DE3636676A1 - OPTICAL INTERFERENCE FILM - Google Patents

OPTICAL INTERFERENCE FILM

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DE3636676A1
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Tsutomu Watanabe
Yooji Yuge
Akira Kawakatsu
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01KELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
    • H01K1/00Details
    • H01K1/28Envelopes; Vessels
    • H01K1/32Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/281Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection

Description

Die Erfindung betrifft einen optischen Interferenzfilm gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 zur wahlweisen Abstrahlung und Reflexion von Licht unterschiedlicher Wellenlängen. Dieser Film ist gewöhnlich in einer elektrischen Lampe ent­ halten.The invention relates to an optical interference film according to the preamble of claim 1 for optional radiation and reflection of light of different wavelengths. This film is usually in an electric lamp hold.

Es ist eine Lampe bekannt, die einen sichtbares Licht abgebenden und Infrarotlicht reflektierenden Film aufweist, der auf der Oberfläche der Lampe ausgebildet ist. Der Film gibt selektiv sichtbares Licht ab, das von einem Glühfaden der Lampe durch den Film hindurch emittiert wird, der Film reflektiert jedoch selektiv Infrarotstrahlen, die vom Glüh­ faden emittiert werden. Das reflektierte Infrarotlicht wird zum Glühfaden reflektiert und trägt zu einer weiteren Erwär­ mung des Glühfadens bei, so daß der Lichtemissionswirkungs­ grad der Lampe verbessert wird. Außerdem wird der Anteil an außerhalb der Lampe abgegebenem infraroten Licht durch den Film reduziert.A lamp is known that has a visible light emitting and infrared reflecting film, which is formed on the surface of the lamp. The film emits selectively visible light from a filament the lamp is emitted through the film, the film however, selectively reflects infrared rays from glow thread are emitted. The reflected infrared light is reflected to the filament and contributes to further heating tion of the filament, so that the light emission effect degree of the lamp is improved. Also, the share in infrared light emitted outside the lamp by the Film reduced.

Ein solcher sichtbares Licht abgebender und Infrarot­ licht reflektierender Film besteht üblicherweise aus Schichten mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (SiO₂) oder ähnlichen Verbindungen bestehen, sowie aus Schichten mit hohem Brechungsindex, die aus Titanoxid (TiO₂) oder ähn­ lichen Verbindungen bestehen. Die zwei Arten von Schichten sind abwechselnd übereinander angeordnet, um fünf bis sieben Schichten insgesamt zu ergeben. Im allgemeinen kann ein solcher Film selektiv Licht eines bestimmten Wellenlängenbereiches entsprechend der optischen Interferenz zwischen den Schichten abgeben oder reflektieren. Die optische Interferenz des Filmes kann gesteuert werden durch Änderung der Dicke der Schichten. Diese Art von Film wird nachfolgend als optischer Interferenzfilm bezeichnet.Such visible light emitting and infrared light reflecting film usually consists of layers with low refractive index made of silicon oxide (SiO₂) or similar connections, as well as layers with a high refractive index made of titanium oxide (TiO₂) or the like connections exist. The two types of layers are arranged alternately one above the other by five to seven Total layers. In general, such  Film selectively light of a certain wavelength range according to the optical interference between the layers give up or reflect. The optical interference of the Film can be controlled by changing the thickness of the film Layers. This type of film is referred to below as optical Interference film called.

Die oben beschriebene herkömmliche Lampe weist einen Nachteil auf, der darin besteht, daß der optische Inter­ ferenzfilm gegenüber mechanischen Beanspruchungen und ther­ mischen Dehnungsbeanspruchungen wenig widerstandsfähig ist. Daher neigt der Film zum Brechen oder zum Heraustropfen aus dem Glaskolben oder zum Abschälen vom Glaskolben nach länge­ rem Gebrauch der Lampe. Dieses Phänomen tritt sehr häufig bei Halogenlampen auf, die eine hohe Betriebstemperatur auf­ weisen, bei weißglühenden Lampen, die häufig ein- und aus­ geschaltet werden und bei Lampen, die einen optischen Inter­ ferenzfilm mit erhöhter Zahl an Schichten mit hohem und nie­ drigem Brechungsindex, durch die die Infrarotstrahlreflexion erhöht werden, aufweisen.The conventional lamp described above has one Disadvantage, which is that the optical inter reference film against mechanical stress and ther mixing strain is not very resistant. Therefore, the film tends to break or drip out length of the glass bulb or for peeling off the glass bulb rem use of the lamp. This phenomenon occurs very often with halogen lamps that have a high operating temperature point, with incandescent lamps, which often on and off be switched and for lamps that have an optical inter reference film with increased number of layers with high and never third refractive index, through which the infrared ray reflection be increased.

