DE3040789A1 - Lichtempfindliche massen - Google Patents

Lichtempfindliche massen

Info

Publication number
DE3040789A1
DE3040789A1 DE19803040789 DE3040789A DE3040789A1 DE 3040789 A1 DE3040789 A1 DE 3040789A1 DE 19803040789 DE19803040789 DE 19803040789 DE 3040789 A DE3040789 A DE 3040789A DE 3040789 A1 DE3040789 A1 DE 3040789A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
group
photosensitive
light
alkyl group
sensitizer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19803040789
Other languages
English (en)
Other versions
DE3040789C2 (de
Inventor
Yoshimasa Aotani
Teruo Minami-Ashigara Kanagawa Kojima
Eiji Shizuoka Nakakita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE3040789A1 publication Critical patent/DE3040789A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3040789C2 publication Critical patent/DE3040789C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/008Azides
    • G03F7/0085Azides characterised by the non-macromolecular additives
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/127Spectral sensitizer containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/128Radiation-activated cross-linking agent containing

Description

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Massen, insbesondere lichtempfindliche Massen, welche aus einem Gemisch eines Sensibilisators und eines durch Licht vernetz-, baren Polymeren oder aus einem Gemisch aus einem Sensibilisator und einer Verbindung unter Einschluß einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und eines mit einem Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen, das bei der Auaaetzung an Licht gebildet wird, reaktionsfähigen Polymeren besteht. Die lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung sind besonders wertvoll für lichtempfindliche Schichten von lichtempfind-
130019/0894
lichen oder vorsensibilisierten Druckplatten, Photowiderständen und dergleichen.
Auf dem Gebiet der Photographic sind Verfahren "bekannt, wobei ein Bild in einem strahlungsempfindlichen Material durch Änderung einiger physikalischer Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht des strahlungsempfindlichen Materials in den belichteten Teilen wiedergegeben sind. Zu den Materialien wie den die strahlungsempfindlichen, bei derartigen Verfahren eingesetzten Materialien gehören lichthärtbare Materialien, wie Polymere, welche nach der Aussetzung an aktinisches Licht unlöslich gemacht oder gehärtet werden. Der Unterschied der physikalischen Eigenschaften zwischen den belichteten Teilen und den unbelichteten Teilen kann zur Ausbildung der Bilder durch Anwendung von beispielsweise mechanischem Druck, Wärme, Lösungsmitteln und dergleichen in Abhängigkeit von den speziellen Unterschiedlichkeiten der physikalischen Eigenschaften ausgenützt werden. Beispielsweise wird bei der Behandlung der Schicht eines bildweise belichteten durch Strahlung vernetzbaren Materials mit einem Lösungsmittel das ungehärtete Material der unbelichteten Teile der Schicht entfernt, und es hinterbleibt ein Bild aus dem gehärteten Polymeren. Derartige Verfahren wurden zur Herstellung von lithographischen Druckplatten, Photowiderständen, gedruckten photographischen Bildern und dergleichen angewandt.
Da jedoch die Empfindlichkeit eines lichtvernetzbaren Materials relativ niedrig ist, ist es günstig, die Geschwindigkeit der durch Licht unlöslich machenden Reaktion zu erhöhen. Zu diesem Zweck wurde eine große Anzahl von Verbindungen als Sensibilisatoren vorgeschlagen. Zum Beispiel ist 2-Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d!naphthothiazole (BNTZ), wie in der US-Patentschrift 2 732 301 beschrieben, als Sensibilisator für lichtempfindliche Massen wertvoll. Das BNTZ besitzt jedoch den Nachteil, daß es zur Kristallisation in der licht-
130019/0 8 94
empfindlichen Schicht neigte lasbesonäers wird elss '. la der lichtempfindliches Schicht ia θχώ@γ Marage ®iii-so lediglich begrenzten Bereiches assimilierte Selbst isö£ä eine transparente, lichtempfindliches BlTSZ^onthaltsaac Schicht anfänglich erhalten werden kann* MMsa sioli_, frlls das lichtempfindliche Material unter nicht—icisalsn Bedingungen wie bei einer Temperatur höher als Raumtemperatur beispielsweise höher als 3CfG, und einer !Feuchtigkeit hb'hgr als 'üblich, beispielsweise höher als 70$ relativer· feuchtigkeit, aufbewahrt wird, Erist£lle yoü BITS la üer liehterapfiEciliehen Schicht, so daß die Qualität der lichtempfinölieaeE Schicht stark verringert wird, Das heißt« die relativer, As= teile der Moleküle des SensibSlisators nehmen au der Oberfläche äer lichtempfindlichen Schicht zu, und infolgedessen erfolgt eine Vernetzung der Schicht unzureichend in den tieferen Teilen. Infolgedessen ist es erwünschtj eiaen Sensibilisator vorliegen zu haben, der ein© niedrige Geschwindigkeit der durch Licht bewirkten Unlöslichmachungsreaktion besitzt, und der nicht in der lichtempf indliclieis Schicht während der Aufbewahrung auskristallisiert.
Die Aufgabe der Erfindung besteht demzufolge in einer stark empfindlichen, lichtempfindlichen Masse, die einen Sensibilisator enthält, der in der lichtempfindlichen Schicht während der Aufbewahrung nicht auskristallisiert.
Infolge zahlreicher- Untersuchungen im Hinblick auf die vorstehend beschriebene Ausgabe der Erfindung wurde nuo ein spezifischer Sensibilisator gefunden, welcher stark dl© Geschwindigkeit der LichtuKlösliciimachungsreaktioB eines Licht vernetgfbaren Polymeren oder eia©s Gemisches aus ©i: Verbindung mit einer lichtempfindliche» Az id-Gruppe unfi eineis mit einen? nach der Aussetzung au Licht gebildeten Sersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren erhöhte und welcher während der Lagerung in der lichtempfindlicheB
130019/0894
304078g
schicht nicht auskristallisierto
Speziell wird die vorstehend geschilderte Aufgabe der Erfindung durch Anwendung einer lichtempfindlichen Masse erreicht, welche ein Gemisch aus einem aurch Licht vernetzbaren Polymeren oder einer Verbindung mit einer lichtempfindlichen Azid-G-ruppe und einem mit ä@m Serse'wzuagsprodukt der nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigem Polymeren, sowie einem Sensibilisator entsprechend der Formel
A C=C
VnX Xc—n-r2 (ι) I !I 2
R, O
daistellt, worin A eine zur Bildung eines heterozyclischen, stickstoffhaltigen Ringes notwendige ÜTicht-Metallgruppe,, R1 eine Alkylgruppe oder substituierte Alkylgruppe, R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe und Σ und Z jeweils ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelstom bedeuten.
Der erfindungsgemäß zu verwendete Sensibilisator absorbiert grundsätzlich Licht bei etwa 350 bis 400 nm. Die Lichtquelle des Düsenfcuckers besteht aus einer Metallhalogen idlampe.
