DE3236602C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Maskierplatten für verschiedene Farben durch Belichten eines transparenten Schichtträgers mit einer lichtempfindlichen Schicht durch eine Strichvorlage.

Wenn ein Bild nicht als Rasterpunktbild sondern als durchgehende Fläche gedruckt werden soll, so benutzt man ein Verfahren unter Anwendung einer Vorlage, bei dem die abzubildende Darstellung durch eine Linie umrissen wird (hier "Umrißlinienvorlage" genannt), wobei eine Maskier­ platte zur Herstellung einer Druckplattenoberfläche da­ durch hergestellt wird, daß ein lichtempfindliches Material einer fotografischen Behandlung unterzogen wird. Das heißt eine positive oder eine negative Umrißlinienvorlage wird auf einer lichtabschirmenden fotoempfindlichen Maskierschicht des lichtempfindlichen Materials aufgenommen, das danach, je nach den Eigenschaften der Maskierschicht einer Entwick­ lungsstufe oder einer sowohl aus Entwicklung wie auch aus Ätzen bestehenden Behandlung unterzogen wird. Durch diese fotografische Behandlung (siehe Fig. 1A) entsteht aus einem lichtempfindlichen Material 1 mit einem transparenten Schichtträger 2 ein Reliefbild 6 aus einer lichtempfindlichen Maskierschicht, wobei den Umrißlinien 4 der Vorlage 3 entsprechende Rillen 5 gebildet werden. Sodann wird (siehe Fig. 1B) bei dem Abschälen bzw. Abziehen des Reliefbildes 6 von dem Schichtträger 2 mittels einer Nadel, eines Mes­ sers oder dergl. eine Maskierplatte 8 erhalten, bei der die gewünschte Abbildung als konkave Teile 7 dargestellt sind, die keine lichtabschirmenden Eigenschaften besitzen. Unter Zugrundelegung der so erhaltenen Maskierplatte 8 findet eine ähnliche fotografische Behandlung statt, um die Oberfläche der Druckplatte herzustellen.

Bei Mehrfarbendruckverfahren wird meist eine Maskier­ platte entsprechend jeder Farbe bzw. jedem Farbauszug da­ durch hergestellt, daß man das Reliefbild, das anhand einer Halbtonnegativvorlage erzeugt worden ist, einer von der Farbe abhängenden selektiven Abschälbehandlung unterzieht. Die Halbtonnegativvorlage enthält Umrißlinien, die für eine Maskierplatte einer gewissen Farbe nicht, aber für die einer anderen Farbe nötig sind. Da die Rillenbereiche, die in der lichtempfindlichen Maskierschicht entsprechend den Umrißlinien erzeugt sind, das Licht nicht abschirmen, ist es bei der Vorbereitung der Maskierplatte für jede Farbe durch selektives Abziehen notwendig, daß die Rillen­ bereiche, die den nicht mehr nötigen Umrißlinien entspre­ chen, ausgefüllt und zugedeckt werden, indem man die Abbil­ dung mit einer sog. Korrekturflüssigkeit, die eine hohe lichtabschirmende Eigenschaft besitzt, beschichtet und die Abbildung trocknen läßt. Derselbe Vorgang ist bei Buch­ staben und dergl. zu wiederholen, die aus einem Strich ohne Umrißlinien bestehen.

Wenn bei Mehrfarbendruck die verschiedenen Farbbereiche aneinandergrenzen, ohne aufeinander zu liegen, sollen die Rillenbereiche, die den Umrißlinien entsprechen, eine der beiden Farben ergeben, wobei eine Maskierplatte für eine andere Farbe dadurch zu erstellen ist, daß man das selektive Abschälen erst dann ausführt, nachdem man die Korrekturflüssigkeit auf die ganze Oberfläche entsprechend den anzugrenzenden Bereichen aufgetragen hat, und nach dem Trocknen, um die Rillen auszufüllen und zuzudecken.

Als Korrekturflüssigkeit zu diesem Zweck verwendet man eine Art auf organischer Lösungsmittelbasis und eine weitere Art auf Basis einer Wasserlösung. Bei der Art auf organischer Lösungsmittelbasis ist Vorsicht wegen der leichten Entzündbarkeit und bei der Flüssigkeit auf Was­ serbasis sind Arbeitsschutzmaßnahmen wegen der gesundheits­ schädlichen Dämpfe geboten. Die Flüssigkeit auf Wasserbasis besitzt einige Mängel, wie z. B. daß sie langsamer trocknet, was den Nutzen vermindert.

Im übrigen ist die Korrekturflüssigkeit auf großen Flä­ chen aufzutragen. Eine besondere Auftragetechnik muß ange­ wandt werden. In dieser Hinsicht ist das Herstellen der Platten noch verbesserungsbedürftig.

Aus der DE-PS 27 16 422 ist ein lichtempfindliches Schichtmaterial zur Herstellung einer Maskierplatte be­ kannt, bestehend aus einem transparenten Schichtträger, einer Zwischenschicht aus Metall und einer lichtempfindli­ chen Schicht. Wenn die lichtempfindliche Schicht durch eine Maske mit einem gewünschten Muster belichtet wird, verringert sich die Grenzflächenhaftung zwischen der Metall­ zwischenschicht und dem belichteten Teil der lichtempfind­ lichen Schicht, während die Haftung mit Bezug auf den unbe­ lichteten Teil unverändert bleibt. Wenn dann die licht­ empfindliche Schicht abgezogen wird, verbleibt ein Metall­ muster auf dem Schichtträger, das dem belichteten Teil entspricht, und der nicht belichtete Teil der Metallschicht wird entfernt.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, das bei der Herstellung von Mas­ kierplatten für verschiedene Farben den Vorgang unnötig macht, bei dem die Rillen, die überflüssigen Umrißlinien entsprechen, mit Korrekturflüssigkeit aufgefüllt und zu­ gedeckt werden.

Diese Aufgabe wird nach der Erfindung mit einem Verfah­ ren gelöst, wie es im Anspruch 1 gekennzeichnet ist. Wei­ terbildung der Erfindung sind in den Unteransprüchen be­ schrieben.

Das erfindungsgemäße Verfahren arbeitet mit einem dün­ nen Metallfilm auf dem transparenten Schichtträger, wobei an diesem Metallfilm die lichtempfindliche Schicht fester haftet als der Schichtträger. Beim selektiven Abschälen des Relief- oder Rillenbildes werden diejenigen Bereiche der dünnen Metallschicht, die dem abgeschälten Reliefbild entsprechen, gleichzeitig entfernt, so daß die restlichen Bereiche zurückbleiben. Bei diesem Vorgang werden also diejenigen Teile der dünnen Metallfilmschicht, die den Umrißlinien der Vorlage entsprechen, nicht abgeschält und sie verbleiben am transparenten Schichtträger, weil diese Teile kein Reliefbild an ihrer Oberfläche besitzen, mit dem sie abgeschält werden könnten. Deswegen werden bei Bestrahlung mit aktivem Licht die Bereiche, die den Umriß­ linien entsprechen, von dem Licht abgeschirmt. Die Umriß­ linien der Vorlage umfassen auch Linien, die zur Herstel­ lung von Maskierplatten für andere Farben bzw. Farbauszüge verwendet werden. Weil jedoch sie als die dünne Metallfilm­ schicht bleiben, wird es überflüssig, die Rillen mittels Korrekturflüssigkeit aufzufüllen und zuzudecken.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfin­ dung sind der nun folgenden Beschreibung anhand der Zeich­ nung zu entnehmen. Es zeigen

Fig. 1A und 1B jeweils Schnittansichten zur Verdeutlichung eines Verfahrens zur Herstellung einer Maskierplat­ te durch selektives Abschälen eines negativen Reliefbildes bei Verwendung eines bekannten, zur Plattenherstellung dienenden Maskiermaterials;

Fig. 2 eine Schnittansicht eines Maskiermaterials für die Herstellung einer Platte gemäß der vorliegenden Erfindung, und

Fig. 3A und 3B jeweils Schnittansichten zur Veranschauli­ chung der erfindungsgemäßen Herstellung einer Mas­ kierplatte unter Anwendung eines Maskier­ materials gemäß Fig. 2.

Gemäß Fig. 2 besteht ein lichtempfindliches Maskier­ material 12 zur erfindungsgemäßen Herstellung einer Platte aus einem Schichtträger 9 aus einem Transparentfilm, aus einem am Träger 9 gebildeten, dünnen Metall­ film 10, sowie aus einer lichtempfindlichen Maskier­ schicht 11, die die Eigenschaft eines zähen Filmes bzw. einer zähen Folie besitzt und die fest an dem dünnen Metallfilm 10 haftet.

Als Träger 9 kann ein Film bzw. eine Folie dienen, der bzw. die als thermoplastische hoch­ molekulare Verbindung vorliegt und eine glänzende Ober­ fläche besitzt, auf der der dünne Metallfilm gebildet wer­ den kann. Beispiele einer filmbildenden thermoplastischen hochmolekularen Verbindung sind Polyester, Polykarbonate, Polyamide, Polyprophylen, Polyvinylchlorid, Polystyrol, Poly­ methylmethacrylat, und deren Copolymere, sowie Diacetyl­ zellulose, Triacetylzellulose, Propylzellulose sowie Zellu­ loseester. Biaxial orientiertes Polyäthylenterephthalat, das eine ausgezeichnete Maßhaltigkeit besitzt, ist bevorzugt.

Als Metall zur Bildung des dünnen Metallfilms 10 kommt jedes Metall in Frage, das befähigt ist, bei Anwendung einer filmbildenden Technik einen Film zu bilden. Bevorzugt be­ trägt die Dicke des dünnen Metallfilms mindestens 50 mµ. Liegt die Dicke unter 50 mµ, so reicht die lichtabstrahlende Eigenschaft nicht aus. Die obere Grenze der Dicke liegt bei 1000 µ. Sollte sie diesen Wert übersteigen, so ist der Film so fest, daß beim teilweisen Abschälen bzw. Abziehen gemäß der Erfindung die Auflösung des Bildes verschlechtert wird.

Zu den filmbildenden Verfahren, die hier in Frage kommen, zählen Vakuumbeschichtungsverfahren wie z. B. Auf­ dampfen und Kathodenzerstäubung, stromloses Abscheiden oder eines dieser Verfahren unter Mitverwendung von galvanischen Verfahren.

Beispiele der für die Vakuumbeschichtung hier in Frage kommenden Metalle sind: Aluminium, Zink, Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Kobalt, Eisen und dergleichen. Weiterhin lassen sich Beschichtungen als Legierungen durch Kathoden­ zerstäubung herstellen: Kupfer, Nickel, Kobald, Gold, Palla­ dium, Silber sowie eine Nickel-Kobalt-Legierung lassen sich durch die herkömmlichen Methoden der Galvanik als Beschich­ tungen abscheiden.

Meist ist das Vakuumaufdampfen überlegen, weil eine breite Palette an Metallen eingesetzt werden kann, weil das Verfahren einfach ist und weil es schnell abläuft.

Um eine adhäsive Wirkung zwischen dem Träger und dem dünnen Metallfilm zu erhöhen, kann man den Träger einer Ober­ flächenbehandlung unterziehen. Behandlungsformen, die hier in Frage kommen, umfassen das Koronaentladungsverfahren und das Alkaliätzverfahren. Weitere mögliche Verfahren die hier anwendbar sind, sind solche, bei denen der Träger mit verschiedenen organischen oder anorganischen Substanzen so beschichtet wird, daß die Beschichtung 2 µ nicht über­ steigt.

Es ist notwendig, daß die lichtempfindliche Maskier­ schicht 11 gute filmbildende Eigenschaften und eine hohe Filmfestigkeit besitzt, weil sie zu einem negativen Relief­ bild durch eine fotografische Behandlung gebildet und da­ nach abgeschält wird. Im übrigen muß die lichtempfindliche Maskierschicht 11 an dem dünnen Metallfilm 10 fest haf­ ten, so daß beim Abschälen der dünne Film gleichzeitig vom Träger entfernt werden kann.

Die lichtempfindliche Maskierschicht kann als Einzel­ schicht vorliegen, die aus einer lichtempfindlichen Masse besteht, die ihrerseits aus einer hochmolekularen Binde­ mittelverbindung und einem fotosensibilisierenden Mittel besteht. Sie kann als doppelschichtiges Gebilde vorliegen, dessen untere Schicht aus einem hochmolekularen, film­ bildende Eigenschaften aufweisenden Bindemittel und dessen obere Schicht aus lichtempfindlicher Masse besteht.

Bei der Verwendung einer Maskierschicht die als Zweischichtgebilde aufgebaut ist, sind die Funktionen als fotosensibilisierendes Mittel und die Funktion als abzu­ schälender Film voneinander getrennt und getrennt zu beein­ flussen. Deswegen ist es im Gegensatz zum Fall des Einzel­ schichtgebildes nicht notwendig, das Problem der Verbesse­ rung der Abschäleigenschaft gleichzeitig mit dem Problem der Verhinderung einer Abnahme der Empfindlichkeit zu lösen.

Die lichtempfindliche Masse kann von der negativen sowie von der positiven Art sein.

Beispiele des lichtempfindlichen Mittels, das in der lichtempfindlichen Masse negativer Art verwendet wird, sind:
ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminsulfat mit Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenyl­ aminzinkchlorid mit Formaldehyd, ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylamintetrafluorborat mit Formaldehyd oder ein Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylamindodecylben­ zonsulfat mit Formaldehyd.

Wird die lichtempfindliche Maskierschicht als Einzel­ schicht einer lichtempfindlichen Masse, die ein fotosensi­ bilisierendes Mittel sowie ein hochmolekulares Bindemittel enthält, hergestellt, so liegt der auf die hochmolekulare Bindemittelverbindung bezogene Prozentsatz des fotosensibili­ sierenden Mittels zwischen 3 und 50% und bevorzugt zwischen 5 und 30%.

Beispiele der hochmolekularen Bindemittelverbindung, die in der lichtempfindlichen Masse negativer Art vorhanden sein können, sind: Polyvinylalkohol, Polyacrylamid, Poly­ vinylpyrrolidon, ein Copolymer aus Polyvinylmethacrylat mit Maleinsäure, ein alkohollösliches Polyamid, ein Copolymer aus Acrylamid und Diazetonacrylamid sowie teilweise ver­ seiftem Polyvinylacetat. Diese hochmolekularen Verbindungen können allein oder in Kombination miteinander verwendet werden.

Bei der lichtempfindlichen Masse positiver Art werden arthochinondiazidverbindungen als fotosensibilisierendes Mittel verwendet. In diesem Fall beträgt, wenn die licht­ empfindliche Maskierschicht als Einzelschicht aus einer lichtempfindlichen Schicht (die ein fotosensibilisierendes Mittel und eine hochmolekulare Bindemittelverbindung ent­ hält) vorliegt, der auf die hochmolekulare Bindemittelver­ bindung bezogene Prozentsatz des fotosensibilisierenden Mit­ tels 5 bis 50% und bevorzugt 10 bis 30%.

Als Beispiele der in der lichtempfindlichen Masse posi­ tiver Art zu verwendenden hochmolekularem Bindemasse dienen alkalilösliches Acrylpolymer, Polyvinyl-3-methoxy-4-hydroxy- benzal, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral, Polyvinylacetat und dergleichen. Solche hochmolekularen Verbindungen können allein oder in Kombination verwendet werden.

Als Material für die Filmschicht in der lichtempfind­ lichen Maskierschicht mit Zweischichtaufbau lassen sich nicht nur die obengenannten Bindemittelverbindungen hohen Molekulargewichtes sondern auch zähe Hochmolekularverbindun­ gen oder solche hoher Festigkeit verwenden, die bis jetzt zu diesem Zweck noch nicht eingesetzt worden sind, wie z. B. alkohollöslische Polyamide wie Polycapramid, ein Copolymer aus Hexamethyldiaminadipat und 4′4′-Diaminodicyclohexyl­ methanadipat, N-Methylolderivate verschiedener Polyamide und dergleichen.

Farbstoffe und Pigmente können der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt werden unter der Bedingung, daß sie kei­ nerlei nachteilige Einflüsse auf den Mechanismus der Foto­ sensibilisierung ausüben. Erfindungsgemäß wird die lichtab­ schirmende Eigenschaft durch die dünne Metallfilmschicht erzeugt. Deswegen braucht man keine Farbstoff und Pigmente, um die lichtabschirmende Eigenschaft zu erzielen. Der Zu­ satz von Farbstoffen und Pigmenten gibt jedoch Auskunft über den Zustand des Bildes, so daß insbesondere leicht festge­ stellt werden kann, ob die Randbereiche des Reliefbildes scharf geworden sind.

Aus Fig. 3A entnimmt man, daß wenn das lichtempfind­ liche Material 12, auf das eine negative oder positive Um­ rißlinienvorlage 13 gelegt worden ist, mit aktivem Licht be­ lichtet und entwickelt wird, belichtete oder unbelichtete Bereiche je nach der Art der lichtempfindlichen Maskier­ schicht 11 eluiert werden. Gemäß der Figur wird z. B. dort ein negatives Reliefbild 16 gebildet, wo die den Umrißli­ nien 14 der Vorlage 13 entsprechenden Bereiche als Rillen 15 vorliegen. Falls die Maskierschicht 11 aus einer unteren Filmschicht, die als hochmolekulare Verbindung vorliegt, und aus einer oberen Schicht in Form von lichtempfindlicher Masse besteht, so ist es nicht nur nötig, die aus der licht­ empfindlichen Masse bestehende Schicht zu entwickeln sondern auch die Schicht, die als Film einer hochmolekularen Ver­ bindung vorliegt, zu ätzen.

Danach wird gemäß Fig. 3B beim Abschälen des Relief­ bildes 16, so daß die Maskierteile 16′ zurückbleiben, der untere dünne Metallfilm 10 der gleichen Gestalt gleichzeitig abgeschält, um eine Maskierplatte 18 zu erhal­ ten, wobei das gewünschte Bild als konkave Teile 17 erzeugt wird.

Bei diesem Vorgang werden die Teile 15′ des dünnen Metall­ films, die den Umrißlinien 14 der Vorlage 13 ent­ sprechen, nicht abgeschält sondern sie verbleiben am Schichtträger 9, weil die Teile 15′ kein Reliefbild 16 an ihrer Ober­ fläche besitzen. Deswegen werden bei Bestrahlung mit aktivem Licht die Bereiche, die den Umrißlinien entsprechen, von dem Licht abgeschirmt. Die Umrißlinien 14 der Vorlage 13 umfas­ sen auch Linien, die zur Herstellung von Maskierplatten für andere Farben bzw. Farbauszüge verwendet werden. Weil je­ doch sie als dünner Metallfilm verbleiben, wird es überflüssig, die Rillen mittels Korrekturflüssigkeit aufzu­ füllen und zuzudecken.

Weitere Einzelheiten der Erfindung sind der folgenden Beschreibung der Beispiele zu entnehmen

Beispiel 1

In 89,5 ml Wasser wurden 10 Gramm vollständig ver­ seifter Polyvinylalkohol mit einem durchschnittlichen Poly­ merisationsgrad von 1700 sowie 0,5 g Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminsulfat mit Formaldehyd gelöst, um eine lichtempfindliche Masse in einer Lösung vorzubereiten, die 10,5% Feststoffe enthielt.

Auf einer Seite eines 100 µ starken Polyäthylentere­ phthalatfilms wurde Aluminium aufgedampft, um einen dünnen Aluminiumfilm mit einer Stärke von 100 µ zu er­ geben.

Mittels einer Drahtstange wurde diese gelöste licht­ empfindliche Masse zur Beschichtung des dünnen Aluminium­ films verwendet, so daß eine Filmdicke nach dem Trocknen von 10 µ entstand, die danach bei 90°C während 3 Minuten getrocknet wurde, um eine lichtempfindliche Mas­ kierschicht zu bilden. Auf diese Weise wurde ein Bildauf­ nahmematerial gebildet.

Eine positive Umrißlinienvorlage wurde in Kontakt mit der lichtempfindlichen Maskierschicht gebracht und während 50 Sekunden unter Verwendung einer 2 kW Hochspannungsqueck­ silberlampe belichtet, wobei der Abstand zwischen der Lampe und der Vorlage 1 Meter betrug. Nach Entwicklung des Filmes unter fließendem Wasser entstand ein negatives Reliefbild an dem dünnen Aluminiumfilm, das der Vorlage getreu war.

Dadurch, daß man unter Verwendung einer Nadel das Re­ liefbild selektiv abzieht bzw. abschält, werden diejenigen Bereiche des dünnen Aluminiumfilms, die dem abge­ schälten Reliefbild entsprechen, gleichzeitig entfernt, während die restlichen Bereiche zurückbleiben und als das Licht in hohem Maße abschirmende Maskierplatte vorliegen.

Die Maskierplatten für verschiedene Farben, die unter Verwendung dieser Methode erzeugt werden, können zur Platten­ herstellung direkt ohne Verwendung einer Korrekturflüssig­ keit auf der ganzen Oberfläche verwendet werden, so daß der Vorgang vereinfacht wird.

Beispiel 2

In 89,3 ml Wasser wurde 10 g Copolymer aus Acrylamid mit Diacetonacrylamid (wobei das Copolymerisationsverhält­ nis 6 : 4 betrug) mit einem durchschnittlichen Copolymeri­ sationsgrad von 700 und 0,7 g Kondensationsprodukt aus 4-Diazodiphenylaminzinkchlorid mit Formaldehyd gelöst, um eine gelöste fotoempfindliche Zusammensetzung zu bilden, wobei der Feststoffgehalt bei 10,7% lag.

Durch Kathodenzerstäubung wurde bei einem Argongas­ druck von 5 × 10^-3 Torr eine Seite eines 100 µ starken Polyäthylenterephthalatfilmes mit einer dünnen Kupferfilm­ schicht mit einer Stärke von 100 µ bedeckt.

Diese dünne Kupferfilmschicht wurde unter Verwendung einer Drahtstange mit der gelösten lichtempfindlichen Masse so beschichtet, daß die Schichtstärke nach dem Trocknen 10 µ betrug. Nach einer Trockenzeit von 3 Minuten erhielt man das fertige Bildaufnahmematerial.

Belichtete und entwickelte man das Bildaufnahmematerial auf dieselbe Weise wie im Beispiel 1, so entstand an dem dünnen Kupferfilm ein negatives, der Vorlage ge­ treues Reliefbild. Eine Maskierplatte, die durch selektives Abschälen des Reliefbildes erzeugt wird, läßt sich ohne Korrektur für die Plattenherstellung direkt einsetzen.

Beispiel 3

In 87 g 1,2-Dichloräthan wurden 10 g Polyvinylformal­ harz mit einem Formalgehalt von 81%, einem Azetatgehalt von 9-13% und einem Alkoholgehalt von 5-6,5% sowie 3 g Novo­ lakester aus 1,2-Naphthochinondiazid(2)-4-Sulfonsäure ge­ löst, um die Lösung der lichtempfindlichen Masse vorzube­ reiten.

Ein 100 µ starker Polyäthylenterephthalatfilm wurde unter Vakuum einseitig mit Aluminium beschichtet, so daß eine 100 µ starke dünne Aluminiumfilmschicht entstand.

Diese dünne Aluminiumfilmschicht wurde mittels einer Drahtstange mit der gelösten lichtempfindlichen Masse so be­ schichtet, daß die Schichtstärke nach dem Trocknen 5 µ betrug. Nach einer Trockenzeit von 3 Minuten erhielt man das Bild­ aufnahmematerial.

Eine negative Umrißlinienvorlage wurde dicht gegen die lichtempfindliche Maskierschicht gelegt und mittels dersel­ ben Lichtquelle wie gemäß Beispiel 1 50 Sekunden lang be­ lichtet.

Eine Entwicklungslösung wurde durch Auflösen von 300 g Natriumsalicylat und 10 g Natriumhydroxid in 700 ml Wasser bereitgestellt. Der obengenannte belichtete Film wurde ca. 5 Minuten lang in der Entwicklungslösung entwickelt.

Nach dem Wässern und Trocknen erhielt man ein negatives, der Vorlage getreues Bild auf dem dünnen Aluminiumfilm.

Wie im Falle von Beispielen 1 und 2 wird die licht­ empfindliche Maskierschicht selektiv abgeschält ohne Behand­ lung mit Korrekturflüssigkeit, um eine Maskierplatte zu er­ geben, die für die Plattenherstellung eingesetzt werden kann.

Beispiel 4

Ein Copolymer aus Caprolactam, Hexamethylendiaminadipat und 4′4′-Diaminodicyclohexylmethanadipat wurden in Methanol gelöst, um eine 10%ige Lösung des Copolymers in Methanol zu ergeben.

Ein 100 µ starker, durch Vakuumaufdampfen von Aluminium auf einen 100 µ dicken Polyesterfilm erhaltener Schichtträger wurde mit der Copolymerlösung beschichtet. Nach dem Trocknen entstand eine Copoly­ merschicht mit einer Stärke von 10 µ.

Dieser Copolymerfilm wurde mit einer 20%igen Lösung Natriumnaphthochinon(1,2)diazid(2)-5-sulfonat eines Novolak­ harzesters in Methyläthylenketon und Toluol (1 : 1) beschich­ tet, um eine Schicht des Fotosensibilisierungsmittels zu bil­ den, der eine Stärke von 3 µ nach dem Trocknen aufwies.

Die so erzeugte Schicht wurde in Kontakt mit einer Vor­ lage gebracht und mit UV-Strahlung belichtet, wonach sie in Natriumhydroxidlösung entwickelt wurde.

Danach wurde der entwickelte Film in einer 20%igen wäßrigen Lösung eines neutralen Salzes der p-Chlor-benzoe­ säure behandelt, um ein Reliefbild an dem Aluminiumfilm zu ergeben. Das Reliefbild wurde selektiv mittels eines Messers oder dergleichen abgeschält, wobei der untere Alu­ miniumfilm mitabgeschält wurde, um eine Maskierplatte zu bilden, die ohne Behandlung mit Korrekturflüssigkeit direkt zur Herstellung einer Platte verwendet werden konnte.

Claims (7)

1. Verfahren zur Herstellung von Maskierplatten für verschiedene Farben durch Belichten eines transparenten Schichtträgers mit einer lichtempfindlichen Schicht durch eine Strichvorlage, dadurch gekennzeichnet, daß

• a) der transparente Schichtträger mit einem Metallfilm und darauf einer lichtempfindlichen Schicht, die stär­ ker am Metall haftet als der Schichtträger, beschich­ tet wird,
• b) durch die Strichvorlage bildmäßig belichtet und die lichtempfindliche Schicht durch Entwickeln in den Strichbereichen entfernt wird und
• c) ausgewählte Bereiche der verbleibenden lichtempfindli­ chen Schicht mit der Metallschicht abgezogen werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Metallfilm in einer Stärke zwi­ schen 50 und 1000 mµ durch Vakuumaufdampfen gebildet wird, von Metallen wie Aluminium, Zink, Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Chrom, Kobalt und/oder Eisen.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Metallfilm in einer Stärke zwi­ schen 50 und 1000 mµ durch stromloses Abscheiden gebildet wird, von Metallen wie Silber, Gold, Nickel, Kupfer, Ko­ balt, Palladium und/oder Nickel-Kobalt.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da­ durch gekennzeichnet, daß die lichtempfindli­ che Schicht als eine Einzelschicht aus einem hochmoleku­ laren Bindemittel und einer lichtempfindlichen Masse ge­ bildet wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfind­ liche Schicht als eine Doppelschicht aufgebaut wird, deren untere Schicht aus einem hochmolekularen Bindemitel und deren oberen Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse besteht.

6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekenn­ zeichnet daß der auf das hochmolekulare Bindemittel bezogene Prozentsatz der lichtempfindlichen Masse 3 bis 50% beträgt.

7. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß das hochmolekulare Binde­ mittel ein Amid, Polyvinylpyrrolidon, ein Copolymer aus Vinylmethacrylat und Maleinsäure, ein alkohollösliches Polyamid und/oder ein Copolymer aus Acrylamid und Diaceton­ acrylamid und teilweise verseiftem Polyvinylacetat ist.