Die oben beschriebenen Probleme können verringert werden durch Verwendung einer Konstruktion gemäß japanischer Patent­ anmeldung Nr. 57-124301. Diese Anmeldung zeigt einen opti­ schen Interferenzfilm, der gebildet wird aus Schichten mit niedrigem Brechungsindex, beispielsweise Siliziumoxid (SiO₂) oder ähnlichen Verbindungen, und aus Schichten mit hohem Brechungsindex, die wenigstens eine der Verbindungen Aluminium­ oxid (Al₂O₃), Zirkoniumoxid (ZrO₂) und Titanoxid (TiO₂) auf­ weisen. In den Schichten mit niedrigem Brechungsindex ist ein Zusatz wie Zinn (Sn) und/oder Zirkon (Zr) vorhanden. Der Zu­ satz in den Schichten mit niedrigem Brechungsindex erhöht die Stabilität des Filmes, indem der thermische Ausdehnungsko­ effizient der Schicht mit niedrigem Brechungsindex näher an den Koeffizienten der Schicht mit hohem Brechungsindex heran­ gebracht wird. The problems described above can be reduced by using a construction according to Japanese patent application No. 57-124301. This registration shows an opti interference film, which is formed from layers with low refractive index, for example silicon oxide (SiO₂) or similar compounds, and from layers with high Refractive index, the at least one of the compounds aluminum oxide (Al₂O₃), zirconium oxide (ZrO₂) and titanium oxide (TiO₂) point. In the layers with a low refractive index there is a Additive such as tin (Sn) and / or zircon (Zr) available. The To set in the layers with a low refractive index increases the Stability of the film by the thermal expansion coefficient efficiently closer to the low refractive index layer the coefficient of the high refractive index layer brought.  

Dieser bekannte optische Interferenzfilm gemäß erwähnter Patentanmeldung vermag jedoch nicht das Brechen oder Abschälen zu verhindern bei Verwendung auf Halogenlampen mit einem Hart­ glaskolben, beispielsweise einem Kolben aus Quarzglas oder Borsilikatglas.This known optical interference film according to mentioned However, patent application cannot break or peel to prevent when used on halogen lamps with a hard glass bulb, for example a bulb made of quartz glass or Borosilicate glass.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen optischen Interferenzfilm und ein Verfahren zur Her­ stellung eines solchen Filmes anzugeben, wodurch die oben be­ schriebenen Probleme vermieden sind.The object of the present invention is an optical interference film and a method of manufacture position to specify such a film, whereby the above be written problems are avoided.

Die Aufgabe wird bei einem optischen Interferenz­ film zur selektiven Abgabe von Licht mit einer Schicht mit hohem Brechungsindex, auf der eine Schicht mit nie­ drigem Brechungsindex angeordnet ist, dadurch gelöst, daß die Schicht mit hohem Brechungsindex ein Metall­ oxid und wenigstens eines der Elemente Phosphor, Bor, Arsen, Antimon, Zinn, Zink, Blei, Kalium, Nickel und Kobalt auf­ weist, und daß die Schicht mit niedrigem Brechungsindex Sili­ ziumoxid und wenigstens eines der Elemente Phosphor und Bor aufweist.The task is at an optical interference film for the selective emission of light with one layer with high refractive index on which a layer with never third refractive index is arranged, thereby solved, that the high refractive index layer is a metal oxide and at least one of the elements phosphorus, boron, arsenic, Antimony, tin, zinc, lead, potassium, nickel and cobalt points, and that the low refractive index layer Sili ziumoxid and at least one of the elements phosphorus and boron having.

Ein Verfahren zur Herstellung des optischen Interferenz­ filmes weist folgende Verfahrensschritte auf:A method of making optical interference filmes has the following process steps:

  • - Herstellung einer Lösung durch Auflösen einer organo­ metallischen Verbindung in einem alkoholischen Lösungs­ mittel,- Preparation of a solution by dissolving an organo metallic compound in an alcoholic solution medium,
  • - Bildung einer dünnen Schicht aus der Lösung auf einem Substrat,- Forming a thin layer from the solution on one Substrate,
  • - Trocknung der Schicht auf dem Substrat,Drying the layer on the substrate,
  • - Erhitzung der Lösung in Luft zur Bildung einer Schicht mit hohem Brechungsindex,- Heating the solution in air to form a layer with high refractive index,
  • - Bildung einer Kondensations-Polymerlösung durch Auf­ lösung einer Silizium enthaltenden Verbindung in einem alkoholischen Lösungsmittel, - Formation of a condensation polymer solution by Auf solution of a compound containing silicon in an alcoholic solvent,  
  • - Aufbringen einer dünnen Schicht aus der Polymerlösung auf die Schicht mit hohem Brechungsindex,- Application of a thin layer from the polymer solution on the layer with a high refractive index,
  • - Trocknen der Polymerlösungsschicht auf der Schicht mit hohem Brechungsindex zur Bildung eines Verbund­ stoffes undDrying the polymer solution layer on the layer with a high refractive index to form a composite fabric and
  • - Erhitzung des Verbundstoffes in Luft, um eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex zu bilden, wobei das Ver­ fahren gekennzeichnet ist durch folgende weitere Schritte:- Heating the composite in air to form a layer to form with a low refractive index, the Ver driving is characterized by the following others Steps:
  • - Auflösen einer eines der Elemente Phosphor, Bor, Arsen, Antimon, Zinn, Zink, Blei, Kalium, Nickel und Kobalt aufweisenden Verbindung in der Lösung,Dissolving one of the elements phosphorus, boron, arsenic, Antimony, tin, zinc, lead, potassium, nickel and cobalt having connection in the solution,
  • - nachfolgendes Auflösen der organometallischen Ver­ bindung in dem alkoholischen Lösungsmittel,- subsequent dissolution of the organometallic ver binding in the alcoholic solvent,
  • - Auflösen einer eines der Elemente Phosphor und Bor enthal­ tenden Verbindung in der Kondensations-Polymerlösung und- Dissolve one of the elements phosphorus and boron tendency in the condensation polymer solution and
  • - nachfolgende Auflösung der Silizium enthaltenden Ver­ bindung in dem alkoholischen Lösungsmittel.- Subsequent dissolution of the silicon containing Ver bond in the alcoholic solvent.

Vorteilhafte und zweckmäßige Weiterbildungen der erfin­ dungsgemäßen Aufgabenlösungen sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.Advantageous and expedient further developments of the inventions Appropriate task solutions are in the subclaims featured.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand der beigefügten Zeichnung näher erläutert werden.The invention will now be described with reference to the accompanying Drawing will be explained in more detail.

Es zeigtIt shows

Fig. 1 einen Querschnitt durch eine erfindungs­ gemäß ausgebildete Lampe und Fig. 1 shows a cross section through a lamp designed according to the Invention and

Fig. 2 einen Querschnitt durch einen auf dem Glaskolben der Lampe ausgebildeten optischen Interferenzfilm. Fig. 2 shows a cross section through an optical interference film formed on the glass bulb of the lamp.

Die Fig. 1 zeigt eine Lampe, beispielsweise eine Halogen- Lampe gemäß der vorliegenden Erfindung. Die Halogenlampe weist einen rohrförmigen durchsichtigen Glaskolben 1 aus Hartglas, beispielsweise Quarzglas und Borsilikatglas auf. Der Glaskolben 1 ist hermetisch am Sockelende 3 abgedichtet. Das Sockelende 3 weist darin eingebettete Molybdän-Leitungs­ folien 4 auf, die mit Innenleitern 5 verbunden sind. Die Innenleiter 5 weisen eine zwischen sich aufgehängte Wolfram- Glühfadenwendel 6 auf, derart, daß die Wolfram-Glühfaden­ wendel 6 im Zentrum des rohrförmigen Glaskolbens 1 positio­ niert ist. Die Molybdän-Leiterfolien 4 sind außerdem mit einer Kappe 7 verbunden, die außerhalb des abgedichteten Endes 3 des Glaskolbens 1 angebracht ist. Der Glaskolben 1 ist mit einer Mischung aus inertem Gas, beispielsweise einem Argon­ gas und einem Halogengas gefüllt. Fig. 1 shows a lamp, for example a halogen lamp in accordance with the present invention. The halogen lamp has a tubular, transparent glass bulb 1 made of hard glass, for example quartz glass and borosilicate glass. The glass bulb 1 is hermetically sealed at the base end 3 . The base end 3 has embedded molybdenum line foils 4 , which are connected to inner conductors 5 . The inner conductors 5 have a suspended therebetween tungsten filament coil 6, so that the tungsten filament coil is 6 positio ned in the center of the tubular glass envelope. 1 The molybdenum conductor foils 4 are also connected to a cap 7 , which is attached outside the sealed end 3 of the glass bulb 1 . The glass bulb 1 is filled with a mixture of inert gas, for example an argon gas and a halogen gas.

Auf der Außenfläche des Glaskolbens 1 ist ein optischer Interferenzfilm 2 aufgebracht, der sichtbares Licht durch­ läßt und Infrarotstrahlen reflektiert. Der optische Inter­ ferenzfilm 2 besteht aus Schichten 21 und 22, die abwechselnd übereinander angeordnet sind zur Bildung wenigstens einer Fünfschichtenanordnung. Jede abwechselnd aufeinanderfolgende Schicht weist einen anderen Brechungsindex bezüglich der be­ nachbarten Schicht auf. Die erste Schicht, beispielsweise die unterste, dem Glaskolben 1 benachbarte Schicht und die weite­ ren, mit ungeraden Zahlen bezeichneten Schichten 21 sind Schichten mit hohem Brechungsindex. Die zweite Schicht oder die weiteren mit geraden Zahlen bezeichneten Schichten 22 sind Schichten mit niedrigem Brechungsindex. Die Schichten 21 mit hohem Brechungsindex weisen wenigstens eine Metalloxid­ substanz, beispielsweise Titanoxid (TiO₂), Tantaloxid (Ta₂O₅), oder Zirkoniumoxid (ZrO₂) auf sowie wenigstens eine Verbindung aus einer ersten Additivgruppe mit Phosphor (P), Bor (B), Arsen (As), Antimon (Sb), Zinn (Sn), Zink (Zn), Blei (Pb), Kalium (K), Nickel (Ni) und Kobalt (Co). Die Schichten mit niedrigem Brechungsindex weisen Siliziumoxid (SiO₂) mit wenig­ stens einem Element aus einer zweiten Additivgruppe mit Phos­ phor (P) und Bor (B) auf.On the outer surface of the glass bulb 1 , an optical interference film 2 is applied, which lets visible light through and reflects infrared rays. The optical interferential film 2 consists of layers 21 and 22 which are arranged alternately one above the other to form at least one five-layer arrangement. Each alternating successive layer has a different refractive index with respect to the adjacent layer. The first layer, for example the lowest layer adjacent to the glass bulb 1 and the further layers 21 denoted with odd numbers, are layers with a high refractive index. The second layer or the further layers 22 denoted by even numbers are layers with a low refractive index. The layers 21 with a high refractive index have at least one metal oxide substance, for example titanium oxide (TiO₂), tantalum oxide (Ta₂O₅), or zirconium oxide (ZrO₂) and at least one compound from a first additive group with phosphorus (P), boron (B), arsenic ( As), antimony (Sb), tin (Sn), zinc (Zn), lead (Pb), potassium (K), nickel (Ni) and cobalt (Co). The layers with a low refractive index have silicon oxide (SiO₂) with at least one element from a second additive group with phosphorus (P) and boron (B).

Die Schichten 21 und 22 mit hohem und niedrigem Brechungs­ index sind abwechselnd übereinander angeordnet zur Bildung von vorzugsweise neun bis elf Schichten. Zusätzlich wird die Stärke der Schichten 21 und 22 mit hohem und niedrigem Brechungsindex gesteuert, so daß der optische Interferenz­ film 2 die gewünschte optische Interferenzwirkung hinsicht­ lich Durchlässigkeit für einen ausreichenden Anteil des sichtbaren Lichtes und hinsichtlich Reflexion eines gewünsch­ ten Anteils des Infrarotlichtes aufweist. Beispielsweise haben die Schichten 21, 22 mit hohem und niedrigem Brechungsindex nor­ malerweise eine optische Dicke von 0,2 µm bis 0,4 µm.The layers 21 and 22 with high and low refractive index are arranged alternately one above the other to form preferably nine to eleven layers. In addition, the thickness of the layers 21 and 22 with high and low refractive index is controlled, so that the optical interference film 2 has the desired optical interference effect with respect to permeability for a sufficient portion of the visible light and with respect to reflection of a desired portion of the infrared light. For example, the layers 21 , 22 with high and low refractive index normally have an optical thickness of 0.2 μm to 0.4 μm.

Nachfolgend soll ein Verfahren zur Erzeugung des op­ tischen Interferenzfilmes 2 näher beschrieben werden. Zu­ nächst wird eine oder werden mehrere organometallische Ver­ bindungen mit Titan (Ti), Tantal (Ta) oder Zirkon (Zr) in einem alkoholischen Lösungsmittel, beispielsweise Ethanol, aufgelöst zur Bildung einer ersten Zwischenlösung. Beispiels­ weise kann Titanalkoholat, beispielsweise Tetraisopropoxy- Titan oder Tetramethoxy-Titan als organometallische Verbin­ dung des Titans (Ti) verwendet werden. Danach wird wenig­ stens eine in dem alkoholischen Lösungsmittel lösbare Ver­ bindung aus der ersten Additivgruppe mit Phosphor (P), Bor (B), Arsen (As), Antimon (Sb), Zinn (Sn), Zink (Zn), Blei (Pb), Kalium (K), Nickel (Ni) und Kobalt (Co) der ersten Zwischenlösung zugefügt zur Bildung einer ersten resultieren­ den Lösung. Ein Glaskolben 1 wird in die erste resultierende Lösung eingetaucht. Nach dem Eintauchen wird der Glaskolben aus der ersten resultierenden Lösung mit einer konstanten Geschwindigkeit herausgezogen, beispielsweise mit einer Ge­ schwindigkeit 20 cm/min. bis 30 cm/min. Die erste auf dem Glaskolben 1 befindliche Lösung wird dann getrocknet und bei etwa 500°C bis 600°C in Luft über etwa zehn Minuten ausge­ härtet. Während des Aushärtens wandelt sich Titanalkoxid in Titanoxid um zur Bildung einer Schicht 21 mit hohem Brechungs­ index.A method for producing the optical interference film 2 will be described in more detail below. First, one or more organometallic compounds with titanium (Ti), tantalum (Ta) or zirconium (Zr) are dissolved in an alcoholic solvent, e.g. ethanol, to form a first intermediate solution. For example, titanium alcoholate, for example tetraisopropoxy titanium or tetramethoxy titanium, can be used as the organometallic compound of titanium (Ti). Thereafter, at least one compound from the first additive group that is soluble in the alcoholic solvent is combined with phosphorus (P), boron (B), arsenic (As), antimony (Sb), tin (Sn), zinc (Zn), lead (Pb ), Potassium (K), Nickel (Ni) and Cobalt (Co) added to the first intermediate solution to form a first result in the solution. A glass bulb 1 is immersed in the first resulting solution. After immersion, the glass bulb is pulled out of the first resulting solution at a constant speed, for example at a speed of 20 cm / min. up to 30 cm / min. The first solution on the glass bulb 1 is then dried and cured at about 500 ° C to 600 ° C in air for about ten minutes. During curing, titanium alkoxide converts to titanium oxide to form a layer 21 with a high refractive index.

Danach wird Tetraalkoxysilan in einem alkoholischen Lösungsmittel, beispielsweise Ethanol, aufgelöst. Diese Lösung wird zur Reaktion gebracht, um eine zweite Zwischen­ lösung eines Tetraalkoxysilan-Kondensationspolymers zu bilden mit einer Siliziumkonzentration von beispielsweise 5 Gew.%. Ferner werden eine Phosphorverbindung und/oder eine Borver­ bindung, die im alkoholischen Lösungsmittel lösbar sind, der zweiten Zwischenlösung zugefügt, so daß eine zweite resul­ tierende Lösung erhalten wird. Insbesondere wird Phosphor­ pentoxid als Phosphorverbindung verwendet. Der mit der Schicht mit hohem Brechungsindex beschichtete Glaskolben 1 wird in die zweite resultierende Lösung eingetaucht. Nach dem Ein­ tauchen wird der Glaskolben 1 aus der zweiten resultierenden Lösung mit einer konstanten Geschwindigkeit, beispielsweise 30 cm/min. bis 40 cm/min. herausgezogen. Die auf die Schicht 21 mit hohem Brechungsindex aufgebrachte zweite resultierende Lösung wird ebenfalls getrocknet und bei Temperaturen von etwa 500°C bis 600°C in Luft über einen Zeitraum von zehn Minuten ausgehärtet. Während des Aushärtvorganges zersetzt sich Tetraalkoxysilan zu Siliziumoxid (SiO₂) zur Bildung der Schicht 22 mit niedrigem Brechungsindex mit einem zweiten Additiv wie Phosphor (P) und/oder Bor (B), das aus der Phos­ phorverbindung und/oder der Borverbindung stammt.Thereafter, tetraalkoxysilane is dissolved in an alcoholic solvent, for example ethanol. This solution is reacted to form a second intermediate solution of a tetraalkoxysilane condensation polymer with a silicon concentration of, for example, 5% by weight. Furthermore, a phosphorus compound and / or a boron compound, which are soluble in the alcoholic solvent, are added to the second intermediate solution, so that a second resulting solution is obtained. In particular, phosphorus pentoxide is used as the phosphorus compound. The glass bulb 1 coated with the high refractive index layer is immersed in the second resulting solution. After immersing the glass bulb 1 from the second resulting solution at a constant speed, for example 30 cm / min. up to 40 cm / min. pulled out. The second resulting solution applied to the high refractive index layer 21 is also dried and cured at temperatures from about 500 ° C to 600 ° C in air over a period of ten minutes. During the curing process, tetraalkoxysilane decomposes to silicon oxide (SiO₂) to form the layer 22 with a low refractive index with a second additive such as phosphorus (P) and / or boron (B), which comes from the phosphorus compound and / or the boron compound.

Bei einer gemäß obigem Verfahren hergestellten Halogen­ lampe läßt der optische Interferenzfilm 2 selektiv sichtbares Licht nach außen durch die Lampe hindurch, reflektiert die Infrarotstrahlen aber nach innen, um den Glühfaden aufzu­ heizen, so daß die Lichtausbeute bzw. der Wirkungsgrad der Lampe erhöht wird.In a halogen lamp manufactured according to the above method, the optical interference film 2 selectively allows visible light to the outside through the lamp, but reflects the infrared rays inwards to heat the filament, so that the luminous efficiency or the efficiency of the lamp is increased.

Bei der Halogenlampe gemäß obigem Beispiel wird der Glaskolben 1 auf eine relativ hohe Temperatur erhitzt. Die Schichten 22 mit niedrigem Brechungsindex jedoch weisen einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf, der aufgrund des zweiten Additivs nahe demjenigen der Schichten 21 mit hohem Brechungsindex liegt. Dadurch ist der optische Interferenz­ film 2 sehr stabil gegenüber thermischen Beanspruchungen. In the halogen lamp according to the above example, the glass bulb 1 is heated to a relatively high temperature. The layers 22 with a low refractive index, however, have a coefficient of thermal expansion which is close to that of the layers 21 with a high refractive index due to the second additive. As a result, the optical interference film 2 is very stable against thermal stresses.

Außerdem sind die Schichten 21 mit hohem Brechungsindex und die Schichten 22 mit niedrigem Brechungsindex gemäß der vorliegenden Erfindung schwer voneinander zu trennen. Es wird angenommen, daß die ersten und zweiten Additive in den Schichten 21 und 22 mit dem hohen und dem niedrigen Brechungsindex sich mechanisch oder chemisch gegeneinander anziehen. Daher sind die Lampen gemäß der vorliegenden Er­ findung äußerst langlebig, auch bei häufigem Ein- und Aus­ schalten, ohne daß ein Brechen oder Abschälen auftritt, auch wenn der optische Interferenzfilm 2 aus zehn und mehr Schichten 21 und 22 besteht. Die nachfolgenden Tabellen zeigen die Ergebnisse von Versuchen bei unterschiedlicher Zahl der Schichten 21 und 22 und bei verschiedenen Additiven.In addition, the high refractive index layers 21 and the low refractive index layers 22 according to the present invention are difficult to separate. It is believed that the first and second additives in the high and low refractive index layers 21 and 22 mechanically or chemically attract each other. Therefore, the lamps according to the present invention He extremely durable, even with frequent on and off switching without breaking or peeling occurs, even if the optical interference film 2 consists of ten and more layers 21 and 22 . The following tables show the results of tests with different numbers of layers 21 and 22 and with different additives.

Die in der Tabelle 1 gezeigten Versuchsergebnisse zeigen den Effekt der vorliegenden Erfindung bei Zugabe von Phosphor (P) zu den Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex. In der Tabelle 1 beträgt der Additivanteil, beispielsweise Phosphor (P) 3 Gew.%, berechnet auf der Basis von Phosphorpent­ oxid (P₂O₅).The test results shown in Table 1 show the effect of the present invention when phosphorus is added (P) to the layers with high and low refractive index. In Table 1, the additive content is, for example Phosphorus (P) 3% by weight, calculated on the basis of phosphorus pent oxide (P₂O₅).

Tabelle 1 Table 1

Danach wurden die in der Tabelle 2 wiedergegebenen Versuche durchgeführt, um die Wirkung einer Kobalt (Co)- Zugabe zur Schicht mit hohem Brechungsindex und einer Bor (B)-Zugabe zur Schicht mit niedrigem Brechungsindex zu prüfen. In der Tabelle 2 beträgt der Anteil des ersten Additivs, z.B. Kobalt (Co) 3 Gew.%, berechnet auf der Basis von Kobaltoxid (CoO). Der Anteil des zweiten Additivs, bei­ spielsweise Bor (B) beträgt 3 Gew.%, berechnet auf der Basis von Bortrioxid (B₂O₃).Thereafter, the experiments shown in Table 2 were carried out to examine the effect of adding cobalt (Co) to the high refractive index layer and adding boron (B) to the low refractive index layer. In Table 2, the proportion of the first additive, for example cobalt (Co), is 3% by weight, calculated on the basis of cobalt oxide (CoO). The proportion of the second additive, for example boron (B) is 3% by weight, calculated on the basis of boron trioxide (B₂O₃).

Tabelle 2 Table 2

Wie man aus den Tabellen 1 und 2 entnehmen kann, sind die optischen Interferenzfilme 2 gemäß vorliegender Erfindung wesentlich widerstandsfähiger hinsichtlich Brechen und Ab­ schälen.As can be seen from Tables 1 and 2, the optical interference films 2 according to the present invention are much more resistant to breaking and peeling.

Es sind eine Reihe von Modifikationen und Änderungen möglich, ohne daß die vorliegende Erfindung verlassen wird. There are a number of modifications and changes possible without leaving the present invention.  

Beispielsweise ist es möglich, die vorliegende Erfindung bei einer Reflexionslampe anzuwenden, die einen Interferenz­ film aufweist, der Infrarotstrahlen durchläßt und sichtbares Licht reflektiert, beispielsweise bei einer Entladungslampe wie einer Metall-Halogenidlampe oder ähnlicher Lampe.For example, it is possible the present invention apply to a reflection lamp that has an interference film that transmits infrared rays and visible Reflecting light, for example in the case of a discharge lamp such as a metal halide lamp or similar lamp.

Claims (17)

1. Optischer Interferenzfilm zur selektiven Abgabe von Licht mit einer Schicht (21) mit hohem Brechungsindex, auf der eine Schicht (22) mit niedrigem Brechungsindex angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (21) mit hohem Brechungsindex ein Metalloxid und wenigstens eines der Elemente Phosphor, Bor, Arsen, Anti­ mon, Zinn, Zink, Blei, Kalium, Nickel und Kobalt aufweist, und daß die Schicht (22) mit niedrigem Brechungsindex Silizium­ oxid und wenigstens eines der Elemente Phosphor und Bor auf­ weist.1. Optical interference film for the selective emission of light with a layer ( 21 ) with a high refractive index, on which a layer ( 22 ) with a low refractive index is arranged, characterized in that the layer ( 21 ) with a high refractive index is a metal oxide and at least one of the Elements phosphorus, boron, arsenic, anti mon, tin, zinc, lead, potassium, nickel and cobalt, and that the layer ( 22 ) with low refractive index silicon oxide and at least one of the elements phosphorus and boron. 2. Film nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Metalloxid wenigstens eine der Verbindungen Titanoxid, Tantaloxid und Zirkoniumoxid aufweist.2. Film according to claim 1, characterized records that the metal oxide at least one of the Compounds titanium oxide, tantalum oxide and zirconium oxide. 3. Film nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge­ kennzeichnet, daß mehrere Schichten (21, 22) mit hohem und niedrigem Brechungsindex in wechselnder An­ ordnung vorgesehen sind.3. Film according to claim 1 or 2, characterized in that several layers ( 21 , 22 ) with a high and low refractive index are provided in alternating order. 4. Film nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Schicht (21) mit hohem Brechungs­ index Titanoxid und Phosphor aufweist und die Schicht (22) mit niedrigem Brechungsindex Siliziumoxid und Phosphor.4. Film according to claim 1, characterized in that the layer ( 21 ) having a high refractive index titanium oxide and phosphorus and the layer ( 22 ) having a low refractive index silicon oxide and phosphorus. 5. Film nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Schicht (21) mit hohem Brechungs­ index Zirkoniumoxid und Kobalt aufweist und die Schicht (22) mit niedrigem Brechungsindex Siliziumoxid und Bor.5. Film according to claim 1, characterized in that the layer ( 21 ) with high refractive index has zirconium oxide and cobalt and the layer ( 22 ) with low refractive index silicon oxide and boron. 6. Film nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Schichten (21, 22) mit hohem und niedrigem Brechungsindex jeweils eine Stärke von etwa 0,2 µm bis etwa 0,4 µm aufweisen.6. Film according to one of the preceding claims, characterized in that the layers ( 21 , 22 ) with high and low refractive index each have a thickness of about 0.2 µm to about 0.4 µm. 7. Film nach Anspruch 4, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Anteil an Phosphor in den Schich­ ten mit hohem und niedrigem Brechungsindex 3 Gew.% beträgt, berechnet auf der Basis von Phosphoroxid.7. Film according to claim 4, characterized records that the proportion of phosphorus in the layer high and low refractive index is 3% by weight, calculated on the basis of phosphorus oxide. 8. Film nach Anspruch 5, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Anteil an Kobalt in der Schicht mit hohem Brechungsindex 2 Gew.% beträgt, berechnet auf der Basis von Kobaltoxid, und daß der Anteil an Bor in der Schicht mit niedrigem Brechungsindex 3 Gew.% beträgt, be­ rechnet auf der Basis von Boroxid.8. Film according to claim 5, characterized records that the proportion of cobalt in the layer with a high refractive index is 2% by weight, calculated on the base of cobalt oxide, and that the proportion of boron in the Layer with a low refractive index is 3% by weight, be calculates on the basis of boron oxide. 9. Film nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß sich die Schicht (21) mit hohem Brechungsindex auf der Oberfläche eines durchscheinenden oder teildurchlässigen Elementes (1) befindet.9. Film according to one of the preceding claims, characterized in that the layer ( 21 ) with a high refractive index is located on the surface of a translucent or partially transparent element ( 1 ). 10. Film nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß das durch­ lässige Element der hohle Glaskolben einer elektrischen Lampe ist. 10. Film according to one of the preceding claims, since characterized by that by casual element of the hollow glass bulb of an electric Lamp is.   11. Film nach Anspruch 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Glaskolben aus Quarzglas oder Borsilikatglas besteht, und daß im Glaskolben ein Inert­ gas oder ein Halogengas enthalten ist.11. Film according to claim 10, characterized records that the glass bulb made of quartz glass or Borosilicate glass exists, and that an inert in the glass bulb gas or a halogen gas is contained. 12. Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenz­ filmes mit den Verfahrensschritten:
  • - Bildung einer Lösung durch Auflösen einer organo­ metallischen Verbindung in einem alkoholischen Lösungsmittel,
  • - Bildung einer dünnen Schicht der Lösung auf einem Substrat (1),
  • - Trocknung der Schicht auf dem Substrat (1),
  • - Erhitzung der Lösung in Luft zur Bildung einer Schicht (21) mit hohem Brechungsindex,
  • - Herstellung einer Kondensations-Polymerlösung durch Auflösen einer Silizium enthaltenden Verbindung in einem alkoholischen Lösungsmittel,
  • - Aufbringen einer dünnen Schicht der Polymerlösung auf die Schicht (21) mit hohem Brechungsindex,
  • - Bildung eines Verbundstoffes durch Trocknung der Schicht der Polymerlösung auf der Schicht (21) mit hohem Brechungsindex, und
  • - Bildung einer Schicht (22) mit niedrigem Brechungs­ index durch Erhitzen des Verbundstoffes in Luft,
12. Method for producing an optical interference film with the method steps:
  • Formation of a solution by dissolving an organometallic compound in an alcoholic solvent,
  • - Formation of a thin layer of the solution on a substrate ( 1 ),
  • Drying the layer on the substrate ( 1 ),
  • Heating the solution in air to form a layer ( 21 ) with a high refractive index,
  • Preparation of a condensation polymer solution by dissolving a silicon-containing compound in an alcoholic solvent,
  • Applying a thin layer of the polymer solution to the layer ( 21 ) with a high refractive index,
  • - Forming a composite by drying the layer of the polymer solution on the layer ( 21 ) with a high refractive index, and
  • Formation of a layer ( 22 ) with a low refractive index by heating the composite in air,
gekennzeichnet durch die weiteren Verfahrensschritte:
  • - Auflösung einer eines der Elemente Phosphor, Bor, Arsen, Antimon, Zinn, Zink, Blei, Kalium, Nickel und Kobalt enthaltenden Verbindung in der Lösung,
  • - nachfolgendes Auflösen der organometallischen Ver­ bindung in dem alkoholischen Lösungsmittel,
  • - Auflösen einer eines der Elemente Phosphor und Bor enthaltenden Verbindung in der Kondensations- Polymerlösung,
  • - nachfolgendes Auflösen der Silizium enthaltenden Verbindung in dem alkoholischen Lösungsmittel.
characterized by the further process steps:
  • Dissolution of one of the elements phosphorus, boron, arsenic, antimony, tin, zinc, lead, potassium, nickel and cobalt in the solution,
  • - subsequent dissolution of the organometallic compound in the alcoholic solvent,
  • Dissolving a compound containing one of the elements phosphorus and boron in the condensation polymer solution,
  • - Subsequent dissolution of the silicon-containing compound in the alcoholic solvent.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge­ kennzeichnet, daß beim Auflösen der organo­ metallischen Verbindung eine Verbindung mit wenigstens einem der Elemente Titan, Tantal und Zirkonium zu dem alko­ holischen Lösungsmittel hinzugefügt wird.13. The method according to claim 12, characterized ge indicates that when the organo metallic connection a connection with at least one of the elements titanium, tantalum and zirconium to the alko holic solvent is added. 14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge­ kennzeichnet, daß beim Zugeben der Verbindung die organometallische Verbindung mit Ethanol gemischt wird.14. The method according to claim 12, characterized ge indicates that when adding the connection the organometallic compound is mixed with ethanol. 15. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge­ kennzeichnet, daß beim Erhitzen des Substrates (1) das Substrat einer Temperatur von etwa 500°C bis etwa 600°C über einen Zeitraum von etwa 10 Minuten ausgesetzt wird.15. The method according to claim 12, characterized in that when the substrate ( 1 ) is heated, the substrate is exposed to a temperature of about 500 ° C to about 600 ° C for a period of about 10 minutes. 16. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge­ kennzeichnet, daß beim Auflösen der Silizium enthaltenden Verbindung eine Reaktion von Tetraalkoxysilan mit Ethanol durchgeführt wird.16. The method according to claim 12, characterized ge indicates that when dissolving the silicon containing compound a reaction of tetraalkoxysilane is carried out with ethanol.
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