Im Rahmen der Beschreibung der Erfinduag im einzelnes bezeichnet in der allgemeinen Formel (I) di© Angabe A eine Uicht-Metallgruppe von Atomen, welche zur Bildung eines stickstoffhaltigen heterozyclischen Ringes zusammea mit dem
130019/0894
Stickstoffatom am Kohlenstoffatom, woran es gebunden ist, dient, wie aus Formel (I) ersichtlich, der üblicherweise in Cyaninfarbstoffen vorliegenden Art notwendige Nicht-Metallgruppe von Atomen. Bevorzugte Beispiele für derartige ITicht-Metallgruppen sind Benzothiazole z.B. Benzothiazol selbst, 5-Chlorbenzothiazol, 6-Chlorbenzothiazol, 4-Methylbenzothiazol, 6-Methylbenzothiazol, 5-Phenylbenzothiazol, 6-Methoxybenzothiazol, 4-Äthoxybenzothiazol, 5-Methoxybenzothiazol, 5-Hydroxybenzothiazol, 5,6-Dimethylbenzothiazol, 5>6-Dimethoxybenzothiazol und dergleichen, vorzugsweise Naphthothiazole, z.B. α-Maphthothiazol, ß-Naphthathiazol und dergleichen, Benzoselenazole, beispielsweise Benzoselenazol selbst, 5-Chlorbenzoselenazol, 6-Methylbenzoselenazol, 6-Methoxybenzoselenazol und dergleichen, Naphthoselenazble, beispieleweise oc-Haphthoselenazole, ß-Eaphthoselenazole und dergleichen, Benzoxazole, z.B. Benzoxazol selbst, 5-Methylbenzoxazol, 5-Methoxybenzoxazol, 5-Phenylbenzoxazol,6-Methoxybenzoxazol, 5,6-Dimethylbenzoxazol und dergleichen sowie Maphthoxazol, beispielsweise a-jffaphthoxazol, ß-ITaphthoxazol und dergleichen.
Der Rest R1 in der lOrmel (I) ist eine Alkylgruppe der üblicherweise in Cyaninfarbstoffen vorliegenden Art, vorzugsweise eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und stärker bevorzugt eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffe tonen wie eine Methylgruppe, Äthylgruppe., Propylgruppe, Isopropylgruppe und dergleichen, oder eine in ähnlicher Weise substituierte Alkylgruppe, wobei Beispiele für die Substltuenten aus Hydroxylgruppen, Carboxygruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Arylgruppen, Alkenylgruppen und dergleichen bestehen, wie z.B. 2-Hydroxyäthylgruppen, 2-Methoxyäthylgruppen, Carboxymethylgruppen, 2-Carboxyäthylgruppen, 3-Carboxypropylgruppen, 3-Carbomethoxyäthylgruppen, Benzylgruppen, Phenetylgruppen, p-Carboxyphenetylgruppen, Vinylmethylgruppen und dergleichen.
ι 3 ü ü 1 9 / 0 8 9 4
Der Rest R2 ^Ώ der Formel "bestellt aus Wasserstoff atomen, einer Alkylgruppe, vorzugsweise einer geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 1 "bis 16 Kohlenstoffatomen und stärker "bevorzugt einer geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 1 "bis 8 Kohlenstoffatomen, -wie einer Methylgruppe, Äthylgruppe, Propylgruppe, Isopropylgruppe, Hexylgruppe, 2-Äthylhexylgruppe und dergleichen, einer ähnlich substituierten Alkylgruppe, wobei Beispiele für Substituenten Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Carboxygruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Arylgruppen, Alkenylgruppen, und dergleichen sind, beispielsweise eine 2-Hydroxyäthylgruppe, 2-Methoxyäthy!gruppe, eine Carboxymethylgruppe, eine 2-Carboxyäthylgruppe, eine 3-Carboxypropylgruppe, eine Carboxymethoxymethylgruppe, eine Carbäthoxyäthylgruppe, eine Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine p-Carboxyphenethylgruppe, eine Vinylmethylgruppe und dergleichen, eine Arylgruppe, beispielsweise eine Phenylgruppe, Uaphthylgruppe und dergleichen oder eine ähnlich substituierte Arylgruppe, wobei Beispiele für die Substituenten Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Carboxygruppen, Halogenatome und dergleichen sind, wie z.B. eine p-Methylphenylgruppe, eine p-Methoxyphenylgruppe, eine p-Carboxyphenylgruppe, eine m-Carboxyphenylgruppe, eine p-Chlorphenylgruppe und dergleichen.
Die Reste T und Z in der !Formel (I) bedeuten jeweils unabhängig ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom.
Die Sensibilisatoren gemäß der vorstehenden Formel (I), wie sie erfindungsgemäß eingesetzt werden, können nach dem Verfahren gemäß L.G.S. Brooker und Mitarbeiter, Journal of American Chemical Society, Bd. 73, Seite 5326, 1951, gemäß R.A. Jeffreys und Mitarbeiter, Journal of the Chemical Society, Seite 4632, 1972, oder gemäß H. Larive und Mitarbeiter, Bull. Soc. Chim. Prance, Seite 14-4-3, 1956, hergestellt werden. Insbesondere können sie durch Umsetzung von Verbindungen der Formeln (II) und Verbindungen der Formel (III) unter
13 0 0 19/0894
"basisches i3sLiiiig^::;g32 lisrgsstsll^ 'wst&'S
3040788
HI)
-worii'i A, IL,. J;„f 2 iiac, Z als gleiches BadeutungeE ΐ/ie ir; der ΡοπβθΙ (I) oesitseii; F:s eine All^ylgrupps oüer eiae substituierte Alkylgruppe« 'ösispieisweise eine ltb.y !gruppe j Vir-ylias thy !gruppe und dergleiolierj unä i Anion; wie 3«B. ete Chlorioa«, Bromioiäf p-5oluolsi"lfoiiat£ös AfhylsulfatioKj SuI£atioE9 Percblora^ion, Tiiiooysnation und dergleichen
Beispiels fär· Sensibilisatoren p
äer Poraiel (I) bSv& nachfolgeni. sugegeteu, ohae daß fii© finduagsgemäS "Dr»i2Gb.Dar©2 Sersi'ailisatoreis auf die
\ ..H-tL-i.
I 3 Q (P f: ' Γ- ?· ?; -
3040783
CH2-CH3
CH3-O
N/ X^N-CH2-CH3 CH9-CH,, °.
CK3 ^C^ ^O
N-CH7-CH
CH,
CH--CH.
1 3 0 D 1 9 / 0 8 9 4
j j* C"V
'5~CH3
CH2-CH3
N. V^N-CH2-CO2-CH2-CH3
I °
CH2-CH3
CH9-CH
CH2-CH3
CH2-CH3 0 019/08 9
Nr. 12
- Al
N-CH2-CH=CH2
CH=CH-
N-H
CH2-CH3
. U
CH7
I
CH=CH
. 15
0>^S
N- ^xN-CH2-CH-CH2
I "
CH7
CH2-CO2H
130019/0894
Hr. 16
0V0
CH2-CH3
CH7-CH.
