DE3040789A1 - Lichtempfindliche massen - Google Patents
Lichtempfindliche massenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Massen, insbesondere
lichtempfindliche Massen, welche aus einem Gemisch eines Sensibilisators und eines durch Licht vernetz-,
baren Polymeren oder aus einem Gemisch aus einem Sensibilisator und einer Verbindung unter Einschluß einer lichtempfindlichen
Azid-Gruppe und eines mit einem Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen, das bei der Auaaetzung an Licht
gebildet wird, reaktionsfähigen Polymeren besteht. Die lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung sind besonders
wertvoll für lichtempfindliche Schichten von lichtempfind-
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lichen oder vorsensibilisierten Druckplatten, Photowiderständen und dergleichen.
Auf dem Gebiet der Photographic sind Verfahren "bekannt,
wobei ein Bild in einem strahlungsempfindlichen Material
durch Änderung einiger physikalischer Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht des strahlungsempfindlichen
Materials in den belichteten Teilen wiedergegeben sind. Zu den Materialien wie den die strahlungsempfindlichen, bei derartigen
Verfahren eingesetzten Materialien gehören lichthärtbare Materialien, wie Polymere, welche nach der Aussetzung
an aktinisches Licht unlöslich gemacht oder gehärtet werden. Der Unterschied der physikalischen Eigenschaften zwischen den
belichteten Teilen und den unbelichteten Teilen kann zur Ausbildung der Bilder durch Anwendung von beispielsweise
mechanischem Druck, Wärme, Lösungsmitteln und dergleichen in Abhängigkeit von den speziellen Unterschiedlichkeiten der
physikalischen Eigenschaften ausgenützt werden. Beispielsweise wird bei der Behandlung der Schicht eines bildweise belichteten
durch Strahlung vernetzbaren Materials mit einem Lösungsmittel das ungehärtete Material der unbelichteten Teile der
Schicht entfernt, und es hinterbleibt ein Bild aus dem gehärteten Polymeren. Derartige Verfahren wurden zur Herstellung
von lithographischen Druckplatten, Photowiderständen, gedruckten photographischen Bildern und dergleichen angewandt.
Da jedoch die Empfindlichkeit eines lichtvernetzbaren
Materials relativ niedrig ist, ist es günstig, die Geschwindigkeit der durch Licht unlöslich machenden Reaktion zu erhöhen.
Zu diesem Zweck wurde eine große Anzahl von Verbindungen als Sensibilisatoren vorgeschlagen. Zum Beispiel ist 2-Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d!naphthothiazole
(BNTZ), wie in der US-Patentschrift 2 732 301 beschrieben, als Sensibilisator für lichtempfindliche Massen wertvoll. Das BNTZ besitzt jedoch
den Nachteil, daß es zur Kristallisation in der licht-
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empfindlichen Schicht neigte lasbesonäers wird elss '.
la der lichtempfindliches Schicht ia θχώ@γ Marage ®iii-so
lediglich begrenzten Bereiches assimilierte Selbst isö£ä
eine transparente, lichtempfindliches BlTSZ^onthaltsaac
Schicht anfänglich erhalten werden kann* MMsa sioli_, frlls
das lichtempfindliche Material unter nicht—icisalsn Bedingungen wie bei einer Temperatur höher als Raumtemperatur
beispielsweise höher als 3CfG, und einer !Feuchtigkeit hb'hgr
als 'üblich, beispielsweise höher als 70$ relativer· feuchtigkeit,
aufbewahrt wird, Erist£lle yoü BITS la üer liehterapfiEciliehen
Schicht, so daß die Qualität der lichtempfinölieaeE
Schicht stark verringert wird, Das heißt« die relativer, As=
teile der Moleküle des SensibSlisators nehmen au der Oberfläche
äer lichtempfindlichen Schicht zu, und infolgedessen erfolgt eine Vernetzung der Schicht unzureichend in den tieferen
Teilen. Infolgedessen ist es erwünschtj eiaen Sensibilisator
vorliegen zu haben, der ein© niedrige Geschwindigkeit der durch Licht bewirkten Unlöslichmachungsreaktion besitzt,
und der nicht in der lichtempf indliclieis Schicht während der
Aufbewahrung auskristallisiert.
Die Aufgabe der Erfindung besteht demzufolge in einer stark empfindlichen, lichtempfindlichen Masse, die einen
Sensibilisator enthält, der in der lichtempfindlichen Schicht während der Aufbewahrung nicht auskristallisiert.
Infolge zahlreicher- Untersuchungen im Hinblick auf die
vorstehend beschriebene Ausgabe der Erfindung wurde nuo ein
spezifischer Sensibilisator gefunden, welcher stark dl© Geschwindigkeit
der LichtuKlösliciimachungsreaktioB eines
Licht vernetgfbaren Polymeren oder eia©s Gemisches aus ©i:
Verbindung mit einer lichtempfindliche» Az id-Gruppe unfi eineis
mit einen? nach der Aussetzung au Licht gebildeten Sersetzungsprodukt
der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren erhöhte
und welcher während der Lagerung in der lichtempfindlicheB
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304078g
schicht nicht auskristallisierto
Speziell wird die vorstehend geschilderte Aufgabe der Erfindung durch Anwendung einer lichtempfindlichen Masse
erreicht, welche ein Gemisch aus einem aurch Licht vernetzbaren
Polymeren oder einer Verbindung mit einer lichtempfindlichen Azid-G-ruppe und einem mit ä@m Serse'wzuagsprodukt
der nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigem Polymeren, sowie
einem Sensibilisator entsprechend der Formel
A C=C
VnX Xc—n-r2 (ι)
I !I 2
R, O
daistellt, worin A eine zur Bildung eines heterozyclischen,
stickstoffhaltigen Ringes notwendige ÜTicht-Metallgruppe,,
R1 eine Alkylgruppe oder substituierte Alkylgruppe, R2 ein
Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe
und Σ und Z jeweils ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelstom
bedeuten.
Der erfindungsgemäß zu verwendete Sensibilisator absorbiert grundsätzlich Licht bei etwa 350 bis 400 nm. Die
Lichtquelle des Düsenfcuckers besteht aus einer Metallhalogen idlampe.
Im Rahmen der Beschreibung der Erfinduag im einzelnes
bezeichnet in der allgemeinen Formel (I) di© Angabe A eine Uicht-Metallgruppe von Atomen, welche zur Bildung eines
stickstoffhaltigen heterozyclischen Ringes zusammea mit dem
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Stickstoffatom am Kohlenstoffatom, woran es gebunden ist, dient, wie aus Formel (I) ersichtlich, der üblicherweise in Cyaninfarbstoffen
vorliegenden Art notwendige Nicht-Metallgruppe von Atomen. Bevorzugte Beispiele für derartige ITicht-Metallgruppen
sind Benzothiazole z.B. Benzothiazol selbst, 5-Chlorbenzothiazol, 6-Chlorbenzothiazol, 4-Methylbenzothiazol,
6-Methylbenzothiazol, 5-Phenylbenzothiazol, 6-Methoxybenzothiazol,
4-Äthoxybenzothiazol, 5-Methoxybenzothiazol, 5-Hydroxybenzothiazol,
5,6-Dimethylbenzothiazol, 5>6-Dimethoxybenzothiazol
und dergleichen, vorzugsweise Naphthothiazole, z.B. α-Maphthothiazol, ß-Naphthathiazol und dergleichen, Benzoselenazole,
beispielsweise Benzoselenazol selbst, 5-Chlorbenzoselenazol,
6-Methylbenzoselenazol, 6-Methoxybenzoselenazol
und dergleichen, Naphthoselenazble, beispieleweise oc-Haphthoselenazole, ß-Eaphthoselenazole und dergleichen,
Benzoxazole, z.B. Benzoxazol selbst, 5-Methylbenzoxazol,
5-Methoxybenzoxazol, 5-Phenylbenzoxazol,6-Methoxybenzoxazol,
5,6-Dimethylbenzoxazol und dergleichen sowie Maphthoxazol,
beispielsweise a-jffaphthoxazol, ß-ITaphthoxazol und dergleichen.
Der Rest R1 in der lOrmel (I) ist eine Alkylgruppe der
üblicherweise in Cyaninfarbstoffen vorliegenden Art, vorzugsweise eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe
mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und stärker bevorzugt eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 1 bis 3
Kohlenstoffe tonen wie eine Methylgruppe, Äthylgruppe., Propylgruppe,
Isopropylgruppe und dergleichen, oder eine in ähnlicher
Weise substituierte Alkylgruppe, wobei Beispiele für die Substltuenten aus Hydroxylgruppen, Carboxygruppen, Alkoxycarbonylgruppen,
Arylgruppen, Alkenylgruppen und dergleichen bestehen, wie z.B. 2-Hydroxyäthylgruppen, 2-Methoxyäthylgruppen,
Carboxymethylgruppen, 2-Carboxyäthylgruppen, 3-Carboxypropylgruppen,
3-Carbomethoxyäthylgruppen, Benzylgruppen, Phenetylgruppen,
p-Carboxyphenetylgruppen, Vinylmethylgruppen und dergleichen.
ι 3 ü ü 1 9 / 0 8 9 4
Der Rest R2 ^Ώ der Formel "bestellt aus Wasserstoff atomen,
einer Alkylgruppe, vorzugsweise einer geradkettigen oder verzweigtkettigen
Alkylgruppe mit 1 "bis 16 Kohlenstoffatomen und stärker "bevorzugt einer geradkettigen oder verzweigtkettigen
Alkylgruppe mit 1 "bis 8 Kohlenstoffatomen, -wie einer Methylgruppe, Äthylgruppe, Propylgruppe, Isopropylgruppe,
Hexylgruppe, 2-Äthylhexylgruppe und dergleichen, einer ähnlich substituierten Alkylgruppe, wobei Beispiele
für Substituenten Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Carboxygruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Arylgruppen, Alkenylgruppen,
und dergleichen sind, beispielsweise eine 2-Hydroxyäthylgruppe, 2-Methoxyäthy!gruppe, eine Carboxymethylgruppe, eine
2-Carboxyäthylgruppe, eine 3-Carboxypropylgruppe, eine Carboxymethoxymethylgruppe,
eine Carbäthoxyäthylgruppe, eine
Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine p-Carboxyphenethylgruppe,
eine Vinylmethylgruppe und dergleichen, eine Arylgruppe, beispielsweise eine Phenylgruppe, Uaphthylgruppe und
dergleichen oder eine ähnlich substituierte Arylgruppe, wobei Beispiele für die Substituenten Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen,
Carboxygruppen, Halogenatome und dergleichen sind,
wie z.B. eine p-Methylphenylgruppe, eine p-Methoxyphenylgruppe,
eine p-Carboxyphenylgruppe, eine m-Carboxyphenylgruppe,
eine p-Chlorphenylgruppe und dergleichen.
Die Reste T und Z in der !Formel (I) bedeuten jeweils
unabhängig ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom.
Die Sensibilisatoren gemäß der vorstehenden Formel (I), wie sie erfindungsgemäß eingesetzt werden, können nach dem
Verfahren gemäß L.G.S. Brooker und Mitarbeiter, Journal of
American Chemical Society, Bd. 73, Seite 5326, 1951, gemäß R.A. Jeffreys und Mitarbeiter, Journal of the Chemical Society,
Seite 4632, 1972, oder gemäß H. Larive und Mitarbeiter, Bull. Soc. Chim. Prance, Seite 14-4-3, 1956, hergestellt werden.
Insbesondere können sie durch Umsetzung von Verbindungen der Formeln (II) und Verbindungen der Formel (III) unter
13 0 0 19/0894
"basisches i3sLiiiig^::;g32 lisrgsstsll^ 'wst&'S
3040788
HI)
-worii'i A, IL,. J;„f 2 iiac, Z als gleiches BadeutungeE ΐ/ie ir;
der ΡοπβθΙ (I) oesitseii; F:s eine All^ylgrupps oüer eiae
substituierte Alkylgruppe« 'ösispieisweise eine
ltb.y !gruppe j Vir-ylias thy !gruppe und dergleiolierj unä i
Anion; wie 3«B. ete Chlorioa«, Bromioiäf p-5oluolsi"lfoiiat£ös
AfhylsulfatioKj SuI£atioE9 Percblora^ion, Tiiiooysnation
und dergleichen
Beispiels fär· Sensibilisatoren p
äer Poraiel (I) bSv& nachfolgeni. sugegeteu, ohae daß fii©
finduagsgemäS "Dr»i2Gb.Dar©2 Sersi'ailisatoreis auf die
\ ..H-tL-i.
I 3 Q (P f: ' Γ- ?· ?; -
3040783
CH2-CH3
CH3-O
N/ X^N-CH2-CH3
CH9-CH,, °.
CK3 ^C^ ^O
N-CH7-CH
CH,
CH--CH.
1 3 0 D 1 9 / 0 8 9 4
j j* C"V
'5~CH3
CH2-CH3
N. V^N-CH2-CO2-CH2-CH3
I °
CH2-CH3
CH9-CH
CH2-CH3
CH2-CH3 0 019/08 9
Nr. 12
- Al
N-CH2-CH=CH2
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N-H
CH2-CH3
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CH=CH
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0>^S
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130019/0894
Hr. 16
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CH2-CH3
CH7-CH.
N-H
CH2-CH3
CH9
M-H
13GÜ19/0334
-AU ~
Nachfolgend werden die durch Licht vernetzbaren, im Rahmen der Erfindung "brauchbaren Polymeren im einzelnen
"beschrieben.
Polymere mit durch Licht vernetsbaren ungesättigten Bindungen, die durch die Sensibilisatoren gemäß der Erfindung
sensibilisiert werden können, umfassen beispielsweise Polymere mit einer Polymerisationseinheit mit einer
daran gebundenen R-CH=CH-CO-Bindungf worin R eine substituierte
oder unsubstituierte Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, m-Nitrophenylgruppe
und dergleichen oder eine heterocyclische Gruppe bedeifet. Beispiele derartiger Polymerer umfassen die Zimtsäureester wie die Zimtsäureester von Polyvinylalkohol,
α-Phenylzimtsäureester, o-Chlorzimtsäureester, m-Hitrozimtsäureester
und dergleichen,, di© Zinsäureester der Stärken,
die Zimtsäureester der- Cellulose di© Zisitsäureester von
wü-S. δ,ίϋ S.ji;t.sä-tire@st®r von teilweis©
vis is fi&a US-Patentschriften
2>01 besclirie"beas die mit
y%ls wi@ ia der XJS-Pateutsetoift
2 566 302 tee abziehen ι die durek Esteraustauschreaktioii zw£"
--.ehec Polyvinylacetat "and Z-istsärx-aestsE oöer Zimtsäureeeter—
JcriTSter? hergestelltem liolit©Topiiadlicli@a Polymeres Ό W2.® in
Cor ji'parsisölisi! Ps-feeatVcrSifeatlica-uiäg 7666/64 bescfarieben,
fte ß™(2-Puryl)esr5;'leSii,T©est@E! vom Polyvinylalkohole wie in
der japanisches PatentverSffentliehuag 6412/69 beschrieben,
die durch Eondenssiion von Polymereis ttit einer Chlormethylgruppe
an der aliphatischen Seitenkette und Simtsäureestern
olkyliertem
Γ: 670 286, 2 690 96S
130019/0894 BAD ORIGINAL
- XT-
liergesteilten Polyester, wie in der japanischen Patentveaiffentlichung
3220/73 beschrieben, die durch. Homopolymerisation oder Copolymerisation von ß-Cinnamoyloxyäthylmethacrylat,
das durch Umsetzung von ß-Hydroxyäthylmethacrylat und Zinteäurechlorid erhalten wurde, hergestellten
Polymeren, wie in der japanischen PatentVeröffentlichung
28122/74 beschrieben, die durch Homopolymer isation oder Copolymerisation
von ß-(2-Furyl)acryloyloxyät hy lmethacrylat
erhaltenen Polymeren, wie in der japanischen Patentveröffentlichungi
1283/75 beschrieben, die Polymeren aus Monomeren, welche durch Zusatz von Zimtsäure oder ß-(2-I1UTyI)acrylsäure
zu Glycidylmethacrylat oder GIycidylacrylat und weitere Umsetzung
des Additionsproduktes und ZimtsäureChlorid oder
ß-(2-Furyl)acrylsäurechlorid erhaltenen Polymeren, wie in der ^panischen Patentveröffentlichung 481/76 beschrieben,
sowie die Polymeren aus Monomeren, die durch Zusatz von Zimtsäure oder ß-(2-Furyl)acrylsäure zu Glycidylacrylat oder
GIycidylmethacrylat und weitere Addition eines cyclischen
Säureanhydrids an das Additionsprodukt erhalten wurden, wie in der japanischen Patentveröffentlichung 482/76 beschrieben.
Beispiele für weitere Polymere mifphotovernetzbaren ungesättigten Bindungen, die durch die Sensibilisatoren gemäß
der Erfindung sensibilisiert werden können, umfassen Polyester mit einer Gruppe -CH=CH-CO-, Polyamide und Polycarbonate.
Beispiele derartiger Polymerer umfassen lösliche Kondensationsprodukte
mit einer über eine Esterbindung an die Hauptpolymer' egeb\indene lichtempfindlichen Gruppe, wie die lichtempfindlichen
Polymerester, welche aus p-Phenylend!acrylsäure
und einem Diol aufgebaut sind, wie in den US-Patentschriften 3 030 208 und 3 707 373 beschrieben.
Weitere Beispiele für photovernetzbare Materialien, die
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durch, die Sensibilisatoren gemäß der vorliegenden Erfindung
sensibilisiert werden können, sind in der US-Patentschrift
3 929 489 angegeben. Beispiele hierfür umfassen die ungesättigten Polyester mit wiederkehrenden Einheiten
entsprechend der Strukturformel
-X-Y-Qm-X-Q'n
worin X eine Carbonylgruppe., η und m Zahlen angehen, deren
Summe 1 ist, Q eine Gruppierung der allgemeinen IOrmel
M
darstellt und Q' eine Gruppe der allgemeinen Formel
darstellt und Q' eine Gruppe der allgemeinen Formel
-SO0-IT-SO9-Y"-2
j 2
angibt, worin jedoch die Gruppe -SO2 an Y gebunden ist und
Y"- an H gebunden ist, Y eine dreiwertige aromatische Gruppe, Y1 eine zweiwertige aromatische Gruppe, Y" eine zweiwertige
aromatische Gruppe oder Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen und M ein löslichmachendes Kation, beispielsweise
ein Alkalimetalle
gleichen bedeuten.
gleichen bedeuten.
ein Alkalimetallion wie Ka+ und K , ein Ammoniumion und der-
Beispiele für Polymere mit photovernetzbaren Azidgruppen,
die durch die Sensibilisatoren gemäß der Erfindung sensibilisiert werden können, umfassen die azidgruppenhaltigen Polymeren,
wie sie in der US-Patentschrift 3 096 311 und den japanischen Patentveröffentlichungen 9047/69, 31837/69, 9613/70
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24915/70 und 25713/70 beschrieben sind.
ItD Rahmen der Erfindung brauchbare lichtempfindliche
Azidverbindungen, ausschließlich der vorstehend abgehandelten
Polymeren mit lichtvernetzbaren Azidgruppen, umfassen aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an einen
aromatischen Ring direkt oder über eine Carbonylgruppe
oder eine Sulfonylgruppe gebunden ist. Derartige Verbindungen
bilden Hitren bei der Zersetzung der Arzidgruppen nach der
Aussetzung an Licht und werden durch die verschiedenen Umsetzungen des Hltrens unlöslich gemacht. Bevorzugte aromatische
Azidverbindungen sind Verbindungen mit einer oder mehreren
Gruppen, wie z.B. Gruppen aus Azidophenyl, Azidostyryl, Azidobenzal, Azidobenzoyl und Azidocinnamoyl. Pur die Praxis
bedeutsame Beispiele sind 4,4'-Diazidochalcon, 4-Azido-4f-(4-azidobenzoyläthoxychalcon,
U,H-bis-p-Azidobenzal-pphenylendiamin,
1,2,6-tri(4'-Azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlorbenzochinon,
2,4-Diazido-4'-äthoxyazobenzol, 2,6-di
(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon, 4,4'-Diazidobenzophenon,
2,5-Diazido-3,6-dichlorbenzochinon, 2,5-bls(4-Azidostyryl)-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-di(4'-Azidobenzal)cyclohexanon, 4,4'-Diazidophenylmethan,
1-(4Azidophenyl)-5-furyl-2-penta-2,4-dien-1-on, 1-(4-Azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)penta-1,4-dien-3-on,
1-(4-Azidophenyl)-3-(1-naphthyl)propan-1-on, 1-(4-Azidophenyl) - 3-(4-dimethylaminophenyl)propan-1-on?
1-(4-Azidophenyl)-5-phenyl-1 ^-pentadien^-on, 1-(4-Azidophenyl)-3-(nitropheiayl)-2-propon-1
-on, 1 - (4-Azidophenyl) -3- (2-f uryl )-=2-propen-1 -on 9
1,2?6-tri(4'-Azidobenzoxy)hexan, 2,6-bis(4-AzidobeBz^liäia»ptert.-butyl)cyclohexanon,
4»4'-DiazidodibenzalaeQtoiiy 4»4f~
Diasidostilben-2,2^disulfonsäure, 4'-Azidobenzalacetophenon-2-sulfOEsäure,
4,4'-Diazidostilben-a-carbonsäure, Di(4-azido-2f-hydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure,
4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure1
2-Azido-1,4-dibenzolsulfonylamino-
I 3 0 0 1 9 /Ό 8 9 4
naphthalen, 4f4I-Diazidostill3en-2,2I-disulfonsäureanilid
und dergleichen.
Mit einem nach, der Aussetzung an Licht gebildeten
Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähige Polymere, wie sie erfindungsgemäß verwendet werden, umfassen
Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Copolymere hieraus, Polyacrylnitril, Copolymere aus Acrylnitril und Styrol,
Tripolymere aus Acrylnitril, Butadien und Styrol, Polyamide, "beispielsweise 6-ITylon, 6,6-Fylon und dergleichen, PoIy(I,3-butadien),
Polyisopren,-cyclischer Kautschuk, Phenolharze vom Hovolaktyp, denaturierte Phenolharze vom Fovolaktyp,
Homopolymere oder Copolymere aus 2-Hydroxyäthylenmethacrylat
oder· -acrylat, Polymere mit einer cis-4-Cyclohexen-1,2-dicarboxylat-Gruppe
an der Seitenkette, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copdfymere,
Crotonsäure-Vinylacetat-Copolymere, saure Cellulosederivate, Polyvinylpyridin, Xylolharze, Leim, Casein,
Gummiarabikum, Ei-Albumin, Pfropfpolymere von Vinylmonomeren
auf Polyvinylalkohol, Metacresolharze vom Novolaktyp, Acryloylglycin-Vinylacetat-Copolymere,
Styrol-Butadienkautschuk, Epoxyharze, Polyacrylamid, Copolymere aus Acrylamid, Polyurethanharze,
Polystyrole und dergleichen.
Ferner können die mit den nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukte der Azido-Gruppen reaktionsfähigen
Polymeren sämtliche mit Mtren reaktionsfähigen Polymeren
enthalten, da Mtren hei der Zersetzung der Azid-Gruppen
nach der Aussetzung an Licht gebildet wird. Polymere mit einer CH-Bindung oder einer C=C-Bindung werden "bevorzugt, da
Bfitren eine Ersetzungsreaktion oder eine Dehydronierung mit
der CH-Bindung, eine Addition mit einer Doppelbindung, eine ■Oxidationsaddition mit Phenolen und dergleichen verursacht.
Gemische von Verbindungen mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und mit einem nach der Aussetzung an Licht gebil-
130019/0894
-A3 -
deten Zersetzungsprodukt you Azid-Gruppen reaktionsfähigen
Polymeren, -wie sie erfin&ungsgemäß verwendhar sind,
sind "beispielsweise in der ^panischen Patentanmeldung
32923/75 und 32924/75, der japanischen Patentveröffentlichung
10725/75 und 11285/75 und den Spanischen Patent- ΐ
anmeldungen 134656/77 und 10648/78 heschriehen. "■.
Das Mischverhältnis der Verhindung mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und einem mit einem nach, der Aussetzung
Q-n licht ausgebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen
in dem erfindungsgemäß eingesetzten Gemisch liegen
vorzugsweise γοη 1 "bis 30 Gew.% für die Azid-Verhindung ■
und 99 his 70 Gew.~$ für daB Polymere.
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung -wird
allgemein in einer Weise verwendet, wohei ein Gemisch aus
der den lichtempfindlichen Widerstand "bildenden Verbindung,
"beispielsweise dem Yernetzharen Polymeren, oder der Yerhindung
mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und einem mit
einem hei der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren iri einem
Lösungsmittel■zusammen mit dem Yorstehenden Sensihilisator
und erforderlichenfalls einem Plastifizierer, einem Binder
und einem !Farbstoff oder Pigment verwendet wird, und die Lösung
auf einen geeigneten Träger nach einem "bekannten Verfahren aufgezogen wird.
Beispiele von "brauchbaren Plastilzierern umfassen Phthalsäureester
wie Dime thy Iphthalat, Diäthylphthalat, Dlbutyl·-
phthalat, DihexyIphthalat, DichlorhexyIphthalat, Ditridecylphähalat
und dergleichen, Glykolester wie Dimethylglykolphthalat,
Äthylphthalyläthylglykol, Butylphthalylhutylglykol und dergleichen, Phosphorsäureester wie Tricresylphosphat,
COPY
Triphenylphosphat und dergleichen und aliphatische Ester von zweibasischen Säuren wie Diisobutyladipat, Dioctyladipat,
Dibutylsebacat, Dibutylmaleat und dergleichen.
Der Binder kann beispielsweise aus organischen hochmolekularen Polymeren, die in den Überzugslösungsmitteln
löslich sind, gewählt werden. Als Beispiele derartiger hoch-molekularer Polymerer seien aufgeführt Polyvinylacetat,
Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylnitril,
Copolymere aus Acrylnitril und Styrol, Interpolymers aus Acrylnitril, Butadiene und Styrol, Polyäthylen, Polypropylen,
Polystyrol, Poly-a-methylstyrol, Polyamide (z.B. 6-Bylon,
6,6-Fylon und dergleichen), PoIy(I,3-butadien), Polyisopren,
cyclischer Kautschuk, Äthylcellulose, Acetylcellulose, Polyvinylbutyral, Phenolharze vom Novolaktyp, denaturierte Phenolharze
vom Hovolaktyp und dergleichen.
Beispiele für Farbstoffe oder Pigmente umfassen beispielsweise Methylen-Blau, Kristall-Violett, Rhodamin B,
Fuchsin, Auramin, Azofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Titanoxid, Ruß, Eisenoxid, Phthalocyaninpigmente, Azopigmente
und dergleichen.
Die bevorzugten Verhältnisse der Komponenten und der Zusätze auf 100 Gewichtsteile der den lichtempfindlichen
Widerstand bildenden Verbindung sind nachfolgend in Gewichtsteilen angegeben.
Bevorzugter Be Besonders bevorreich
(Gew.-teile) zugter Bereich (Gew.-teile)
Sensibilisator
Plastifizierer
Binder
Farbstoff oder Pigment
0 | ,1 - 100 | 9/0894 | 0,1 | 50 |
0 | 1000 | 0 | 500 | |
0 | 5000 | 0 | 1000 | |
0 | 100 | 0 | 50 | |
3001 |
Beispiele für zum Aufziehen der lichtempfindlichen
Masse gemäß der Erfindung "brauchbare Lösungsmittel umfassen
Ätliylendichlorid, Cyclohexanon, Methyläthylketon, Methylcellusolveacetat,
Monochlorbenzol, Toluol, Äthylacetat und dergleichen. Diese Lösungsmittel können allein oder als Gemische
verwendet werden.
Im Pail der Herstellung lichtempfindlicher lithographischer
Druckplatten beträgt die Abdeckung der lichtempfindlichen Masse gemäß der Erfindung bezüglich dem
Druckplattenvorläufer vorzugsweise 0,1 bis 10,0 g/m und
stärker bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m (als Peststoffkomponenten),
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung ist als lichtempfindliche Schicht von lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatten geeignet. Beispiele für derartige lichtempfindliche lithographische Druckplatten geeignete
Träger umfassen Alurainiumplatten, die, um sie hydrophil zu
machen, behandelt wurden, beispielsweise Silicat-behandelte
Aluminiumplatten, anodisierte Aluminiumplatten, Sand-gekörnte Aluminiumplatten, Silicat-elektroabgeschiedene Aluminiumplatten und dergleichen sowie Zinkplatten, Platten aus rostfreiem
Stahl, Chrom-behandelte Eupferplatten und Kunststofffilme
oder Papiere, die behandelt wurden, um sie hydrophil zu machen.
Die lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung können auch zur Herstellung von Polien für Photomassen verwendet
werden und Beispiele für in diesem Pail verwendete Träger umfassen Polyäthylenterephthalatfolien mit darauf
dampfabgeschiedenem Aluminium, Aluminiumlegierungen oder
Chrom und Polyäthylenterephthalatfolien mit darauf ausgebildeten gefärbten Schichten.
130019/0894
-*»- 3040719
Gemäß der Erfindung wird somit eine besonders zur Herstellung von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten
geeignete lichtempfindliche Masse vorgeschlagen, die aus einem Gemisch eines Sensibilisator und eines durch
Licht vernetzbaren Polymeren oder aus einem Gemisch eines Sensibilisator, einer Terbindung unter Einschluß einer
lichtempfindlichen Azido-Gruppe und einem mit-einem nach
der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren, sowie einem Sensibilisator
entsprechend der Formel (I)
K ö
(D
aufgebaut ist, worin A die zur Bildung eines Stickstoffhaltigen heterocyclischen Ringes notwendigen Nlcht-Metallatomgruppierungen,
R^ eine Alkylgruppe· oder eine substituierte Alkylgruppe, R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine
substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte
Arylgruppe und T und Z jeweils ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom bedeuten.
Die lichtempfindliche Masse gemäß der Erfindung kann
weiterhin für Photowiderstände verwendet werden, und in diesem Pail können verschiedene Träger wie Eupferplatten,
Kupfer-plattierte Platten, rostfreie Stahlplatten, Glasplatten
und dergleichen verwendet werden.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele im einzelnen erläutert, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt
ist.
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Beispiele zur Herstellung von typischen Sensibilisatoren gemäß der Erfindung entsprechend der Formel (I)
sind in den folgenden Herstellungsbeispielen 1 his 5 angegehen, wobei selbstverständlich sämtliche Verbindungen
(1 bis 20), wie sie vorstehend erläutert sind, gleichfalls nach einem der nachfolgenden Herstellungsbeispiele
hergestellt werden können.
Herstellung von 3-Äthyl-5-(3-äthyrbenzoxazolyliden)-rhodanln (Sensibilisator ITr. 1)
Ein Gemisch aus 3,0 g 2-Mercaptobenzoxazol und 12,0 g
Äthyl-p-toluolsulfonat wurde auf 15O"C zur Umsetzung während
6 Stunden erhitzt. Das Reaktionsprodukt wurde auf 800C abgekühlt,
und 25 ml Äthanol wurden hierzu zugegeben, so daß eine Äthanollösung von 2-Äthylmereapto-3-äthylbenzoxazolium-ptoluolsulfonat
erhalten wurde.
Nach Zusatz von 4,8 g 2-Äthylrhodanin zu der Lösung
wurden 6,0 g Triäthylamin tropfenweise zu der Lösung im Verlauf
von 3 Minuten unter Rühren bei Raumtemperatur (etwa 200C)
zugesetzt,und anschließend wurde das erhaltene Gemisch während
10 Minuten am Rückfluß erhitzt. Nach der Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten Niederschläge durch
filtration gewonnen und aus Äthanol umkristallisiert, wobei 4,0 g 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzoxazolyliden)rhodanin (Schmelzpunkt
165 bis 1660C) gewonnen wurden.
Herstellung von 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)-rhodanin (Sensibilisator Nr. 6)
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Ein Gemisch aus 3,3 g 2-Mercaptobenzothiazol und 10,Og
Äthyl-p-toluolsulfonat wurde auf 1500C zur Umsetzung während
6 Stunden erhitzt. Das Reaktionsprodukt wurde auf 800C abgekühlt,
und dann wurden 30 ml Äthanol zugesetzt, wodurch eine Äthanollösung von 2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazoliump-t<3uolsulfonat
erhalten wurde.
Nach Zusatz von 3,2 g 3-Äthylrhodanin zu der Lösung
wurden 6,1 g Eriäthylamin tropfenweise zu der Lösung im Verlauf
von 3 Minuten unter Rühren "bei Raumtemperatur (etwa 200C)
zugegeben, und anschließend wurde das erhaltene Gemisch 10 Minuten am Rückfluß erhitzt. Each der Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten niederschlage abfiltriert
und aus einem Gemisch von Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 4,5 g 3-Äthyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin
(Schmelzpunkt 246 bis 2480C) erhalten wurden.
Herstellung von 3-Carboäthoxymethyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin (Sensibilisator Hr. 8)
Zu 30 ml einer Äthanollösung von 13,0 g des im Herstellungsbeispiel
2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich 2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazolium-p-to^^olsulfonat,
wurden 4,4 g 3-Carboäthoxymethylrhodanin unter Rühren des
Gemisches bei Raumtemperatur (etwa 203C) zugesetzt, und
6,1 g Triäthylamin wurden tropfenweise zu der Lösung im
Verlauf eines Zeitraumes von 3 Minuten zugegeben, und anschließend wurde das erhaltene Gemisch während 10 Minuten
am Rückfluß erhitzt. Nach Abkühlung des Reaktionsgemisches wurden die gebildeten Niederschläge durch Filtration gewonnen
und aus einem Gemisch aus Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 1,1 g 3-Carboxymethyl-5-(3-äthylbenzothia
zolyl iden) rhodanin (Schmelzpunkt 250 bis 2520C) erhalten
wurden.
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Herstellung von 3-33enzyl-5-(3-äthyrbenzothlazolyliden)-rhodanin (Sensibilisator Nr. 9)
Zu 30 ml einer Äthanollösung aus 13,Og des im Herst
ellungsbeisplel 2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich
2-Äthylmercapto-3-äthylbenzothiazolium-p-toluolsulfonat,
wurden 4,5 g 3-Benzylrhodanin zugegeben, wobei das Gemisch
hei Kaumtemperatur (etwa 2O0C) gerührt wurde, worauf 6,1 g
Triäthylamin tropfenweise zu dem Gemisch im Verlauf von 3 Minuten zugesetzt wurde und anschließend das erhaltene
Gemisch für 10 Minuten am Rückfluß erhitzt wurde. Nach Abkühlung des Reaktionsgemisches wurde der gebildete Niederschlag
durch Filtration gewonnen, und aus einem Gemisch aus Chloroform und Äthanol umkristallisiert, wobei 4,6 g
3-Benzyl-5-(3-äthylbenzothiazolyliden)rhodanin (Schmelzpunkt 209 bis 2110C) erhalten wurden.
Herstellung von 5-(3-Äthylbenzothiazolyliden)1.3-oxazolin-2-thion-4-on (Sensibilisator Nr. 13)
Zu 30 ml einer Äthanollösung aus 13,0 g des im Herstellungsbeispiel
2 erhaltenen Zwischenproduktes, nämlich 2-Äthylmercapto-3-äthylbθnzothiazolium-p-toluolsulfonat,
wurden 2,3 g 1 ^-Oxazolin^-thion^-on unter Rühren des Gemisches
bei Raumtemperatur (etwa 200C) zugegeben, worauf 6,1 g Triäthylamin tropfenweise zu dem Gemisch im Verlauf von 3 Minuten
zugesetzt wurden und anschließend das erhaltene Gemisch während 10 Minuten am Rückfluß erhitzt wurde. Nach
Abkühlung des Reaktionsgemisches wurde der gebildete Niederschlag abfiltriert und aus Acetonitril umkristallisiert, wobei
2,5 g 5-(3-Äthylbenzothiazolyliden(-1,3-oxazolin-2-thion-4-on (Schmelzpunkt 217 bis 21 SPC) erhalten wurden.
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Die weiteren Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung
der Erfindung.
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte
wurde hergestellt, indem eine 0,24 mm dicke Aluminiumplatte,
deren Oberfläche Sand-gekörnt und anodisiert war, mit einer lichtempfindlichen Lösung der nachfolgenden
Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes überzogen und während 2 Minuten "bei 10O0C getrocknet wurde.
Polyester, hergestellt durch Kon- 0,5 g densation von Athyl-p—phenylendiacrylat
und einer äquimolaren Menge an 1,4-ß-Hydroxyäthoxycyclohexan
Sensibilisator (siehe Tabelle I) 0,03 g
Dihexylphthalat 0,05 g
Eupferphthalocyanin 0,05 g
Monochlorbenzol 9 g
Äthylendichlorid 6 g
Die Abdeckung hiermit nach der Trocknung betrug 1,2 g/m
Die getrocknete lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde unmittelbar auf einen Ständer gebracht,
wobei die lichtempfindliche Schicht nach aufwärts gerichtet war· Ein Papier wurde auf die gesamte Oberfläche der lichtempfindlichen
Schicht gelegt, eine Belastung einheitlich auf die gesamte Oberfläche des Papieres angelegt und die
Anordnung während einer Woche bei Raumtemperatur (etwa 150C
bis 30PC) stehen gelassen. Anschließend wurde das Papier
130019/0894
entfernt, und der Zustand der lichtempfindlichen Schicht
wurde mit dem unbewaffneten Auge untersuoht. Die Ergehnisse
sind in der Tabelle I zusammengefaßt. Auch die im Pail der Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-raethyl[1,2-d]
naphthothiazolin (BNTZ) erhaltenen Ergebnisse sind in
Tabelle I als Vergleichsbeispiel 1 aufgeführt.
Verträglichkeitstest | Sensibilisator Formel (T) |
1 | der lichtempfindlichen Druckplatte. |
Versuch Nr. |
Nr. | 2 | der Zustand der lichtempfind lichen Schicht nach einer Woche |
1 | Nr. | 3 | gut |
2 | Nr. | 4 | gut |
3 | Nr. | 7 | gut |
4 | Nr. | 8 | gut |
5 | Nr. | 9 | gut |
6 | Nr. | 12 | gut |
7 | Nr. | 13 | gut |
8 | Nr. | 18 | gut |
9 | Nr. | Vergleichs- versuch 1 BNTZ |
gut |
10 | gut | ||
teilweile kristallisierte Kristalle |
Wenn der Sensibilisator BNTZ im Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, kristallisierte ein Teil des Sensibilisators
aus und fiel in der lichtempfindlichen Schicht aus, während bei Anwendung der erfindungsgemäßen SensibLisatoren
die Sensibilisatoren nicht kristallisierten und in den lichtempfindlichen Schichten nicht ausfielen, so daß, wie aus
Tabelle I ersichtlich, die lichtempfindlichen Schichten gute Oberflächenzustände beibehielten. Der gewünschte Effekt
der Erfindung wurde somit erzielt.
3001 9/0894
Ein Stufenkeil (Dichte-Differenz der Stufen 0,15, Dichtenstufenzahl O his 15 Stufen) wurde auf eine wie
in Beispiel 1 hergestellte lichtempfindliche Druckplatte
gegeben, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen
Druckplatte während 60 Sekunden bei 250C unter Anwendung
eines Düsendruckers (Typ ΗΜν/-69ΙΊ der Oak Seisakusho) wurde
die Platte mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung entwickelt.
4-Butyrolacton 1000,0 ml
Triäthanolarain 100,0 ml
Glycerin 100,0 ml
Methylabietat 10,0 ml
hydriertes Holzharz 1,0 g
Benetzungsmittel 9,0 ml
Milchsäure (7C$) 31,0ml
Dann wurde die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend der Bildausbildung, wie aus Tabelle II ersichtlich,
als Empfindlichkeit jeder Probe notiert. Je höher die Stufenzahl, desto höher ist die angegebene Empfindlichkeit.
Der gleiche Versuch wurde unter Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d !naphthothiazole (MTZ)
als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 2) und im Fall der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 3)
wiederholt, wobei auch die Ergebnisse dieser Versuche in die Tabelle II aufgenommen wurden.
13 0 019/0894
Empfindlichkeit der lichtempfindlichen | Druckplatte | Nr. 1 | 10 |
Versuch Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des Nr. Eormel (I) Stufenkeils |
Nr. 2 | 10 | |
11 | Nr. 3 | 11 | |
12 | Nr. 4 | 11 | |
13 | Nr. 7 | 11 | |
14 | Nr. 8 . | 11 | |
15 | Nr. 9 | 11 | |
16 | Nr. 12 | 11 | |
17 | Nr. 13 | 10 | |
18 | Nr. 18 | 11 | |
19 | BNTZ | 10 | |
20 | ohne | 0 | |
Vergleichs versuch 2 |
|||
Vergleichs versuch 3 |
Wie sich aus Ta helle II ergibt, zeigie sich im Pail der
Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung eine sehr hohe Empfindlichkeit im Vergleich zum EaIl der Anwendung
keines Sensibilisator, und die Empfindlichkeit
im ersteren Fall war die gleiche oder höher als im EaIl
der Anwendung von BNTZ.
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel 1
mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung
unter Anwendung eines Wirbelgerätes und
Trocknung während 5 Minuten bei 800C hergestellt.
Trocknung während 5 Minuten bei 800C hergestellt.
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-3ο-
Zimtsäureester von Polyvinylalkohol 0,4 g
Sensibilisator (siehe Tabelle III) 0,03 g
Cyclohexan 10 ml
Toluol 1 ml
Ein Stufenkeil (Dichtedifferenz der c-tufen 0,15,
Dichtestufenzahl 0 bis 15 Stufen) wurde auf die lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2 gegeben, und
nach der Belichtung der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes
wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit Cyclohexanon entwickelt. Die höchste Stufenzahl des Stufenkeils
entsprechend dem ausgebildeten Bild wird in Tabelle III als Empfindlichkeit jeder Probe angegeben. Auch die Empfindlichkeit
im Pail der Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel
4) ist aus Tabelle III ersichtlich.
Tabelle III | Nr. | 4 | Höchste Stufenzahl des Stufenkeils |
|
der lichtempfindlichen Druckplatte | Nr. | 5 | 9,0 | |
Empfindlichkeit | Versuch Sensibilisator Nr. der Formel (i) |
Nr. | 6 | 10,0 |
21 | Nr. | 7 | 8,0 | |
22 | Nr. | 12 | 9,0 | |
23 | Nr. | 13 | 7,0 | |
24 | Nr. | 14 | 7,5 | |
25 | ohne | 7,0 | ||
26 | 0 | |||
27 | ||||
Vergle ichs- versuch 4 |
Wie sich aus Tabelle III ergibt, zeigte sich im Fall der Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung eine
sehr hohe Empfindlichkeit im Vergleich zur Anwendung keines Sensilibisators.
130019/0894
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte
wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel 1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden
Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes und Trocknung derselben während 8OPC hergestellt.
2,6-Di(4f-azidobenzal)-4-methyl- 0,4 g
cyclohexanon
Polymeres, hergestellt durch Umsetzung 3,0 g Copolymeren von n-Butylmethacrylat und
2-Hydroxyäthylraetha crylat (Molyerhältnis
6:4) mit Tetrahydrophthalsäureanhydrid
Sensibilisator (siehe Tabelle IY) 0,3 g
Methylcellosolve 60 ml
Cyclohexanon 60 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2 gegeben, und nach der Belichtung
der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter
Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit Cyclohexanon entwickelt.
Die höchste Stufenzahl des Stufenkeils entsprechend dem ausgebildeten Bild ist in Tabelle IV angegeben
und bezeichnet die Empfindlichkeit der Proben. Der gleiche Test wurde auch im Fall der Anwendung von 2-Benzoylmethylen-3-methyl[i,2-d]naphthothiazolin
(BNTZ) als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 5) und der Anwendung keines Sensibilisators
(Vergleichsbeispiel 6) wiederholt, wobei die Ergebnisse
ebenfalls in Tabelle IV enthalten sind.
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-32- | 3040789 | Ur. | 4 | 5,0 | |
Tabelle IV | Ur. | 5 | 5,5 | ||
lichtempfindlichen | Ur. | 6 | 3,5 | ||
Druckplatte | Ur. | 7 | 4,0 | ||
Versuch Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des Ur. Formel (i) Stufenkeils |
Ur. | 12 | 4,0 | ||
28 | Ur. | 13 | 4,0 | ||
Empfindlichkeit der | 29 | Ur. | 14 | 4,0 | |
30 | BUT.Z | 2,5 | |||
31 | ohne | 0,5 | |||
32 | |||||
33 | |||||
34 | |||||
Vergleichs versuch 5 |
|||||
Vergleichs versuch 6 |
Wie aus der Tabelle IY ersichtlich ist9 zeigten im
Fall der Anwendung der Sensibilisatoren gemäß der Erfindung
diese Stufenzahlen von 3,5 "bis 5,0 des Stufenkeils, d.h. die Empfindlichkeiten sind 2,8 - "bis 5,6-fach höher
als im Fall der Anwendung keines Sensibilisators, und sie
zeigen auch eine höhere Empfindlichkeit als im Fall der
Anwendung von BUIZ.
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch Überziehen der Aluminiumplatte wie in Beispiel
1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung unter Anwendung eines Wirbelgerätes
und Trocknung derselben während 2 Minuten bei 10O0C hergestellt.
1 30019/0894
Lichtempfindliche Verbindung, herge- 0,4 g
stellt durch Acetalisierung von Polyvinylalkohol
mit p-Azidobenzaldehyd
Sensibilisator (siehe Tabelle V) 0,03 g
Dihexylphthalat 0,1 g
Ithylcellosolve 13 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die in dieser Weise hergestellte lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 2
gelegt, und nach der Belichtung der lichtempfindlichen Platte während 120 Sekunden unter Anwendung des vorstehenden
Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden
"bei 250C mit Ithylcellosolve entwickelt. Die höchste Stufenzahl
des Stufenkeils entsprechend dem ausgebildeten Bild ist in Tabelle V als Empfindlichkeit jeder Probe angegeben.
Je höher die Stufenzahl ist, desto höher ist die Empfindlichkeit. Der gleiche Test wurde auch im Pail der
Anwendung keines Sensibilisators (Vergleichsbeispiel 7) wiederholt, und das Ergebnis ist gleichfalls in Tabelle V
enthalten.
Empfindlichkeit der | lichtempfindlichen | Druckplatte | 5 | 5 |
Versuch i Nr. |
Sensibilisator der Höchste Stufenzahl des Formel I Stufenkeils |
6 | 4 | |
35 | Nr. | 7 | 5 | |
36 | Nr. | 12 | 5 | |
37 | Nr. | 13 | 4 | |
38 | Nr. | 0 | ||
39 | Nr. | |||
Vergleichs versuch 7 |
ohne |
130019/0894
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte
wurde durch Überziehen der Alurainiumplatte wie in Beispiel
1 mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden
Zusammensetzung unter Anwendung eines ¥irbelgerätes und Trocknung derselben während 5 Minuten bei 8(K hergestellt.
PoIy[I ^-cyclohex^-en-bis-Coxyäthylen)- 0,5 g
p-phenylendiacr7lat-co-3»3f-(natriumlminodisulfonyl)-benzoatJ
Dihexylphthalat 0,1 g
Sensibilisator (siehe Tabelle YI) 0,03 g
Toluol 4 ml
Methylcellosolveacetat 8 ml
Ein Stufenkeil wurde auf die in dieser ¥eise hergestellte lichtempfindliche Druckplatte wie in Beispiel 1
aufgebracht,und nach Belichtung der lichtempfindlichen
Platte unter Anwendung des vorstehenden Düsendruckgerätes wurde die Platte während 60 Sekunden bei 250C mit dem in
Beispiel 2 verwendeten Entwickler entwickelt. Die höchsten Stufenzahlen des Stufenkeiles entsprechend dem ausgebildeten
Bild sind in Tabelle TI als Empfindlichkeit jeder Probe
angegeben. Der gleiche Test wurde auch im Pail der Anwendung von 2>Benzoylmethylen-3-methyl[1,2-d]-naphthathiazolin
(BNTZ) als Sensibilisator (Vergleichsbeispiel 8) und im Pail der Anwendung 1©ines SensiblLisators (Vergleichsbeispiel
9) wiederholt, wobei die Ergebnisse gleichfalls in Tabelle VI enthalten sind.
1300 19/089-4
-as*-
Nr. 5 | Höchste Stufenzahl des Stufenkeils |
|
Tabelle VI | Nr. 6 | 9,5 |
Nr. 12 | 9,5 | |
Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte | Nr. 14 | 9,0 |
Versuch. Sens iüLisator der I Nr. Formel I |
BNTZ | 8,5 |
40 | ohne | 8,5 |
41 | 0 | |
42 | ||
43 | ||
Vergleichs- versuch 8 |
||
Vergleichs- versuch. 9 |
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter
Ausführungsformen "beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.
130019/0894
Claims (8)
- η / η ? Ώ βνsy Llcirbeiiipf iiidliGrid Kasssj "bestehencL ana eiaeffi ns cd. feißbs öeaaiDilisauor·? utl eines photoverce r^DE -.rGiymereiiis ciadurcsii gelieüBseioniie'iis daß eier Seusioili vor aui; eir-ö^ TssD-üifitiEg ©atspreoheiaö: 4er Ι;όκεϊ1 -^"', i. die si ^ ^stickstoffhaltigen Hinges üotwendigex: liicht-Ketaligrupper; ;:^ eine Älkylgruppe oaer eine suostituierte Alky!gruppef, IU ein Wassersxofia^offij eine Aikylgruppe,·, eine sv'östituisiv Älkylgruppe, eine Äry!gruppe oder eine suDstituierte Arylgruppe und Y und £- jeweils ein Sauerstoffatois oder Schwefel atom
- 2. LichteiDpf indiiche Masse nacli Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das photovernetzoare Polymere aus eines;-G-eraisch einer Verbindung n?it einer lichtempfindlichen Azifi·- Gruppe und eineio mit den bei der Aussetzung an Licht gebildeten Zersetaungsprodukt der Azid-Sruppe reaktionsfähigen Polymeren "bestem;*
- 3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem photovernetzharen Polymeren und einem SensiüLisator entsprechend der Formel (I) "besteht.130019/0894
- 4. !lichtempfindliche Masse na αϊ* Αυε r-r>uch. 1 gekennzeichnet. daß si& ein Gemisch bub &in®T \ mit einer lichtempfindlichen Azxö->G-rttpO&" einew mSt ämjn bei der Aussetzung au Licht gebildeter ^ersatF-uaerep^odt5' der Azid-Gruppen reaktionsfähigem Polymeren uaä einem Seissibilisator entsprechend der Formel {!,< - ..^Ll.-:.
- 5c Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 Ms 4-9 dadurch gekennzeichnetf daß der Rest A in der Forme? (I die zur Bildung eines Benzothia^ol-- lip-nhthothSazcl™ Benzoselenazol-j Naphthoselenazol-t Benzoxazol- oder-Faphthoxazol-Ringee als heterocyclischen Riag notwendige liicht-Metallgruppe bedeutet
- f.. Linbtempfindliehe Masse nacfe Anspruch 's bis 5S dadurch gekennzeichnet, daß R^ eiva 'Ifcylcrüp'1«'* oier eine substituierte Alkylgrippe mit 1 bis 6 Kohlenstoffetoraen bedeutet«
- 7« Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis S9 dadurch gekennzeichnet, daß R2 eine Alkylgruppe oder eine substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 16 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe bedeutet.
- 8. Lichtempfindliche Masse nacfe. Anspruch 4f dadurch gekennzeichnet«, daß die Masse 1 bis 30 Gew.^ der Verbindung mit einer lichtempfindlichen Azid-Gruppe und 99 bis 70 des mit den nach der Aussetzung an Licht gebildeten Zer setzungsprodukt der Azid-Gruppen reaktionsfähigen Polymeren enthält»130019/0894 RAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13947479A JPS5664335A (en) | 1979-10-29 | 1979-10-29 | Photosensitive composition |
Publications (2)
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