DE3490382T1 - Faseroptischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder - Google Patents

Faseroptischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder

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DE3490382T1
DE3490382T1 DE19843490382 DE3490382T DE3490382T1 DE 3490382 T1 DE3490382 T1 DE 3490382T1 DE 19843490382 DE19843490382 DE 19843490382 DE 3490382 T DE3490382 T DE 3490382T DE 3490382 T1 DE3490382 T1 DE 3490382T1
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David B. Tustin Calif. Chang
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    • G02B6/26Optical coupling means
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Description

Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft faseroptische Strahlaufteiler und -verbinder zum Teilen, Verbinden und Lenken von Lichtstrahlen entlang gewünschter Wege.
Die Anwendung von faseroptischen Strahlenaufteilern/-verbindern zum Lenken von Licht entlang eines gewünschten Weges ist bekannt. Verschiedene Beispiele von angewandten Verfahren zur Hervorbringung eines Netzes von Lichtwegen sind veröffentlicht worden, zum Beispiel in den US-Patenten 4,314,740, 3,968,564, 4,346,961, 4,351,585 und 4,296,995. In jedem dieser Patente sowie in anderen Arbeiten auf diesem Gebiet sind mindestens zwei optische Fasern erforderlich gewesen, die infolge eines Kupplungsbereiches oder -raumes zwischen den Fasern getrennt wurden und/oder deren
Formen beträchtlich abgeändert werden mußten. Diese Anordnungen
gemäß dem Stand der Technik erfordern eine genaue Ausrichtung der Faserenden, die in einigen Fällen um weniger als eine Lichtwellenlänge voneinander getrennt sein können, oder sie erfordern eine sorgfältige Gegenüberstellung von Fasern, von denen Bereiche der Umhüllung genauestens entfernt worden sind.
Zur Vermeidung von Polarisationsveränderungen ist es ebenfalls wichtig, die optischen Faserenden und/oder -längen genau auszurichten. Bei vielen Anwendungen und bei der Nutzbarmachung von optischen Fasern ist es wichtig, eine lineare Polarisation des Lichtes beizubehalten. Eine Änderung des Polarisationszustandes kann als Randverschiebungen in Erscheinung treten und kann große Rauschamplituden in das Ergebnis zum Beispiel eines faseroptischen, interferometrischen Sensors hineinbringen. Um den Beitrag der Rauschamplitude zu vermindern, der durch eine Änderung des Polarisationszustandes hervorgerufen wird, können fiberoptischen Strahlaufteiler mit abgeschrägten Enden hergestellt werden, polarisationstreue Fasern. Durch die Anwendung von polarisationstreuen Fasern wird der Einfluß von Polarisationsvermischungen innerhalb der Fasern verringert. Die genaue Ausrichtung, der Faserenden und/oder -längen kann die Polarisation durch einen Verbindungsabschnitt beibehalten, der zwei optische Fasern voneinander trennt.
Die genaue Ausrichtung, die für die Enden und Längen der optischen Fasern in dem Kupplungsabschnitt erforderlich sind, verlangen nach sehr genauen und sehr zeitintensiven Verrichtungen. Die hier beschriebene und beanspruchte Erfindung beseitigt das Problem der Ausrichtung zweier optischer Fasern, um Licht mit Hilfe eines inneres Schlitzes zu übertragen, der innerhalb von unberührten optischen Faser geformt wird. Dieser innere Schlitz wird, anders als ein äußerer Abstand zwischen Fasern, dazu benutzt, um eine Neuausrichtung und übertragung des Lichts entlang gewünschter Wege zu verwirklichen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die beschriebene und beanspruchte Erfindung betrifft einen faseroptischen Strahlenaufteiler/-verbinder und ein Verfahren zur Herstellung eines faseroptischen Hohlleiter-Strahlaufteilers/-verbinders. Das Verfahren beinhaltet Schritte der Hervorbringung eines ausgerichteten Schlitzes in einem unberührten optischen Hohlleiter und der Benutzung des Schlitzes, um Lichtstrahlen zu teilen und/oder entlang gewünschter Wege zu lenken. In bevorzugter Form werden mikrobearbeitende Techniken angewendet, um den ausgerichteten Schlitz in dem Hohlleiter hervorzubringen. Die Mikrobearbeitung kann entweder durch einen physikalischen Prozeß oder einen chemischen Prozeß erfolgen und kann ohne Einschränkung Photonenbestrahlung, Ätzen mit reaktiven Partikelstrahlen, Litographie oder Ätzen umfassen. Der "Schlitz" kann außerdem durch Dotieren oder eine ion- oder bestrahlungsbewirkte Beschädigung bzw. Änderung eines lokalen Bereiches der optischen Faser hervorgerufen werden. Bei beiden Verfahren zur Hervorbringung des Schlitzes, das heißt also beim Mikrobearbeiten sowie beim Dotieren, wird die Neuumlenkung und Übertragung des Lichtes in der optischen Faser infolge eines Wechsels in den wirklichen und/oder imaginären Abschnitten des Brechungsindex in dem Lichtweg bewirkt.
