifferenzen zwischen den einzelnen Moden
gering werden.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung werden in der nachstehenden Beschreibung anhand der
Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigen
Fig. IA, B und C einen Schnitt, eine teilweise
Seitenansicht bzw. ein Diagramm der Brechungsindex-Verteilung einer bekannten Faser,
F i g. 2A, B und C einen Schnitt, eine teilweise Seitenansicht bzw. ein Diagramm der Brechungsindex-Verteilung
eines Lichtleiters gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig.3A und B einen teilweisen Schnitt bzw. ein Diagramm der Brechungsindex-Verteilung eines plattenförmigen
Wellenleiters zur Erläuterung des der Erfindung zugrunde liegenden Prinzips,
F i g. 4A und B Diagramme, in denen die Phasenkonstante β von plattenförmigen Wellenleitern gemäß
F i g. 3A und B als Funktion der normierten Frequenz aufgetragen ist,
F i g. 5 und 6 Diagramme der Brechungsindex-Verteilung bezüglich des Durchmessers bei Wellenleitern
gemäß zwei verschiedenen Ausführungsbeispielen der Erfindung,
Fig. 7 und 10 Darstellungen zur Erläuterung der Herstellung eines Wellenleiters gemäß einem Ausfüh-
rungsbeispiel der Erfindung,
Fig.8 eine Darstellung zur Erläuterung eines Teils
des Herstellungsverfahrens nach F i g. 7 und
F i g. 9 ein Diagramm, in dem der Brechungsindex als
Funktion von Störstoffen dargestellt Ist, die zur Brechungsindex-Steuerung bei der Herstellung eingesetzt
worden.
Gemäß Fig. IA bis C weist die eingangs angesprochene
herkömmliche lichtleitende Faser einen Kern 1 und einen Mantel 2 auf.
Bei diesem Aufbau wird die Art, in der sich das Licht
verbreitet, durch die normierte Frequenz ν bestimmt, die durch folgende Gleichung definiert ist:
magnetische Transversalwelle TM. Die Feldkomponenten Φ, in der Richtung y können als bekannt
vorausgesetzt werden:
Φ = C1 !exp(u,x/'a) ± exp( - u.x'aj;..
= C2 cos(u, x/a) + C3 sin( — UjX/a);.
= C2cos(UjXZa) ± C3
= C4 exp (— U2X1Za);.
= ± C4(exp(u2xZa);
= C2 cos(u, x/a) + C3 sin( — UjX/a);.
= C2cos(UjXZa) ± C3
= C4 exp (— U2X1Za);.
= ± C4(exp(u2xZa);
. a < χ
. .χ < — a .
— a < χ < — ϊα
Hierin ist der Ausbreitungsausdruck
Darin sind: a der Radius des Kerns des Wellenleiters, λ die Wellenlänge des zu leitenden Lichts, n\ der
Brechungsindex des Kerns 1 und /J2 der Brechungsindex
des Mantels 2. Ist vc nicht größer als 2,405, so kann sich
nur die Grundwelle HEn ausbreiten. Damit sich nur die Grundwelle des Lichts ausbreiten kann, müssen die
Größen a, ti\ und m so gewählt werden, daß sie die
Bedingung v< 2,405 erfüllen. Die Indexdifferenz zwischen Kern und Mantel wird auf etwa ein Prozent
eingestellt, um die Übertragungscharakteristik der Faser stabil zu machen. Dabei wird jedoch der Wert von
a sehr klein (einige μίτι). Damit wird die Verbindung
zwischen den Fasern und die Einleitung des Lichts aus einer Lichtquelle in die Faser schwierig.
Im Gegensatz dazu ist die erfindungsgemäße Lichtübertragungsleitung (optische Faser) gemäß den
F i g. 2A, 2B und 2C aufgebaut. F i g. 2A und 2B zeigen
einen Querschnitt bzw. eine Seitenansicht der Faser, F i g. 2C zeigt das Verteilungsdiagramm des Brechungsindex.
Die in den F i g. 2A und 2B gezeigte optische Faser enthält einen Kern 3, eine erste Schicht 4 und eine
zweite Schicht (5). Die erste Schicht 4 ist zylindrisch und hohl. Merkmal dieses. Aufbaus ist, da der Brechungsindex
des Kerns 3 wesentlich geringer ist als der der ersten und der zweiten Schicht.
Zur Vereinfachung der weiteren Beschreibung sei angenommen, daß die Lichtübertragungsleitung aus
einer plattenförmigen Leitung mit symmetrischer Fünfschicht-Struktur besteht. Da die Analyse des
zylindrischen Typs im allgemeinen sehr kompliziert ist, werden häufig die Eigenschaften anhand der plattenförmigen
Übertragungsleitung erläutert. Auch im Rahmen der vorliegenden Erfindung sind die Transmissions-Eigenschaften
der plattenförmigen Übertragungsleitung anwendbar.
F i g. 3A und 3B zeigen eine plattenförmige Übertragungsleitung aus fünf symmetrischen Schichten.
F i g. 3A zeigt einen Querschnitt der Lichtübertragungsleitung, Fig.3B in einem Diagramm die Verteilung des
Brechungsindex in Richtung χ der F i g. 3A.
Entsprechend Fig.2A und 2B sind der Kern mit 3',
die erste Schicht mit 4' und die zweite Schicht mit 5' bezeichnet. Es sei angenommen, daß sich das Licht in
der Richtung zausbreitet. Die Länge von der Mitte des
Kerns zur Innenwand der ersten Schicht 4' ist mit \a
bezeichnet, die Länge von der Mitte zur Außenwand der ersten Schicht 4' mit a. Die Brechungsindices der Teile
3', 4' und 5' seien qn, η bzw. pn. Die Stärke der zweiten Schicht 5' sei unendlich. Bei diesem Wellenleiter
bestehen eine elektrische Transversal welle TEund eine
exp [fßz-ωί))
weggelassen. Ci bis G sind unbekannte Koeffizienten, u„
U) und U2 die normierten Ausbreitungskonstanten in den
Schichten 3', 4' und 5'. Das Doppelzeichen (±) entspricht der geraden bzw. ungeraden Welle. Φ,
entspricht den y-Komponenten des elektrischen Feldes der elektrischen Transversalwelle und des magnetischen
Feldes der magnetischen Transversalwelle.
iU)1 + Iq = - (
(U2Ja)2 + k\ =
(U2Ja)2 + k\ =
1
a)2 + Iq
k2 =
(2)
Darin ist c die Lichtgeschwindigkeit und ω die Winkelfrequenz des Lichts. Aus den obigen Beziehungen
ergibt sich folgendes:
uj = /42u?
A2 = '-- V;
1 -p-
1 -p-
B2 =
Die normierte Frequenz r ist folgendermaßen definiert:
v2 = u2 + ul = (k] - kj)^ = (1 -
An den Grenzflächen soll die tangentiale Feldkomponente stetig sein. Berechnet man unter Benutzung der
Maxwellschen Gleichungen die anderen tangentialen Komponenten und setzt in Gleichung (1) ein, so erhält
man folgende Bestimmungsgleichungen·.
Für die TE -Welle:
land -f)"i =
land -f)"i =
K1U1 (JJjM iu.
U2 -UM, te) iU.
Für die TM-Welle:
tan(l-f)u, =
P2U1U1 te) Su,
(6)
Su,
A tanh S Avc; (gerade Welle)
A coth SAvc;(ungerade Welle)
Für die TM-Welle:
A
Für die TM-Welle:
A
(8)
20
tan(l-£)iv=,
r tanh SA vc; (gerade Welle)
(9)
coth SAvc- (ungerade Welle)
Demnach sind die Werte vc der geraden und
ungeraden Welle fast koinzident, wenn ξΛ in den obigen Gleichungen groß genug ist (weil dann coth ξΑ = tanh
|Λ = 1). Zwischen der TE- und der TM-Welle besteht
lediglich der Unterschied, daß die Koeffizienten der TM- Wellen K -mal größer sind als die der TE-Wellen.
Diese können als im wesentlichen degeneriert oder entartet betrachtet werden.