N-H
CH2-CH3
CH9
M-H
13GÜ19/0334
-AU ~
Nachfolgend werden die durch Licht vernetzbaren, im Rahmen der Erfindung "brauchbaren Polymeren im einzelnen "beschrieben.
Polymere mit durch Licht vernetsbaren ungesättigten Bindungen, die durch die Sensibilisatoren gemäß der Erfindung sensibilisiert werden können, umfassen beispielsweise Polymere mit einer Polymerisationseinheit mit einer daran gebundenen R-CH=CH-CO-Bindungf worin R eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, m-Nitrophenylgruppe und dergleichen oder eine heterocyclische Gruppe bedeifet. Beispiele derartiger Polymerer umfassen die Zimtsäureester wie die Zimtsäureester von Polyvinylalkohol, α-Phenylzimtsäureester, o-Chlorzimtsäureester, m-Hitrozimtsäureester und dergleichen,, di© Zinsäureester der Stärken, die Zimtsäureester der- Cellulose di© Zisitsäureester von
wü-S. δ,ίϋ S.ji;t.sä-tire@st®r von teilweis© vis is fi&a US-Patentschriften
2>01 besclirie"beas die mit y%ls wi@ ia der XJS-Pateutsetoift 2 566 302 tee abziehen ι die durek Esteraustauschreaktioii zw£" --.ehec Polyvinylacetat "and Z-istsärx-aestsE oöer Zimtsäureeeter— JcriTSter? hergestelltem liolit©Topiiadlicli@a Polymeres Ό W2.® in Cor ji'parsisölisi! Ps-feeatVcrSifeatlica-uiäg 7666/64 bescfarieben, fte ß™(2-Puryl)esr5;'leSii,T©est@E! vom Polyvinylalkohole wie in der japanisches PatentverSffentliehuag 6412/69 beschrieben, die durch Eondenssiion von Polymereis ttit einer Chlormethylgruppe an der aliphatischen Seitenkette und Simtsäureestern
olkyliertem
Γ: 670 286, 2 690 96S
130019/0894 BAD ORIGINAL
- XT-
liergesteilten Polyester, wie in der japanischen Patentveaiffentlichung 3220/73 beschrieben, die durch. Homopolymerisation oder Copolymerisation von ß-Cinnamoyloxyäthylmethacrylat, das durch Umsetzung von ß-Hydroxyäthylmethacrylat und Zinteäurechlorid erhalten wurde, hergestellten Polymeren, wie in der japanischen PatentVeröffentlichung 28122/74 beschrieben, die durch Homopolymer isation oder Copolymerisation von ß-(2-Furyl)acryloyloxyät hy lmethacrylat erhaltenen Polymeren, wie in der japanischen Patentveröffentlichungi 1283/75 beschrieben, die Polymeren aus Monomeren, welche durch Zusatz von Zimtsäure oder ß-(2-I1UTyI)acrylsäure zu Glycidylmethacrylat oder GIycidylacrylat und weitere Umsetzung des Additionsproduktes und ZimtsäureChlorid oder ß-(2-Furyl)acrylsäurechlorid erhaltenen Polymeren, wie in der ^panischen Patentveröffentlichung 481/76 beschrieben, sowie die Polymeren aus Monomeren, die durch Zusatz von Zimtsäure oder ß-(2-Furyl)acrylsäure zu Glycidylacrylat oder GIycidylmethacrylat und weitere Addition eines cyclischen Säureanhydrids an das Additionsprodukt erhalten wurden, wie in der japanischen Patentveröffentlichung 482/76 beschrieben.
Beispiele für weitere Polymere mifphotovernetzbaren ungesättigten Bindungen, die durch die Sensibilisatoren gemäß der Erfindung sensibilisiert werden können, umfassen Polyester mit einer Gruppe -CH=CH-CO-, Polyamide und Polycarbonate. Beispiele derartiger Polymerer umfassen lösliche Kondensationsprodukte mit einer über eine Esterbindung an die Hauptpolymer' egeb\indene lichtempfindlichen Gruppe, wie die lichtempfindlichen Polymerester, welche aus p-Phenylend!acrylsäure und einem Diol aufgebaut sind, wie in den US-Patentschriften 3 030 208 und 3 707 373 beschrieben.
Weitere Beispiele für photovernetzbare Materialien, die
130019/089
durch, die Sensibilisatoren gemäß der vorliegenden Erfindung sensibilisiert werden können, sind in der US-Patentschrift 3 929 489 angegeben. Beispiele hierfür umfassen die ungesättigten Polyester mit wiederkehrenden Einheiten entsprechend der Strukturformel
-X-Y-Qm-X-Q'n
worin X eine Carbonylgruppe., η und m Zahlen angehen, deren Summe 1 ist, Q eine Gruppierung der allgemeinen IOrmel
M
darstellt und Q' eine Gruppe der allgemeinen Formel
-SO0-IT-SO9-Y"-2 j 2
angibt, worin jedoch die Gruppe -SO2 an Y gebunden ist und Y"- an H gebunden ist, Y eine dreiwertige aromatische Gruppe, Y1 eine zweiwertige aromatische Gruppe, Y" eine zweiwertige aromatische Gruppe oder Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen und M ein löslichmachendes Kation, beispielsweise ein Alkalimetalle
gleichen bedeuten.
ein Alkalimetallion wie Ka+ und K , ein Ammoniumion und der-
Beispiele für Polymere mit photovernetzbaren Azidgruppen, die durch die Sensibilisatoren gemäß der Erfindung sensibilisiert werden können, umfassen die azidgruppenhaltigen Polymeren, wie sie in der US-Patentschrift 3 096 311 und den japanischen Patentveröffentlichungen 9047/69, 31837/69, 9613/70
13001 9/0894
24915/70 und 25713/70 beschrieben sind.
ItD Rahmen der Erfindung brauchbare lichtempfindliche Azidverbindungen, ausschließlich der vorstehend abgehandelten Polymeren mit lichtvernetzbaren Azidgruppen, umfassen aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an einen aromatischen Ring direkt oder über eine Carbonylgruppe oder eine Sulfonylgruppe gebunden ist. Derartige Verbindungen bilden Hitren bei der Zersetzung der Arzidgruppen nach der Aussetzung an Licht und werden durch die verschiedenen Umsetzungen des Hltrens unlöslich gemacht. Bevorzugte aromatische Azidverbindungen sind Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen, wie z.B. Gruppen aus Azidophenyl, Azidostyryl, Azidobenzal, Azidobenzoyl und Azidocinnamoyl. Pur die Praxis bedeutsame Beispiele sind 4,4'-Diazidochalcon, 4-Azido-4f-(4-azidobenzoyläthoxychalcon, U,H-bis-p-Azidobenzal-pphenylendiamin, 1,2,6-tri(4'-Azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlorbenzochinon, 2,4-Diazido-4'-äthoxyazobenzol, 2,6-di (4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon, 4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-dichlorbenzochinon, 2,5-bls(4-Azidostyryl)-1,3,4-oxadiazol, 2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-di(4'-Azidobenzal)cyclohexanon, 4,4'-Diazidophenylmethan, 1-(4Azidophenyl)-5-furyl-2-penta-2,4-dien-1-on, 1-(4-Azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)penta-1,4-dien-3-on, 1-(4-Azidophenyl)-3-(1-naphthyl)propan-1-on, 1-(4-Azidophenyl) - 3-(4-dimethylaminophenyl)propan-1-on? 1-(4-Azidophenyl)-5-phenyl-1 ^-pentadien^-on, 1-(4-Azidophenyl)-3-(nitropheiayl)-2-propon-1 -on, 1 - (4-Azidophenyl) -3- (2-f uryl )-=2-propen-1 -on 9 1,2?6-tri(4'-Azidobenzoxy)hexan, 2,6-bis(4-AzidobeBz^liäia»ptert.-butyl)cyclohexanon, 4»4'-DiazidodibenzalaeQtoiiy 4»4f~ Diasidostilben-2,2^disulfonsäure, 4'-Azidobenzalacetophenon-2-sulfOEsäure, 4,4'-Diazidostilben-a-carbonsäure, Di(4-azido-2f-hydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure, 4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure1 2-Azido-1,4-dibenzolsulfonylamino-
I 3 0 0 1 9 /Ό 8 9 4
naphthalen, 4f4I-Diazidostill3en-2,2I-disulfonsäureanilid und dergleichen.
Mit einem nach, der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähige Polymere, wie sie erfindungsgemäß verwendet werden, umfassen Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Copolymere hieraus, Polyacrylnitril, Copolymere aus Acrylnitril und Styrol, Tripolymere aus Acrylnitril, Butadien und Styrol, Polyamide, "beispielsweise 6-ITylon, 6,6-Fylon und dergleichen, PoIy(I,3-butadien), Polyisopren,-cyclischer Kautschuk, Phenolharze vom Hovolaktyp, denaturierte Phenolharze vom Fovolaktyp, Homopolymere oder Copolymere aus 2-Hydroxyäthylenmethacrylat oder· -acrylat, Polymere mit einer cis-4-Cyclohexen-1,2-dicarboxylat-Gruppe an der Seitenkette, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copdfymere, Crotonsäure-Vinylacetat-Copolymere, saure Cellulosederivate, Polyvinylpyridin, Xylolharze, Leim, Casein, Gummiarabikum, Ei-Albumin, Pfropfpolymere von Vinylmonomeren auf Polyvinylalkohol, Metacresolharze vom Novolaktyp, Acryloylglycin-Vinylacetat-Copolymere, Styrol-Butadienkautschuk, Epoxyharze, Polyacrylamid, Copolymere aus Acrylamid, Polyurethanharze, Polystyrole und dergleichen.
Ferner können die mit den nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukte der Azido-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren sämtliche mit Mtren reaktionsfähigen Polymeren enthalten, da Mtren hei der Zersetzung der Azid-Gruppen nach der Aussetzung an Licht gebildet wird. Polymere mit einer CH-Bindung oder einer C=C-Bindung werden "bevorzugt, da Bfitren eine Ersetzungsreaktion oder eine Dehydronierung mit der CH-Bindung, eine Addition mit einer Doppelbindung, eine ■Oxidationsaddition mit Phenolen und dergleichen verursacht.
Gemische von Verbindungen mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und mit einem nach der Aussetzung an Licht gebil-
130019/0894
-A3 -
deten Zersetzungsprodukt you Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren, -wie sie erfin&ungsgemäß verwendhar sind, sind "beispielsweise in der ^panischen Patentanmeldung 32923/75 und 32924/75, der japanischen Patentveröffentlichung 10725/75 und 11285/75 und den Spanischen Patent- ΐ anmeldungen 134656/77 und 10648/78 heschriehen. "■.
Das Mischverhältnis der Verhindung mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und einem mit einem nach, der Aussetzung Q-n licht ausgebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen in dem erfindungsgemäß eingesetzten Gemisch liegen vorzugsweise γοη 1 "bis 30 Gew.% für die Azid-Verhindung ■ und 99 his 70 Gew.~$ für daB Polymere.
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung -wird allgemein in einer Weise verwendet, wohei ein Gemisch aus der den lichtempfindlichen Widerstand "bildenden Verbindung, "beispielsweise dem Yernetzharen Polymeren, oder der Yerhindung mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und einem mit einem hei der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren iri einem Lösungsmittel■zusammen mit dem Yorstehenden Sensihilisator und erforderlichenfalls einem Plastifizierer, einem Binder und einem !Farbstoff oder Pigment verwendet wird, und die Lösung auf einen geeigneten Träger nach einem "bekannten Verfahren aufgezogen wird.
Beispiele von "brauchbaren Plastilzierern umfassen Phthalsäureester wie Dime thy Iphthalat, Diäthylphthalat, Dlbutyl·- phthalat, DihexyIphthalat, DichlorhexyIphthalat, Ditridecylphähalat und dergleichen, Glykolester wie Dimethylglykolphthalat, Äthylphthalyläthylglykol, Butylphthalylhutylglykol und dergleichen, Phosphorsäureester wie Tricresylphosphat,
COPY
Triphenylphosphat und dergleichen und aliphatische Ester von zweibasischen Säuren wie Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dibutylsebacat, Dibutylmaleat und dergleichen.
Der Binder kann beispielsweise aus organischen hochmolekularen Polymeren, die in den Überzugslösungsmitteln löslich sind, gewählt werden. Als Beispiele derartiger hoch-molekularer Polymerer seien aufgeführt Polyvinylacetat, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylnitril, Copolymere aus Acrylnitril und Styrol, Interpolymers aus Acrylnitril, Butadiene und Styrol, Polyäthylen, Polypropylen, Polystyrol, Poly-a-methylstyrol, Polyamide (z.B. 6-Bylon, 6,6-Fylon und dergleichen), PoIy(I,3-butadien), Polyisopren, cyclischer Kautschuk, Äthylcellulose, Acetylcellulose, Polyvinylbutyral, Phenolharze vom Novolaktyp, denaturierte Phenolharze vom Hovolaktyp und dergleichen.
Beispiele für Farbstoffe oder Pigmente umfassen beispielsweise Methylen-Blau, Kristall-Violett, Rhodamin B, Fuchsin, Auramin, Azofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Titanoxid, Ruß, Eisenoxid, Phthalocyaninpigmente, Azopigmente und dergleichen.
Die bevorzugten Verhältnisse der Komponenten und der Zusätze auf 100 Gewichtsteile der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Verbindung sind nachfolgend in Gewichtsteilen angegeben.
Bevorzugter Be Besonders bevorreich (Gew.-teile) zugter Bereich (Gew.-teile)
Sensibilisator
Plastifizierer
Binder
Farbstoff oder Pigment
0 ,1 - 100 9/0894 0,1 50
0 1000 0 500
0 5000 0 1000
0 100 0 50
3001
Beispiele für zum Aufziehen der lichtempfindlichen Masse gemäß der Erfindung "brauchbare Lösungsmittel umfassen Ätliylendichlorid, Cyclohexanon, Methyläthylketon, Methylcellusolveacetat, Monochlorbenzol, Toluol, Äthylacetat und dergleichen. Diese Lösungsmittel können allein oder als Gemische verwendet werden.
Im Pail der Herstellung lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten beträgt die Abdeckung der lichtempfindlichen Masse gemäß der Erfindung bezüglich dem Druckplattenvorläufer vorzugsweise 0,1 bis 10,0 g/m und stärker bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m (als Peststoffkomponenten),
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung ist als lichtempfindliche Schicht von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten geeignet. Beispiele für derartige lichtempfindliche lithographische Druckplatten geeignete Träger umfassen Alurainiumplatten, die, um sie hydrophil zu machen, behandelt wurden, beispielsweise Silicat-behandelte Aluminiumplatten, anodisierte Aluminiumplatten, Sand-gekörnte Aluminiumplatten, Silicat-elektroabgeschiedene Aluminiumplatten und dergleichen sowie Zinkplatten, Platten aus rostfreiem Stahl, Chrom-behandelte Eupferplatten und Kunststofffilme oder Papiere, die behandelt wurden, um sie hydrophil zu machen.
Die lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung können auch zur Herstellung von Polien für Photomassen verwendet werden und Beispiele für in diesem Pail verwendete Träger umfassen Polyäthylenterephthalatfolien mit darauf dampfabgeschiedenem Aluminium, Aluminiumlegierungen oder Chrom und Polyäthylenterephthalatfolien mit darauf ausgebildeten gefärbten Schichten.
130019/0894
-*»- 3040719
Gemäß der Erfindung wird somit eine besonders zur Herstellung von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten geeignete lichtempfindliche Masse vorgeschlagen, die aus einem Gemisch eines Sensibilisator und eines durch Licht vernetzbaren Polymeren oder aus einem Gemisch eines Sensibilisator, einer Terbindung unter Einschluß einer lichtempfindlichen Azido-Gruppe und einem mit-einem nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren, sowie einem Sensibilisator entsprechend der Formel (I)
K ö
(D
aufgebaut ist, worin A die zur Bildung eines Stickstoffhaltigen heterocyclischen Ringes notwendigen Nlcht-Metallatomgruppierungen, R^ eine Alkylgruppe· oder eine substituierte Alkylgruppe, R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe und T und Z jeweils ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom bedeuten.
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung kann weiterhin für Photowiderstände verwendet werden, und in diesem Pail können verschiedene Träger wie Eupferplatten, Kupfer-plattierte Platten, rostfreie Stahlplatten, Glasplatten und dergleichen verwendet werden.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele im einzelnen erläutert, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.
130019/0894
Beispiele zur Herstellung von typischen Sensibilisatoren gemäß der Erfindung entsprechend der Formel (I) sind in den folgenden Herstellungsbeispielen 1 his 5 angegehen, wobei selbstverständlich sämtliche Verbindungen (1 bis 20), wie sie vorstehend erläutert sind, gleichfalls nach einem der nachfolgenden Herstellungsbeispiele hergestellt werden können.
Herstellungsbeispiel 1
Herstellung von 3-Äthyl-5-(3-äthyrbenzoxazolyliden)-rhodanln (Sensibilisator ITr. 1)
Ein Gemisch aus 3,0 g 2-Mercaptobenzoxazol und 12,0 g Äthyl-p-toluolsulfonat wurde auf 15O"C zur Umsetzung während 6 Stunden erhitzt. Das Reaktionsprodukt wurde auf 800C abgekühlt, und 25 ml Äthanol wurden hierzu zugegeben, so daß eine Äthanollösung von 2-Äthylmereapto-3-äthylbenzoxazolium-ptoluolsulfonat erhalten wurde.
Nach Zusatz von 4,8 g 2-Äthylrhodanin zu der Lösung wurden 6,0 g Triäthylamin tropfenweise zu der Lösung im Verlauf von 3 Minuten unter Rühren bei Raumtemperatur (etwa 200C) zugesetzt,und anschließend wurde das erhaltene Gemisch während 10 Minuten am Rückfluß erhitzt. Nach der Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten Niederschläge durch filtration gewonnen und aus Äthanol umkristallisiert, wobei 4,0 g 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzoxazolyliden)rhodanin (Schmelzpunkt 165 bis 1660C) gewonnen wurden.
Herstellungsbeispiel 2
Herstellung von 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)-rhodanin (Sensibilisator Nr. 6)
13001 9/0894
Ein Gemisch aus 3,3 g 2-Mercaptobenzothiazol und 10,Og Äthyl-p-toluolsulfonat wurde auf 1500C zur Umsetzung während 6 Stunden erhitzt. Das Reaktionsprodukt wurde auf 800C abgekühlt, und dann wurden 30 ml Äthanol zugesetzt, wodurch eine Äthanollösung von 2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazoliump-t<3uolsulfonat erhalten wurde.
Nach Zusatz von 3,2 g 3-Äthylrhodanin zu der Lösung wurden 6,1 g Eriäthylamin tropfenweise zu der Lösung im Verlauf von 3 Minuten unter Rühren "bei Raumtemperatur (etwa 200C) zugegeben, und anschließend wurde das erhaltene Gemisch 10 Minuten am Rückfluß erhitzt. Each der Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten niederschlage abfiltriert und aus einem Gemisch von Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 4,5 g 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin (Schmelzpunkt 246 bis 2480C) erhalten wurden.
Herstellungsbeispiel 3
Herstellung von 3-Carboäthoxymethyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin (Sensibilisator Hr. 8)
Zu 30 ml einer Äthanollösung von 13,0 g des im Herstellungsbeispiel 2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich 2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazolium-p-to^^olsulfonat, wurden 4,4 g 3-Carboäthoxymethylrhodanin unter Rühren des Gemisches bei Raumtemperatur (etwa 203C) zugesetzt, und 6,1 g Triäthylamin wurden tropfenweise zu der Lösung im Verlauf eines Zeitraumes von 3 Minuten zugegeben, und anschließend wurde das erhaltene Gemisch während 10 Minuten am Rückfluß erhitzt. Nach Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten Niederschläge durch Filtration gewonnen und aus einem Gemisch aus Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 1,1 g 3-Carboxymethyl-5-(3-äthylbenzothia zolyl iden) rhodanin (Schmelzpunkt 250 bis 2520C) erhalten wurden.
130019/0894
Herstellungsbeispiel 4
Herstellung von 3-33enzyl-5-(3-äthyrbenzothlazolyliden)-rhodanin (Sensibilisator Nr. 9)
Zu 30 ml einer Äthanollösung aus 13,Og des im Herst ellungsbeisplel 2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich 2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazolium-p-toluolsulfonat, wurden 4,5 g 3-Benzylrhodanin zugegeben, wobei das Gemisch hei Kaumtemperatur (etwa 2O0C) gerührt wurde, worauf 6,1 g Triäthylamin tropfenweise zu dem Gemisch im Verlauf von 3 Minuten zugesetzt wurde und anschließend das erhaltene Gemisch für 10 Minuten am Rückfluß erhitzt wurde. Nach Abkühlung des Reaktionsgemisches wurde der gebildete Niederschlag durch Filtration gewonnen, und aus einem Gemisch aus Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 4,6 g 3-Benzyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin (Schmelzpunkt 209 bis 2110C) erhalten wurden.
