DE3628720A1 - Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck - Google Patents
Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruckInfo
- Publication number
- DE3628720A1 DE3628720A1 DE19863628720 DE3628720A DE3628720A1 DE 3628720 A1 DE3628720 A1 DE 3628720A1 DE 19863628720 DE19863628720 DE 19863628720 DE 3628720 A DE3628720 A DE 3628720A DE 3628720 A1 DE3628720 A1 DE 3628720A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- printing
- printing plate
- plate according
- silicone rubber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Description
Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Druck
platte für den wasserlosen Flachdruck, insbesondere
Offsetdruck, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer
Druckform durch Belichten und Entwickeln dieser Druck
platte. Die erfindungsgemäße Druckplatte weist einen
Schichtträger, eine strahlungsempfindliche Schicht und
eine äußere, Druckfarbe abweisende Schicht aus Silikon
gummi auf.
Druckplatten dieses Schichtaufbaus mit positiv und
negativ arbeitenden strahlungsempfindlichen, insbeson
dere lichtempfindlichen Schichten sind z. B. aus der
US-A 35 11 178 bekannt. Als negativ arbeitende, d. h.
lichthärtbare lichtempfindliche Verbindungen werden
Diazoniumsalz-Kondensationsprodukte eingesetzt. Die
belichtete Druckplatte wird mit einer Lösung ent
wickelt, die die unbelichteten Bereiche der licht
empfindlichen Schicht lösen und die Silikongummischicht
anquellen. Dabei lassen sich die über den löslichen
Schichtbereichen liegenden Silikongummibereiche durch
Reiben entfernen. Die erhaltene Druckform nimmt an den
freigelegten Bereichen des Schichtträgers Druckfarbe
an, während die an den unbelichteten Stellen stehen
gebliebene Silikongummischicht Druckfarbe abweist.
Sie druckt also ein Negativ der verwendeten Belich
tungsvorlage. Als positiv arbeitende Verbindungen
werden unlösliche Fällungsprodukte von Diazoniumsalzen
und Phosphorwolframsäure eingesetzt. In diesem Fall
wird zur Verankerung der Silikongummischicht auf der
lichtempfindlichen Schicht eine Zwischenschicht aus
einem Diazoniumsalz-Formaldehydkondensat zwischen
diesen Schichten vorgesehen. Diese Zwischenschicht wird
beim Aushärten der Silikonkautschukschicht zur Silikon
gummischicht durch Erwärmen vernetzt und bewirkt dann
die gewünschte verbesserte Haftung.
Es sind auch wasserlos druckende Flachdruckplatten mit
anderen durch Belichten löslich werdenden Schichten
bekannt. In praktisch allen Fällen ist eine entspre
chende Haftschicht erforderlich und beschrieben.
Gemäß der DE-A 29 43 379 wird eine lichtempfindliche
Schicht aus o-Chinondiazid und Novolak eingesetzt, auf
die eine Zwischenschicht aus einem haftvermittelnden
Aminoalkyl-alkoxysilan aufgebracht wird.
In der DE-A 30 45 979 (=US-A 43 42 820) ist die Kom
bination einer speziellen o-Chinondiazidschicht mit
einer Silikongummischicht beschrieben. Zur Verbesserung
der Haftung zwischen diesen Schichten können einer
dieser Schichten Silikone oder Silane zugesetzt werden,
oder es kann eine Haftschicht aus solchen Verbindungen
zwischen diesen Schichten aufgebracht werden.
Gemäß der JP-A 58/60 744 wird die Haftung durch Zusatz
von Aminosilan und Tetraisopropoxytitan zur Silikon
schicht oder durch eine Haftschicht aus Organotitanver
bindungen erreicht.
In der EP-A 1 00 938 wird ein Verfahren zur Verbesserung
der Haftung entsprechender Schichten durch kurzes Anbe
lichten und Behandeln mit einer Base, z. B. einem
primären Amin, beschrieben. Es kann auch zusätzlich
eine Zwischenschicht aus Aminosilanen und bzw. oder
Organotitanaten aufgebracht werden.
In der EP-A 1 54 980 wird eine ähnliche vorsensibili
sierte Druckplatte beschrieben, die in der lichtemp
findlichen o-Chinondiazidschicht zusätzlich eine
Kupplungskomponente enthält, die im basischen Medium,
z. B. bei der Entwicklung, mit der unzersetzten Diazo
verbindung in den unbelichteten Bereichen zu einem
schwerlöslichen Azofarbstoff kuppelt. Während der
Kupplungsreaktion tritt zugleich eine verstärkte
Verankerung der Silikonschicht auf der Chinon
diazidschicht ein. Zusätzlich kann noch eine Haft
schicht zwischen diesen Schichten, z. B. aus Amino
silanen oder Organotitanverbindungen, vorgesehen sein.
Diese bekannten negativ arbeitenden Druckplatten für
den wasserlosen Offsetdruck auf Basis von Diazonium
salzen oder Chinondiaziden haben nur eine relativ
niedrige Lichtempfindlichkeit. Die Haftung läßt sich
oft nur durch komplizierten Aufbau des Materials und
zusätzliche Verfahrensschritte verbessern. Zur Ent
wicklung dieser Druckplatten sind in den meisten Fällen
Gemische aus wasserunlöslichen und polaren organischen
Lösemitteln erforderlich. Die in einigen Fällen ver
wendbaren Gemische aus wassermischbaren Lösemitteln und
Wasser bestehen mindestens zum überwiegenden Teil aus
organischen Lösemitteln. Dieser hohe Lösemittelgehalt
erfordert beim Gebrauch besondere Maßnahmen, um Abluft
und Abwasser nicht über das zulässige Maß zu belasten.
Es sind auch positiv arbeitende lichtempfindliche
Gemische auf Basis von photolytisch Säure bildenden
Verbindungen und durch Säure spaltbaren Verbindungen,
z. B. Orthocarbonsäureestern und Acetalen, bekannt.