Demzufolge können die gerade Welle TEo, die
ungerade Welle TEU die gerade Welle TAi0 und die
ungerade Welle TMi (sogenannte Grundwellengruppen) als im wesentlichen entartet, d. h. in ihren
Ausbreitungseigenschaften als identisch betrachtet werden.
Die Bedingung, unter der sich nur die Grundwellengruppe ausbreitet ist folglich:
2παη
Ι/Ϊ^
3.T
2(1 - S)
2(1 - S)
(10)
45
50
Im Falle des bekannten Wellenleiters nach Fig. 1 ist
| = ö. Obwohl in diesem Fail TEo und TMo im
wesentlichen entarten, weil die Indexdifferenz zwischen der ersten und der zweiten Schicht groß ist, entarten
TE\ und TMi nicht Die Ausbreitungseigenschaften sind für TEo und TMo annähernd gleich, während sie sich für
TEi und TMi unterscheiden. Die Bedingung, unter der
sich nur die Wellen TEo und TMo ausbreiten, ergibt sich für einen Wellenleiter mit einfachem Mantel (entsprechend
1=0) zu:
Der Unterschied zwischen dem erfindungsgemäßen Grundwellenbetrieb und dem bekannten ist in den
Diagrammen der F i g. 4A und 4B dargestellt F i g. 4A entspricht einem erfindungsgemäßen und Fig.4B
einem bekannten optischen Wellenleiter. In Fig.4A sind die Ausbreitungseigenschaften der Wellen TMo,
TE] und TMi annähernd der Welle TEo der niedrigen
Ordnung gleich. Nur diese Wellen breiten sich in dem Bereich aus, in dem vbis zu
Im Ausdruck (UJih) gilt tanh für die gerade und coth
für die ungerade Welle.
Als Grenzbedingung für die Ausbreitung des Lichts gilt U2 = O. in
Dabei wird nach Gleichung (4) die normierte Frequenz ν gleich ui. Dies ist die Grenzfrequenz vo Die
Grenzfrequenzen ergeben sich für TE und TM aus den Gleichungen (5), (6) und (7):
beträgt. Beim bekannten dreischichtigen Plattenleiter ist nur TMo etwa gleich der Welle TEo der niedrigsten
Ordnung, so daß sich nur TEo und TMo in dem Bereich
ausbreiten, indem vbis zu -^- beträgt.
Der fünfschichtige plattenförmige Wellenleiter ist daher an der oberen Grenze des Grundwellenbereichs
um das y——-fache größer als der dreischichtige
Plattenlciter. Die Kerngröße des erfindungsgemäßen Wellenleiters kann also um das 3/(l-|)-fache größer
gewählt werden als beim dreischichtigen Plattenleiter mit einfachem Mantel. Beispielsweise ist bei £ = 0,9 a
30mal größer.
Obwohl, wie erwähnt, die Wellenausbreitung nicht in Form einer einzigen Welle in der Lichtübertragungsleitung
gemäß der Erfindung erfolgt, entarten die Wellen höherer Moden, z. B. TM0, TE] und TM1, zu TE0. Ihre
Werte nähern sich sehr stark der Phasenkonstanten der Ti0-WeIIe. Die Gruppenverzögerungsdifferenz Δτ
unter den Wellen ist sehr gering. Breiten sich die Wellen TE0, TE], TM0 und TMi in dem fünfschichtigen
Plattenleiter aus, so macht die Gruppenverzögerungsdifferenz bei einer Ausbreitung um einen km über die
Lichtübertragungsleitung nur etwa 0,01 ns aus.
Zur Degeneration der Ausbreitungsmoden und um die Gruppenlaufzeitdifferenz Δτ bei dem vorstehend
beschriebenen Aufbau möglichst gering zu halten, sollte, wie sich aus dem obigen Ausdruck ergibt, q möglichst
klein sein, wozu die Luft zu berücksichtigen ist. Bei einem hohlen Aufbau wird der durch das Material
bedingte Lichtverlust minimal. Auch die Herstellung der erfindungsgemäßen optischen Faser gemäß F i g. 2A bis
2C ist sehr einfach. Die Herstellung der optischen Faser gemäß F i g. 2A bis 2C kann derart erfolgen, daß eine
große Stange, deren Querschnittsform der der F i g. 2A ähnelt und deren Brechungsindex sich gemäß F i g. 2C
verhält, verwendet wird, wobei die Stange durch Erhitzung von ihrem einen Ende ausgezogen wird.
Dabei behält die ausgezogene Faser ihre ursprüngliche Form. Erfindungsgemäß kann also eine Faser vorherbestimmter
Form einfach hergestellt werden, indem lediglich ein derartiges Verfahren angewandt wird,
wobei das Innere (erste Schicht) nicht eigens geöffnet zu werden braucht Ferner muß der Wert von (1 - p2) mit
dem Konstruktionswert übereinstimmeri. In diesem Zusammenhang kann darauf hingewiesen werden, daß
die Schicht (4) auf einfache Weise durch chemische Aufdampfung hergestellt werden kann. Die Lichtübertragungsleitung
kann auf einfache Weise hergestellt werden, indem dieser Verfahrensschritt mit dem obigen
Herstellungsverfahren kombiniert wird.
F i g. 5 zeigt die Verteilung der Brechungsindices bei einem Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen
Lichtübertragungsleitung. Dieses Ausführungsbeispiel hat den gleichen Aufbau wie das der Fig.2A. Im
Diagramm der F i g. 5 ist auf der Abszisse die Länge in Richtung des Durchmessers und auf der Ordinate der
Brechungsindex aufgetragen. Die verschiedenen Werte
der Länge und des Brechungsindex sind in der Figur erwähnt.
F i g. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Lichtübertragungsleitung. Infolge
der Art der Herstellung ändern sich die Brechungsindi- ■■> ces des Kerns und des Mantels kontinuierlich. Die
Übertragungseigenschaften dieser Leitung sind im wesentlichen gleich denen der Leitung gemäß F i g. 5.
F i g. 7 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Herstellung
eines erfindungsgemäßen optischen Wellenleiters. Ein hohles Glasrohr U mit hohem Siliciumdioxidgehalt mit
einem Innendurchmesser von 8 mm und einem Außendurchmesser von 10 mm wird auf einem Quarzprobenständer
12 in einem Quarzglasrohr 21 gelegt Ein Ventil 14 wird geöffnet und das Rohr 21 mittels einer i>
umlaufenden Pumpe 15 evakuiert. Das Quarzrohr 2!
wird mittels eines elektrischen Ofens 10 auf 7400C erhitzt.
Nach Feststellung eines Vakuums von etwa 4 Pa mittels eines Vakuum-Meßgeräts 13 wird ein Ventil 18
geöffnet. Tetraäthoxysiian 19 als Quelle zur Bildung von SiO2, das auf Umgebungstemperatur gehalten wird, füllt
das Innere des Quarzrohrs mit einem Dampfdruck von einigen hundert Pa durch öffnung des Ventils 18 aus.
Um eine ausreichende Tetraäthoxysiian-Dampfströmung
zu erreichen, wird die öffnung des Ventils 14 gesteuert. Durch das eingeleitete Tetraäthoxysiian
entsteht durch thermische Zersetzung SiO2, das auf der Innen- und Außenwand des hohlen Glasrohrs 11 mit
hohem Siliziumdioxidgehalt aufwächst. Die Stärke des Jo gebildeten Films ist abhängig von der Temperatur, bei
der die thermische Zersetzung abläuft, und von der Zeit.
Beispielsweise entsteht innerhalb von fünf Stunden ein SiCVFilm von etwa 10 μπι Stärke durch die Reaktion in
dem auf 7400C gehaltenen Ofen. Nach Beendigung der J5
Ausbildung des Films wird das Ventil 14 geschlossen und ein Ventil 9 geöffnet, so daß Stickstoffgas entweichen
kann. Darauf wird das Glasrohr 11 herausgenommen. Nachfolgend wird der auf der Außenwand des hohlen
Glasrohr ausgebildete SiO2-FiIm entfernt Wie in F i g. 8
gezeigt, wird das Rohr in erhitztem und geschmolzenem Zustand von einem Ende aus gestreckt, so daß der
Querschnitt vermindert wird. Dabei wird der auf der Innenwand des hohlen Glasrohrs in einer Stärke von
einigen 10 μπι ausgebildete SiOrFiIm einige μπι stark.
Damit ergibt sich die hohle Faser 24, wie sie in den F i g. 2A und 2B dargestellt ist
Statt Glas mit hohem Siliziumdioxidgehalt als Material für den Mantel kann auch Glas mit niedrigen
Verlusten wie Quarzglas verwendet werden. Auf Material zur Herstellung des SiO2-Films können
Lösungen aus organischen Silanverbindungen wie
(C2H5O)4Si,
Äthyltriäthoxysilan (C2H5)Si(C2H5O)3,
Amyltriäthoxysilan C5HnSi(C2H5O)3,
Vinyltriäthoxysilan CH2 = CHSi(C2H5O)3,
Phenyltriäthoxysilan C6H5Si(C2H5O)3,
Dimethyldiäthoxysilan (CHs)2Si(C2H5O)2 und
Diphenyldiäthoxysilan (C6Hs)2Si(C2H5O)2
Amyltriäthoxysilan C5HnSi(C2H5O)3,
Vinyltriäthoxysilan CH2 = CHSi(C2H5O)3,
Phenyltriäthoxysilan C6H5Si(C2H5O)3,
Dimethyldiäthoxysilan (CHs)2Si(C2H5O)2 und
Diphenyldiäthoxysilan (C6Hs)2Si(C2H5O)2
verwendet werden.
Um den Brechungsindex des das Kernmaterial bildenden SiQrFilms auf einen vorherbestimmten Wert
zu bringen, kann ein Störstoff wie B, Ba, P, Li und Na zugefügt werden.
Als Material zur Einstellung des Brechungsindex werden metallische Verbindungen aus As, Li, B, P, Ba,
Na, Ga usw. verwendet. F i g. 9 zeigt ein Beispiel für das Verhalten des Brechungsindex bei Zugabe dieser
Materialien zum SiO2-FiIm.
Fig. 10 zeigt ein Beispiel für die Herstellung aus
einem Material für die hohle Faser, das auf das Dampfreaktionsverfahren zurückgeht. Gemäß Fig. 10
wird ein hohles Glasrohr 25 mit einem Außendurchmesser von 10 mm und einem Innendurchmesser von 8 mm
mittels eines elektrischen Ofens 26 auf 4500C erhitzt. Durch das Innere des Rohrs 25 wird von einem Ventil 27
Stickstoffgas mit einem Durchsatz von 3 l/min zugeführt. Ferner wird von einem Ventil 28 Sauerstoff
mit einem Durchsatz von 250 l/min und aus einem Behälter 31 über ein Ventil 29 SiH4 mit einem Durchsatz
von 750 ml/min zugeführt, das durch den Stickstoff verdünnt wird und eine Konzentration von 4% hat.
Damit wächst auf der Innenwand des hohlen Rohrs 25 ein SiO2-FiIm. Die Stärke des aufgebrachten Films ist
abhängig von den Durchflußmengen der Gase. Im vorliegenden Fall bildet sich innerhalb 30 Minuten ein
SiO2-FiIm mit einer Stärke von etwa 3 μπι. Nachdem der
SiO2-FiIm auf der Innenwand des hohlen Rohrs eine
Stärke von einigen 10 μπι erreicht hat, wird nach dem
vorstehend beschriebenen Verfahren ein hohler Wellenleiter hergestellt
Bei diesem Herstellungsverfahren können an Stelle von SiH4 auch SiCl4, SiBr usw. verwendet werden.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Optischer Wellenleiter, bestehend aus einem zylindrischen Kern vom Brechungsindex qn=l,
einer diesen umgebenden lichtleitenden ersten Schicht vom Brechungsindex π und einer auf die
erste Schicht aufgebrachten zweiten Schicht vom Brechungsindex pn, dadurch gekennzeichnet,
daß das Verhältnis ξ von Innenradius fa zu
Außenradius a der ersten Schicht (4) folgender Beziehung genügt:
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DE2426376B2 DE2426376B2 (de) | 1979-03-22 |
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