Herstellungsbeispiel 5
Herstellung von 5-(3-Äthylbenzothiazolyliden)1.3-oxazolin-2-thion-4-on (Sensibilisator Nr. 13)
Zu 30 ml einer Äthanollösung aus 13,0 g des im Herstellungsbeispiel 2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich 2-Äthylmercapto-3-äthylbθnzothiazolium-p-toluolsulfonat, wurden 2,3 g 1 ^-Oxazolin^-thion^-on unter Rühren des Gemisches bei Raumtemperatur (etwa 200C) zugegeben, worauf 6,1 g Triäthylamin tropfenweise zu dem Gemisch im Verlauf von 3 Minuten zugesetzt wurden und anschließend das erhaltene Gemisch während 10 Minuten am Rückfluß erhitzt wurde. Nach Abkühlung des Reaktionsgemisches wurde der gebildete Niederschlag abfiltriert und aus Acetonitril umkristallisiert, wobei 2,5 g 5-(3-Äthylbenzothiazolyliden(-1,3-oxazolin-2-thion-4-on (Schmelzpunkt 217 bis 21 SPC) erhalten wurden.
130019/0894
Die weiteren Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.
Beispiel 1
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde hergestellt, indem eine 0,24 mm dicke Aluminiumplatte, deren Oberfläche Sand-gekörnt und anodisiert war, mit einer lichtempfindlichen Lösung der nachfolgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes überzogen und während 2 Minuten "bei 10O0C getrocknet wurde.
Polyester, hergestellt durch Kon- 0,5 g densation von Athyl-p—phenylendiacrylat und einer äquimolaren Menge an 1,4-ß-Hydroxyäthoxycyclohexan
Sensibilisator (siehe Tabelle I) 0,03 g
Dihexylphthalat 0,05 g
Eupferphthalocyanin 0,05 g
Monochlorbenzol 9 g
Äthylendichlorid 6 g
Die Abdeckung hiermit nach der Trocknung betrug 1,2 g/m
Die getrocknete lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde unmittelbar auf einen Ständer gebracht, wobei die lichtempfindliche Schicht nach aufwärts gerichtet war· Ein Papier wurde auf die gesamte Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht gelegt, eine Belastung einheitlich auf die gesamte Oberfläche des Papieres angelegt und die Anordnung während einer Woche bei Raumtemperatur (etwa 150C bis 30PC) stehen gelassen. Anschließend wurde das Papier
130019/0894
entfernt, und der Zustand der lichtempfindlichen Schicht wurde mit dem unbewaffneten Auge untersuoht. Die Ergehnisse sind in der Tabelle I zusammengefaßt. Auch die im Pail der Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-raethyl[1,2-d] naphthothiazolin (BNTZ) erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle I als Vergleichsbeispiel 1 aufgeführt.
Tabelle I
Verträglichkeitstest Sensibilisator
Formel (T)
1 der lichtempfindlichen Druckplatte.
Versuch
Nr.
Nr. 2 der Zustand der lichtempfind
lichen Schicht nach einer Woche
1 Nr. 3 gut
2 Nr. 4 gut
3 Nr. 7 gut
4 Nr. 8 gut
5 Nr. 9 gut
6 Nr. 12 gut
7 Nr. 13 gut
8 Nr. 18 gut
9 Nr. Vergleichs-
versuch 1 BNTZ
gut
10 gut
teilweile kristallisierte
Kristalle
Wenn der Sensibilisator BNTZ im Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, kristallisierte ein Teil des Sensibilisators aus und fiel in der lichtempfindlichen Schicht aus, während bei Anwendung der erfindungsgemäßen SensibLisatoren die Sensibilisatoren nicht kristallisierten und in den lichtempfindlichen Schichten nicht ausfielen, so daß, wie aus Tabelle I ersichtlich, die lichtempfindlichen Schichten gute Oberflächenzustände beibehielten. Der gewünschte Effekt der Erfindung wurde somit erzielt.
3001 9/0894
Beispiel 2
Ein Stufenkeil (Dichte-Differenz der Stufen 0,15, Dichtenstufenzahl O his 15 Stufen) wurde auf eine wie in Beispiel 1 hergestellte lichtempfindliche Druckplatte gegeben, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen Druckplatte während 60 Sekunden bei 250C unter Anwendung eines Düsendruckers (Typ ΗΜν/-69ΙΊ der Oak Seisakusho) wurde die Platte mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung entwickelt.
Entwickler
4-Butyrolacton 1000,0 ml
Triäthanolarain 100,0 ml
Glycerin 100,0 ml
Methylabietat 10,0 ml
hydriertes Holzharz 1,0 g
Benetzungsmittel 9,0 ml
Milchsäure (7C$) 31,0ml
Dann wurde die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend der Bildausbildung, wie aus Tabelle II ersichtlich, als Empfindlichkeit jeder Probe notiert. Je höher die Stufenzahl, desto höher ist die angegebene Empfindlichkeit. Der gleiche Versuch wurde unter Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d !naphthothiazole (MTZ) als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 2) und im Fall der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 3) wiederholt, wobei auch die Ergebnisse dieser Versuche in die Tabelle II aufgenommen wurden.
13 0 019/0894
Tabelle II
Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte Nr. 1 10
Versuch Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des
Nr. Eormel (I) Stufenkeils
Nr. 2 10
11 Nr. 3 11
12 Nr. 4 11
13 Nr. 7 11
14 Nr. 8 . 11
15 Nr. 9 11
16 Nr. 12 11
17 Nr. 13 10
18 Nr. 18 11
19 BNTZ 10
20 ohne 0
Vergleichs
versuch 2
Vergleichs
versuch 3
Wie sich aus Ta helle II ergibt, zeigie sich im Pail der Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung eine sehr hohe Empfindlichkeit im Vergleich zum EaIl der Anwendung keines Sensibilisator, und die Empfindlichkeit im ersteren Fall war die gleiche oder höher als im EaIl der Anwendung von BNTZ.
Beispiel 3
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel 1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes und
Trocknung während 5 Minuten bei 800C hergestellt.
130019/0894
-3ο-
Zimtsäureester von Polyvinylalkohol 0,4 g
Sensibilisator (siehe Tabelle III) 0,03 g
Cyclohexan 10 ml
Toluol 1 ml
Ein Stufenkeil (Dichtedifferenz der c-tufen 0,15, Dichtestufenzahl 0 bis 15 Stufen) wurde auf die lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2 gegeben, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit Cyclohexanon entwickelt. Die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend dem ausgebildeten Bild wird in Tabelle III als Empfindlichkeit jeder Probe angegeben. Auch die Empfindlichkeit im Pail der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 4) ist aus Tabelle III ersichtlich.
Tabelle III Nr. 4 Höchste Stufenzahl des
Stufenkeils
der lichtempfindlichen Druckplatte Nr. 5 9,0
Empfindlichkeit Versuch Sensibilisator
Nr. der Formel (i)
Nr. 6 10,0
21 Nr. 7 8,0
22 Nr. 12 9,0
23 Nr. 13 7,0
24 Nr. 14 7,5
25 ohne 7,0
26 0
27
Vergle ichs-
versuch 4
Wie sich aus Tabelle III ergibt, zeigte sich im Fall der Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung eine sehr hohe Empfindlichkeit im Vergleich zur Anwendung keines Sensilibisators.
130019/0894
Beispiel 4
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel 1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes und Trocknung derselben während 8OPC hergestellt.
2,6-Di(4f-azidobenzal)-4-methyl- 0,4 g
cyclohexanon
Polymeres, hergestellt durch Umsetzung 3,0 g Copolymeren von n-Butylmethacrylat und 2-Hydroxyäthylraetha crylat (Molyerhältnis 6:4) mit Tetrahydrophthalsäureanhydrid
Sensibilisator (siehe Tabelle IY) 0,3 g
Methylcellosolve 60 ml
Cyclohexanon 60 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2 gegeben, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit Cyclohexanon entwickelt. Die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend dem ausgebildeten Bild ist in Tabelle IV angegeben und bezeichnet die Empfindlichkeit der Proben. Der gleiche Test wurde auch im Fall der Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-methyl[i,2-d]naphthothiazolin (BNTZ) als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 5) und der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 6) wiederholt, wobei die Ergebnisse ebenfalls in Tabelle IV enthalten sind.
130019/0894
-32- 3040789 Ur. 4 5,0
Tabelle IV Ur. 5 5,5
lichtempfindlichen Ur. 6 3,5
Druckplatte Ur. 7 4,0
Versuch Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des
Ur. Formel (i) Stufenkeils
Ur. 12 4,0
28 Ur. 13 4,0
Empfindlichkeit der 29 Ur. 14 4,0
30 BUT.Z 2,5
31 ohne 0,5
32
33
34
Vergleichs
versuch 5
Vergleichs
versuch 6
Wie aus der Tabelle IY ersichtlich ist9 zeigten im Fall der Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung diese Stufenzahlen von 3,5 "bis 5,0 des Stufenkeils, d.h. die Empfindlichkeiten sind 2,8 - "bis 5,6-fach höher als im Fall der Anwendung keines Sensibilisators, und sie zeigen auch eine höhere Empfindlichkeit als im Fall der Anwendung von BUIZ.
Beispiel 5
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel 1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes und Trocknung derselben während 2 Minuten bei 10O0C hergestellt.
1 30019/0894
Lichtempfindliche Verbindung, herge- 0,4 g stellt durch Acetalisierung von Polyvinylalkohol mit p-Azidobenzaldehyd
Sensibilisator (siehe Tabelle V) 0,03 g
Dihexylphthalat 0,1 g
Ithylcellosolve 13 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die in dieser Weise hergestellte lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2 gelegt, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden "bei 250C mit Ithylcellosolve entwickelt. Die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend dem ausgebildeten Bild ist in Tabelle V als Empfindlichkeit jeder Probe angegeben. Je höher die Stufenzahl ist, desto höher ist die Empfindlichkeit. Der gleiche Test wurde auch im Pail der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 7) wiederholt, und das Ergebnis ist gleichfalls in Tabelle V enthalten.
Tabelle V
Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte 5 5
Versuch i
Nr.
Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des
Formel I Stufenkeils
6 4
35 Nr. 7 5
36 Nr. 12 5
37 Nr. 13 4
38 Nr. 0
39 Nr.
Vergleichs
versuch 7
ohne
130019/0894
Beispiel 6
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Alurainiumplatte wie in Beispiel 1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines ¥irbelgerätes und Trocknung derselben während 5 Minuten bei 8(K hergestellt.
PoIy[I ^-cyclohex^-en-bis-Coxyäthylen)- 0,5 g p-phenylendiacr7lat-co-3»3f-(natriumlminodisulfonyl)-benzoatJ
Dihexylphthalat 0,1 g
Sensibilisator (siehe Tabelle YI) 0,03 g
Toluol 4 ml
Methylcellosolveacetat 8 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die in dieser ¥eise hergestellte lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 1 aufgebracht,und nach Belichtung der lichtempfindlichen Platte unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit dem in Beispiel 2 verwendeten Entwickler entwickelt. Die höchsten Stufenzahlen des Stufenkeiles entsprechend dem ausgebildeten Bild sind in Tabelle TI als Empfindlichkeit jeder Probe angegeben. Der gleiche Test wurde auch im Pail der Anwendung von 2>Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d]-naphthathiazolin (BNTZ) als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 8) und im Pail der Anwendung 1©ines SensiblLisators (Vergleichsbeispiel 9) wiederholt, wobei die Ergebnisse gleichfalls in Tabelle VI enthalten sind.
1300 19/089-4
-as*-
Nr. 5 Höchste Stufenzahl des
Stufenkeils
Tabelle VI Nr. 6 9,5
Nr. 12 9,5
Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte Nr. 14 9,0
Versuch. Sens iüLisator der I
Nr. Formel I
BNTZ 8,5
40 ohne 8,5
41 0
42
43
Vergleichs-
versuch 8
Vergleichs-
versuch. 9
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen "beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.
130019/0894

Claims (8)

  1. η / η ? Ώ β
    νsy Llcirbeiiipf iiidliGrid Kasssj "bestehencL ana eiaeffi ns cd. feißbs öeaaiDilisauor·? utl eines photoverce r^DE -.rGiymereiiis ciadurcsii gelieüBseioniie'iis daß eier Seusioili vor aui; eir-ö^ TssD-üifitiEg ©atspreoheiaö: 4er Ι;όκεϊ1 -^"'
    , i. die si ^ ^
    stickstoffhaltigen Hinges üotwendigex: liicht-Ketaligrupper; ;:^ eine Älkylgruppe oaer eine suostituierte Alky!gruppef, IU ein Wassersxofia^offij eine Aikylgruppe,·, eine sv'östituisiv Älkylgruppe, eine Äry!gruppe oder eine suDstituierte Arylgruppe und Y und £- jeweils ein Sauerstoffatois oder Schwefel atom
  2. 2. LichteiDpf indiiche Masse nacli Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das photovernetzoare Polymere aus eines;-G-eraisch einer Verbindung n?it einer lichtempfindlichen Azifi·- Gruppe und eineio mit den bei der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetaungsprodukt der Azid-Sruppe reaktionsfähigen Polymeren "bestem;*
  3. 3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem photovernetzharen Polymeren und einem SensiüLisator entsprechend der Formel (I) "besteht.
    130019/0894
  4. 4. !lichtempfindliche Masse na αϊ* Αυε r-r>uch. 1 gekennzeichnet. daß si& ein Gemisch bub &in®T \ mit einer lichtempfindlichen Azxö->G-rttpO&" einew mSt ämjn bei der Aussetzung au Licht gebildeter ^ersatF-uaerep^odt5' der Azid-Gruppen reaktionsfähigem Polymeren uaä einem Seissibilisator entsprechend der Formel {!,< - ..^Ll.-:.