Wenn in der Faser Licht auf den Schlitz trifft, wird ein Teil reflektiert und ein Teil weitergeleitet, wobei die Richtung des reflektierten und weitergeleiteten Anteils von dem Winkel abhängt, den der Schlitz mit der Faserachse bildet. Für einige Winkel besteht das geleitete Licht in dem Schlitz in der Form einer abklingenden Welle, während bei anderen Winkeln das geleitete Licht in der Form einer stehenden Welle existiert. Der Anteil an Licht, das durch den Schlitz geleitet wird, kann durch die Schlitzbreite und den Lagewinkel bestimmt werden.
Es ist gemäß der Erfindung auch möglich, einen internen Schlitz innerhalb der unversehrten Faser mit einem dünnen, leitenden Film zu beschichten, um die Schlitzwinkel weniger kritisch zu machen.
Der Strahlaufteiler/-verbinder der vorliegenden Erfindung kann wahlweise in einer Anordnung von linearen Hohlleitern angekuppelt werden. Die linearen Hohlleiter bestehen bei einem bevorzugten Ausfuhrungsbeipsiel aus einer ersten und zweiten Schicht aus einem Werkstoff, der einen bestimmten Brechungsindex aufweist, und aus einer dritten Schicht eines Werkstoffes zwischen den ersten beiden Schichten, der einen Brechungsindex aufweist, der höher ist als der Brechungsindex des Materials der ersten und zweiten Schicht. Eine Vielzahl von unberührten linearen Hohlleitern ist in den Schichten gebildet. Eine Vielzahl von lichtlenkenden Schlitzen ist in jedem der unberührten linearen Hohlleiter angeordnet, wobei die Hohlleiter wahlweise miteinander verbunden sind, um eine Schaltung zu erzeugen. Die linearen Hohlleiter können variierende Breiten aufweisen.
KÜRZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Figur 1 zeigt ein Verfahren gemäß des Standes der Technik zum Umlenken von Licht von einer optischen Faser auf eine andere.
Figur 2 ist eine schematische Darstellung einer unversehrten optischen Faser mit einem inneren Schlitz zur Lichtumlenkung.
Figur 3 ist eine vergrößerte Ansicht einer optischen
Faser und eines unversehrten, inneren Schlitzes.
Figur 4 ist eine Ansicht entlang der Linie 4-4 in der Figur 3.
Figur 4A ist eine Ansicht entlang der Linie 4-4 der Figur 3, wobei der innere Schlitz mit Hilfe eines abweichenden Verfahrens bearbeitet ist.
Figur 5 ist eine schematische Darstellung einer weiteren Konfiguration zur Ablenkung von Licht gemäß der Erfindung.
Figur 6 ist ein zweidimensionaler optischer Hohlleiteraufbau vor der Mikrobearbeitung.
Figur 7 ist der Hohlleiter der Figur 6, der durch
Mikrobearbeiten in ein Netz von miteinander verbundenen eindimensionalen Hohlleitern überführt ist.
BESCHREIBUNG EINES BEVORZUGTEN AUSFUHRUNGSBEISPIELS
Die Erfindung schlägt einen faseroptischen Strahlzerteiler und -verbinder, ein brauchbares Mittel zur Herstellung eines faseroptischen Strahlenzerteilers und -verbinders und ein.Verfahren zur Herstellung komplizierter Netzwerke miteinander verbundener optischer Hohlleiter vor. Die Erfindung eignet sich besonders zur Herstellung polarisationstreuer Strahlaufteiler und -verbinder, sie kann jedoch ebenso für nicht-polarisationstreue Strahlzerteiler und -verbinder nutzbar gemacht werden.
Bei den meisten verwendeten faseroptischen Strahlzerteilern und -verhindern, und insbesondere bei interferometrischen Sensoren ist es wichtig, eine lineare Polarisation beizubehalten. Wenn die Polarisation nicht beibehalten wird, können Streifenverschiebungen und starke Rauschamplituden in den Auswertungen die Folge sein. Polarisationsänderungen können sowohl in den optischen Fasern, die Licht leiten, als auch in den Strahlaufteilern und -verhindern auftreten, die die Fasern miteinander verbinden. Wie in Figur 1 gezeigt ist, sind „polarisationstreue Fasern mit abgeschrägten Enden verwendet worden, um eine lineare Polarisation beizubehalten. Durch die Anwendung von polarisationstreuen Fasern wird der Beitrag der Faser bezüglich Polarisationsänderungen reduziert. Durch sorgfältiges Positionieren der abgeschrägten Enden der Fasern, wie in Figur 1 gezeigt, kann die lineare Polarisation durch einen Kupplungsbereich
oder -raum hindurch zwischen den Fasern beibehalten werden. Dieses Verfahren verlangt jedoch nach sehr genauen und zeitintensiven Ausrichtungen der Faserenden. Die vorliegende Erfindung beseitigt diese Probleme durch die Anwendung einer einzigen unversehrten Faser, um Licht auf den gewünschten Weg zu lenken im Gegensatz zu zwei Fasern, deren Enden sorgfältig ausgerichtet sein müssen, was bisher beim Stand der Technik gemacht wurde.
Es ist außerdem bekannt, die Ummantelung an Abschnitten von zwei Fasern abzustreifen und dann die Fasern gegenüberliegend anzuordnen. Auch diese Art erfordert sorgfältige Positionierung zusätzlich zu einer sehr sorgfältigen Entfernung der Ummantelung.
Wie in der Figur 2 gezeigt ist, beinhaltet die beschriebene und beanspruchte Vorrichtung einen inneren Schlitz 10 innerhalb einer unversehrten optischen Faser 12. Der Schlitz 10 wird bei einem Ausführungsbeispiel durch eine Mikrobearbeitung durch die eine Seite der Faser 12 hergestellt, bis deren Kern durchdrungen ist.
Wie in Figur 4 gezeigt ist, kann der Schlitz 10 durch eine Mikrobearbeitung hervorgebracht werden, bei der zum Beispiel ein fein fokussierter Laser benutzt wird, in welchem Fall nur der mittlere Kern der Faser 12 bearbeitet wird. Alternativ dazu können andere mikrobearbeitende Techniken angewandt werden, die weiter unten beschrieben werden, in welchem Fall eine schmale Rille 34 in der Faser entsteht, wie in der Figur 4A gezeigt ist, die einen Zugang zum Kern der Faser 12 schafft, um den Schlitz 10 nach Wunsch mikrobearbeiten zu können. Der Schlitz 10 kann optisch flach oder zum Fokussieren gekrümmt sein. Der Winkel der Schlitzfläche 14 im Verhältnis zur Längsachse der.Faser beträgt ungefähr 45°, es können jedoch auch andere Winkel angewendet werden, soweit für bestimmte Anwendungen förderlich. Bei diesem Winkel,wie im übrigen in Figur 2 gezeigt, wird ein Teil des Strahles in einer Faser im Inneren an dem Schlitz reflektiert, angedeutet bei 16, und ein Teil des Strahles wird weitergeleitet, wie bei 18 angedeutet. Der reflektierte
Strahl 16 wird dann zu einer benachbarten Faser geleitet, wobei er durch zwei Faseroberflächen 20 und 22 hindurchtritt. Der reflektierte Strahl 16 wird dann nochmals durch den zweiten Schlitz 24 in der zweiten Faser 26 reflektiert. Der hervorstechende Vorteil der beschriebenen und beanspruchten Erfindung besteht darin, daß das Problem der genauen Ausrichtung von zwei Faserenden beseitigt ist, weil eine einzige unversehrte Faser zur Leitung und Umlenkung des Lichtes eingesetzt wird. Natürlich können verschiedene Konfigurationen und Netzwerke von optischen Fasern gebildet werden, und die schematische Verdeutlichung der Figur 2 dient lediglich beschreibenden Zwecken,
Wie in der Figur 5 gezeigt ist, können mehr als zwei optische Fasern eingesetzt werden. Figur 5 ist eine schematische Verdeutlichung eines Strahlaufteilers für ein Faser-Mach-Zender-Interferometer. Es ist natürlich ebenso einfach, die Erfindung für die Verwendung in anderen Strahlaufteilern und -verhindern zu erweitern.
Für die Mikrobearbeitung sind verschiedene Techniken entwickelt worden, um schmale Nuten oder Schlitze in Leitern, Halbleitern und Isolatoren zu formen, einschließlich Siliziumdioxyd (S1O2), aus denen die meisten optischen Fasern hergestellt sind. Die mikrobearbeitenden Techniken betreffen sowohl diejenigen, die auf physikalischen Prozessen beruhen wie zum Beispiel Oberflächenheizen und Sputtern als auch diejenigen, die auf chemischen Prozessen beruhen, wie zum Beispiel die Bildung von flüchtigen Verbindungen aus Oberflächenmaterial sowie Kombinationen von beiden Prozeßtypen. Beispiele für Mikrobearbeitungsprozesse, die benutzt werden können, um den inneren, ausgerichteten Schlitz 10 inner- · halb einer unversehrten optischen Faser 12 zu formen, sind die Direktkontakt- und Projektionslithographie, sowohl die Photolithographie als auch die Röntgenstrahlenlithographie, Lithographie und direktes Schreiben sowie Fräsen mit Elektronen, Ionen- und Laserstrahl, Plasmaätzen, Sputteraätzen, reaktives Sputterätzen, reaktives Ionenätzen, laserbewirktes Ätzen und sysynergistische Elektron- Röntgenlithographie.
Chemische Reaktionen, die durch geladene Partikel oder Photonenbestrahlung beschleunigt werden, ist zum Beispiel ein Verfahren, um einen inneren Schlitz in eine optische Faser hineinzubringen. Wenn zum Beispiel ein intensiver Argonion-Laserstrahl ein Cl2-Molekül trifft, kann das Molekül in reaktive Cl-Atome dissoziiert werden, die dann sehr schnell mit Si- oder SiC^-Oberflächenatomen reagieren. Die Reaktion wird weiter verstärkt, wenn die Oberfläche geheizt wird. Wenn ein fokussierter Laserstrahl in einer Cl2~Atmosphäre eingesetzt wird, werden folglich die Teile der Oberfläche aus Si oder S1O2 weggeätzt, die stark angestrahlt werden. Sehr kleine Löcher und Rillen in der Größenordnung von 5 μΐη sind in dieser Weise hergestellt worden. Die Ätzrate ist ungefähr 80-mal kleiner in S1O2 als in Si, für andere Gase, wie zum Beispiel CF4 und CHF3 kann die Selektivität jedoch umgekehrt werden. Die durch diesen Ätzvorgang hervorgebrachte Oberfläche erscheint glatt mit einer Oberflächenrauhigkeit von ungefähr 1000 Angström. Diese Technik ist zum Beispiel sehr gut geeignet für d ie Produktion der internen Schlitze bei polarisationstreuen Fasern. Eine feinere Auflösung kann jedoch erhalten werden mit dem reaktiven Partikelstrahlätzen. Beide Techniken sind bekannt und werden zum Beispiel zum Ätzen von Schaltungen auf Mikrochips angewendet.
Die zur Zeit erreichten Ätzraten und Auflösungen sind für die fabrikmäßige Herstellung von faseroptischen Strahlaufteilern und -verbindern gemäß der vorliegenden Erfindung relativ akzeptabel. Beim Plasmaätzen von S1O2 in einem Plasma von C2F5, CHF3 und He sind Raten von 10.000 Anström pro Minute mit einer Leistungsdichte von 10 Watt pro Quadratzentimeter erzielt worden. Es würde also weniger als eine Stunde dauern, um den 50 μ Radius einer typischen polarisationstreuen Singlemode-Faser zu durchlaufen. Vergleichbare oder sogar höhere Raten sind für laserunterstützte Oberflächenchemieen bekannt geworden. Zum Beispiel sind Löcher von μΐη Durchmesser durch eine 250 μπι dicke Maske aus Si in 35 bis 45 Sekunden "gebohrt"
worden durch Verwendung eines Argonlasers in einer CI2 und HCl Atmosphäre, während die Ätzrate in S1O2 ungefähr 80-mal geringer ist.
Mikrobearbeitungsauflösungen im Unter-My-Bereich sind wünschenswert,, wenn eine Welle über einen Schlitz verbunden werden soll. Die bekannte Ionenprojektion-Mikrolithographie hat die gewünschte Auflösung im Unter-My-Bereich in einer Fokustiefe von mehr als 100 μΐη Durchmesser bei einer typischen polarisationstreuen Singlemode-Faser erreicht. Eine Mikrobearbeitung kann auch ohne Erhöhung der Temperatur bis zu einem Punkt erreicht werden, wo der Spannungsabbau und der potentielle Verlust der Polarisation der Fasern eintreten können. Zum Beispiel können die Temperaturen an einem extremen Anstieg durch eine pulsierende Bearbeitung gehindert werden.
Da der besonders kritische Bereich des Schlitzes um den Kern der Faser angeordnet ist - das ist gleichbedeutend mit der Größe-von 5 μ bei einer typischen Singlemode-Faserachse kommt es nicht so sehr darauf an, daß die Wände der Schlitzabschnitte, die weiter weg vom Kern liegen, extrem sorgfältig bearbeitet sind.. Das vermindert die Anforderungen an Rattern und Unterschneiden, die bei einigen der Mikrobearbeitungstechniken auftreten können.
Zusätzlich zur Anwendung von Mikrobearbeitungstechniken zur Herstellung eines inneren, ausgerichteten Schlitzes in einer unversehrten optischen Faser ist es ebenso möglich-, eine Ion-Implantation oder bestrahlungsverursachte Änderung einzusetzen, um ausgerichtete Schlitze hervorzurufen, die unterschiedliche Brechungsindizes innerhalb optischer Hohlleiter aufweisen zum Zwecke der Strahlaufteilung und -verbindung. Diese "Schlitze" unterscheiden sich von denen, die durch eine Mikrobearbeitung hervorgerufen sind, dadurch, daß die mikrobearbeiteten Schlitze durch die Abwesenheit von Material definiert sind, während die "Schlitze", die durch eine Ion-Implantation
hervorgebracht sind, durch ein begrenztes Feld definiert sind, das dotiert oder ion-verursacht bzw. bestrahlungsverursacht beschädigt oder verändert ist. Wie bei der Mikrobearbeitung, die Material entfernt, um den Brechungsindex innerhalb der optischen Faser zu ändern, verändert auch die Ion-Implantation den Brechungsindex und ist daher ebenso wirkungsvoll beim Neuausrichten von Licht innerhalb einer unversehrten Faser auf einen gewünschten Weg.
Sowohl bei einem mikrobearbeiteten Schlitz als auch bei einem Schlitz, der durch Ion-Implantation entstanden ist, kann die optische Faser mit einem dünnen Film überzogen werden, der ungefähr einige 100 Angström dick ist und aus einem leitenden Material besteht. Dieser Film wirkt teilweise reflektierend und dient zur partiellen Neuumlenkung des geführten Lichtes. Bei einem dünnen leitenden Film in Verbindung mit dem ausgerichteten inneren Schlitz einer unversehrten optischen Faser ist der Schlitzwinkel nicht ganz so entscheidend. Die Anwendung eines leitenden Überzuges kann jedoch dazu führen, daß die Polarität nicht erhalten bleibt, wenn dies ein gewünschtes Ziel ist.
Einem mikrobearbeiteten Schlitz kann ebenso Material zugefügt werden, um den Brechungsindex des Schlitzes einzustellen. Der Grad der Leitung und Reflektion kann in dieser Weise eingestellt werden. Dadurch ist außerdem die Verwendung dickerer Schlitze möglich.
Die beschriebene und beanspruchte Erfindung kann außerdem dazu benutzt werden, um einen zweidimensionalen, optischen Hohlleiteraufbau in eine Anordnung von selektiv miteinander verbundenen Linearhohlleitern umzuwandeln. Figur 6 zeigt einen Aufbau 27, der aus einer Brechungsschicht 28 besteht, die nach Art eines Sandwich zwischen Werkstoffen 30 eingeschoben ist, die Brechungsindizes aufweisen, die von dem Brechungsindex der Brechungsschicht 28 abweichen. Obwohl für die Anordnung der Figur 6 drei Schichten gezeigt sind, sei
darauf hingewiesen, daß dieses nur zum Zwecke der Illustration geschehen ist. Es kann jegliche Anzahl von Brechungsschichten, die für den entsprechenden Anwendungsfall geeignet ist, verwendet werden. Wenn auf den Zwischenflächen Metallfilme aufgebracht werden, kann dieser Aufbau sogar polarisationsempfindlich gemacht werden mit Hilfe von elektrischen Feldern vertikal zu den Sandwich-Ebenen. Mikrobearbeitung oder andere Techniken können nun dazu benutzt werden, um ausgesuchte Abschnitte der einen oder mehrerer Flächen zu entfernen, um lineare Leiter in dem Aufbau zu definieren. Strahlzerteilende oder -verbindende Schlitze können dann in den verbleibenden Abschnitten hervorgerufen werden, um eine Schaltung aus miteinander verbundenen optischen Hohlleitern hervorzurufen, wie in Figur 7 gezeigt. Zur Festsetzung von Schwellen zur Entdeckung verbundener Signale können Lichtdetektoren und,-quellen, deren Abstand sorgfältig ausgewählt und deren Wahl sorgfältig getroffen ist, angewendet werden, wobei die linearen optischen Leiter eingesetzt werden. Das führt zu einem optischen Netz, das unabhängig von jeglichen lokalen elektrischen Signalen geschaltet werden könnte und ausschließlich von den Lichtintensitätsstärken abhinge, die in die einzelnen Kanäle eingeführt wurden. Zusätzlich können einige der eindimensionalen Leiterstrukturen, die durch die nicht beseitigten Abschnitte des ursprünglichen Aufbaus 27 definiert sind, wie zum Beispiel die Leiterabschnitte 32 in der Figur 7, mit variierender Breite hergestellt werden. Das dient dazu, Um die Form der einlaufenden optischen Impulse^ abzuändern und um zum Beispiel eine Impulskompression herbeizuführen.
Die beschriebene und beanspruchte Erfindung kann sowohl auf Multimode-Fasern und nicht-polarisationstreue Fasern und Leiterstrukturen angewendet werden als auch auf Singlemode- und polarisationstreue Systeme. Wenn es zum Beispiel wünschenswert ist, nur einen Teil des Lichtes von einer Multimode-Faser auf eine andere Multimode-Faser zu übertragen, kann ein schmaler Schlitz in die erste Faser und ein größerer Schlitz in die zweite Faser
geschnitten werden, so daß die zweite Faser das ganze Licht auffangen kann, was von der ersten reflektiert wird. Ein Schlitz, der kleiner ist als der Faserkern, reflektiert nur einen kleinen Bruchteil des durch die Faser hindurchgehenden Lichtes, während ein größerer Schlitz einen größeren Anteil des Lichtes erfaßt. Gekrümmte Schlitze können ebenfalls verwendet werden, um eine Fokussierung zu erreichen.
Obwohl die Erfindung mit Bezug auf bevorzugte Ausführungsbeispiele beschrieben worden ist, sind verschiedene Abänderungen insbesondere bezüglich der Größe, der Form und der Lage für die angesprochenen Fachleute offenbar. Deshalb wird die Erfindung nur durch die Anprüche festgelegt.

Claims (25)

Patentanwälte 3767 ΚΑ/Be o , Q aQ o o Wenzel & Kalkoff /j£l 0 H V U O O 4 Flaßkuhle 6 7 Postfach 2448 Witten/Ruhr Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung eines optischen Hohlleiter-Strahlauf teilers/-verbinders mit den Schritten der Erzeugung eines gerichteten Schlitzes in einem unberührten optischen Hohlleiter und des Benutzens dieses Schlitzes, um Lichstrahlen zu teilen, zu vereinigen und auf erwünschte Wege zu lenken.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Schritt der Erzeugung eines ausgerichteten Schlitzes eine Mikrobearbeitung des optischen Hohlleiters enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der Schritt der Mikrobearbeitung eine Mikrobearbeitung durch ein physikalisches Verfahren beinhaltet.
4. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der Schritt der Mikrobearbeitung die Mikrobearbeitung durch ein chemisches Verfahren beinhaltet.
5. Vefahren nach Anspruch 2, bei dem der Schritt der Mikrobearbeitung die Mikrobearbeitung durch ein kombiniertes physikalisches und chemisches Verfahren beinhaltet.
6. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung eine Photonenbestrahlung einschließt.
7. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung das Ätzen mit einem reaktiven Partikelstrahl einschließt.
8. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung das Ätzen mit einem Photonenstrahl einschließt.
9. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung Litographie einschließt.
10. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung Ätzen einschließt.
11. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Mikrobearbeitung direktes Strahlschreiben und Fräsen beinhaltet.
12. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Schritt der Hervorbringung eines ausgerichteten Schlitzes Dotieren einschließt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, bei dem das Dotieren eine lonimplantation zur Hervorbringung eines ausgerichteten Schlitzes beinhaltet, der einen anderen Brechungsindex als die anderen Abschnitte des Hohlleiters aufweist.
14. Verfahren nach Anspruch 1, das den zusätzlichen Schritt des Überziehens der Faser mit einem leitenden Film beinhaltet.
15. Verfahren nach Anspruch 1, das zusätzlich den Schritt des Schlitzfüllens mit einem Werkstoff beinhaltet, der einen anderen Brechungsindex als der des Hohlleiters aufweist.
16. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder mit einem unberührten optischen Hohlleiter, der einen inneren, darin hervorgebrachten Schlitz enthält, wobei der innere Schlitz einen Lichtstrahl teilt, verbindet und auf gewünschte .Wege lenkt.
17. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder mit mindestens einer unberührten Faser, wobei die Faser mindestens einen darin hervorgebrachten und ausgerichteten Schlitz enthält und eine Lichtquelle, die durch den Schlitz fällt, neu ausgerichtet ist.
18. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder nach Anspruch 17, bei dem der Schlitz einen vereinzelten Bereich einer ionverursachten Abweichung aufweist.
19. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder nach Anspruch 17, bei dem der Schlitz einen vereinzelten Bereich einer bestrahlungsverursachten Abänderung aufweist.
20. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder nach Anspruch 17, bei dem die Faser mit einem leitenden Film überzogen ist.
21. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder nach Anspruch 17, bei dem der Schlitz mit einem Material gefüllt ist, das einen anderen Brechungsindex hat als das der Faser.
22. Optischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder nach Anspruch 17, bei dem der Schlitz für eine Fokussierung gekrümmt ist.
23. Anordnung von wahlweise miteinander verbundenen linearen Hohlleitern mit einer Mehrzahl von Schichten aus einem Werkstoff, der jeweils einen abweichenden Brechungsindex aufweist; eine Mehrzahl von unberührten linearen Hohlleitern in den Schichten; und eine Mehrzahl von lichtumlenkenden Schlitzen, die in den unberührten Hohlleitern untergebracht sind, wobei die Hohlleiter wahlweise zur Hervorbringung von Schaltungswegen aneinandergekuppelt sind.
24. Anordnung von wahlweise aneinandergekuppelten linearen Hohlleitern nach Anspruch 23, wobei die linearen Hohlleiter eine sich ändernde Breite zur Erzielung einer Pulskorrektur aufweisen.
25. Anordnung von wahlweise aneinandergekuppelten linearen Hohlleitern nach 23, bei der die Schaltungswege dadurch von der Stärke der Lichtintensität abhängen, daß die Größe und der Abstand der lichtrichtungsverändernden Schlitze variiert ist.
DE19843490382 1983-08-15 1984-08-14 Faseroptischer Hohlleiter-Strahlaufteiler/-verbinder Withdrawn DE3490382T1 (de)

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