DE3152131A1 - Vacuum arc plasma device - Google Patents
Vacuum arc plasma deviceInfo
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Description
1. Ivan Ivanovich AXENOV, Kharkov
2. Viktor Grigorievich BREN, Kharkov
3. Valentin Glebpvich PAÜALkA, Kharkov
4. Leonid Pavlovich SABLEV, Kharkov
5. Rimma Ivanovna STUPAK, Kharkov
6. Vladimir Maximovich KHOROSHIKH, Kharkov
UdSSR
Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage
Die Erfindung bezieht sich auf Vaküüm-Lichtbogeh^
Plasmaanlagen der im Patentanspruch 1 angegebenen Gattung
und kann zum Auftragen von Metallüberzügen, zum
Reinigen und Ätzen der Oberfläche von Erzeugnissen sowie
zum Zerstäuben von Getterstoff verwendet werden.
Durch Metallaufdampfen im Vakuum werden Rostschutzüberzüge,
Gleitbeläge sowie verschleißfeste, hitzebeständige, supraleitende, optische und sonstige
über züge erzeugt. Solche überzüge können im Vakuum
durch eine ElektrOnenstrahleinrichtung erzeugt werden, bei der ein Elektronenstrahl das Metall aus
Schmelztiegeln verdampft * Bei Verwendung von Schmelztiegeln ist es jedoch nicht möglich, Überzüge aus
hochschmelzenden Metallen zu erzeugen und die überzüge werden durch den Tiegelwerkstoff yerschmutzt.
530-(PM 86,838-E-61)-Sd-E
Reine überzüge aus beliebigen, einschließlich der hqchschmelzenden, Metallen können mit einer Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage erzeugt werden. In einer derartigen Anlage wird bei der Verdampfung einer
selbstverzehrenden Kathode durch Bogenentladung ein stark ionisierter Plasmastrahl aus dem verdampfenden
Metall mit hoher Energie und Teilchenkonzentration erzeugt, welcher bei der Kondensation einen überzug
bildet. Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlagen bilden einen divergierenden Plasmastrom aus dem verdampfenden Stoff, wobei allerdings der Wirkungsgrad des
Plasmastromes zum Auftragen von überzügen gering ist.
Es ist daher erforderlich, zur effektiven Erzeugung von überzügen den Plasmastrahl· des verdampfenden Werkstoffes
zu fokussieren.
Es ist eine Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage bekannt (SU-Erfinderschein 416789), welche eine selbstverzehrende
Kathode, eine zu dieser koaxial angeordnete Anode sowie eine Zündelektrode enthält. Mittels
der Zündelektrode wird eine Bogenentladung zwischen der selbstverzehrenden Kathode und der Anode erzeugt.
Die selbstverzehrende Kathode erzeugt einen breit divergierenden Meta^plasmastrahl, wobei aber die Effektivität
des verdampfenden Werkstoffes zur Erzeugung von überzügen gering ist. Somit ist es unzweckmäßig,
diese Anlage zur Vakuummetallisierung zu verwenden.
Es ist ein Metall-Plasmaimpulsgenerator aus A.S.
Jilmour, D.L. Loehwood "Pulsed metallic-plasma generators", Proc. JEEE, 60, 8, 977, 1972 bekannt, welcher
eine selbstverzehrende Kathode, ein koaxial zur
Kathode angeordnetes Solenoid mit einer Anode sowie
eine Zündelektrode enthält. Die Zündelektrode umfaßt
die Kathode und ist von dieser durch einen Isolator
getrennt. Das Zünden einer Bogenentladung wird durch
einen Stromimpuls durchgeführt, unter dessen Einwirkung
die an der Oberfläche des Isolators befindliche Leitschicht verdampft. Die Schicht regeneriert während des Brennens der Bogenentladung. Der durch die
Kathode erzeugte Metallplasmastrahl wird durch das axial symmetrische Magnetfeld des Solenoids fokussiert
und nimmt ein engeres Richtdiagramm an. Die Nutzung
des verdampfenden Kathoden-Werkstoffes ist bei dieser
Anlage erheblich höher. Jedoch wird die Strahlzunahme des verdampfenden Kathoden-Werkstoffes am
Ausgang der Anlage durch teilweise Rückstrahlung der
Ionen von der Magnetbarriere beschränkt, welche an
den Stirnflächen des Solenoids entsteht. Darüber hinaus
ist dieser Impulsgenerator wegen der könstruktionsmäßigen
Besonderheiten der Zündelektrode für den stationären Betrieb ungeeignet.
Ferner ist eine Väkuum-Lichtbögeh-Plasmaanlage
bekannt, welche eine effektivere Nutzung des sich verdämpfenden Kathoden-Werkstoffes im stationären Betrieb ermöglicht (s. den Artikel von I.I. Aksjönov,
W.G. Padalkä, V.T. Töloka, W^M. Choröschich "Fokussirowkä
potoka metallitscheskoj plasmy, generirujemogp
stazionarnym erozionnym elektrodugowym uskoritelem", Sammelband "Istotschniki i uskoriteli plasmy",Ausg.
3, Charkow, 1978, S. 45-50) .Diese Anlage enthält ei^·
ne selbstverzehrende Kathode mit einer Arbeitsstirnfläche , eine zur Kathode koaxial angeordnete Magnetspule»
eine in dieser Spule angeordnete rohrförmige Anode sowie eine Zündelektrode. Die Zündelektrode erzeugt eine Bogenentladung und der von der Kathode er-
zeugte Metaliplasmastrahl wird durch das' axial symmetrische
Magnetfeld des Solenoids fokussiert. Dies ermöglicht
ein engeres Richtdiagramm des verdampfenden
Kathoden-Werkstoffes und die Effektivität seiner
Nutzung wird erhöht.
Jedoch wird auch in dieser Anlage ein Teil der lonenkomponente des Plasmastrahls von der Magnetbarriere zurückgespiegelt>
welche im Betrieb durch Beugung der magnetischen Kraftlinien an der Stirnfläche
des Solenoids gebildet wird. Dieser Teil trifft daher nicht auf die Unterlage. Ein weiterer Nachteil
der Anlage ist ein instabiles Zünden und Brennen der Bogenentladung. Bei der Anordnung der Zündelektrode
an der Arbeitsstirnfläche der Kathode versagt die Anlage durch Zerstörung der Zündelektrode bei der stationären
Bogenentladung. Wenn die Zündelektrode an
der Seitenfläche der Kathode angeordnet ist, wird die Stabilität des Zündvorganges beeinträchtigt, weil der
an der Seitenfläche erregte Kathodenbrennfleck durch
das Magnetfeld des Magneten in eine der Arbeitsstirnfläche der Kathode entgegengesetzte Richtung zurück- .
prallt. Ein derartiger "Rückprall" endet mit dem Erlöschen der Bogenentladung. Ähnlich enden auch spontane
"Ausläufe" des Kathodenbrennflecks von der Arbeitsstirnfläche der Kathode auf ihrer Seitenfläche.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage zu schaffen, in welcher
das Solenoid mit unterschiedlicher Windungszahl je Längeneinheit der Wicklung in bezug auf die Kathode, die rohrförmige Anode und die Zündelektrode derart angeordnet ist, daß durch die Gestalt und Größe
des erzeugten Magnetfeldes die effektivste Nutzung
des verdampfenden Kathoden-Werkstoffes sowie ein stabiler Betrieb der Anlage sichergestellt wird.
Die gestellte Aufgabe wird in einer Vakuum-Lichtbogen-Plasmäanlage,
welche eine selbstverzehrende Kathode mit einer Arbeitsstirnfläche, ein Solenoid und
eine in diesem angeordnete rohrförmige Anode sowie eine Zündelektrode enthält, welche koaxial zur Kathode
angeordnet sind, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Solenoid die rohrförmige Anode und die Kathode
umfaßt, daß die Windungszahl je Längeneinheit des Solenoids um die Kathode herum die Windungszahl je
Längeneinheit im übrigen Teil des Solenoids übertrifft, und daß das Solenoid an der der Kathoden-Arbeitsstirnfläche
der entgegengesetzten Seite über die Zündelektrode um einen Betrag hinausragt, der
größer als die halbe Länge des um die Kathode herum angeordneten Teils des Solenoids ist.
Dies ermöglicht die Erzeugung eines Magnetfelds, dessen Maximum von der Zündelektrode in der zur Arbeitsstirnfläche entgegengesetzten Richtung verlagert
ist. Demzufolge wird der durch die Kathode erzeugte
Plasmasträhl in das axial symmetrische magnetische
Längsfeld mit einer "Sperre" hinter der Arbeitsstirnfläche der Kathode injiziert. Der Plasmastrahl gelangt
ungehindert zürn Ausgang der Anlage, weil er auf seinem
Wege auf keine Potentialschwelle stößt, die ihn aufhalten
könnte. Darüber hinaus wird die Iönenkomponente des Plasmas durch die in bezug· auf die Kathode positiv
geladenen äquipotentialen Flächen, die sich hinter der Zündelektrode an der der Arbeitsstirnfläche
der Kathode entgegengesetzten Seite verjüngen, mit aus*
reichender Effektivität an den Ausgang der Anlage zurückgespiegelt,
und durch die Radialkomponente des elektrischen Feldes im Inneren der rohrförmigen Anode
wird das Abwandern der Ionen an die Wandungen verhindert. ■ . - :
Ferner werden durch die Anordnung des Solenoids
optimale Bedingungen für ein stabiles Zünden und Aufrechterhalten
der Bogenentladung geschaffen. Tatsächlich wird der Kathodenbrennfleck beim Zünden an der
Seitenfläche der Kathode in dem Abschnitt initiiert,
wo der spitze Winkel zwischen den magnetischen Kraftlinien und der Oberfläche der Kathode zu deren Arbeitsstirnfläche hin gerichtet ist. Gemäß der Spitzwinkelregel
wandert der Kathodenbrennfleck in diesem Fall über die Seitenfläche der Kathode an ihre Arbeitsstirnfläche. Daher werden praktisch alle von der Kathode
erzeugten Ionen ohne Verluste an den Ausgang der Anlage transportiert, wodurch die höchste Effektivität
der Nutzung.des verdampfenden Werkstoffes erreicht wird.
Das Solenoid ist zweckmäßig so auszuführen, daß
die Windungszahl je Längeneinheit des die Kathode umfassenden Teils des Solenoids die Windungszahl je
Längeneinheit des übrigen Teils des Solenoids um das
Zweifache übertrifft.
Untersuchungen haben gezeigt, daß der Mechanismus zur Stabilisierung des Kathodenbrennflecks dann
optimal ist, wenn die Windungszahl je Längeneinheit des die Kathode umfassenden Teils des Solenoids die
Windungszahl je Längeneinheit des übrigen Teils des Solenoids mindestens um das Zweifache übertrifft.
Im folgenden wird ein Ausführüngsbeispiel der
Erfindung anhand der Zeichnung ausführlich erläutert, welche eine Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage im
Querschnitt schematisch zeigt.
Die Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage enthält eine selbstverzehrende Kathode 1 mit einer Seitenfläche
2 und einer Arbeitsstirnfläche 3, eine koaxial zur Kathode 1 angeordnete Magnetspule 4, eine in der Spule
4 gelagerte rohrförmige Anode 5 sowie eine Zünd-,elektrode
6 auf einem keramischen Verbindungssteg 7,
welcher an der Seitenfläche 2 der Kathode 1 anliegt.
Die Anode 5 ist innerhalb eines zylindrischen Gehäuses
8 untergebracht, auf welchem die Spule 4 angeordnet .ist/' ■. " ^ ; : ■ "; ..- ■.■', ■·;.■ ■ - ■ ■; .' .'. ';. '■ ■".. ." ; ..-; ■■./...' ·'
Ein Teil 9 der Spüle 4 umfaßt die Kathode 1 in
einer Länge von 100 cm. Eine Hälfte des Teils 9 des Solenoids 4 befindet sich hinter der Zündelektrode 6
an der der Arbeitsstirnfläche 3 der Kathode 1 entgegengesetzten Seite. Die Kathode 1 und die Zündelektrode
6 weisen Vakuum-Stromeinführungen 10 und 11 auf,
welche durch einen am zylindrischen Gehäuse 8 angeordneten Stirndeckel 12 abgedichtet durchgehen.
Das zylindrische Gehäuse 8 steht mit einer Vakuumkammer 1 3 in Verbindung, in der eine unterlage
14 untergebracht ist. Zur Kühlung der rohrförmigen Anode 5 ist ein Hohlraum 15 vorgesehen. Der Hohlraum
zur Kühlung der Kathode 1 ist in der Zeichnung nicht
gezeigt. Ferner ist ein Zündimpulsgenerator 16 und
eine Lichtbogenspeiseanlage 17 vorgesehen. Die Gleichstromspeisüngsquelle
des Solenoids 4 ist in der Zeichnurig nicht g<ezeigt. ■ ■;;V.;.-··.-.:.."' :' ■' :■ .■,'-■ .■■:',■''
Die Wirkungsweise der Vakuum-Lichtbogen-Plasinaanlage
ist folgende:
Durch Einschalten der Speisungsquelle 17 der Bogenentladung und der Speisequelle des Magneten 4 wird
ein Magnetfeld erzeugt, dessen Kraftliriienverlauf gestrichelt angedeutet ist.
Die maximale magnetische Feldstärke des Magneten 4 entfällt auf den Teil, welcher in der Nähe der
Zündelektrode 6 an der der Arbeitsstirnfläche 3 entgegengesetzten Seite liegt. Der Zündimpulsgenerator
16 der Zündelektrode 6 wird eingeschaltet und es entsteht eine Funkenentladung an der Oberfläche des keramischen Stegs 7 der Zündelektrode 6, die den Kathodenbrennfleck der Bogenentladung zwischen der Seitenfläche 2 der Kathode 1 und der rohrförmigen Anode 5 bildet. Der Kathodenbrennfleck wandert in Richtung der
Arbeitsstirnfläche 3 der Kathode 1, weil sich die magnetischen Kraftlinien mit der Seitenfläche 2 der Kathode 1 unter einem spitzen Winkel schneiden, der zur
Arbeitsstirnfläche 3 der Kathode 1 hin gerichtet ist, und gelangt an die Arbeitsstirnfläche 3, indem er unregelmäßige Bewegungen ausführt.
Zündelektrode 6 an der der Arbeitsstirnfläche 3 entgegengesetzten Seite liegt. Der Zündimpulsgenerator
16 der Zündelektrode 6 wird eingeschaltet und es entsteht eine Funkenentladung an der Oberfläche des keramischen Stegs 7 der Zündelektrode 6, die den Kathodenbrennfleck der Bogenentladung zwischen der Seitenfläche 2 der Kathode 1 und der rohrförmigen Anode 5 bildet. Der Kathodenbrennfleck wandert in Richtung der
Arbeitsstirnfläche 3 der Kathode 1, weil sich die magnetischen Kraftlinien mit der Seitenfläche 2 der Kathode 1 unter einem spitzen Winkel schneiden, der zur
Arbeitsstirnfläche 3 der Kathode 1 hin gerichtet ist, und gelangt an die Arbeitsstirnfläche 3, indem er unregelmäßige Bewegungen ausführt.
Unter Einwirkung des elektrischen Feldes, dessen Äquipotentiallinien durch die Gestalt des Magnetfeldes
bestimmt wird, wird der erzeugte Plasmastrahl aus dem verdampfenden Werkstoff der Kathode 1 vollständig
zum Unterlagenhalter 14 gerichtet, an welchem die zu
behandelnden Werkstücke (nicht gezeigt) befestigt sind.
behandelnden Werkstücke (nicht gezeigt) befestigt sind.
Der Plasmastrahl aus dem verdampften Werkstoff
der Kathode 1 wird längs der rohrförmigen Anode
praktisch ohne Verluste transportiert, weil das elektrische Radialfeld das Abwandern der Ionenkomponente des Plasmastrahls an die Anodenwände
verhindert.
Claims (1)
- • β * ·BEETZ & PARTNER " **"Patentanwälte 3152131Steinsdorfstr. 10 · D-8000 München 22 Λ Λ European Patent AttorneysTelefon (0 89) 227201 -227244 - 295910 'Telex 5 22 048 - Telegramm Allpal München Dipl.-lng. R. BEETZ sen.Dr.-Ing, R. BEETZ JUn.Dr.-Ing. W. TIMPEDipl.-lng. J. SIEGFRIEDPriv.-Doz. Dipl.-Chem. Dr. rer nat. W. SCHMITT-FUMIAN
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---|---|---|---|
SU802933851A SU1040631A1 (ru) | 1980-06-25 | 1980-06-25 | Вакуумно-дуговое устройство |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3152131A1 true DE3152131A1 (en) | 1982-08-26 |
DE3152131C2 DE3152131C2 (de) | 1986-09-04 |
Family
ID=20899404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3152131A Expired DE3152131C2 (de) | 1980-06-25 | 1981-03-02 | Vakuum-Lichtbogen-Plasmaanlage |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4551221A (de) |
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Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE34806E (en) * | 1980-11-25 | 1994-12-13 | Celestech, Inc. | Magnetoplasmadynamic processor, applications thereof and methods |
CH657242A5 (de) * | 1982-03-22 | 1986-08-15 | Axenov Ivan I | Lichtbogen-plasmaquelle und lichtbogenanlage mit einer solchen lichtbogen-plasmaquelle zur plasmabehandlung der oberflaeche von werkstuecken. |
AT376460B (de) * | 1982-09-17 | 1984-11-26 | Kljuchko Gennady V | Plasmalichtbogeneinrichtung zum auftragen von ueberzuegen |
US5096558A (en) * | 1984-04-12 | 1992-03-17 | Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh | Method and apparatus for evaporating material in vacuum |
CH664768A5 (de) * | 1985-06-20 | 1988-03-31 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur beschichtung von substraten in einer vakuumkammer. |
US4620913A (en) * | 1985-11-15 | 1986-11-04 | Multi-Arc Vacuum Systems, Inc. | Electric arc vapor deposition method and apparatus |
US4873605A (en) * | 1986-03-03 | 1989-10-10 | Innovex, Inc. | Magnetic treatment of ferromagnetic materials |
US4816291A (en) * | 1987-08-19 | 1989-03-28 | The Regents Of The University Of California | Process for making diamond, doped diamond, diamond-cubic boron nitride composite films |
US5601652A (en) * | 1989-08-03 | 1997-02-11 | United Technologies Corporation | Apparatus for applying ceramic coatings |
DE4006456C1 (en) * | 1990-03-01 | 1991-05-29 | Balzers Ag, Balzers, Li | Appts. for vaporising material in vacuum - has electron beam gun or laser guided by electromagnet to form cloud or pre-melted spot on the target surface |
JPH0817171B2 (ja) * | 1990-12-31 | 1996-02-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | プラズマ発生装置およびそれを用いたエッチング方法 |
US5126030A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-30 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Apparatus and method of cathodic arc deposition |
CA2065581C (en) | 1991-04-22 | 2002-03-12 | Andal Corp. | Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition |
US5306408A (en) * | 1992-06-29 | 1994-04-26 | Ism Technologies, Inc. | Method and apparatus for direct ARC plasma deposition of ceramic coatings |
US5282944A (en) * | 1992-07-30 | 1994-02-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Ion source based on the cathodic arc |
US5480527A (en) * | 1994-04-25 | 1996-01-02 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular vacuum-arc plasma source |
US5670415A (en) * | 1994-05-24 | 1997-09-23 | Depositech, Inc. | Method and apparatus for vacuum deposition of highly ionized media in an electromagnetic controlled environment |
US5518597A (en) * | 1995-03-28 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cathodic arc coating apparatus and method |
US6144544A (en) * | 1996-10-01 | 2000-11-07 | Milov; Vladimir N. | Apparatus and method for material treatment using a magnetic field |
US6103074A (en) * | 1998-02-14 | 2000-08-15 | Phygen, Inc. | Cathode arc vapor deposition method and apparatus |
US6495002B1 (en) | 2000-04-07 | 2002-12-17 | Hy-Tech Research Corporation | Method and apparatus for depositing ceramic films by vacuum arc deposition |
US7381311B2 (en) * | 2003-10-21 | 2008-06-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Filtered cathodic-arc plasma source |
US8157976B2 (en) * | 2007-04-26 | 2012-04-17 | Veeco Instruments, Inc. | Apparatus for cathodic vacuum-arc coating deposition |
CN102947478B (zh) * | 2010-06-22 | 2016-02-17 | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) | 有明确电场的电弧蒸发源 |
CN101956161A (zh) * | 2010-08-27 | 2011-01-26 | 苏州五方光电科技有限公司 | 离子镀膜装置 |
US9153422B2 (en) | 2011-08-02 | 2015-10-06 | Envaerospace, Inc. | Arc PVD plasma source and method of deposition of nanoimplanted coatings |
EP2607517A1 (de) | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Niedertemperatur-Lichtbogenionen-Plattierbeschichtung |
KR101440316B1 (ko) * | 2014-04-30 | 2014-09-18 | 주식회사 유니벡 | 박막 코팅을 위한 진공 챔버 내부 아크 스팟 생성장치 |
US11380523B2 (en) * | 2019-02-14 | 2022-07-05 | Hitachi High-Tech Corporation | Semiconductor manufacturing apparatus |
CN110277298A (zh) * | 2019-07-26 | 2019-09-24 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种射频旋转接头及设置有射频旋转接头的离子刻蚀系统 |
UA127223C2 (uk) * | 2020-09-25 | 2023-06-14 | Національний Науковий Центр "Харківський Фізико-Технічний Інститут" | Спосіб створення вакуумно-дугової катодної плазми |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2972695A (en) * | 1957-05-24 | 1961-02-21 | Vickers Electrical Co Ltd | Stabilisation of low pressure d.c. arc discharges |
SU307666A1 (ru) * | 1968-09-09 | 1979-01-08 | Sablev L P | Электродуговой испаритель металлов |
US3836451A (en) * | 1968-12-26 | 1974-09-17 | A Snaper | Arc deposition apparatus |
US3625848A (en) * | 1968-12-26 | 1971-12-07 | Alvin A Snaper | Arc deposition process and apparatus |
SU349325A1 (ru) * | 1970-10-19 | 1978-03-30 | Л. П. Саблев, Ю. И. Долотов, Л. И. Гетьман, В. Н. Горбунов, Е. Г. Гольдинер, К. Т. Киршфельд , В. В. Усов | Электродуговой испаритель металлов |
US3793179A (en) * | 1971-07-19 | 1974-02-19 | L Sablev | Apparatus for metal evaporation coating |
US3783231A (en) * | 1972-03-22 | 1974-01-01 | V Gorbunov | Apparatus for vacuum-evaporation of metals under the action of an electric arc |
SU563826A1 (ru) * | 1975-06-04 | 1978-03-05 | Предприятие П/Я В-8851 | Устройство дл нанесени тонких пленок |
JPS54110988A (en) * | 1978-01-31 | 1979-08-30 | Nii Chiefunorogii Afutomobirin | Coating vacuum evaporation apparatus |
-
1980
- 1980-06-25 SU SU802933851A patent/SU1040631A1/ru active
-
1981
- 1981-03-02 CH CH91282A patent/CH655632B/de unknown
- 1981-03-02 DE DE3152131A patent/DE3152131C2/de not_active Expired
- 1981-03-02 WO PCT/SU1981/000022 patent/WO1982000075A1/en active Application Filing
- 1981-03-02 US US06/640,554 patent/US4551221A/en not_active Expired - Fee Related
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