  5. 5c Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 Ms 4-9 dadurch gekennzeichnetf daß der Rest A in der Forme? (I die zur Bildung eines Benzothia^ol-- lip-nhthothSazcl™ Benzoselenazol-j Naphthoselenazol-t Benzoxazol- oder-Faphthoxazol-Ringee als heterocyclischen Riag notwendige liicht-Metallgruppe bedeutet
  6. f.. Linbtempfindliehe Masse nacfe Anspruch 's bis 5S dadurch gekennzeichnet, daß R^ eiva 'Ifcylcrüp'1«'* oier eine substituierte Alkylgrippe mit 1 bis 6 Kohlenstoffetoraen bedeutet«
  7. 7« Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis S9 dadurch gekennzeichnet, daß R2 eine Alkylgruppe oder eine substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 16 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe bedeutet.
  8. 8. Lichtempfindliche Masse nacfe. Anspruch 4f dadurch gekennzeichnet«, daß die Masse 1 bis 30 Gew.^ der Verbindung mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und 99 bis 70 des mit den nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zer setzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren enthält»
    130019/0894 RAD ORIGINAL
DE3040789A 1979-10-29 1980-10-29 Lichtempfindliches Gemisch Expired DE3040789C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13947479A JPS5664335A (en) 1979-10-29 1979-10-29 Photosensitive composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3040789A1 true DE3040789A1 (de) 1981-05-07
DE3040789C2 DE3040789C2 (de) 1986-10-30

Family

ID=15246079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3040789A Expired DE3040789C2 (de) 1979-10-29 1980-10-29 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4356247A (de)
JP (1) JPS5664335A (de)
DE (1) DE3040789C2 (de)
GB (1) GB2064546B (de)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57168942A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Hitachi Ltd Photosensitive polymer composition
JPS5872139A (ja) * 1981-10-26 1983-04-30 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性材料
JPS59160139A (ja) * 1983-03-04 1984-09-10 Hitachi Ltd 感光性重合体組成物
JPS59222833A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Hitachi Chem Co Ltd 感光性組成物
US4636459A (en) * 1985-03-06 1987-01-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable compositions
JP2589558B2 (ja) * 1988-11-11 1997-03-12 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5472823A (en) * 1992-01-20 1995-12-05 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition
US6027849A (en) * 1992-03-23 2000-02-22 Imation Corp. Ablative imageable element
KR100330637B1 (ko) * 1993-12-27 2002-11-30 클래리언트 파이낸스(비브이아이)리미티드 착색감광성수지조성물
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6020093A (en) * 1998-05-13 2000-02-01 Toyo Gosei Kogyo, Ltd. Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions
SK1552000A3 (en) * 1998-06-03 2000-08-14 Kimberly Clark Co Novel photoinitiators and applications therefor
ES2195869T3 (es) 1999-01-19 2003-12-16 Kimberly Clark Co Nuevos colorantes, estabilizantes de colorantes, compuestos de tinta y metodos mejorados para su fabricacion.
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6605406B2 (en) * 2000-04-28 2003-08-12 The Chromaline Corporation Imageable photoresist laminate
US6486227B2 (en) 2000-06-19 2002-11-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Zinc-complex photoinitiators and applications therefor

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522372A1 (de) * 1966-04-29 1969-07-17 Agfa Gevaert Ag Sensibilisierung lichtvernetzbarer Polymerer

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2732301A (en) * 1952-10-15 1956-01-24 Chxcxch
DE1286898B (de) * 1965-11-10 1969-01-09 Kalle Ag Lichtempfindliche Schicht
DE1772867A1 (de) * 1968-07-15 1971-06-16 Agfa Gevaert Ag Sensibilisierung von Schichten aus lichtvernetzbaren Polymeren
GB1359472A (en) * 1970-09-01 1974-07-10 Agfa Gevaert Photographic recording and reproduction of information
US3699025A (en) * 1971-03-18 1972-10-17 Eastman Kodak Co Process for radiation cross-linking utilizing n-heterocyclic compounds with cleavable oxy substituents
FR2135790A5 (en) * 1971-04-29 1972-12-22 Kodak Pathe Rhodanine sensitisers - for polyester based photosensitive compsns
JPS505032A (de) * 1972-12-29 1975-01-20
US4033773A (en) * 1974-08-27 1977-07-05 Horizons Incorporated, A Division Of Horizons Research Incorporated Radiation produced colored photopolymer systems
US4062686A (en) * 1976-04-21 1977-12-13 Eastman Kodak Company Sensitizers for photocrosslinkable polymers
JPS5928326B2 (ja) * 1976-12-02 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4282309A (en) * 1979-01-24 1981-08-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522372A1 (de) * 1966-04-29 1969-07-17 Agfa Gevaert Ag Sensibilisierung lichtvernetzbarer Polymerer

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J. Am.Chem.Soc. 73, S. 5326-5332, 1951 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6310811B2 (de) 1988-03-09
DE3040789C2 (de) 1986-10-30
JPS5664335A (en) 1981-06-01
GB2064546B (en) 1983-08-24
GB2064546A (en) 1981-06-17
US4356247A (en) 1982-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3040789A1 (de) Lichtempfindliche massen
DE2704368C2 (de)
DE2717778C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
EP0256981B1 (de) Titanocene und deren Verwendung
DE3410387C2 (de)
EP0255486B1 (de) Titanocene und deren Verwendung
EP0332044B1 (de) 4,6-Bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und lichtempfindliches Gemisch, das diese Verbindungen enthält
DE2934758C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und Druckplatte mit dem lichtempfindlichen Gemisch
EP0318894B1 (de) Titanocene, deren Verwendung und N-substituierte Pyrrole
EP0401165B1 (de) Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung
DE3517440A1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung
DE2851472A1 (de) Lichtempfindliche massen
DE3822909A1 (de) Photopolymerisierbare zusammensetzung
DE3135399A1 (de) Photoinitiator fuer die photopolymerisation von eineradditionspolymerisation zugaenglichen verbindungen
EP0401166B1 (de) Neue, stickstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung
DE1720245A1 (de) Photopolymerisationsverfahren
DE3726001A1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung
EP0243784B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE3739801C2 (de) Lichtempfindliche Trockenflachdruckplatte
EP0705865A1 (de) Mit Silikonen kompatible Photoinitiatoren und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
DE3719355C2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung
DE2058345A1 (de) Lichtempfindliches polymeres azidgruppenhaltiges Material
DE2230936B2 (de)
EP0272549B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch auf Basis eines Diazoniumsalz-Polykondesationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2450430C3 (de) Lichtempfindliches, farbbildendes Aufzeichnungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: KOHLER, M., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., 8000 MUENCHEN

8110 Request for examination paragraph 44
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: SOLF, A., DR.-ING., 8000 MUENCHEN ZAPF, C., DIPL.-

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee