DE3327103C2 - Sinterverfahren für Preßkörper - Google Patents

Sinterverfahren für Preßkörper

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DE3327103C2
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Akira Itami Hyogo Doi
Kunihiro Takahashi
Shinya Tsukamoto
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/105Sintering only by using electric current other than for infrared radiant energy, laser radiation or plasma ; by ultrasonic bonding
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Sinterlegierung hoher Qualität von der Art eines Sinterhartmetalls, eines Cermets, einer Keramik und einer Eisen enthaltenden Legierung, sowie ein Verfahren zur Herstellung der Sinterlegierung durch Sintern, bei dem erfindungsgemäß das Sintern in einer Plasmagasatmosphäre aus H ↓2, N ↓2, CO, He und/oder Ar durchgeführt wird.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur pulvermetallurgischen Herstellung von Sinterlegierungen durch Sintern von Preßkörpern entsprechend dem Oberbegriff von Anspruch 1.
Anwendungsgebiet der Erfindung ist die Herstellung von Pulverlegierungen wie Sinterhartmetallen, Cermets (Metallkeramiken), Keramik und Eisen(I!)-Legierungen durch Sintern.
Ays der US-PS 22 27 117 ist ein Verfahren zur Hersteilung von relativ harten Gegenständen aus Metallpulver bekanntgeworden, bei dem das Metallpulver in die erwünschte Form gepreßt wird und der Formkörper in ein verschlossenes, elektrisch leitendes Gehäuse, das evakuiert wird, gebracht wird. Anschließend wird ein inaktives Gas in das Gehäuse eingebracht und eine entsprechende Spannung über das Gehäuse und einer in dem Gehäuse angeordneten Elektrode angelegt, so daß eine Glimmentladung um den Preßkörper entsteht, so daß der Formartikel gesintert wird.
Bisher wurden TiC-enthaltende Sintercarbide auf WC-Basis und Cermets auf TiC-Basis einem Reduzieren durch Sintern unter Vakuum, in einer H2-Atmosphäre unter reduziertem Druck oder in einer CO-Atmosphäre
unter reduziertem Druck unterzogen. Jedoch läßt sich hierbei die Reduktion nicht vollständig durchführen, und
es verbleiben größere Mengen an Sauerstoff in der Legierung, wodurch die durch Sintern zu erzielenden
Eigenschaften beeinträchtigt werden. Stickstoff enthaltende Cermets auf TiC-Basis und Stickstoff enthaltende
Sinterhartmetalle auf WC-Basis werden im allgemeinen in einer ^-Atmosphäre unter reduziertem Druck
gesintert. Hierbei bilden sich jedoch Hohlräume in größerer Anzahl in der Legierung, auch wenn eine Denitrierung verhindert wird, so daß keine kompakte Legierung erhalten wird.
Aufgabe der Erfindung ist es demgemäß, ein Sinterverfahren vorzusehen, bei dem die vorstehend erwähnten Nachteile des Standes der Technik überwunden sind und das zur Herstellung von Sinterlegierungen wie typischerweise Sinterhartmetall, Cermets, Keramik und eisenenthaltende Legierungen geeignet ist.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ergibt sich aus den Kennzeichen der Patentansprüche 1 bis 3.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird zur Herstellung von Pulverlegierungen wie Sinterhartmetallen, Cermets, Keramik und Eisen(Il)-Legierungen der Sintervorgang teilweise oder gänzlich in einem Niedertemperaturplasma durchgeführt.
Dieses neue Verfahren zum Sintern von Pulverlegierungen ermöglicht die Herstellung von Legierungen hoher Qualität, die sich nichi durch das bekannte Vakuumsintern oder Sintern in einer Gasatmosphäre erhalten lassen.
Bevorzugt wird das Sintern von Sinterhartmetallen, Cermets, Keramiken und Eisen(II)-Sinterkörpern unter Verwendung einer Hochfrequenzquelle und/oder Mikrowellenquelle und einer Atmosphäre aus einem oder mehreren der Gase H2, Nj1 CO, He und Ar.
Im allgemeinen werden Plasmen unterteilt in thermische Plasmen im Gleichgewichtszustand, in dem die Elektronen und die Ionen im wesentlichen die gleiche Energie aufweisen, und Niedrigtemperaturplasmen, die nicht im Gleichgewichtszustand sind und in denen die Elektronen eine größere Energie als die Ionen und Gasmoleküle aufweisen.
Bei dem erfindungsgemäßen Sinterverfahren werden die zuletzt genannten Niedrigtemperaturplasmen verwendet. Bei diesen Plasmen sind die Ionen und Gasmoleküle auf Temperaturen von mehreren 100 bis zu 1000° gebracht worden, wobei die Temperatur der Elektronen mehrere 10 000° erreicht. Infolge von nichtelastischen Kollisionen zwischen diesen Elektronen hoher Energie und den Gasmolekülen werden die Gasmoleküle dissoziiert und bilden reaktive Atome oder Radikale, die die Gasreaktion fördern.
Wird ein reduzierendes Gas wie H2 oder CO in den Plasmazustand versetzt, dann ist es gelegentlich möglich. Stoffe zu reduzieren, die aufgrund von thermodynamisch ermittelten chemischen Gleichgewichten als kaum reduzierbar zu betrachten sind. Ein CO-Plasma ist nicht nur wie vorstehend beschrieben reduzierend wirksam, sondern ermöglicht auch eine genaue Steuerung des Kohlenstoffgehaltes in einem Sinterkörper.
Ein Plasmasintern unter Verwendung von H2 (das nachstehend als »H2-Plasmasintern« bezeichnet werden soll) ist mittelsparender und wirtschaftlicher als ein gemäß dem Stand der Technik durchgeführtes Sintern in einer H2-Atmosphäre unter reduziertem Druck, weil niedrigere Konzentrationen (ein geringerer Gasfluß) eingehalten werden können. Zur Vergrößerung der reduzierenden Wirkung wird das bekannte Verfahren in einer Hj-Atmosphäre unter einem reduzierten Druck durchgeführt, der ein Mehrfaches von 10 mbar bis zu mehreren 100 mbar beträgt. Bei diesem Verfahren ist nicht nur ein vollständiges Entfernen von in der Legierung enthaltenem Sauerstoff unmöglich, sondern es ist auch ein ausreichendes Entgasen zum Entfernen von in der Legierung enthaltenen unerwünschten Gasen wie HvO aufgrund des Druckes nichi möglich, was einem Sintern hinderlich ist. Im Falle des Hj-Plasmasintern läßt sich dagegen die Reduktion in einem H2-Plasma unter einem Druck von einigen mbar und ein Entgasen zum Entfernen von unerwünschten Gasen aufgrund des hohen Vakuums in ausreichender Weise durchführen. Beim Hi-Plasmasintern läßt sich somit eine Legierung mit extrem
geringem Sauerstoffgehalt und wenigen darin enthaltenen Hohlräumen erzielen.
Werden ^-enthaltende Legierungen in bekannter Weise unter Vakuum gesintert, dann tritt in beträchtlichem \uOTiaB eine Denitrierung der Legierung auf. wobei an der Oberfläche getrennte Schichten aus WC und Co :ntstehen und die Oberflächenhärte verringert wird. Zum Sintern in der N .-Atmosphäre ist es erforderlich, das Nj-Gas in hoher Konzentration einzuführen, damit eine Denitrierung und ein Entgasen des Inneren der Legie- ί rung unter Hohlraumbildung in nur geringem Ausmaß auftritt. Ein Ni-Plasmasintern hat dagegen den Vorteil, daß auch unter Durchfluß einer geringen Menge an N2 ein wirksames Verhindern einer Denitrierung und eine wirksame N2-Steuerung durch die Gegenwart von plasmaakiivierten NrRadikalen ermöglicht werden. Ferner lassen sich dabei unerwünschte, im Inneren der Legierung esitstehende Gase aufgrund des hohen Vakuums leicht entfernen wodurch eine Hohlraumbildung verhindert wird.
Bei dem CO-Plasmasintern sind die reduzierende Wirkung und die Steuerung des Kohlenstoffgehalts der Legierungen von Wichtigkeit. Ähnlich wie im Falle des H2- oder N.-Plasmasinterns ist das CO-Piasmasintern wirksam bei geringeren Konzentrationen und ermöglicht das Erzielen eines vollständigeren Entgasens im Vergleich mit dem bekannten in einer CO-Atmosphäre durchgeführten Sintern. Beim Plasmasimern mit H;. N2. CO, He und Ar wird die Oberfläche eines Sinterkörpers einem Plasmaätzen durch das aktivierte Gas ausgesetzt, is Folglich wird die Oberfläche der Legierung gereinigt, wodurch die Eigenschaften verbessert werden.
Wird das Sintern in einer Atmosphäre durchgeführt, in der das Plasma in einer Mischung aus H2, N2. CO, He und Ar erzeugt wird, dann entsteht an den Sinterkörpern eine Kombination der Wirkungen eines Verhinderns der Denitrierung, einer Reduktion und eir. zr Steuerung des Kohlenstoffgehalts. Diese Kombination von Wirkungen läßt sich bei einem gemäß dem Stand der Technik durchgeführten Vakuumsintern oder Sintern in einer Gasatmosphäre nicht erzielen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird im allgemeinen das Sintern bei einer Temperatur von 1000 bis 1500°C unter einem Plasmagasdruck von 0.13 bis 66,5 mbar durchgeführt.
Anhand der Figuren werden das Prinzip und die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens näher erläutert. Es zeigt F i g. 1 eine nach dem erfindungsgemäßen Verfahren arbeitende Sinteranlage,
Fig.2 und 3 andere Ausführungsformen von nach dem erfindungsgtmäßen Verfahren arbeitenden Sinteranlagen,
F i g. 4 den Härteverlauf in Tiefenrichtung in einer erfindungsgemäß N2-plasmagesinterten Probe und
F i g. 5 den Härteverlauf in Tiefenrichtung in einer erfindungsgemäß N.-plasmagesinterten, einer in N2-Atmo-Sphäre gesinterten und einer unter Vakuum gesinterten Probe.
Die Fi g. 1 zeigt eine Ausführungsform einer Vorrichtung und eines Sinterofens einer Sinteranlage, in der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird. In einem Ofenkörper 1 aus rostfreiem Stahl sind eine Graphitheizeinrichtung 2, ein Isoliermaterial 3 wie Kohlewolle und ein Reaktionsrohr 4 aus Graphit, das mit Werkstükken 5 beschickbar ist, angeordnet. Über ein Ventil 6 wird mittels einer Drehkolbenpumpe 7 der Ofenkörper 1 evakuiert und unter Vakuum gehalten. Das Reaktionsrohr 4 ist mit einer Quarzrohrleitung 8 verbunden. In das andere Ende der Rohrleitung 8 werden H2-, N2-, CO-, Ar- und He-Gase über Ventile 13 bis 17 und Durchflußmesser i8 bis 22 aus Gasflaschen 23 bis 27 eingeführt. Aus einem Mikrowellengenerator 12 werden Mikrowellen über ein Abstimmgerät 11 und einen Wellenleiter 10 in die Rohrleitung 8 geleitet, in der sie die Gase in Plasmen umwandeln.
Andere Ausführungsformen der Apparate und Sinterofen sind in den F i g. 2 und 3 dargestellt. In der F i g. 2 wird das Gasplasma 9 unter Verwendung eines Hochfrequenzgenerators 28, eines Abstimmgeräts 29 und einer Kupferspule 30 erzeugt und in der Fig. 3 wird ein Gas mit höherer Plasmadichte unter Verwendung eines Mikrowellengenerators 12 und eines Hochfrequenzgenerators 28 in Kombination miteinander hergestellt.
Anhand der nachstehenden, nicht einschränkenden Beispiele wird die Erfindung noch näher erläutert.
Beispiel 1
Dieses Beispiel beschreibt die Herstellung eines Sinter-Cermets. Ein handelsübliches TiC-Pulver mit einer mittleren Korngröße von 1 um wurde mit einem TiN-Pulver, einem WC-Pulver und einem Mo2C-Pulver von im wesentlichen gleicher Korngröße und mit einem Co-Pulver und einem Ni-Pulver mit einer Korngröße von 150 μιτι oder weniger gemäß der in der Tabelle 1 angegebenen Rezeptur vermischt, in einem mit rostfreiem Stahl ausgekleideten Gefäß mit Aceton vermischt und dann 96 Stunden naß in einer Kugelmühle behandelt. Diese Pulvermischung wurde nach Zugabe von 3 Ge\v.-% Kampfer unter einem Druck von 20 kN/cm2 gepreßt.
Die auf diese Weise erhaltene Probe wurde in der in der F i g. 1 dargestellten Anlage von Zimmertemperatur auf 1200°C erhitzt, während ein H2-Plasma unter einem Druck von 0,67 mbar mit einer Frequenz von 2450 MHz und einer Mikrowellenleistung von 1 kW erzeugt wurde, wonach die Probe 1 Stunde bei 14001C unter einem Druck von 1,3 χ 10-2 mbar gesintert wurde. Die mit dem H2-Plasmasinterverfahren erfindungsgemäß erhaltene Legierung wies einen Sauerstoffgehalt von 0,05% und eine nur geringe Hohlraumbildung auf. Die Hohlraumbildung wurde durch Beobachten einer polierten Schnittfläche der gesinterten Legierung mit einem optischen bo Mikroskop bei 200facher Vergrößerung beurteilt.
Zum Vergleich wurde ein Sintern in einer H2-Atmosphäre unter reduziertem Druck gemäß dem Stand der Technik durchgeführt, indem eine Probe in einer H2-Atmosphäre unier einem Druck von 67 mbar auf 12000C erhitzt und dann 1 Stunde unter einem Druck von 1,3 χ 10-- L;-i 1400'C gesintert wurde. Die in einer H2-Atmosphäre unter reduziertem Druck gemäß dem Stand der Technik gesinterte Legierung wies einen Sauerstoffge- ts halt von 0,6% und mehr Hohlräume und mehr dispergierten freien Kohlenstoff auf als die durch H2-Plasmasintern erhaltene Legierung.
Tabelle 1 (Gew.-%)
TiC TiN WC Mo2C Ni Co
48 12 15 10 10 5
Beispiel 2
Es wurden Ausgangsstoffe gemäß der Rezeptur der Tabelle 1 des Beispiels 1 miteinander vermischt und in ίο gleicher Weise wie dort beschrieben behandelt. Die erhaltene Probe wurde in der in der F i g. 2 gezeigten Anlage unter einem Druck von l,3x 10-2mbar von Zimmertemperatur auf 10000C und dann unter Erzeugen eines N2-Plasmas unter einem Druck von 0,4 mbar weiter auf 1400°C erhitzt und 1 Stunde unter denselben Plasmabedingungen gehalten. Das Plasma wurde bei einer Hochfrequenzausgangsleistung von 500 W mit einer Frequenz von 13.56 MHz erzeugt.
Zum Vergleich wurde eine Probe in bekannter Weise in einer ^-Atmosphäre gesintert. Die Temperatur wurde auf die gleiche Weise wie vorstehend beschrieben erhöht, das Sintern jedoch durch Erhitzen von 1000° C auf 14000C und Beibehalten der Temperatur von 14000C in einer ^-Atmosphäre unter einem Druck von 67 mbar durchgeführt.
Die Tabelle 2 zeigt den Gehalt an N2 und O2 in den gesinterten Legierungen und das Ergebnis einer Bestimmung der Hohlräume. Die Bestimmung der Hohlräume wurde gemäß dem Prüfverfahren für Hohlräume in Sinterhartmetallen durchgeführt, das von Funmatsu Yakin Gijutsu Kyokai in »Cemented Carbides and Tools«, Seite 55, angegeben worden ist.
Tabelle 2 N2(Gew.-°/o) 02(Gew.-%) Hohlräume (Typ)
Sintern 2,61
2,60
0,5
0,6
A1
A2, A3, B,
N2-Plasma
^-Atmosphäre
Wie aus der Tabelle 2 hervorgeht, besteht kaum ein Unterschied im N2-Gehalt der beiden Proben. Dies bedeutet, daß beim erfindungsgemäßen Verfahren, bei dem die Konzentration der ^-Atmosphäre geringer ist, die reduzierende Wirkung in beträchtlichem Ausmaß von den vom Plasma aktivierten Radikalen ausgeht.
Dagegen besteht ein ausgeprägter Unterschied bei der Hohlraumbildung. Im Falle des !^-Plasmasinterverfahrens ist die Hohlraumbildung (Typ A) am geringsten. Hierbei treten verteilte Hohlräume oder Poren mit einem Durchmesser von 10 um oder weniger auf. Im Faiie des Sinterns in der N2-Atmosphäre wurden in der Probe Hohlräume oder Poren vom Typ Bi mit Durchmessern von 10 μίτι oder mehr festgestellt. Die Ursache des Unterschieds im Ausmaß der Hohlraumbildung liegt darin, daß das N^-Plasmasintern unter einem niedrigeren Druck durchgeführt wird, als das Sintern in der N2-Atmosphäre, so daß beim erfindungsgemäßen Verfahren ein ausreichendes und gleichmäßiges Entgasen der Probe erzielt wird.
Die Härte der Oberfläche der durch N2-Plasmasintern erhaltenen Sinterlegierung entspricht im wesentlichen derjenigen des Inneren der Probe, wie aus der F i g. 4 hervorgeht.
Beispiel 3
45
Ausgangsstoffe wurden gemäß der in der Tabelle 1 des Beispiels 1 angegebenen Rezeptur zusammengemischt
und in analoger Weise zu derjenigen des Beispiels 1 verarbeitet. Unter Verwendung der in der F i g. 3 gezeigten Anlage wurde die Probe von Zimmertemperatur auf 1200°C erhitzt, während unter einem Druck von 0,4 mbar ein NYPIasma bei einer Frequenz von 13.56MHz und mit einer Hochfrequenzausgangsleistung von 500 W
ί erzeugt wurde. Die Probe wurde dann 1 Stunde unter den gleichen Bedingungen des N2-Plasmas gehalten.
Zur Durchführung eines Vergleichsversuchs wurde in einer ^-Atmosphäre unter einem Druck von 67 mbar die Temperatur von Zimmertemperatur auf 1200° C erhöht, wonach die Temperatur in einer ^-Atmosphäre unter einem Druck von 67 mbar weiter auf 14000C erhöht wurde. Die Probe verblieb danach 1 Stunde unter denselben Bedingungen der N2-Atmosphäre.
Die Tabelle 3 zeigt einen Vergleich der Legierungseigenschaften dieser beiden Proben.
Tabelle 3
Sintern N2(Gew.-%) O2(Gew.-%) Hv
H2-.N2-Plasma 2,60 0,04 1625
H2-. N2-Atmosphäre 2,40 0,6 1508
Bei dem erfindungsgemäßen, in einem N2- und N^-Plasma durchgeführten Sintern werden ein normaler N2-Gehalt. jedoch ein viel geringerer Cn-Gehalt und eine größere Oberflächenhärte erhalten, als dies vergleichsweise bei einem in bekannter Weise in einer H2- und N2-Atmosphäre durchgeführten Sintern der Fall ist.
Die im Beispiel 3 erzielte Wirkung des H2- und N2-Plasmasinterns erscheint als die Summe der im Beispiel 1 erzielten Wirkung des H2-Plasmasinterns und der im Beispiel 2 erzielten Wirkung des N2-Plasmasinterns. Es
erweist sich somit, daß die reduzierende Wirkung und die Nitrierwirkung in der H2-Plasmaatmosphäre bzw. in der N2-Plasmaatmosphäre wirksam auftreten. In zusätzlicher Weise findet ein ausreichendes Entgasen statt, weil sich die beiden Gase H2 und N2 unter geringerem Druck befinden. Es ist zu folgern, daß beim erfindungsgemäßen Verfahren infolge der vorstehend beschriebenen reduzierenden Wirkung und der Verhinderung einer Denitrierung, sowie infolge der Entgasung die Legierungseigenschaften in beträchtlicher Weise verbessert werden.
Beispiel 4
Es wurden Ausgangsstoffe gemäß der in der Tabelle 1 des Beispiels 1 angegebenen Rezeptur miteinander vermischt und in analoger Weise zum Beispiel 1 verarbeitet. Unter Verwendung der Anlage der F i g. 3 wurde die Probe von Zimmertemperatur auf 12000C erhitzt, während in einem Mischgas aus H2 und CO (2 :1) unter einem Druck von 0,8 mbar ein Plasma durch gleichzeitige Einwirkung einer Mikrowellenausgangsleistung von 1 kW bei einer Frequenz von 2450 MHz und einer Hochfrequenzausgangsleistung von 500 W bei einer Frequenz von 13,6 MHz erzeugt wurde. Die Probe wurde dann auf 1400°C erhitzt, während in einem Mischgas aus H2. CO und N2 im Verhältnis 2:1:1 unter einem Druck von i,l mbar ein Plasma unter denselben Bedingungen einer Mikrowellen- und Hochfrequenzeinwirkung erzeugt wurde. Die Probe verblieb 1 Stunde unter diesen Bedingungen.
Unter den gleichen Bedingungen des Gasdurchsatzes, der Mischungszusammensetzung und des Druckes wie vorstehend beschrieben wurde ein Vergleichsversuch durchgeführt, bei dem jedoch eine Plasmaerzeugung stattfand. Ein Vergleich der Legierungseigenschaften der beiden Proben geht aus der Tabelle 4 hervor.
Tabelle 4
Sintern N2(Gew.-%) O2(Gew.-%) C-Gehalt/Standard- Hv
abweichung
H2-,N2-,CO-Plasma 2,60 0,03 8,70%/0,02 1632
H2-, N2-,CO-Atmosphäre 2,40 0,4 8,65%/0,12 1511
Bei diesem Beispiel des Plasmasinterverfahrens werden die Gase gemischt zugeführt und es wird der Kohlenstoffgehalt mit dem CO-Gas gesteuert. Wie aus der Tabelle 4 hervorgeht, ist die Standardabweichung (mittlere quadratische Abweichung) der Messungen des Kohlenstoffgehaltes gering (0.02). Das heißt, daß bei den nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Proben nur geringe Streuungen der Kohlenstoffgehaltwerte auftreten. Der Gehalt an N2 und O2 und der Härtewert Hv entspricht den Angaben der Tabelle 4.
Beispiel 5
Zur Herstellung eines Sinterhartmetalls wurde WC-Pulver mit einer mittleren Korngröße von 2 μηι mit einem TiC-Pulver, einem TiN-Pulver und einem TaC-Pulver mit jeweils einer Korngröße von 1 μΓη und einem Co-PuI-ver mit einer Korngröße von 150 μΐη oder weniger gemäß der Rezeptur der Tabelle 5 vermischt. Die Mischung wurde 5 Stunden in einer Mühle mit Aceton vermischt, wonach 3 Gew.-% Kampfer zugegeben wurden. Diese Mischung wurde unter einem Druck von 20 kN/cm2 gepreßt. Danach wurde die erhaltene Probe in der in der F i g. 1 dargestellten Anlage unter einem Druck von 1,3 χ 10~2 mbar von Zimmertemperatur auf 1000c C erhitzt. Danach wurde die Probe auf 1400cC erhitzt, wobei unter einem Druck von 0,3 mbar ein N2-Plasma mit einer Mikrowellenausgangsleistung von 2 kW erzeugt wurde. Die Probe verblieb 1 Stunde unter diesen Bedingungen.
Zum Vergleich wurden Pulver der gleichen Zusammensetzung unter Vakuum oder in einer N2-Atmosphäre gesintert. Das Sintern in der ^-Atmosphäre wurde durchgeführt, indem die Probe von 1000°C auf 1400cC unter einem Druck von 133 mbar erhitzt und 1 Stunde unter diesen Bedingungen gehalten wurde. In der Tabelle 6 sind die Legierungseigenschaften dieser drei Proben angegeben.
Tabelle 5 (Gew.-o/b)
WC TiC TiN TaC Co
55 60 12 5 13 10
Tabelle 6
Sintern N:(Gew.-%) O2(Gew.-%) C-Gehalt/Standard- Hohlräume
abweichung (Typ)
N2-PIasma N2-Atmosphäre
Vakuum 0,60 0,31 6,3°/o/0,15 B2
In der Fig. 5 ist der Härteverlauf in Tiefenrichtung der im N2-PIasma gesinterten Probe und der in der N2-Atmosphäre gesinterten Probe durch Dreiecke dargestellt, während der Härteverlauf in Tiefenrichtune der
0,63 0,30 6,5%/0,06 A,
0,62 0,25 6,4%/0,10 A3
0,60 0,31 6,3°/o/0,15 B,
im Vakuum gesinterten Probe durch Vierecke dargestellt ist. Wie aus der Fig. 5 hervorgeht, ergeben sich Unterschiede im Härteverlauf in Tiefenrichtung zwischen der im N2-Plasma gesinterten Probe und der in der ^-Atmosphäre gesinterten Probe einerseits und der im Vakuum gesinterten Probe andererseits, obwohl zwischen diesen drei Proben keine erheblichen Unterschiede im N2-Gehalt auftreten. Dieser N2-Gehalt ist jedoch jeweils für die Gesamtprobe berechnet. Im Falle der im Vakuum gesinterten Probe findet eine erhebliche Denitrierung unter Bildung von getrennten Schichten aus WC und Co mit geringer Härte an der Oberfläche statt. Das Auftreten von Hohlräumen wurde auch festgestellt. Im Falle der in der ^-Atmosphäre gesinterten Probe findet nur geringe Denitrierung statt und es ist die Obei-flächenhärte im wesentlichen die gleiche wie die Härte im Inneren der Probe, wie aus der F i g. 5 hervorgeht, jedoch tritt in erheblichem Ausmaß eine Bildung von
ίο Hohlräumen auf, wie aus der Tabelle 6 ersichtlich ist. Im Falle der im N2-Plasma gesinterten Probe ist die Oberflächenhärte im wesentlichen die gleiche wie die im Inneren der Probe, wie aus der F i g. 5 hervorgeht, jedoch wurde die Bildung von getrennten Schichten aus WC und Co sowie von Hohlräumen kaum festgestellt.
Beispiel 6
Ausgangsstoffe wurden gemäß Beispiel 5 miteinander vermischt und verarbeitet. Unter Verwendung der in der F i g. 3 dargestellten Anlage wurde eine Probe unter den in der Tabelle 7 angegebenen Sinterbedingungen durch Einwirkung von Mikrowellen mit einer Ausgangsleistung von 1 kV und einer Hochfrequenz mit einer Ausgangsleistung von 500 W gesintert.
Tabelle 7
Zimmertemperatur bis 1000°C lOOObis 1400°C,dann 1 hgehalten
Druck l,3mbar 2,0 mbar
Mischgaszusammensetzung H2 : CO = 2 : 1 H2 : CO : N = 2 : 1 : 1
Ein Vergleichsversuch wurde durchgeführt, indem eine Probe in einer Mischgasatmosphäre unter den in der Tabelle 7 angegebenen Bedingungen, jedoch ohne Erzeugung eines Plasmas gesintert wurde. Die Legierungseigenschaften der erhaltenen gesinterten Proben sind in der Tabelle 8 angegeben.
Tabelle 8 N2 (Gew.-%) 02(Gew.-%) C-Gehalt/Standard-
abweichung
Hv Hohlräume
(Typ)
Sintern
35
0,63
0,55
0,01
0,12
6,5%/0.02
6,4%/0,28
1750
1680
A,
A3
Mischgasplasma
Mischgasatmosphäre
Wie aus der Tabelle 8 hervorgeht, führt das Plasmasintern zu besseren Eigenschaften bezüglich des N2-Gehalts. des 02-Gehalts, der gleichmäßigen Verteilung des C-Gehalts und der Härte.
Beispiel 7
Zur Herstellung einer Keramik durch Plasmasintern wurde ein AbOß-Pulver mit einer Korngröße von 0,5 um mit 10 Gew.-% Paraffin vermischt, 100 Stunden in einer Kugelmühle behandelt und dann unter einem Druck von 25kN/cm2 gepreßt. Unter Verwendung der in der Fig.2 dargestellten Anlage wurde die Probe auf 1400°C erhitzt, während ein Ar-Plasma unter einem Druck von 1,3 mbar durch Einwirkung einer Hochfrequenz mit einer Leistung von 300 W erzeugt wurde. Die Probe wurde dann 2 Stunden unter diesen Bedingungen gehalten.
Im Stand der Technik wird das Sintern von Keramik unter Vakuum durchgeführt. Hierbei entsteht jedoch ein Nachteil darin, daß im Vakuumsinterofen die Oberfläche des Sinterkörpers durch eine Kohleheizeinrichtung oder Kohlewolle aufgekohlt wird, so daß die Oberfläche des weißen Sinterkörpers dunkel wird.
Bei dem gemäß diesem Beispiel durchgeführten Ar-Plasmasintern fand kein Aufkohlen statt, weil die Alumtniumoxidoberflächen von den aktivierten Ar-Atomen geätzt und dadurch aufgekohlte Flächen entfernt wurden.
Beispiele
Zur Herstellung eines Eisen(II)-Sinterkörpers durch Plasmasintern wurde Pulver gemäß Tabelle 9 mit einer
Korngröße von 150 μιη oder weniger 1 Stunde in einer Mischmaschine miteinander vermischt und dann einem CO-Plasmasintern oder, zum Vergleich, einem Sintern in einer CO-Atmosphäre unterzogen. Die Bedingungen sind in der Tabelle 10 angegeben. Das Plasmasintern wurde unter Einwirken von Mikrowellen mit einer Ausgangsleistung von 2 kW unter Verwendung der in der Fig. 1 dargestellten Anlage durchgeführt.
Tabelle 9 (Gew.-%)
Fe Mn Cr Mo C
Rest 0.6 1 0.3 0.6
Tabelle 10
Sintern Temperatur Atmosphäre
CO-Plasma Zimmcrtemp. auf 125(FC CO: 13 mbar
CO-Atmosphärc dto. CO : 133 mbar
Beim Vakuumsintern eines Kohlenstoff enthaltenden Eisen(ll)-Pulvers gemäß dem Stand der Technik ist es schwierig, ein Entkohlen zu verhindern, weil der Kohlenstoff zum Reduzieren von im Pulver enthaltenen Eisenoxiden verwendet wird. Deshalb wird das Sintern in einer CO-Atmosphäre durchgeführt. Bei einem CO-Plasmasintern unter einem Druck von 13 mbar, wie in der Tabelle 1 angegeben, ergibt sich eine einwandfreie Steuerung des Kohlenstoffgehalts und Reduktionswirkung, wobei diese Ergebnisse zumindest vergleichbar sind mit denen, die bei einem Sintern in einer CO-Atmosphäre unter einem Druck von 133 mbar erzielt werden. In zusätzlicher Weise wird beim Plasmasintern die Oberfläche der Sinterlegierung aufgrund der Ätzwirkung gereinigt.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur pulvermetallurgischen Herstellung von Sinterlegierungen durch Sintern von Preßkörpern aus Pulvern der Legierungsbestandteile mittels Gasentladung in einer Schutzgasatmosphäre, dadurch
gekennzeichnet, daß teilweise oder gänzlich in einem Niedertemperatur-Plasma gesintert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma unter Verwendung einer Hochfrequenz- und/oder Mikrowellenquelle erzeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma unter einem Druck von 0,13 bis 66,5 mbar gehalten wird.
DE3327103A 1982-07-31 1983-07-27 Sinterverfahren für Preßkörper Expired DE3327103C2 (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU549376B2 (en) * 1983-02-25 1986-01-23 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Plasma treatment
JPS60166264A (ja) * 1984-02-10 1985-08-29 科学技術庁無機材質研究所長 炭化けい素の焼結法
US4676940A (en) * 1985-04-01 1987-06-30 Kennecott Corporation Plasma arc sintering of silicon carbide
US4649002A (en) * 1985-04-01 1987-03-10 Kennecott Corporation System for preventing decomposition of silicon carbide articles during sintering
US4698481A (en) * 1985-04-01 1987-10-06 Kennecott Corporation Method for preventing decomposition of silicon carbide articles during high temperature plasma furnace sintering
JPS6274003A (ja) * 1985-09-26 1987-04-04 Nippon Kokan Kk <Nkk> 圧粉体の焼結方法
FR2616088B1 (fr) * 1987-06-03 1991-07-05 Rifa Sa Procede et installation pour traiter la surface d'objets
US5048801A (en) * 1989-07-12 1991-09-17 Risi Industries Sintering furnace
US5131992A (en) * 1990-01-08 1992-07-21 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Interior Microwave induced plasma process for producing tungsten carbide
DE4340652C2 (de) * 1993-11-30 2003-10-16 Widia Gmbh Verbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung
US5478522A (en) * 1994-11-15 1995-12-26 National Science Council Method for manufacturing heating element
EP0717017B1 (de) * 1994-12-07 1999-08-04 Asulab S.A. Verfahren zur Herstellung eines Sinterkörpers aus Zirconiumoxyd
EP0739865A1 (de) * 1995-04-24 1996-10-30 Asulab S.A. Sinterkörper auf Zirconiumoxyd und Verfahren seiner Herstellung
CH688196A5 (fr) * 1994-12-07 1997-06-13 Asulab Sa Article à base de zircone fritté et procédé d'obtention d'un tel article.
US6004505A (en) * 1996-07-26 1999-12-21 Dennis Tool Corporation Process and apparatus for the preparation of particulate or solid parts
US5848348A (en) * 1995-08-22 1998-12-08 Dennis; Mahlon Denton Method for fabrication and sintering composite inserts
US6066290A (en) * 1996-07-26 2000-05-23 The Pennsylvania State Research Foundation Method and apparatus for transporting green work pieces through a microwave sintering system
US6063333A (en) 1996-10-15 2000-05-16 Penn State Research Foundation Method and apparatus for fabrication of cobalt alloy composite inserts
US6183689B1 (en) * 1997-11-25 2001-02-06 Penn State Research Foundation Process for sintering powder metal components
DE19854385C2 (de) * 1998-11-25 2001-06-28 Martin Kraemer Verfahren zur Herstellung von Diamantverbundwerkstoffen
CN1187152C (zh) * 1999-03-03 2005-02-02 株式会社新王磁材 稀土磁铁烧结用烧结箱及用该箱烧结处理的稀土磁铁制法
US6365885B1 (en) 1999-10-18 2002-04-02 The Penn State Research Foundation Microwave processing in pure H fields and pure E fields
AUPR186200A0 (en) * 2000-12-04 2001-01-04 Tesla Group Holdings Pty Limited Plasma reduction processing of materials
US20060057016A1 (en) * 2002-05-08 2006-03-16 Devendra Kumar Plasma-assisted sintering
DE10322871A1 (de) * 2003-05-21 2004-12-16 Kennametal Widia Gmbh & Co.Kg Sinterkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
US6939389B2 (en) * 2003-08-08 2005-09-06 Frank Mooney Method and apparatus for manufacturing fine powders
CN102032784A (zh) * 2010-12-17 2011-04-27 湖南航天工业总公司 多功能微波烧结试验炉
CN105710367A (zh) * 2016-03-03 2016-06-29 中研智能装备有限公司 一种轧辊等离子3d打印设备及方法
CN107502765B (zh) * 2017-10-12 2018-10-09 钢铁研究总院 一种多组分材料的高通量微制造方法
CN110273065B (zh) * 2018-03-14 2021-05-14 宝山钢铁股份有限公司 一种铁矿石微波烧结方法
US11766718B2 (en) * 2019-09-12 2023-09-26 Desktop Metal, Inc. Compound furnace
CN111590070A (zh) * 2020-05-23 2020-08-28 自贡硬质合金有限责任公司 一种yt硬质合金烧结方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE692461C (de) * 1932-04-23 1940-06-20 Electricitaets Act Ges Verfahren zum Herstellen von aus einem einzigen Kristall oder aus Grosskristallen bestehenden Koerpern aus hochschmelzenden Metallen
IT364899A (de) * 1937-08-27
SU420394A1 (ru) * 1972-06-19 1974-03-25 Ю. С. Найбороденко, В. И. Итин, В. П. Ушаков, Л. И. П. Боровинска В. М. Маслов, В. А. Подергин, йнов Способ обработки порошкообразных материалов
DE2517180C3 (de) * 1975-04-18 1979-04-19 Fa. Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von feinem hochkapazitiven Erdsäuremetallpulver für Elektrolytkondensatoren
US4011076A (en) * 1976-03-18 1977-03-08 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Method for fabricating beryllium structures
JPS5390111A (en) * 1977-01-20 1978-08-08 Taguchi Chobee Ion sintering of metal material
JPS5450407A (en) * 1977-09-30 1979-04-20 Toshiba Corp Preparation of sintered product
JPS5813602B2 (ja) * 1978-03-17 1983-03-15 株式会社小松製作所 鋼粉の誘導加熱による還元焼結法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3327103A1 (de) 1984-02-09
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US4501717A (en) 1985-02-26
JPS6311401B2 (de) 1988-03-14

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