DE3236602A1

DE3236602A1 - Lichtempfindliches maskiermaterial zur herstellung einer platte

Info

Publication number: DE3236602A1
Application number: DE19823236602
Authority: DE
Inventors: Takeo Kawagoe Saitama Moriya; Masako Kawaguchi Saitama Ogura; Toshio Urawa Saitama Yamagata
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 1981-10-02
Filing date: 1982-10-02
Publication date: 1983-04-21
Also published as: GB2109126B; JPS5858546A; GB2109126A; JPS6245547B2; US4581308A; DE3236602C2

Description

Lichtempfindliches Maskiermaterial zur Herstellung einer Platte

Die Erfindung bezieht sich auf ein Bildaufnahmematerial und insbesondere auf ein fotoempfindliches Maskiermaterial, das zur Herstellung einer Druckplatte verwendet wird.

Wenn nach.dem Stand der Technik ein Bild nicht als Rasterpunktbild sondern als durchgehende Fläche gedruckt werden soll, so benutzt man ein Verfahren unter Anwendung einer Vorlage, bei dem die abzubildende Darstellung durch eine Linie umrissen wird (hier "Umrißlinienvorlage" genannt), wobei eine Maskierplatte zur Herstellung einer Plattenoberfläche dadurch hergestellt wird, daß ein lichtempfindliches Material einer fotographischen Behandlung unterzogen wird. Das heißt eine positive oder eine negative Umrißlinienvorlage wird auf einer lichtabschirmenden fotoempfindlichen Maskierschicht des lichtempfindlichen Materials aufgenommen, das danach je nach den Eigenschaften der Maskierschicht einer Entwicklungsstufe oder einer sowohl aus Entwicklung wie auch aus Ätzen bestehenden Behandlung unterzogen wird. Durch diese fotographische.Behandlung (siehe Figur 1A) entsteht auf einem aus einem lichtempfindlichen Material 1 bestehenden Transparentfilm 2 ein Reliefbild 6 aus der lichtempfindlichen Maskierschicht, wobei den Umrißlinien/der Vorlage 3 entsprechende Rillen 5 gebildet werden. Sodann wird (siehe Figur 1B) bei dem Abschälen bzw. Abziehen des Reliefbildes 6 von dem Transparentfilm 2 mittels einer Nadel, eines Messers oder dergleichen eine Maskierplatte 8 erhalten, bei der die gewünschte Abbildung als konkave Teile 7 dargestellt wird, die keine lichtabschirmende Eigenschaften besitzen. Unter Zugrundelegung der so erhaltenen Maskierplatte 8 findet eine ähnliche fotographische Behandlung statt, um die Oberfläche der Platte herzustellen.

Bei Mehrfarbendruckverfahren wird meist eine Maskierplatte entsprechend jeder Farbe bzw. jedem Farbauszug dadurch hergestellt, daß man das Reliefbild, das anhand einer Halbtonnegatiworlage erzeugt worden ist, einer von der Farbe abhängenden selektiven Abschälbehandlung unterzieht. Die Halbtonnegatiworlage enthält Umrißlinien, die für eine Maskierplatte einer gewissen Farbe nicht, aber für die einer

anderen Farbe nötig sind. Da die Rillenbereiche, die in der lichtempfindlichen Maskierschicht entsprechend den Umrißlinien erzeugt sind, das Licht nicht abschirmen, ist es bei der Vorbereitung der Maskierplatte für jede Farbe durch selektives Abziehen notwendig, daß die Rillenbereiche, die den nicht mehr nötigen Umrißlinien entsprechen, ausgefüllt und zugedeckt werden, indem man die Abbildung mit einer sogenannten Korrekturflüssigkeit, die eine hohe lichtabschirmende Eigenschaft besitzt, beschichtet und die Abbildung trocknen läßt. Der selbe Vorgang ist bei Buchstaben und dergleichen zu wiederholen, die aus einem Strich ohne Umrißlinien bestehen.

Wenn bei Mehrfarbendurck die verschiedenen Farbbereiche aneinander grenzen, ohne aufeinander zu liegen, sollen die Rillenbereiche, die den Umrißlinien entsprechen, eine der beiden Farben ergeben, wobei eine Maskierplatte für eine andere Farbe dadurch zu erstellen ist, daß man das selektive Abschälen erst dann ausführt, nachdem man die Korrekturflüssigkeit auf die ganze Oberfläche entsprechend den anzugrenzenden Bereichen aufgetragen hat, und nach dem Trocknen, um die Rillen auszufüllen und zuzudecken.

Als Korrekturflüssigkeit zu diesem Zweck verwendet man eine Art auf organischer Lösungsmittelbasis und eine weitere Art auf Basis einer Wasserlösung. Bei der Art auf organischer Lösungsmittelbasis ist Vorsicht wegen der leichten

sind Entzündbarkeit und bei der Flüssigkeit auf WasserbasisyArbeitsschutzmaßnahmen wegen der gesundleitsschädlichen Dämpfe geboten. Die Flüssigkeit auf Wasserbasis besitzt einige Mängel wie z.B. das sehr langsame Trocknen, das den Nutzen vermindert.

Im übrigen ist die Korrekturflüssigkeit auf große Flächen aufzutragen. Eine besondere Auftragstechnik muß angewandt werden. In dieser Hichsicht ist das Herstellen der Platten noch verbesserungsbedürftig.

Gemäß einem Aspekt liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Bildmaterial, insbesondere fotoempfindliches Maskiermaterial anzugeben, das bei. der Herstellung

von Maskierplatten für verschiedene Farben den Vorgang unnötig macht, bei dem die Rillen, die überflüssigen Umrißlinien entsprechen, mit Korrekturflüssigkeit aufgefüllt und zugedeckt werden, wobei das Bildaufnahmematerial in der Lage ist, die Leistung bei der Plattenherstellung merklich zu verbessern.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung sind der nun folgenden Beschreibung zu entnehmen.

Erfindungsgemäß besteht ein Bildaufnahmematerial aus einem aus einem Transparentfilm bestehenden Träger, aus einem am Träger angeordneten, lichtabschirmende Eigenschaften besitzenden dünnen Metallfilm, sowie aus einer an der dünnen Metallfilmschicht gebildeten lichtempfindlichen Maskierschicht, die die Eigenschaft eines zähen Filmes besitzt, und die stark an dieser Schicht haftet.

Wenn unter Verwendung des Bildaufnahmematerials gemäß der Erfindung eine negative Reliefabbildung abgeschält wird, erfolgt gleichzeitig ebenfalls eine Abschälung der unteren dünnen Metallfilmschicht, um die gewünschte Abbildung zu liefern, während andererseits diejenigen Bereiche, die den Umrißlinien, Buchstaben und dergleichen entsprechen, am Metallfilm noch verbleiben.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung sind der nun folgenden Beschreibung einiger Ausführungsbeispiele anhand der Zeichnungen zu entnehmen. Es zeigen:- Figuren 1A und 1B jeweils Schnittansichten zur Verdeutlichung eines Verfahrens zur Herstellung einer Maskierplatte durch selektives Abschälen eines negativen Reliefbildes bei Verwendung eines bekannten, zur Platten

herstellung dienenden Maskiermaterials.

Figur 2 eine Schnittansicht eines Maskiermaterials

für die Herstellung einer Platte gemäß der vorliegenden Erfindung, und Figuren 3A und 3B jeweils Schnittansichten zur Veranschaulichung der Herstellung einer Maskierplatte unter Anwendung eines Maskier-

materials, das für die Herstellung einer Platte gemäß der Erfindung eingesetzt wird.

Gemäß Figur 2 besteht ein lichtempfindliches Maskiermaterial gemäß der Erfindung zur Herstellung einer Platte aus einem Träger 9, der aus Transparentfilm hergestellt worden ist, aus einer am Träger 9 gebildeten, dünnen Metall'-filmschicht 10, sowie aus einer lichtempfindlichen Maskierschicht 11, die die Eigenschaft eines zähen Filmes bzw. Folie besitzt und die fest an der dünnen Filmschicht 10 haftet, an der sie gebildet worden ist.

Gemäß der Erfindung kann als Träger 9 ein Film bzw. eine Folie dienen, der bzw. die als thermoplastische hochmolekulare Verbindung vorliegt.und eine glänzende Oberflache besitzt, auf der der dünne Metallfilm gebildet werden kann. Beispiele einer fumbildenden thermoplastischen hochmolekularen Verbindung sind Polyester, Polykarbonate, Polyamide, Polyprophylen, Polyvinylchlorid, Polystyrol, PoIymethylmethacrylat, und deren Copolymere, sowie Diacetyl-Zellulose, Triacetylzellulose, Propylzellulöse sowie Zelluloseester. Biaxial orientiertes Polyäthylenterephthalat, das eine ausgezeichnete Maßhaltigkeit besitzt, ist bevorzugt.

Als Metall zur Bildung der dünnen Filmschicht 10 kommt -jedes Metall in Frage, das befähigt ist, bei Anwendung einer filmbildenden Technik einen Film zu bilden. Bevorzugt beträgt die Dicke des dünnen Metallfilms mindestens 50 my. Liegt die Dicke unter 50 my, so reicht die lichtabschirmende Eigenschaft nicht aus. Die obere Grenze der Dicke liegt bei 1000 μ. Sollte sie diesen Wert übersteigen, so ist der Film so fest, daß beim teilweisen Abschälen bzw. Abziehen gemäß der Erfindung die Auflösung des Bildes verschlechtert wird.

Zu den filinbildenden Verfahren, die hier in Frage kommen, zählen Vakuumbeschichtungsverfahren wie z.B. Aufdampfen und Kathodenzerstäubung, stromloses Abscheiden oder eines dieser Verfahren unter Mitverwendung von galvanischen Verfahren.

Beispiele der für die Vakuumbeschichtung hier in Frage

_ 9 —

kommenden Metalle sind: Aluminium, Zink, Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Kobalt, Eisen und dergleichen. Weiterhin lassen sich Beschichtungen als Legierungen durch Kathodenzerstäubung herstellen: Kupfer, Nickel, Kobalt, Gold, Palladium, Silber sowie eine Nickel-Kobalt-Legierung lassen sich durch die herkömmlichen Methoden der Galvanik als Beschichtungen abscheiden.

Meist ist das Vakuumaufdampfen überlegen, weil eine breite Palette an Metallen eingesetzt werden kann, weil das Verfahren einfach ist und weil es schnell abläuft.

Um die adhesive Wirkung zwischen dem Träger und dem dünnen Film zu erhöhen, kann man den Träger einer Oberflächenbehandlung unterziehen. Behandlungsformen, die hier in Frage kommen, umfassen das Koronarentladungsverfahren und das Alkaliätzverfahren. Weitere mögliche Verfahren die hier anwendbar sind, sind solche, bei denen der Träger mit verschiedenen organischen oder anorganischen Substanzen so beschichtet wird, daß die Beschichtung 2μ nicht übersteigt.

Es ist notwendig, daß die lichtempfindliche Maskierschicht 11 gute filmbildende Eigenschaften und eine hohe Filmfestigkeit besitzt, weil sie zu ' einem negativen Reliefbild durch eine fotographische Behandlung gebildet und danach abgeschält wird. Im übrigen muß die lichtempfindliche Maskierschicht 11 an der dünnen Metallschicht 10 fest haften, so daß beim Abschälen der dünne Film gleichzeitig vom' Träger entfernt werden kann.

Die lichtempfindliche Maskierschicht kann als Einzelschicht vorliegen, die aus einer lichtempfindlichen Masse besteht, die ihrerseits aus einer hochmolekularen Bindemittelverbindung und einem fotosensibilisierenden Mittel besteht. Sie kann als doppelschichtiges Gebilde vorliegen, dessen untere Schicht aus einem hochmolekularen, filmbildende Eigenschaften aufweisenden Bindemittel und dessen obere Schicht aus lichtempfindlicher Masse besteht.

Bei der Verwendung einer Maskierschicht die als Zweischichtgebilde aufgebaut ist, sind die Funktionen als

fotosensibilisierendes Mittel und .die Funktion als abzuschälender Film voneinander getrennt und getrennt zu beeinflussen. Deswegen ist es im Gegensatz zum Fall des Einzelschichtgebildes nicht notwendig, das Problem der Verbesserung der Abschäleigenschaft gleichzeitig mit dem Problem der Verhinderung einer Abnahme der Empfindlichkeit zu lösen.

Die lichtempfindliche Masse kann von der negativen sowie von der positiven Art sein.

Beispiele des lichtempfindlichen Mittels, das in der lichtempfindlichen Masse negativer Art verwendet wird, sind:

ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminsulfat mit C Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminzinkchlorid mit Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenyl.amintetrafluorborat mit Formaldehyd oder ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylamindodecylbenzonsulfat mit Formaldehyd.

Wird die lichtempfindliche Maskierschicht als Einzelschicht einer lichtempfindlichen Masse, die ein fotosensibilisierendes Mittel sowie ein hochmolekulares Bindemittel enthält, hergestellt, so liegt der auf die hochmolekulare Bindemittelverbindung bezogene Prozentsatz des fotosensibilisierenden Mittels zwischen 3 und 50 % und bevorzugt zwischen 5 und 30 %.

Beispiele der hochmolekularen Bindemittelverbindung, die in der lichtempfindlichen Masse negativer Art vorhanden sein können, sind: Polyvinylalkohol, Polyacrylamid, Polyvinylpyrrolidon, ein Copolymer.aus Polyvinylmethacrylat mit Maleinsäure, ein alkohollösliches Polyamid, ein Copolymer aus Acrylamid und Diazetonacrylamid sowie teilweise verseiftem Polyvinylacetat. Diese hochmolekularen Verbindungen können allein oder in Kombination miteinander verwendet werden.

Bei der lichtempfindlichen Masse positiver Art werden Arthoquinondiazidverbindungen als fotosensibilisierendes Mittel verwendet. In diesem Fall beträgt, wenn die lichtempfindliche Maskierschicht als Einzelschicht aus einer lichtempfindlichen Schicht (die ein fotosensibilisierendes

Mittel und eine hochmolekulare Bindemittelverbindung enthält) vorliegt, der auf die hochmolekulare Bindemittelverbindung bezogene Prozentsatz des fotosensibilisierenden Mittels 5 bis 50 % und bevorzugt 10 bis 30 %.

Als Beispiele der in der lichtempfindlichen Masse positiver Art zu verwendenden hochmolekularen Bindemasse dienen alkalilösliches Acrylpolymer, Polyvinyl-3-methoxy-4-hydroxybenzal, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral, Polyvinylacetat und dergleichen. Solche hochmolekularen Verbindungen können allein oder in Kombination verwendet werden.

Als Material für die Filmschicht in der lichtempfindlichen Maskierschicht mit Zweischichtaufbau lassen sich nicht nur die oben genannten Bindemittelverbindungen hohen Molekulargewichtes sondern auch zähe Hochmolekularverbindungen oder solche hoher Festigkeit verwenden, die bis jetzt zu diesem Zweck noch nicht eingesetzt worden sind, wie z.B. alkohollösliche Polyamide wie Polycapramid, ein Copolymer aus Hexamethyldiaminadipat und 4'4'^?-Diaminodicyclohexylmethanadipat, N-Methylolderivate verschiedener Polyamide und dergleichen.

Farbstoffe und Pigmente können der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt werden unter der Bedingung, daß sie keinerlei nachteilige Einflüsse auf den Mechanismus der Fotosensibilisierung ausüben. Erfindungsgemäß wird die. lichtabschirmende Eigenschaft durch die dünne Metallfilmschicht erzeugt. Deswegen braucht man keine Farbstoffe und Pigmente, um die lichtabschirmende Eigenschaft zu erzielen. Der Zusatz von Farbstoffen und Pigmenten gibt jedoch Auskunft über den Zustand des Bildes, so daß insbesondere leicht festgestellt werden kann, ob die Randbereiche des Reliefbildes scharf geworden sind.

Es folgt nun die Beschreibung einer Maskierplatte unter Verwendung eines erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Maskiermaterials.

Gemäß Figur 2 besteht ein lichtempfindliches Maskiermaterial 12 aus einem Transparentfilm 9, einer auf dem Transparentfilm 9 gebildeten dünnen Metallfilmschicht 10,

sowie einer auf. der dünnen Metallfilmschicht 10 gebildeten lichtempfindlichen Maskierschicht 11.

Aus Figur 3A entnimmt man, daß wenn das lichtempfindliche Material 12, auf das eine negative oder positive Umrißlinienvorlage 13 gelegt worden ist, mit aktivem Licht belichtet und entwickelt wird, belichtete oder unbelichtete Bereiche je nach der Art der lichtempfindlichen Maskierschicht 11 eluiert werden. Gemäß der Figur wird z.B. dort ein negatives Reliefbild 16 gebildet, wo die den Umrißlinien 14 der Vorlage 13 entsprechenden Bereiche als Rillen vorliegen. Falls die Maskierschicht 11 aus einer unteren Filmschicht, die als hochmolekulare Verbindung vorliegt, und aus einer oberen Schicht in Form von lichtempfindlicher Masse besteht, so ist es nicht nur nötig, die aus der lichtempfindlichen Masse bestehende Schicht zu entwickeln sondern auch die Schicht, die als Film einer hochmolekularen Verbindung vorliegt, zu ätzen.

Danach wird gemäß Figur 3B beim Abschälen des Reliefbildes 16, so daß die Maskierteile 16' zurückbleiben, die untere dünne Metallfilmschicht 10 der gleichen Gestalt gleichzeitig abgeschält, um eine Maskierplatte 18 zu erhalten, wobei das gewünschte Bild als konkave Teile 17 erzeugt wird.

Bei diesem Vorgang wird der Teil 15' der dünnen Metallfilmschicht, die den Umrißlinien 14 der Vorlage 13 entsprechen, nicht abgeschält und verbleibt er am Transparentfilm 9, weil der Teil 15' kein Reliefbild 16 an seiner Oberfläche besitzt. Deswegen werden bei Bestrahlung mit aktivem Licht die Bereiche, die den Umrißlinien entsprechen, von dem Licht abgeschirmt. Die Umrißlinien 14 der Vorlage 13 umfassen auch Linien, die zur Herstellung von Maskierplatten für andere Farben bzw. Farbauszüge verwendet werden. Weil jedoch sie als die dünne Metallfilmschicht verbleiben, wird es überflüssig, die·Rillen mittels Korrekturflüssigkeit aufzufüllen und zuzudecken. Dieser Vorgang war aber beim Stand der Technik unentbehrlich.

Im übrigen, wenn bei Verwendung der gleichen Vorlage

eine Maskierplatte für eine andere Farbe von einem bekannten lichtempfindlichen Material erzeugt wird, werden durch die den Umrißlinien entsprechenden Teile der Maskierplatte Rillen gebildet, die das-Licht nicht abschirmen. Aus diesem Grunde wird durch die Mitverwendung mit der Maskierplatte, die wie angedeutet unter Verwendung des lichtempfindlichen erfindungsgemäßen Maskiermaterials erzeugt wird, eine Druckplatte erzeugt, die beim Drucken mit verschiedenen Farben verwendet werden kann, die aneinandergrenzen ohne sich zu überschneiden.

Weitere Einzelheiten der Erfindung sind der folgenden Beschreibung der Beispiele zu entnehmen. Beispiel 1

In 89,5 ml Wasser wurden 10 Gramm vollständig verseifter Polyvinylalkohol mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad von 1700 sowie 0,5 g Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminsulfat mit Formaldehyd gelöst, um eine lichtempfindliche Masse in einer Lösung vorzubereiten, die 10,5 % Feststoffe enthielt,

Auf einer Seite eines 100y starken Polyäthylenterephthalatfilms wurde Aluminium aufgedampft, um eine dünne Aluminiumfilmschicht mit einer Stärke von 100 μ zu ergeben .

Mittels einer Drahtstange wurde diese gelöste lichtempfindliche Masse zur Beschichtung der dünnen Aluminiumfilmschicht verwendet, so daß eine Filmdicke nach dem Trocknen von 10 μ entstand, die danach bei 90°C während 3 Minuten getrocknet wurde, um eine lichtempfindliche Maskierschicht zu bilden. Auf diese Weise wurde ein Bildaufnahmematerial gebildet.

Eine positive Umrißlinienvorlage wurde in Kontakt mit der lichtempfindlichen Maskierschicht gebracht und während 50 Sekunden unter Verwendung einer 2 kW Hochspannungsquecksilberlampe belichtet, wobei der Abstand zwischen der Lampe und der Vorlage 1 Meter betrug. Nach Entwicklung des Filmes unter fließendem Wasser entstand ein negatives Reliefbild an der dünnen Aluminiumfilmschicht, das der Vorlage getreu

war.

Dadurch, daß man unter Verwendung einer Nadel das Reliefbild selektiv abzieht bzw. abschält, werden diejenigen Bereiche der dünnen Aluminiumfilmschicht, die dem abgeschalten Reliefbild entsprechen, gleichzeitig entfernt, so daß die restlichen Bereiche zurückbleiben und als das Licht in hohem Maße abschirmende Maskierplatte vorliegen.

Die Maskierplatten für verschiedene Farben, die unter Verwendung dieser Methode erzeugt werden, können zur Plattenherstellung direkt ohne Verwendung einer Korrekturflüssigkeit auf der ganzen Oberfläche verwendet werden, so daß der ( Vorgang vereinfacht wird.
Beispiel 2

In 89,3 ml Wasser wurden 10 g Copolymer aus Acrylamid mit Diacetonacrylamid (wobei das Copolymer!sationsverhältnis 6:4 betrug) mit einem durchschnittlichen Copolymerisationsgrad von 700 und 0,7 g Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminzinkchlorid mit Formaldehyd gelöst, um eine gelöste fotoempfindliche Zusammensetzung zu bilden, wobei der Feststoffgehalt bei 1O,7 % lag.

Durch Kathodenzerstäubung wurde bei einem Argongasdruck von 5 χ 10 Torr eine Seite eines 100 μ starken Polyäthylenterephthalatfilmes mit einer dünnen Kupferfilmschicht mit einer Stärke von 100 μ bedeckt.

Diese dünne Kupferfilmschicht wurde unter Verwendung einer Drahtstahge mit der gelösten lichtempfindlichen Masse so beschichtet, daß die Filmstärke nach dem Trocknen 10 μ betrug. Nach einer Trockenzeit von 3 Minuten erhielt man das fertige Bildaufnahmematerial.

Belichtete und entwickelte man das Bildaufnahmematerial auf dieselbe Weise wie im Beispiel 1, so entstand an der dünnen Kupferfilmschicht ein negatives, der Vorlage getreues Reliefbild. Eine Maskierplatte, die durch selektives Abschälen des Reliefbildes erzeugt wird, läßt sich ohne Korrektur für die Plattenherstellung direkt einsetzen. Beispiel 3

In 87 g 1,2-Dichloräthan wurden 10 g Polyvinylformal-

harz mit einem Formalgehalt von 81 %, einem Azetatgehalt von 9-13 % und einem Alkoholgehalt von 5-6,5 % sowie 3 g Novolakester aus 1,2-Naphthochinondiazid(2)-4-Sulfonsäure gelöst, um die Lösung der lichtempfindlichen Masse vorzubereiten.

Ein 100 μ starker Polyäthylenterephthalatfilm wurde unter Vakuum einseitig mit Aluminium beschichtet, so daß eine 100 μ starke dünne Aluminiumfilmschicht entstand.

Diese dünne Aluminiumfilmschicht .wurde mittels einer Drahtstange mit der gelösten lichtempfindlichen Masse so beschichtet, daß die Filmstärke nach dem Trocknen 5 μ betrug. Nach einer Trockenzeit von 3 Minuten erhielt man das Bildaufnahmematerial·. .

Eine negative Umrißlinienvorlage wurde dicht gegen die lichtempfindliche Maskierschicht gelegt und mittels derselben Lichtquelle wie gemäß Beispiel 1 50 Sekunden lang belichtet.

Eine Entwicklungslösung wurde durch Auflösen von 300 g Natriumsalicylat und 10 g Natriumhydroxid in 700 ml Wasser bereitgestellt. Der oben genannte belichtete Film wurde ca. 5 Minuten lang in der Entwicklungslösung entwickelt.

Nach dem Wässern und Trocknen erhielt man ein negatives, der Vorlage getreues Bild auf der dünnen Aluminiumfilmschicht. Wie im Falle von Beispielen 1 und 2 wird die lichtempfindliche Maskierschicht selektiv abgeschält ohne Behandlung mit Korrekturflüssigkeit, um eine Maskierplatte zu ergeben, die für die Plattenherstellung eingesetzt werden kann. Beispiel 4

Ein Copolymer aus Caprolactam, Hexamethylendiaminadipat und 4,4'-Diaminodicyclohexylmethanadipat (das unter dem Namen "ULTRAMID-IC" durch BASF vertrieben wird) wurden in Methanol gelöst, um eine 10%-ige Lösung des Copolymers in Methanol zu ergeben.

Ein 100 μ starker, durch Vakuumaufdampfen von Aluminium auf einen 100 μ dicken Polyesterfilm erhaltener Film wurde mit der Copolymerlösung beschichtet, um eine Schichtstärke von 100 μ zu ergeben. Nach dem Trocknen entstand- ein Copoly-

merfilm mit einer Stärke von 10 μ.

Dieser Copolymerfil-rn wurde mit einer 20%-igen Lösung Natriumnaphthochinon(1,2)diazid(2)-5-sulfonat eines Novolakharzesters in Methyläthylenketon und Toluol (1:1) beschichtet, um einen Film des Fotosensibilisierungsmittels zu bilden, der eine Stärke von 3 μ nach dem Trocknen aufwies.

Der so erzeugte Film wurde in Kontakt mit einer Vorlage gebracht und mit UV-Strahlung belichtet, wonach er in Natriumhydroxidlösung entwickelt wurde.

Danach wurde der entwickelte Film in einer 20%-igen wässrigen Lösung eines neutralen Salzes der p-Chlor-benzoesäure behandelt, um ein Reliefbild an .der Aluminiumschicht zu ergeben. Das Reliefbild wurde selektiv mittels eines Messers oder dergleichen abgeschält, wobei die untere AIuminiumschicht mitabgeschält wurde, um eine Maskierplatte zu bilden, die ohne Behandlung mit Korrekturflüssigkeit direkt zur Herstellung einer Platte verwendet werden konnte.

Wie aus den Beispielen hervorgeht, wird das lichtempfindliche Maskiermaterial zur Plattenherstellung dadurch hergestellt, daß auf dem durchsichtigen Filmträger die dünne Metallfilmschicht gebildet wird, die die lichtempfindliche Maskierschicht erhält, die die Eigenschaften eines Filmes und starke adhäsive Eigenschaften bezüglich der dünnen Metallfilmschicht besitzt. Durch selektives Abschälen des Reliefbildes der lichtempfindlichen Maskierschicht, das durch eine fotographische Behandlung erzeugt wird, entspricht die Form der dünnen Metallfilmschicht derjenigen des abgeschälten Reliefbildes, das gleichzeitig entfernt wird, während die Bereiche des lichtabschirmenden Materials am Transparentfilm verbleiben, die den Umrißlinien der Vorlage entsprechen. Aus diesem Grund ist es nicht nötig bei der Herstellung von Maskierplatten für verschiedene Farben bzw. Farbauszüge unter Verwendung der Korrekturflüssigkeit die Rillen aufzufüllen und zuzudecken, so daß die Leistungsfähigkeit bei der Herstellung einer Platte merklich verbessert wird.

Claims

Patentansprüche

1. Lichtempfindliches Maskiermaterial zur Herstellung einer Platte, dadurch gekennzeichnet, daß es einen aus Transparentfilm bestehenden Träger ( 9), eine am Träger gebildete dünne Metallfilmschicht (10), sowie eine lichtempfindliche, eine Filmeigenschaft aufweisende Maskierschicht (11) aufweist, die an der dünnen Filmschicht (10) gebildet worden ist und fest an ihr haftet.

2. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger (9) eine hochmolekulare thermoplastische Verbindung ist, die fumbildende Eigenschaften besitzt.

3. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die filmbildende thermoplastische hochmolekulare Verbindung aus einer oder mehreren der folgenden Verbindungen besteht: Polyester, Polycarbonat, Polyamid, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polystyrol, Polymethylenmethacrylat und Zellulosederivate.

4. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Metall, das die dünne Metallfilmschicht (10) bildet, ein Metall ist, das unter Verwendung einer filmbildenden Einrichtung einen dünnen Film bildet.

5, Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Stärke der dünnen Metallfilmschicht (10) zwischen 5O_vund 1000 μ liegt.

6. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die filmbildende Einrichtung eine Vakuumsbeschichtungseinrichtung ist, u.daßdasMetall, das zur Bildung des dünnen Metallfilms bei der Vakuumbeschichtung herangezogen wird, Aluminium, Zink, Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Chromium, Kobalt und/oder Eisen ist.

( 7. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß in der filmbildenden Einrichtung der Film durch stromloses Abscheiden gebildet wird und das Metall, das zur Bildung des dünnen Metallfilms durch stromloses Abscheiden eingesetzt wird Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Kobalt, Palladium und/oder Nickel-Kobalt ist.

8. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Maskierschicht (11) als eine Einzelschicht lichtempfindlicher Masse vorliegt, die aus einer hochmolekularen Bindemittel verbindung sowie einem Fotosensibilisierungsmittel besteht.

9. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Maskierschicht (11) als Doppelschicht aufgebaut ist, deren untere Schicht aus einer hochmolekularen Bindemittelverbindung und dessen obere Schicht aus lichtempfindlicher Masse besteht.

10. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 8 oder Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Masse der negativen oder positiven Art ist.

11 - Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 10, worin das bei einer lichtempfindlichen Masse

negativer Art eingesetzte Fotosensibilisierungsmittel ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminsulfat und Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminzinkchlorid und Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylamintetrafluorborat und Formaldehyd und/oder ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylamindodecylbenzolsulfonat und Formaldehyd ist.

12. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der auf die hochmolekulare Bindemittelverbindung bezogene Prozentsatz des Fotosensibilisierungsmittels 3 bis 50 % beträgt, wenn die lichtempfindliche Maskierschicht aus einer Einzelschicht der lichtempfindlichen Masse negativer Art besteht.

13. Lichtempfindliches Maskiermaterial· nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die hochmolekulare Bindemittelverbindung ein Amid, Polyvinylpyrrolidon, ein Copolymer aus Vinylmethacrylat und Maleinsäure, ein alkohollösliches Polyamid, und/oder ein Copolymer aus Acrylamid und Diacetonacrylamid und teilweise verseiftem Polyvinylacetat ist.

14. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer lichtempfindlichen Masse positiver Art eine Orthochinondiazidverbindung als Fotosensibilisierungsmittel verwendet wird.

15. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der auf die hochmolekulare Bindemittelverbindung bezogene Prozentsatz des Fotosensibilisierungsmittels 3 bis 50 % beträgt, wenn die lichtempfindliche Maskierschicht aus einer Einzelschicht der lichtempfindlichen Masse positiver Art besteht.

16. Lichtempfindliches Maskiermaterial nach einem der Ansprüche 8 bis 10 und 15, dadurch gekennzeichnet, daß die hochmolekulare Bindemittelverbindung ein alkalilösliches Acryl-

copolymer, Polyvinyl-S-methoxy-^-hydroxybenzal, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral und/oder Polyvinylacetat ist.