Diese Gemische ergeben lichtempfindliche Schichten,
z. B. für Druckplatten, mit wesentlich höherer Licht
empfindlichkeit als sie Naphthochinondiazidschichten
aufweisen; sie werden z. B. in den DE-C 26 10 842 und
27 18 254 und der EP-B 22 571 beschrieben.
Aufgabe der Erfindung war es, eine negativ arbeitende
Druckplatte für den wasserlosen Offsetdruck vorzu
schlagen, die eine höhere Lichtempfindlichkeit als die
bisher bekannten Druckplatten gleicher Art aufweist,
die sich mit Entwicklerlösungen verarbeiten läßt, die
zum überwiegenden Teil aus Wasser bestehen, und die
eine haftfest auf der lichtempfindlichen Schicht
verankerte vernetzte Silikonkautschukschicht aufweist.
Erfindungsgemäß wird eine vorsensibilisierte Druck
platte für den wasserlosen Flachdruck mit einem Schicht
träger, einer durch Belichtung löslich werdenden
strahlungsempfindlichen Schicht, einer äußeren, Druck
farbe abweisenden vernetzten Silikonkautschukschicht
und einer Zwischenschicht vorgeschlagen, die die Haf
tung der Silikonkautschukschicht auf der strahlungsemp
findlichen Schicht verbessert.
Die erfindungsgemäße Druckplatte ist dadurch gekenn
zeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht als
wesentliche Bestandteile
- a) eine Verbindung mit mindestens einer durch Säure spaltbaren C-O-C-Bindung,
- b) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung und
- c) ein in Wasser unlösliches Bindemittel enthält und die Zwischenschicht aus amorpher Kiesel säure besteht.
Erfindungsgemäß wird ferner ein Verfahren zur Her
stellung einer Druckform für den wasserlosen Flachdruck
vorgeschlagen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekenn
zeichnet, daß man eine vorsensibilisierte Flachdruck
platte der vorstehend beschriebenen Beschaffenheit
bildmäßig belichtet, in eine ein mit Wasser mischbares
organisches Lösungsmittel enthaltende wäßrige Lösung
eintaucht und danach an den belichteten Stellen die
lichtempfindliche Schicht zusammen mit der darüber
liegenden Silikongummischicht durch Reiben entfernt.
Die in den erfindungsgemäßen Druckplatten enthaltene
Zwischenschicht wird vorzugsweise durch Aufbringen
eines verdünnten Kieselsäuresols auf die strahlungs-,
insbesondere lichtempfindliche Schicht und Trocknen des
Sols erzeugt.
Ohne Anwendung dieser Haftschicht weisen Silikongummi
schichten auf lichtempfindlichen Schichten auf Basis
säurespaltbarer Materialien eine völlig unzureichende
Haftung auf. Wie gefunden wurde, ergeben die auf Naphtho
chinondiazidschichten üblichen Haftschichten aus Silanen,
z. B. Aminoalkylsilanen, zwar eine gewisse Verbesserung
der Haftung gegenüber der unbelichteten säurespaltbaren
Schicht. Sie stören jedoch die Verarbeitung der damit
hergestellten Druckplatte, oder die Verankerung ist so
schlecht, daß sich die Platte nach bildmäßiger Belich
tung nicht zu einer brauchbaren Druckschablone ent
wickeln läßt.
Die zur Herstellung der Haftschichten verwendeten
Kieselsäuresole enthalten im allgemeinen Kieselsäure
partikel einer Größe von 5 bis 150, vorzugsweise von
20 bis 50 nm. Geeignet sind sowohl alkalisch als auch
sauer stabilisierte wäßrige Kieselsäuresole. Zur bes
seren Benetzung der lichtempfindlichen Schicht wird
dem Sol vorteilhaft eine kleine Menge eines wasser
löslichen Netzmittels, insbesondere eines anionischen
oder nichtionischen Netzmittels zugesetzt. Geeignet
sind z. B. Alkalisalze von langkettigen Alkansäuren,
Alkylsulfonsäuren, Monoalkylsulfaten, Alkylbenzol
sulfonsäuren und Polyalkoxyphenolether. Da die Netzmit
tel selbst einer guten Haftung entgegenwirken, sollte
vorzugsweise die Menge an Netzmittel möglichst niedrig
gehalten werden. Bevorzugt werden im allgemeinen Mengen
von 1 bis 15 Gew.-%, bezogen auf den Feststoffgehalt
des Sols.
Eine besonders gute Verankerung der Kieselsäureschicht
auf der lichtempfindlichen Schicht erreicht man, wenn
das Kieselsäuresol etwas in die lichtempfindliche
Schicht eindiffundieren kann. Da die Eindringtiefe bei
zunehmendem Trocknungsgrad der lichtempfindlichen
Schicht zurückgeht, ist es ratsam, die Haftschicht auf
möglichst schwach getrocknete Schichten aufzutragen.
Die Diffusion kann zudem durch Beimischen wassermisch
barer Lösemittel, die die Positivschicht anquellen, zum
Kieselsäuresol gesteuert werden. Auch eine Vergrößerung
der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht durch
mechanisches Aufrauhen oder durch Pigmentierung führt
zu verstärkter Haftung der Kieselsäureschicht.
Außer den erforderlichen Netz- und eventuell wasser
mischbaren Lösemitteln können die Kieselsäuresole auch
noch feinteilige Füllstoffe enthalten.
Das Schichtgewicht der Kieselsäureschicht kann in wei
ten Grenzen schwanken, etwa zwischen 0,01 und 1,0 g/m2.
Es liegt vorzugsweise zwischen 0,1 und 0,3 g/m2.
Die durch Bestrahlung löslich werdende Schicht kann als
Verbindungen mit säurespaltbaren C-O-C-Bindungen unter
anderem monomere und polymere Acetale, monomere und
polymere Orthocarbonsäureester, Enolether und N-Acyl
iminocarbonate enthalten. Solche Gemische sind in den
EP-A 6626 und 6627 sowie in den eingangs genannten
Druckschriften beschrieben. Dabei werden polymere Ace
tale und Orthocarbonsäureester besonders bevorzugt. Der
Mengenanteil an säurespaltbarer Verbindung beträgt im
allgemeinen 2 bis 75, vorzugsweise 4 bis 30 Gew.-%,
bezogen auf die nichtflüchtigen Bestandteile der
Schicht.
Als strahlungsempfindliche Komponenten, die beim Bestrah
len vorzugsweise starke Säuren bilden bzw. abspalten,
sind eine große Anzahl von bekannten Verbindungen und
Mischungen, wie Diazonium-, Phosphonium-, Sulfonium- und
Jodonium-Salze, Halogen-Verbindungen, o-Chinondiazid
sulfochloride und Organometall-Organohalogen-Kombinati
onen geeignet.
Grundsätzlich sind als halogenhaltige strahlungsemp
findliche und Halogenwasserstoffsäure bildende Verbin
dungen alle auch als photochemische Radikalstarter be
kannten organischen Halogenverbindungen, beispielsweise
solche mit mehr als einem Halogentom an einem Kohlen
stoffatom oder an einem aromatischen Ring, brauchbar.
Beispiele sind in den US-A 35 15 552, 35 36 489 und
37 79 778, der DE-B 26 10 842 und den DE-A 27 18 259
und 22 43 621 beschrieben.
Die Menge des Starters kann je nach seiner chemischen
Natur und der Zusammensetzung des Gemischs ebenfalls sehr
verschieden sein. Günstige Ergebnisse werden erhalten mit
etwa 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoff,
bevorzugt sind 0,2 bis 5%.
Die Gemische enthalten ferner ein polymeres, wasser
unlösliches Bindemittel, das in organischen Löse
mitteln löslich ist. Da sich als Entwicklerflüssigkei
ten für die belichteten Kopierschichten mit Vorteil
wäßrig-alkalische Lösungen einsetzen lassen, werden
insbesondere solche Bindemittel bevorzugt, die in
wäßrigen Alkalien löslich oder mindestens quellbar
sind. Die Art und Menge der wasserunlöslichen Bindemit
tel kann je nach Anwendungszweck verschieden sein; be
vorzugt sind Anteile am Gesamtfeststoff zwischen 30 und
90, besonders bevorzugt 55-85 Gew.-%.
Phenolharze, vor allem Novolake, haben sich als beson
ders vorteilhaft erwiesen. Andere alkalilösliche Harze,
wie Mischpolymerisate aus Maleinsäureanhydrid und
Styrol, Vinylacetat und Crotonsäure, Methylmethacrylat
und Methacrylsäure und dgl. sind ebenfalls als Bin
demittel geeignet.
Die lichtempfindliche Schicht kann ferner Farbstoffe
oder feinteilige Farbpigmente enthalten. Besonders
bewährt haben sich Triphenylmethanfarbstoffe, ins
besondere in Form ihrer Carbinolbasen.
Das Gewicht der lichtempfindlichen Schicht liegt im
allgemeinen bei 0,3 bis 3 g/m2, Schichtgewichte von
etwa 0,8 bis 1,8 g/m2 werden in den meisten Fällen
bevorzugt.
Die Silikonkautschukschicht wird aus einer Lösung in
einem unpolaren Lösungsmittel, z. B. aliphatischen oder
aromatischen Kohlenwasserstoffen, aufgebracht, in dem
sich die Bestandteile der Haftschicht und der licht
empfindlichen Schicht unter den Beschichtungsbedin
gungen praktisch nicht auflösen.
Grundsätzlich ist jeder Silikonkautschuk geeignet, der
ausreichend farbabweisend ist, um ein Drucken im Off
setdruck ohne Feuchtwasser zu erlauben. Als "Silikon
kautschuk" soll im Rahmen dieser Erfindung entsprechend
der Definition von Noll, "Chemie und Technologie der
Silikone", Verlag Chemie, 1968, S. 332, ein hochmole
kulares, im wesentlichen lineares Diorganopolysiloxan
bezeichnet werden, während für die vernetzten bzw.
vulkanisierten Produkte die Bezeichnung "Silikongummi"
verwendet wird. In jedem Fall wird eine Silikonkaut
schuklösung auf die lichtempfindliche Schicht auf
gebracht, getrocknet und dann vernetzt.
Als Silikonkautschuke sind Einkomponenten- und Mehr
komponententypen geeignet, wie sie z. B. in den DE-A
23 50 211, 23 57 871 und 23 59 102 beschrieben sind.
Die Einkomponenten-Silikonkautschuke basieren auf
Polysiloxanen, die z. B. endständige Acetyl-, Oxim-,
Alkoxy- oder Aminogruppen oder Wasserstoffatome ent
halten. Im übrigen besteht das Polysiloxan im wesent
lichen aus einer Dimethylpolysiloxankette. Die
Methylgruppen können in geringerem Umfang auch durch
andere Alkylgruppen, durch Halogenalkylgruppen oder
substituierte oder unsubstituierte Arylgruppen ersetzt
sein. Die endständigen funktionellen Gruppen sind
leicht hydrolysierbar und härten bei Feuchtigkeitsein
wirkung innerhalb von einigen Minuten bis Stunden bei
Raumtemperatur aus (RTV-1-Silikonkautschuke).
Die Mehrkomponenten-Silikonkautschuke können durch
Addition oder durch Kondensation vernetzbar sein. Die
additionsvernetzbaren Typen enthalten im allgemeinen
Polysiloxane mit Alkenylgruppen als Substituenten und
solche mit an Silicium gebundenen Wasserstoffatomen.
Sie werden in Gegenwart von Platinkatalysatoren bei
Temperaturen oberhalb 50°C vernetzt. Sie haben den
Vorteil, daß sie bei höherer Temperatur, z. B. um
100°C, schnell vernetzen. Dafür kann auch die Verar
beitungsdauer (Topfzeit) dieser Systeme relativ kurz
sein.
Die durch Kondensation vernetzbaren Gemische enthalten
Diorganopolysiloxane mit reaktionsfähigen Endgruppen,
z. B. OH- und Acetoxygruppen. Diese werden mit reak
tiven Silanen oder Oligosiloxanen, z. B. Alkoxy- oder
Acetoxysilanen oder Siloxanen, die mehrere Si-H-Gruppen
im Molekül enthalten, in Gegenwart von Katalysatoren,
wie Organozinnverbindungen, z. B. Dialkylzinndiacetat,
vernetzt. Auch diese Kombinationen reagieren relativ
schnell und haben deshalb eine begrenzte Topfzeit.
Mit besonderem Vorteil werden durch Kondensation ver
netzbare Mehrkomponenten-Silikonkautschuke eingesetzt.
Der bevorzugte Vernetzer ist Vinyl-triacetoxy-silan.
Mit ihm erhält man die beste Haftung auf der
Kieselsäureschicht und damit auf der lichtempfindlichen
Schicht. Vinyl-triacetoxy-silan kann aber auch in Kom
bination mit anderen Vernetzern verwendet werden,
solange diese nicht die Solubilisationsreaktion in der
lichtempfindlichen Schicht stören. Ausreichende Haftung
in Abwesenheit von Alkyl-triacetoxy-silanen erhält man
auch mit H-haltigen Siloxanen. Da die Haftung in den
ersten Tagen nach Herstellung der Druckplatten noch
deutlich zunimmt, sollten aber solche Platten erst nach
mehrtägiger Lagerung verarbeitet werden.
Die Konzentration des Vernetzers oder des Vernetzer-
Gemisches beträgt üblicherweise 1-20% der Poly
siloxanmenge, vorzugsweise 2-15%. Die Katalysator
menge liegt vorzugsweise bei etwa 2 bis 10 Gew.-% des
Polysiloxananteils.
Die Silikonkautschuke werden nach dem Aufbringen als
Schicht in bekannter Weise durch Feuchtigkeitseinwir
kung oder aus sich heraus bei Raumtemperatur oder er
höhter Temperatur zu einem in organischen Lösungsmitteln
im wesentlichen unlöslichen Silikongummi vernetzt. Die
fertige Silikongummischicht hat im allgemeinen ein Ge
wicht von 1 bis 20, bevorzugt von 2 bis 6 g/m2.
Die dehäsive Silikongummischicht verankert sich ver
mutlich durch eine chemische Reaktion auf der Kiesel
säureschicht. Es wird angenommen, daß eine Konden
sationsreaktion eintritt zwischen den an der Oberfläche
der Kieselsäureteilchen liegenden Hydroxylgruppen und
den Hydroxylgruppen der hochmolekularen unvernetzten
Silikonkautschuke.
Die bevorzugten Mehrkomponenten-Silikonkautschuke haben
den Vorteil, daß damit hergestellte Druckplatten beim
Drucken ohne Feuchtwasser eine wesentlich geringere
Neigung zum Tonen aufweisen als solche, die mit nor
malen Einkomponenten-Silikonkautschuken hergestellt
worden sind. Auch die Kratzfestigkeit der Oberfläche
des gehärteten Silikongummis ist bei den bevorzugten
Verbindungstypen erhöht.
Als Schichtträger werden meist Metalle verwendet. Für
Offsetdruckplatten können eingesetzt werden: walz
blankes, mechanisch oder elektrochemisch aufgerauhtes
und gegebenenfalls anodisiertes Aluminium, das zudem
noch chemisch, z. B. mit Polyvinylphosphonsäure,
Silikaten, Phosphaten, Hexafluorozirkonaten oder mit
hydrolysiertem Tetraethylorthosilikat, vorbehandelt
sein kann. Weitere geeignete Metalle sind Stahl und
Chrom. Da es, im Gegensatz zu üblichen Flachdruck
platten, nicht erforderlich ist, daß die Träger
oberfläche hydrophil ist, können mit Vorteil auch
Kupfer, Messing oder andere oleophile Metalle als
Trägeroberfläche dienen. Die Trägeroberfläche kann auch
eine dauerhafte oleophile Beschichtung tragen, z. B.
eine Haftvermittlerschicht. Ferner können Kunststoff
folien, wie Polyester-, Polycarbonat-, Polyimid- oder
auch Celluloseacetatfolien verwendet werden, deren
Oberfläche ggf. zur Erhöhung der Benetzbarkeit durch
Druckfarbe aufgerauht oder anderweitig vorbehandelt
sein kann. Weiterhin sind bekannte Druckplattenträger
aus Papier geeignet, das hier nicht unbedingt naßfest
zu sein braucht. Auch gummielastische Trägermaterialien
sind geeignet; mit solchen Trägern kann auch im direk
ten Flachdruck gedruckt werden.
Das Trägermaterial dient bei den Druckformen, die aus
dem erfindungsgemäßen Material hergestellt werden, im
Gegensatz zu sonst üblichen Druckformen, als farbfüh
rendes Material. Die nach dem Belichten und Entwickeln
stehengebliebene Silikongummischicht dient als Bild
hintergrund und wirkt in trockenem Zustand farb
abstoßend. Zum Druck können dabei sowohl übliche
Druckfarben auf Ölbasis als auch spezielle hydrophile
Druckfarben dienen, wie sie für den wasserlosen Off
setdruck sowie für den umgekehrten Offsetdruck ent
wickelt wurden und im Handel erhältlich sind. Da die
meisten gebräuchlichen Schichtträgeroberflächen, z. B.
aufgerauhtes oder anodisch oxydiertes Aluminium, stark
hydrophil sind, werden hydrophile Druckfarben mit Vor
teil eingesetzt.
Die Herstellung der erfindungsgemäßen Druckplatten
erfolgt in bekannter Weise. Der Druckplattenträger wird
zunächst mit der lichtempfindlichen Beschichtungslösung
wie üblich beschichtet. Man trocknet die Schicht nur
schwach und trägt dann das netzmittelhaltige verdünnte
Kieselsäuresol an. Auf die getrocknete Kieselsäure
schicht trägt man schließlich die Polysiloxanlösung
auf, die ggf. Vernetzer und Katalysatoren enthält,
trocknet und vernetzt die Schicht durch mehrstündiges
Lagern bei Raumtemperatur (RTV-1-Kautschuk) oder durch
mäßiges Erwärmen, z. B. 1 Minute lang bei 100 bis 120°C,
und zusätzliche mehrstündige Lagerung im Dunkeln bei
Raumtemperatur (RTV-2-Kautschuk).
Aus dem vorsensibilisierten Material erhält man eine
druckfertige Flachdruckform durch Belichten unter einer
Negativ-Filmvorlage und durch Entwickeln. Zur Belich
tung eignen sich z. B. Quecksilberlampen, Kohlenbogen
lampen, Metallhalogenidlampen, Xenon-Lampen, Leucht
röhrengeräte, Lasergeräte, Elektronenstrahlröhren
und andere bekannte Belichtungsgeräte. Wenn die Säure
bildende Verbindung der strahlungsempfindlichen Schicht
nicht gegen sichtbares oder ultraviolettes Licht, wohl
aber gegen energiereiche Strahlung, z. B. Röntgen- oder
Korpuskularstrahlung, empfindlich ist, werden entspre
chende Strahlungsquellen verwendet. Beim Entwicklungs
vorgang wird die adhäsive Silikongummischicht von der
Entwicklerlösung angequollen, und die belichteten Par
tien der strahlungsempfindlichen Schicht werden darin
aufgelöst. Beim Abreiben mit einem weichen Material,
z. B. Watte, Textilien oder Schaumgummi, brechen die
über den gelösten bestrahlten Stellen der Schicht
liegenden Bereiche der gequollenen Silikongummischicht
aus. Dabei wird die Oberfläche des Druckplattenträgers
freigelegt. Die freigelegte Oberfläche nimmt Druckfarbe
leicht an, während die erhalten gebliebene Silikon
schicht die Farbe abstößt. Das Einfärben der ent
wickelten Platte kann in oder außerhalb der Druck
maschine erfolgen.
Brauchbare Entwickler müssen sowohl die Adhäsivschicht
stark aufquellen und rasch durchdringen, als auch die
belichteten Bezirke der lichtempfindlichen Schicht gut
entwickeln. Dabei dürfen die unbelichteten Bereiche
nicht angegriffen werden. Gute Ergebnisse erzielt man
mit Gemischen aus wassermischbaren Lösemitteln und
Wasser, das ggf. mit Basen, basischen Salzen, Ammoniak
oder Aminen schwach alkalisch gemacht wurde. Geeignete
wasserlösliche Lösemittel finden sich unter den nie
deren Alkoholen, Glykolen, Glykolethern, Ketonen und
cyclischen Ethern. Vorzugsweise verwendet man schwach
alkalisch eingestellte Isopropanol/Wasser-Gemische mit
einem Wasseranteil von über 50% und mit einem pH-Wert
zwischen 8 und 9.
Die beim Entwickeln freigelegte, farbführende Träger
oberfläche liegt wenige Mikrometer tiefer als die farb
abstoßenden Nichtbildbereiche. Die Vertiefungen können
durch Aufwalzen von Druckfarbe ausgefüllt werden. Nach
Trocknen der Farbe liegen die farbannehmenden und farb
abstoßenden Bereiche auf gleicher Ebene.
Die folgenden Beispiele beschreiben bevorzugte Ausfüh
rungsformen der erfindungsgemäßen Druckplatte. Mengen
verhältnisse und Prozentzahlen sind, wenn nichts
anderes angegeben ist, in Gewichtseinheiten zu ver
stehen. Die Herstellung und Verarbeitung der vorsensi
bilisierten Druckplatten erfolgte bei Gelblicht.
Eine Lösung aus
4,0 gKresol-Formaldehyd-Novolak (Schmelzpunkt
105-120°C),
1,2 gPolyacetal aus Triethylenglykol und
2-Ethyl-butyraldehyd,
0,2 g2-Stilbenyl-4,6-bis-trichlormethyl-
s-triazin und
0,032 gKristallviolettbase in
80 gButanon
wurde bei ca. 60 U/min auf eine durch Bürsten auf
gerauhte Aluminiumfolie aufgeschleudert und mittels
Warmluft angetrocknet (Schichtgewicht nach völligem
Trocknen 1,1 g/m2). Direkt nach ihrer Verfestigung
wurde die noch lösemittelhaltige Schicht mit folgender
Lösung durch Schleudern überschichtet:
97 gentsalztes Wasser,
3 g30%iges anionisches Kieselsäureol mit
einem pH-Wert von ca. 10 und einer Teilchengröße
von 25-30 nm,
0,07 gDiisobutyl-naphtalinsulfonsaures Natrium.
Der Teller der Plattenschleuder hatte dabei eine Drehzahl
von etwa 150 U/Minute. Nach Trocknen beider
Schichten wurde - bei ca. 60 U/Minute - nachstehende
Lösung aufgeschleudert:
84 galiphatisches Kohlenwasserstoffgemisch,
Siedebereich 116-142°C,
15 geiner 33%igen Lösung eines Dihydroxypolydimethylsiloxans
in Toluol, Viskosität
bei 25°C = 9000 bis 15 000 mPa · s,
0,7 gVinyl-triacetoxysilan,
0,3 gDibutylzinndiacetat.
Die Schicht wurde getrocknet und durch 1-minütiges
Erwärmen im Trockenschrank auf 110°C vulkanisiert.
Die so gewonnene vorsensibilisierte Druckplatte wurde
unter einer Negativ-Filmvorlage 15 s mit einer 5 kW-
Metallhalogenid-Lampe im Abstand von 140 cm belichtet,
danach 75 s in eine Entwicklerflüssigkeit eingetaucht
und schließlich mit einem weichen Wattebausch abge
rieben. Dabei lösten sich alle drei Schichten an
den belichteten Stellen ab. Der verwendete Entwickler
bestand aus
71,72%entsalztem Wasser,
28,23%Isopropanol,
0,022%n-Butanol,
0,013%NaOH und
0,011%Na₂SiO₃ · 9 H₂O.
In einer Kleinoffsetdruckmaschine, aus der das Feucht
werk entfernt worden war, ließ sich die Druckplatte mit
handelsüblicher Waterless-Offset-Druckfarbe leicht ein
färben. Beim Drucken lieferte sie saubere Abzüge.
Beispiel 1 wurde wiederholt mit folgender lichtempfind
licher Beschichtungslösung:
80 gButanon,
4 gKresol-Formaldehyd-Novolak (Schmelzpunkt
105-120°C),
0,2 gdes in Beispiel 1 angegebenen Polyacetals,
0,2 g2-(4-Ethoxy-naphth-1-yl)-4,6-bis-tri-
chlormethyl-s-triazin und
0,03 gKristallviolettbase.
Die entwickelte Druckplatte lieferte in der Druck
maschine sehr saubere, scharfe Drucke.
Beispiel 1 wurde mit der nachstehenden lichtempfindli
chen Beschichtungslösung wiederholt:
80 gButanon,
4 gKresol-Formaldehyd-Novolak (Schmelzpunkt
105-120°C),
0,3 geines Polykondensats aus Orthoameisensäuremethylester
und 2-Ethyl-2-hydroxymethyl-4-oxa-1,8-octandiol,
0,2 g2-Acenaphth-5-yl-4,6-bis-trichlormethyl-
s-triazin und
0,03 gKristallviolettbase.
Die entwickelte Platte wurde mit Waterless-Offset-
Druckfarbe eingewalzt und nach Trocknen der Farbe in
einer Kleinoffsetdruckmaschine verdruckt. Dabei wurden
sehr saubere, scharfe Drucke erhalten.
Eine durch Bürsten aufgerauhte Aluminiumfolie wurde
nacheinander mit der in Beispiel 2 angegebenen
Beschichtungslösung und mit dem in Beispiel 1
beschriebenen Kieselsäuresol beschichtet. Die
Dehäsivschicht wurde durch Aufschleudern folgender
Lösung gewonnen:
84 gKohlenwasserstoffgemisch wie in Beispiel 1,
15 gder in Beispiel 1 angegebenen Dihydroxypolydimethylsiloxanlösung,
0,35 gVinyl-triacetoxysilan,
0,35 gMethacryloyloxypropyl-trimethoxysilan und
0,3 gDibutylzinndiacetat.
Bei Verarbeitung nach den Angaben in Beispiel 1 wurden
über 5000 sehr saubere Drucke erhalten.
Beispiel 4 wurde wiederholt, anstelle von Methacryloyl
oxypropyl-trimethoxysilan wurde aber Tetraethylortho
silikat eingesetzt. Die Druckplatte lieferte saubere
Drucke.
Beispiel 2 wurde in der Weise abgeändert, daß in der
Polysiloxanschicht anstelle von 0,7 g nur 0,2 g Vinyl
triacetoxysilan verwendet wurden. Die Druckplatte ließ
sich leicht entwickeln. Sie lieferte sehr saubere
Drucke.
Eine durch Bürsten aufgerauhte Aluminiumfolie wurde wie
in Beispiel 2 mit einer lichtempfindlichen Schicht und
einer Kieselsäureschicht versehen. Auf das Material
wurde eine Mischung aus 1 Gewichtsteil einer 75 %igen
Lösung eines an der Luft selbstvernetzenden Polysi
loxans vom Amintyp in Toluol (Viskosität ca. 9000
mPa · s) und 4 Gt des in Beispiel 1 angegebenen alipha
tischen Kohlenwasserstoffgemischs in der Weise
aufgetragen, daß nach dem Trocknen ein Schichtgewicht
von ca. 5 g/m2 resultierte. Durch mehrstündiges Lagern
an der Luft wurde die Silikonschicht vernetzt.
Die Verarbeitung zur Druckform erfolgte nach den An
gaben in Beispiel 1. Die Platte lieferte auf der Klein
offsetdruckmaschine tonfreie scharfe Drucke.
Beispiel 7 wurde mit einem anderen unter der Einwirkung
von Luftfeuchtigkeit vernetzenden Polysiloxan wieder
holt. Auf die haftvermittelte lichtempfindliche Schicht
wurde folgende Mischung aufgeschleudert:
12,5 geiner transparenten Dispersion aus 60%
aliphatischem Kohlenwasserstoffgemisch wie
in Beispiel 1, Füllstoff und Polysiloxan
vom Amin-Typ mit einer Viskosität von ca.
1500 mPa · s,
87,5 gdes gleichen Kohlenwasserstoffgemischs.
Die Schicht hatte nach dem Trocknen ein Schichtgewicht
von 2,2 g/m2. Sie wurde durch mehrstündiges Lagern an
der Luft vernetzt.
Die entwickelte Platte lieferte saubere und scharfe
Drucke.
Eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie wurde mit
der in Beispiel 2 beschriebenen Beschichtungslösung
beschichtet. Auf die unvollständig getrocknete Schicht
wurde folgende Lösung aufgeschleudert:
97,0 gentsalztes Wasser,
3,0 g30%iges, kationisches Kieselsäuresöl
mit einem pH-Wert von ca. 3,9,
0,04 gn-Nonylphenolpolyglykolether.
Die getrocknete Kieselsäure-Schicht wurde wie in Bei
spiel 1 mit Silikonkautschuk überzogen.
Beim Belichten und Entwickeln der Platte - wie in
Beispiel 1 angegeben - löste sich nur die Silikongummi
schicht an den belichteten Stellen ab, so daß die
darunterliegende, farbannehmende Kopierschicht frei
gelegt wurde.
In einer Kleinoffset-Druckmaschine lieferte die ent
wickelte Platte scharfe, saubere Drucke in hoher
Stückzahl.
Beispiel 1 wurde wiederholt, zur Herstellung der haft
vermittelnden Zwischenschicht aber nicht das angegebene
Kieselsäuresol verwendet, sondern eine 3%ige Lösung
von Vinyl-triacetoxy-silan in einem aliphatischen
Kohlenwasserstoffgemisch, Siedebereich 116-142°C.
Beim Entwickeln der bildmäßig belichteten Platte wurden
nicht nur die belichteten Stellen abgelöst, sondern
auch die unbelichteten Bezirke merklich angegriffen.
Infolge unzureichender Haftung der Silikongummi-Schicht
konnten nur Druckplatten mit beschädigten Bildstellen
erhalten werden.
Beispiel 1 wurde wiederholt, anstelle des Kieselsäure
sols aber eine 3 %ige Lösung von 3-(2-Aminoethylamino)-
propyl-trimethoxy-silan in einem aliphatischen
Kohlenwasserstoffgemisch, Siedebereich 116-142°C,
eingesetzt.
Beim Belichten der Platte trat keine Löslichkeits
differenzierung in der Kopierschicht ein, folglich
konnte kein Bild entwickelt werden.
Claims (13)
1. Vorsensibilisierte Druckplatte für den wasserlosen
Flachdruck mit einem Schichtträger, einer durch
Belichtung löslich werdenden strahlungsempfindlichen
Schicht, einer äußeren, Druckfarbe abweisenden vernetz
ten Silikonkautschukschicht und einer Zwischenschicht,
die die Haftung der Silikonkautschukschicht auf der
strahlungsempfindlichen Schicht verbessert, dadurch
gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht
als wesentliche Bestandteile
- a) eine Verbindung mit mindestens einer durch Säure spaltbaren C-O-C-Bindung,
- b) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung und
- c) ein in Wasser unlösliches Bindemittel enthält und die Zwischenschicht aus amorpher Kiesel säure besteht.
2. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Zwischenschicht durch Auftragen und
Trocknen eines wäßrigen Kieselsäuresols erhalten worden
ist.
3. Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, daß das Kieselsäuresol ein wasserlösliches Netz
mittel enthält.
4. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Zwischenschicht ein Flächengewicht von
0,01 bis 1 g/m2 hat.
5. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Verbindung mit mindestens einer durch
Säure spaltbaren C-O-C-Bindung ein Orthocarbonsäure
derivat, ein Acetal, ein Enolether oder ein N-Acyl
iminocarbonat ist.
6. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß das wasserunlösliche Bindemittel in wäßrig
alkalischen Lösungen löslich ist.
7. Druckplatte nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich
net, daß das Bindemittel ein Novolak ist.
8. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Silikonkautschuk ein bei Raumtemperatur
vernetzbarer Zweikomponentenkautschuk ist.
9. Druckplatte nach Anspruch 8, dadurch gekennzeich
net, daß der Silikonkautschuk als Vernetzer ein
Alkenyl-triacetoxy-silan enthält.
10. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Silikonkautschukschicht ein Flächengewicht
von 1 bis 20 g/m2 hat.
11. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den
wasserlosen Flachdruck, dadurch gekennzeichnet, daß man
eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte gemäß Anspruch
1 bildmäßig belichtet, in eine ein mit Wasser misch
bares organisches Lösungsmittel enthaltende wäßrige
Lösung eintaucht und danach an den belichteten Stellen
die lichtempfindliche Schicht zusammen mit der darüber
liegenden Silikongummischicht durch Reiben entfernt.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeich
net, daß die wäßrige Lösung alkalisch ist.
13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeich
net, daß die wäßrige Lösung mindestens 50% Wasser
enthält.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863628720 DE3628720A1 (de) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
EP87111880A EP0257505A3 (de) | 1986-08-23 | 1987-08-17 | Vorsensibilisierte Druckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Flachdruck |
US07/087,619 US4842990A (en) | 1986-08-23 | 1987-08-20 | Presensitized negative working waterless planographic printing plate with amorphous silicic acid interlayer and process of making and using |
JP62208391A JPS6388556A (ja) | 1986-08-23 | 1987-08-24 | プレセンシタイズド版板、および水なし平版印刷に適当な版面の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863628720 DE3628720A1 (de) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3628720A1 true DE3628720A1 (de) | 1988-02-25 |
Family
ID=6308071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863628720 Withdrawn DE3628720A1 (de) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4842990A (de) |
EP (1) | EP0257505A3 (de) |
JP (1) | JPS6388556A (de) |
DE (1) | DE3628720A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4317236A1 (de) * | 1992-05-25 | 1993-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | Verfahren zur Bildung eines Strukturmusters auf einem Halbleitersubstrat und Resist-Deckschicht |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3730213A1 (de) * | 1987-09-09 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck und verfahren zu ihrer herstellung |
JPH03213862A (ja) * | 1990-01-18 | 1991-09-19 | Konica Corp | 水なし平版印刷版用原版の現像液 |
US5212048A (en) * | 1990-11-21 | 1993-05-18 | Presstek, Inc. | Silicone coating formulations and planographic printing plates made therewith |
DE69301863T2 (de) * | 1992-06-05 | 1996-10-02 | Agfa Gevaert Nv | Im Wärmeverfahren arbeitendes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Druckplatten, welche kein Anfeuchtwasser benötigen |
AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
US5440987A (en) * | 1994-01-21 | 1995-08-15 | Presstek, Inc. | Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making |
EP0672954B1 (de) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten |
US5493971A (en) * | 1994-04-13 | 1996-02-27 | Presstek, Inc. | Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing |
US5570636A (en) * | 1995-05-04 | 1996-11-05 | Presstek, Inc. | Laser-imageable lithographic printing members with dimensionally stable base supports |
US5632204A (en) * | 1995-07-27 | 1997-05-27 | Presstek, Inc. | Thin-metal lithographic printing members with integral reflective layers |
JPH09132657A (ja) * | 1995-09-04 | 1997-05-20 | Canon Inc | 基材の表面処理方法及び該方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JPH09239942A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法 |
US5919600A (en) * | 1997-09-03 | 1999-07-06 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal waterless lithographic printing plate |
US6045963A (en) * | 1998-03-17 | 2000-04-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Negative-working dry planographic printing plate |
US6555283B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and waterless printing plate |
US6656661B2 (en) | 2001-04-04 | 2003-12-02 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Waterless imageable element with crosslinked silicone layer |
DE50210729D1 (de) * | 2001-11-22 | 2007-09-27 | Koenig & Bauer Ag | Verfahren zur Verwendung eines Druckwerkes einer Rotationsdruckmaschine |
US20040225079A1 (en) * | 2003-05-05 | 2004-11-11 | Analytical Services And Materials Inc. | Erosion-resistant silicone coatings |
US7033673B2 (en) * | 2003-07-25 | 2006-04-25 | Analytical Services & Materials, Inc. | Erosion-resistant silicone coatings for protection of fluid-handling parts |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE540601A (de) * | 1950-12-06 | |||
US3181461A (en) * | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3511178A (en) * | 1967-01-06 | 1970-05-12 | Minnesota Mining & Mfg | Printing plate and method |
US4054094A (en) * | 1972-08-25 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser production of lithographic printing plates |
CH621416A5 (de) * | 1975-03-27 | 1981-01-30 | Hoechst Ag | |
DE2718254C3 (de) * | 1977-04-25 | 1980-04-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliche Kopiermasse |
SU742859A1 (ru) * | 1977-11-28 | 1980-06-25 | Ленинградский Ордена Трудового Красного Знамени Технологический Институт Им.Ленсовета | Светочувствительный формный материал |
JPS5555344A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate |
GB2034911B (en) * | 1978-10-26 | 1983-02-09 | Toray Industries | Dry planographic printing plate |
DE2928636A1 (de) * | 1979-07-16 | 1981-02-12 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
US4326020A (en) * | 1980-09-10 | 1982-04-20 | Polychrome Corporation | Method of making positive acting diazo lithographic printing plate |
US4342820A (en) * | 1980-12-10 | 1982-08-03 | Toray Industries, Inc. | Dry planographic printing plate and preparation thereof |
JPS5824149A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用感光材料 |
US4376814A (en) * | 1982-03-18 | 1983-03-15 | American Hoechst Corporation | Ceramic deposition on aluminum |
JPS5917552A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Toray Ind Inc | 画像形成用積層体の処理方法 |
JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
-
1986
- 1986-08-23 DE DE19863628720 patent/DE3628720A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-08-17 EP EP87111880A patent/EP0257505A3/de not_active Withdrawn
- 1987-08-20 US US07/087,619 patent/US4842990A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-24 JP JP62208391A patent/JPS6388556A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4317236A1 (de) * | 1992-05-25 | 1993-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | Verfahren zur Bildung eines Strukturmusters auf einem Halbleitersubstrat und Resist-Deckschicht |
DE4317236C2 (de) * | 1992-05-25 | 1999-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | Positiv wirkendes lichtempfindliches Gemisch mit einer Deckschicht |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6388556A (ja) | 1988-04-19 |
EP0257505A3 (de) | 1989-02-01 |
EP0257505A2 (de) | 1988-03-02 |
US4842990A (en) | 1989-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3628720A1 (de) | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck | |
EP0257504B1 (de) | Vorsensibilisierte Druckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Flachdruck | |
DE2607207C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen | |
DE2543820C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen | |
DE2943379C2 (de) | ||
DE1671637A1 (de) | Wasserfreie Flachdruckplatte und Flachdruckverfahren | |
DE2354838A1 (de) | Vorsensibilisierte flachdruckplatte | |
DE69814820T2 (de) | Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von positiv arbeitenden Druckformen | |
DE2934897A1 (en) | Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate | |
DE2834059A1 (de) | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung | |
DE2363620A1 (de) | Trockene vorsensibilisierte planographische platte | |
DE2361815A1 (de) | Verfahren zur herstellung von vorsensibilisierten planographischen druckplatten, die keine hydrophilisierloesung erfordern | |
EP0034324B1 (de) | Verfahren zum Konservieren von druckfertig entwickelten Flachdruckformen | |
EP0226201B1 (de) | Lichtempfindliche Druckplatte für den wasserlosen Offsetdruck | |
DE1771568A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von verbesserten AEtzreliefs | |
DE3546024C2 (de) | ||
DE2932035C2 (de) | ||
DE1235958B (de) | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Flachdruckplatte | |
DE4126836A1 (de) | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial aus schichttraeger und positiv arbeitender, strahlungsempfindlicher schicht mit rauher oberflaeche | |
DE2305231C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte | |
DE2653824A1 (de) | Desensibilisator fuer lithographische druckplatten sowie verfahren zu dessen anwendung | |
DE2350211A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer vorsensibilisierten trockenen flachdruckplatte | |
EP0307776B1 (de) | Lichtempfindliche Druckplatte für den wasserlosen Flachdruck | |
EP0741334B1 (de) | Mit Wasser entschichtbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten | |
DE2323453A1 (de) | Vorsensibilisierte planographische druckplatten |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |