DE3913613A1

DE3913613A1 - Verfahren zum regenerieren eines fotorezeptors fuer die elektrofotographie

Info

Publication number: DE3913613A1
Application number: DE19893913613
Authority: DE
Inventors: Shigeki Kunii; Kazuyuki Urabe
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1988-04-25
Filing date: 1989-04-25
Publication date: 1989-11-09
Also published as: JPH0234862A; JP2682105B2

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Regenerie ren eines Fotorezeptors für die Elektrofotographie. Das Verfahren ermöglicht dabei die Wiederverwendung von Fotore zeptoren durch Entfernen von Rissen, Stellen mit Toner ablagerungen, von durch Licht kristallisierten Schichten und dergleichen, die an der Umfangsfläche des unbeschichte ten Bereichs, der lichtempfindlichen Schicht oder beider Bereiche eines Fotorezeptors für die Elektrofotographie ge bildet sind.

Der in Fig. 32 dargestellte Fotorezeptor für die Elektrofo tographie ist durch Aufbringen einer Schicht auf der Um fangsfläche eines leitfähigen Grundkörpers 1 c, wie eines aus Aluminium bestehenden zylindrischen Rohres, aus einer Se-Ar-Legierung oder dergleichen, unter Vakuum hergestellt. Auf dem Fotorezeptor ist eine lichtempfindliche Schicht 1 a mit einer Dicke von mehreren zehn Mikrometer ausgebildet und je ein unbeschichteter Bereich 1 b, der aus dem Aus gangsmaterial des leitfähigen Grundkörpers besteht, und der nicht mit einer Se-Ar-Legierung beschichtet ist, ist an den beiden seitlichen Enden der lichtempfindlichen Schicht üb rig gelassen. Wenn die lichtempfindliche Schicht 1 a mit Licht bestrahlt wird, wird lediglich in dem bestrahltem Teil der elektrische Widerstandswert aufgrund eines Foto leiteffektes vermindert, so daß eine Oberflächenladung zu dem leitenden Grundkörper 1 c an der Rückseite hin abfließen kann. Es wird somit, aufgrund eines Unterschiedes in der verbleibenden statischen Elektrizität zwischen dem hellen und dunklen Bereich auf der lichtempfindlichen Schicht 1 a, ein latentes Abbild erzeugt. Ein mit Toner bezeichnetes feines Pulver wird über das latente Abbild verteilt und da durch ein Tonerbild entwickelt. Durch Übertragung des Tonerbildes auf ein leeres Blatt wird ein kopiertes Abbild erhalten.

Durch eine Vielzahl von Führungsrollen, die am Umfang des unbeschichteten Teils 1 b an beiden Enden des Fotorezeptors 1 angeordnet sind, ist dieser in konstant gehaltenem Ab stand zu einer Entwicklungseinrichtung gehalten.

Ein von einem Anwender als nicht mehr brauchbar zurückgege bener Fotorezeptor für die Elektrofotographie weist betref fend die lichtempfindliche Schicht, die durch Auftragen ei ner Se-As-Legierung unter Vakuum auf dem Fotorezeptor ge bildet ist, nur sehr geringen Abrieb auf. Die Lebensdauer eines Fotorezeptors wird hauptsächlich dadurch beeinflußt, daß ein durch Toner gebildeter Film an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht anhaftet, daß unter Bestrahlung mit starkem Licht Toner kristallisiert, oder durch Risse, die durch eine Klinge verursacht werden, die zum Entfernen eines an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht hän genden Toner-Films, von durch Bestrahlung mit starkem Licht kristallisiertem Toner oder an der Oberfläche der lichtemp findlichen Schicht hängendem Toner eingesetzt wird. Von den genannten Unzuträglichkeiten betreffend die lichtempfindli che Schicht haben beispielsweise Risse auf der lichtemp findlichen Schicht eine Tiefe von etwa 0,1 Mikrometer, so daß, wenn die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht auf eine Tiefe von etwa 1 Mikrometer abgetragen wird, eine Regenerierung der lichtempfindlichen Schicht auf einen, ei nem neuwertigen Zustand des Fotorezeptors entsprechenden, Zustand erfolgen kann. Es ist somit nicht erforderlich, daß ein zurückgegebener Fotorezeptor beseitigt wird.

In einigen Fällen weisen als unbrauchbar zurückgegebene Fo torezeptoren keine Probleme betreffend die lichtempfindli che Schicht auf, sondern haben Abweichungen betreffend den unbeschichteten Bereich. Zu diesen Abweichungen gehören in dem unbeschichteten Bereich ausgebildete Risse, anhängender Toner und verbleibende Flecken, sowie Einbußen betreffend die Glätte und Rundheit der Umfangsfläche des unbeschichte ten Bereichs. Aufgrund dieser Abweichungen können Vibratio nen des, über eine Vielzahl von Führungsrollen an der Um fangsfläche des unbeschichteten Bereichs geführten, Fotore zeptors auftreten, wodurch ein durch Elektrofotographie er zeugtes Abbild eine verschlechterte Qualität aufweist. Diese Nachteile können vermieden werden, wenn die Abwei chungen betreffend den unbeschichteten Bereich entfernt werden.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Regenerieren eines Fotorezeptors zu schaffen, durch das dessen Wiederverwendung ermöglicht wird, indem Unzuträg lichkeiten betreffend den unbeschichteten Bereich, die lichtempfindliche Schicht, oder beide Bereiche entfernt werden, ohne daß es notwendig ist, einen als unbrauchbar zurückgegebenen Fotorezeptor zu beseitigen, und mit dem es möglich ist, eine Abbildung mit einer Qualität zu erzeugen, die derjenigen neuer Fotorezeptoren entspricht.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß Unzuträglichkeiten in dem unbeschichteten Bereich des Foto rezeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezep tors, oder in beiden Bereichen gemäß dem folgenden Verfah ren beseitigt werden. Im Falle eines Fotorezeptors für die Elektrofotographie der dadurch hergestellt ist, daß eine lichtempfindliche Schicht auf einem leitfähigen Grund körper, wie einem aus Aluminium bestehenden zylindrischen Rohr, durch Aufbringen eines Ausgangsmaterials wie eines Se-As enthaltenden Materials auf der Umfangsfläche des Grundkörpers unter Vakuum gebildet ist, wird eine dünne Schicht des Fotorezeptors, durch physikalisches Einwirken wie Schleifen oder dergleichen oder durch chemisches Ein wirken wie Lösen oder dergleichen, abgetragen. Damit werden Risse, Tonerablagerungen, Kristallbildungen oder derglei chen von der Umfangsfläche des unbeschichteten Bereichs an beiden Enden der lichtempfindlichen Schicht, der lichtemp findlichen Schicht oder beider Bereiche entfernt, um eine neue Oberfläche für die Umfangsfläche des Fotorezeptors zu bilden.

Dadurch, daß eine dünne Schicht der Umfangsfläche des unbe schichteten Bereichs, der lichtempfindlichen Schicht oder beider Bereiche eines Fotorezeptors abgetragen wird und die Umfangsfläche eine neue Oberfläche erhält, werden sowohl die Glätte als auch die Rundheit der Umfangsfläche verbes sert. Ein derart wiederhergestellter Fotorezeptor vermag Abbildungen mit einer, neuen Fotorezeptoren entsprechenden Qualität, zu erzeugen und ist somit wiederverwendbar.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend an hand der Zeichnung erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine Seitenansicht betreffend ein erstes Verfah rensbeispiel, bei dem ein Schleifband eingesetzt ist,

Fig. 2 eine perspektivische Ansicht einer Andrückrolle nach Fig. 1,

Fig. 3 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors und der Rauhheit oder der von der geschliffenen Ober fläche abgeschliffenen Menge, für das erste Ver fahrensbeispiel,

Fig. 4 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Laufgeschwindigkeit des Bandes und der Rauhheit oder der von der geschliffenen Oberfläche abgetra genen Menge, für das erste Verfahrensbeispiel,

Fig. 5 eine Seitenansicht betreffend ein zweites Verfah rensbeispiel, bei dem eine Schleifscheibe einge setzt wird und betreffend ein drittes Verfahrens beispiel bei dem eine Feinschleifbearbeitung durchgeführt wird,

Fig. 6 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors und der Rauhheit oder der von der geschliffenen Oberfläche abgetragenen Menge, für das zweite Verfahrensbei spiel, mit einer Schleifscheibe mit Korn-Größe Nr. 1000 und einem Anpreßdruck von 100 kPa (1,0 kp/cm²) und der Geschwindigkeit eines Quervor schubs der Schleifscheibe von 5 mm/Umdrehung,

Fig. 7 eine Seitenansicht betreffend ein viertes Verfah rensbeispiel, gemäß dem der Fotorezeptor durch die Stirnfläche einer rotierenden, zylindrischen oder säulenförmigen Schleifscheibe abgeschliffen wird,

Fig. 8 eine Seitenansicht betreffend ein Verfahren zum Abschleifen eines Fotorezeptors, mit der Umfangs fläche einer Schleifscheibe und im übrigen mit dem sich auf Fig. 7 beziehenden Verfahrensschritten,

Fig. 9 eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen der Drehgeschwindigkeit der Schleifscheibe und der Rauhheit der nach den obigen Verfahrensbeispiel geschliffenen Oberfläche,

Fig. 10 eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen der Frequenz einer oszillierenden Schleifscheibe und der Rauhheit der nach dem obigen Verfahrens beispiel geschliffenen Oberfläche,

Fig. 11 eine perspektivische Ansicht betreffend ein fünftes Verfahrensbeispiel, mit einem rotierenden scheibenförmigen Abriebwerkzeug, das aus einem, Abriebkörner aufnehmenden Trägermaterial besteht, gemäß dem der Fotorezeptor durch die Seitenfläche des scheibenförmigen Abriebwerkzeuges abgeschlif fen wird,

Fig. 12 eine perspektivische Ansicht betreffend ein, mit dem obigen übereinstimmendes, Verfahrensbeispiel, bei dem der Fotorezeptor durch die Umfangsfläche des scheibenförmigen Abriebwerkzeuges abgeschliff fen wird,

Fig. 13 eine perspektivische Ansicht betreffend ein sech stes Verfahrensbeispiel, gemäß dem der Fotorezep tor durch die Stirnfläche eines rotierenden schei benförmigen Schwabbelwerkzeuges abgeschliffen wird,

Fig. 14 eine perspektivische Ansicht betreffend ein mit dem obigen übereinstimmendes Verfahrensbeispiel, bei dem der Fotorezeptor durch die Umfangsfläche des scheibenförmigen Schwabbelwerkzeuges abge schliffen wird,

Fig. 15 eine geschnittene Seitenansicht einer Düse für Flüssigkeitshonen betreffend ein siebtes Verfah rensbeispiel,

Fig. 16 eine perspektivische Ansicht eines Fotorezeptors, der durch das, auf dem Flüssigkeitshonen basieren de Verfahren abgeschliffen wird,

Fig. 17 eine Seitenansicht zu Fig. 16,

Fig. 18 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Partikelgröße verschiedener Abriebmittel, die in einer Abrieblösung enthalten sind, und der mit dem obigen Verfahrensbeispiel abgeschliffenen Menge,

Fig. 19 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Sprühzeit für verschiedene Abriebmittel und der Rauhheit der geschliffenen Oberfläche für das obige Verfahrensbeispiel,

Fig. 20 eine geschnittene Seitenansicht einer Spritzdüse für die Verwendung in einem achten Verfahrensbei spiel,

Fig. 21 eine perspektivische Ansicht betreffend ein Ver fahren, bei dem die Umfangsfläche des Fotorezep tors dadurch abgeschliffen wird, daß durch die Spritzdüse nach Fig. 20 Sandkörner enthaltendes, unter Hochdruck stehendes Wasser, aufgesprüht wird,

Fig. 22 eine Seitenansicht nach Fig. 21,

Fig. 23 eine perspektivische Ansicht betreffend ein neun tes Verfahrensbeispiel, bei dem der Fotorezeptor durch Anblasen abgeschliffen wird,

Fig. 24 eine Seitenansicht nach Fig. 23,

Fig. 25 eine Kurve, betreffend den Zusammenhang zwischen einer Sprühentfernung zu der Oberfläche des Foto rezeptors und einem Sprühbereich, für das obige Verfahrensbeispiel,

Fig. 26 eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen dem Sprühwinkel und der nach dem obigen Verfah rensbeispiel abgeschliffenen Menge,

Fig. 27 eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen der Sprühzeit und der Rauhheit einer nach dem obigen Verfahrensbeispiel abgeschliffenen Ober fläche,

Fig. 28 eine teilweise geschnittene Vorderansicht betreff end ein zehntes Verfahrensbeispiel, bei dem ein Fotorezeptor unter Einsatz der Reinigungswirkung von Ultraschall abgeschliffen wird,

Fig. 29 eine schematische Darstellung betreffend ein elf tes Verfahrensbeispiel, bei dem die lichtempfind liche Schicht eines Fotorezeptors, durch Auflösen der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht mittels einer Lösung mit auflösender Wirkung, re generiert wird,

Fig. 30 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Eintauchzeit des Fotorezeptors und der aufgelösten Menge, für das mit unterschiedlicher Lösungen durchgeführte obige Verfahrensbeispiel

Fig. 31 Kurven, betreffend den Zusammenhang zwischen der Eintauchzeit des Fotorezeptors in jede der Lösung en und der Rauhheit der, durch Auflösung der Um fangsfläche der lichtempfindlichen Schicht gebil deten, Oberfläche und

Fig. 32 eine perspektivische Ansicht eines Fotorezeptors für die Elektrofotographie.

Das in Fig. 1 dargestellte erste Beispiel, betreffend die Erfindung, bezieht sich auf ein Verfahren zum Abschleifen der gesamten Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a (vgl. Fig. 32), oder des unbeschichteten Bereiches 1 b (vgl. Fig. 32). Der Fotorezeptor 1 wird dabei, in nicht dargestellter Weise über eine Drehmaschine oder derglei chen, in Drehung versetzt. Ein sich langsam bewegendes Schleifband 2 ist über eine Andrückrolle 3 unter vorgebba ren Druck in Kontakt mit der Umfangsfläche der lichtemp findlichen Schicht, des unbeschichteten Bereichs oder bei der Bereiche. Die Bewegung erfolgt dabei entgegengesetzt der Drehrichtung des Fotorezeptors 1, um fortschreitend neue Schleifflächen des Schleifbandes 2 zuzuführen, und es erfolgt weiter ein Vorschub des Schleifbandes 2 in Quer richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1. In Fig. 2 ist die Andrückrolle 3 perspektivisch dargestellt. Bei dem beschriebenen Schleifvorgang wird über einen Motor 4 mit konstanten Drehmoment eine vorgegebene Spannung auf das Schleifband 2 aufgebracht, um es an einer Auslenkung oder Verdrehung zu hindern. Weiterhin sind eine Aufwickelrolle 5 und eine Zuführrolle 6 vorgesehen, um die Laufgeschwindig keit des Schleifbandes 2 zu steuern.

Die in Fig. 3 dargestellten Kurven zeigen den Zusammenhang zwischen der Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors in m/min und der Rauhheit in Mikrometer sowie der von der geschlif fenen Oberfläche abgetragenen Menge in Mikrometer für den Fall, daß das Schleifband 2 eine Korngröße der Nr. 4000 aufweist und unter einem Druck der Andrückrolle 3 von 500 kPa (5 kp/cm²) in Kontakt gehalten ist und die Laufge schwindigkeit des Bandes 4m/min und der Vorschub des Ban des in Querrichtung 6 mm/ Umdrehung beträgt. Um sowohl die in Mikrometer angegebene Rauhheit als auch die in Mikrome ter angegebene, von der geschliffenen Oberfläche abgetra gene Menge, sowohl der lichtempfindlichen Schicht 1 a als auch des unbeschichteten Bereichs 1 b auf einem Wert zu hal ten, der ein Mikrometer nicht überschreitet, wird vorzugs weise die Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors 1 innerhalb eines Bereichs von 30-80 m/min festgelegt. Die in Fig. 4 dargestellten Kurven zeigen den Zusammenhang zwischen der Laufgeschwindigkeit des Schleifbandes 2 in m/min und der in Mikrometer angegebenen Rauhheit sowie der in Mikrometer an gegebenen, von der geschliffenen Oberfläche der lichtemp findlichen Schicht 1 a und des unbeschichteten Bereichs 1 b abgetragenen Menge, für den Fall, daß ein Schleifband 2 mit einer Korngröße der Nr. 4000 eingesetzt ist, bei einem von der Andrückrolle 3 ausgeübten Druck von 500 kPa (5 kp/cm²), einer Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors 1 von 50 m/min und einer Vorschubsgeschwindigkeit des Bandes in Querrich tung von 6 mm/Umdrehung. Die abgetragene Menge vergrößert sich mit steigender Laufgeschwindigkeit, während unter der gleichen Bedingung ein großer Unterschied betreffend die Rauhheit der geschliffenen Oberfläche nicht zu beobachten ist. Es kann deshalb durch Verändern der Laufgeschwindig keit des Bandes entsprechend der Tiefe der, auf der licht empfindlichen Schicht 1 a oder dem unbeschichteten Bereich 1 b, gebildeten Risse die abgetragene Menge vergrößert wer den, während die Rauhheit der geschliffenen Oberfäche kon stant bleibt. Damit kann die Leistungsfähigkeit des Ab schleifens verbessert werden.

Bei dem beschriebenen Schleifvorgang werden unter Verwen dung des Schleifbandes 2 die lichtempfindliche Schicht 1 a und der unbeschichtete Bereich 1 b abgeschliffen, wobei das Schleifband 2 langsam in einer der Drehrichtung des Fotore zeptors 1 entgegengesetzten Richtung läuft, damit fort schreitetend eine neue Oberfläche des Schleifbandes zuge führt wird. Wird im Verlauf des Verfahrens eine schnelle hin- und hergehende Schwingung kleiner Amplitude (z. B. mit einer Frequenz von 20 Zyklen/min und einer Amplitude von 5 mm) in einer parallel zur Achse des Fotorezeptors verlau fenden Richtung auf das Schleifband 2 übertragen, dann wird in vorteilhafter Weise eine geschliffene Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a oder des unbeschichteten Be reichs 1 b, mit gleichmäßigerer Rauhheit erzeugt.

Das in Fig. 5 dargestellte zweite Beispiel der Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abschleifen der Umfangs fläche, der lichtempfindlichen Schicht 1 a und des unbe schichteten Bereichs 1 b eines Fotorezeptors 1, bei dem eine in einem Schleifscheibenhalter 7 gehaltene Schleifscheibe 8 unter einer vorgegebenen Anpreßkraft gegen die Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des nicht beschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche des Fotorezeptors 1, gedrückt wird. Der Fotorezeptor wird dabei in nicht dargestellter Weise, durch eine Drehmaschine oder dergleichen in Drehung versetzt, während die Schleifscheibe 8 quer, in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1, vorgeschoben wird.

Die in Fig. 6 dargestellten Kurven zeigen den Zusammenhang zwischen der Schleifgeschwindigkeit (Drehgeschwindigkeit des Fotorezeptors) in m/min und der in Mikrometer angegebenen Rauheit sowie der in Mikrometer angegebenen, von der geschliffenen Oberfläche abgetragenen Menge, wenn eine Schleifscheibe mit einer Korngröße Nr. 1000, bei einem An preßdruck der Schleifscheibe von 100 kPa (1,0 kp/cm²) und einer Schleifgeschwindigkeit der Schleifscheibe von 5 mm/Umdrehung, eingesetzt wird. Um sowohl die Rauhheit als auch die von der geschliffenen Oberfläche abgetragene Menge so zu steuern, daß ein Wert von einem Mikrometer nicht überschritten wird, wird die Schleifgeschwindigkeit vor zugsweise in einem Bereich von 40-80 m/min festgelegt.

Das dritte Beispiel der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abschleifen der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Be reiche durch eine Feinschleifbearbeitung. Die Feinschleif bearbeitung ist zusammen mit der Ziehschleifbearbeitung, der Honbearbeitung und der Läppbearbeitung allgemein als mechanische Oberflächenbearbeitung bekannt, bei der eine Schleifscheibe mit sehr kleiner Korngröße und einem relativ schwachen Grad der Bondierung, mit geringem Druck in Kon takt mit einem Werkstück gebracht wird. Dabei wird das Werkstück in Drehung versetzt, und gleichzeitig wird die Schleifscheibe durch schnelle, hin- und hergehende Schwin gungen kurzen Hubes in Bewegung versetzt. Somit ist die Feinschleifbearbeitung ein dadurch charakterisiertes Schleifverfahren zum Abschleifen der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a und des unbeschichteten Be reiches 1 b, daß eine Schleifscheibe 8 gegen die Umfangsflä che eines rotierenden Fotorezeptors 1 gepreßt wird, wäh rend gleichzeitig die Schleifscheibe 8 quer in einer Rich tung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1 (Fig. 5) vorge schoben wird, wobei weiterhin eine schnelle hin- und herge hende Schwingung der Schleifscheibe 8 mit kleiner Amplitude in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1 überlagert wird. Durch die Feinschleifbearbeitung kann des halb eine gleichmäßiger geschliffene Oberfläche der licht empfindlichen Schicht 1 a und des unbeschichteten Bereichs 1 b erzeugt werden.

Das in Fig. 7 dargestellte vierte Beispiel gemäß der Erfin dung betrifft ein Verfahren zum Abschleifen der Umfangsflä che der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche eines, in nicht darge stellter Weise über eine Drehmaschine oder dergleichen, in Drehung versetzten Fotorezeptors, wobei die Stirnfläche einer rotierenden zylindrischen oder säulenförmigen Schleifscheibe 10 mit der genannten Umfangsfläche in Be rührung gebracht wird. Das in Fig. 8 dargestellte Schleif verfahren entspricht dem in Fig. 7 dargestellten Verfahren mit der Ausnahme, daß die zylindrische oder säulenförmige Schleifscheibe 10 in einer Richtung entgegen der Drehrich tung des Fotorezeptors 1 gedreht wird und daß die Umfangs fläche der Schleifscheibe 10 in Kontakt mit der Umfangsflä che der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche gebracht wird. In beiden, sich auf Fig. 7 und 8 beziehenden, Fällen kann eine ge schliffene Oberfläche mit gleichmäßigerer Rauhheit dann er zeugt werden, wenn weiterhin eine schnelle hin- und herge hende Schwingung kleiner Amplitude in einer Richtung par allel zur Achse des Fotorezeptors auf die Schleifscheibe 10 übertragen wird. In Fig. 9 ist der Zusammenhang zwischen der Drehzahl der Schleifscheibe 10 und der Oberflächen rauhheit der geschliffenen Oberfläche für den Fall darge stellt, daß die Schleifscheibe 10 eine Korngröße Nr. 1500 hat und unter Druck mit der Umfangsfläche der lichtempfind lichen Schicht 1 a oder des unbeschichteten Bereiches 1 b ei nes Fotorezeptors 1 in Anlage gebracht wird, der einen äußeren Durchmesser von 100 mm hat und während eines Versu ches eine Drehzahl von 500 Umdrehungen/min aufwies. Aus dem Kurvenverlauf ist die Tendenz erkennbar, daß die Oberflä chenrauhheit mit steigender Drehzahl des Schleifscheibe 10 abnimmt. Aus Fig. 10 ist erkennbar, daß die Oberflächen rauhheit mit zunehmender Frequenz der hin- und hergehenden Bewegung der Schleifscheibe abnimmt und, nachdem die Fre quenz einen bestimmten Wert überschritten, hat einen kon stanten Wert beibehält.

Das sich auf Fig. 11 beziehende fünfte Beispiel gemäß der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abschleifen der Umfangsfläche einer lichtempfindlichen Schicht 1 a, eines unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche eines Fotorezeptors 1, der in nicht dargestellter Weise über eine Drehmaschine oder dergleichen in Drehung versetzt ist. Da bei wird eine Stirnfläche eines rotierenden Abriebwerkzeu ges 11 unter Druck mit der Umfangsfläche in Berührung ge bracht. Bei dem Abriebwerkzeug 11 sind Abriebkörner mit ei nem viskoelastischen Trägermaterial vermischt, und die Mi schung ist in eine Scheibenform gegossen. Fig. 12 bezieht sich auf ein Abriebverfahren, das mit demjenigen nach Fig. 11 mit der Ausnahme übereinstimmt, daß die Umfangsfläche des scheibenförmigen Abriebwerkzeuges 11 unter Druck mit der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereiches 1 b oder beider Bereiche in Be rührung gebracht ist. Bei einem Versuch wurde das Abrieb werkzeug mit einem äußeren Durchmesser von 250 mm und mit einer Drehzahl von 3000 Umdrehungen/min unter Druck mit der Umfangsfläche einer lichtempfindlichen Schicht 1 a, oder des unbeschichteten Bereiches 1 b oder beider Bereiche eines Fo torezeptors 1 mit einem Außendurchmesser von 100 mm in Be rührung gebracht. Das Abschleifen dieser Umfangsfläche er folgte bei einer Drehzahl des Fotorezeptors 1 von 500 Um drehungen/min. Wenn in diesen, sich auf Fig. 11 und Fig. 12 beziehenden Fällen weiterhin eine schnelle hin- und herge hende Schwingung kleiner Amplitude in einer Richtung par allel zur Achse des Fotorezeptors 1 auf das Abriebwerkzeug 11 übertragen wird, dann kann eine geschliffene Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a oder des unbeschichteten Bereiches 1 b von gleichmäßigerer Rauhheit erreicht werden.

Das sich auf Fig. 13 beziehende sechste Beispiel gemäß der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abschleifen der ge samten Umfangsfläche eines, in nicht dargestellter Weise durch eine Drehmaschine oder dergleichen, in Drehung ver setzten Fotorezeptors 1. Dazu wird eine Stirnfläche eines Schwabbelwerkzeugs 12 unter Druck mit der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche des Fotorezeptors 1 gebracht, wäh rend das Schwabbelwerkzeug 12 in Drehung versetzt ist und weiterhin quer in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1 vorgeschoben wird. Das Schwabbelwerkzeug 12 wird dadurch erzeugt, daß eine Fettsäure, gehärtetes Öl, Metallseife oder Mineralöl verfestigt und in eine Scheiben form gegossen wird. Fig. 14 betrifft ein Schleifverfahren, das mit demjenigen nach Fig. 13 mit der Ausnahme überein stimmt, daß die Umfangsfläche des scheibenförmigen Schwab belwerkzeuges 12 unter Druck mit der Umfangsfläche, der lichtempfindlichen Schicht 1 a oder des unbeschichteten Bereiches 1 b in Berührung gebracht wird. Als Beispiel wurde ein Schwabbelwerkzeug mit einem Außendurchmesser von 250 mm und einer Drehzahl von 3000 Umdrehungen/min unter Druck mit der Umfangsfläche einer lichtempfindlichen Schicht 1 a oder eines unbeschichteten Bereiches 1 b eines Fotorezeptors 1 mit einem Außendurchmesser von 100 mm und einer Drehzahl von 500 Umdrehungen/min in Anlage gebracht.

Das siebte Beispiel nach der Erfindung betrifft ein Verfah ren zum Abschleifen der Umfangsfläche einer lichtempfind lichen Schicht 1 a oder eines unbeschichteten Bereiches 1 b eines Fotorezeptors 1 durch ein Flüssigkeitshonverfahren. Fig. 15 stellt einen Schnitt durch eine, bei der Durchfüh rung des Flüssigkeitshonverfahrens verwendete Düse dar. Ein pastenförmiges Schleifmittel 13 a, das durch Mischen eines feinen Siliciumoxidpulvers oder eines entsprechenden Ab riebmittels mit Wasser erzeugt wird, wird der Düse 13 für das Flüssigkeitshonen durch ein Anschlußrohr 13 b zugeführt. Durch über eine Luftanschlußleitung 13 c zugeführte Druck luft wird das Schleifmittel 13 a beschleunigt und über die Ausspritzdüse 13 e ausgespritzt. Wie in Fig. 16 und 17 dar gestellt wird die Abrieblösung 13 f auf die Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Be reiches 1 b oder beider Bereiche eines rotierenden Fotore zeptors 1 aufgesprüht. Durch dieses Aufsprühen wird, wäh rend die Düse 13 für das Flüssigkeitshonen quer in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptor 1 vorgeschoben wird, die gesamte Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a und des unbeschichteten Bereichs 1 b abgeschlif fen. Die in Fig. 18 dargestellten Kurven zeigen den Zusam menhang zwischen der Partikelgröße des Abriebmittels, das in der Abrieblösung 13 f enthalten ist, und der festgestell ten, abgeschliffenen Menge in bezug auf drei Arten von Ab riebmitteln. In Fig. 19 sind Kurven dargestellt, die den Zusammenhang zwischen der Aufsprühzeit und der Rauhheit der geschliffenen Oberfläche darstellen, die in bezug auf drei Arten von Partikelgrößen des Abriebmittels bestimmt worden sind. Bei dem Abriebverfahren kann, da die abgeschliffene Menge proportional dem Gewicht des aufgesprühten Abriebmit tels ist, eine Abnahme der abgeschliffenen Menge bei Ver wendung kleiner Abriebpartikel dadurch verhindert werden, daß die Menge der aufgesprühten Abrieblösung vergrößert wird. Wenn das Mischungsverhältnis der Abriebpartikel in einer Abrieblösung zu groß ist, dann kann die Zuführleitung 13 b durch Abriebpartikel oder zusammengeballte Partikel verstopft werden so daß das bevorzugte Gewichtsverhältnis des Abriebsmaterials zu der Abrieblösung 0,3-10,6 beträgt. Wenn der Abriebeffekt der aufgesprühten Partikel nicht zu groß sein muß, dann kann Novaculit-Siliciumoxid-Sand mit runder Partikelform für die Abriebpartikel verwendet wer den. Das Abriebmaterial, auf das sich Fig. 19 bezieht, hat eine Partikelgröße im Bereich von 300-1200 gemessen in Maschenzahl (Mesh).

Auf das achte Beispiel gemäß der Erfindung nimmt Fig. 20 Bezug, und es ist darin eine Einspritzdüse 14 dargestellt. Sandkörner 14 b werden über eine Einlaßöffnung 14 a in die Düse 14 gebracht und mit unter hohem Druck stehendem Wasser 14 c gemischt, durch dieses beschleunigt und durch eine Aus spritzöffnung 14 d ausgespritzt. Wie in Fig. 21 und Fig. 22 dargestellt, wird unter Hochdruck stehendes Wasser 14 c, das Sandkörner 14 b enthält, auf die Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht 1 a, des unbeschichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche eines rotierenden Fotorezeptors 1 aufgesprüht, und die Umfangsfläche wird durch die Sandkör ner 14 b abgeschliffen. Die Spritzdüse 14 ist aus Geschütz metall hergestellt und in die Spritzöffnung 14 d ist ein austauschbarer Einsatz 14 e aus einer Karbid-Hartmetalle gierung eingesetzt. Bei dem Abriebverfahren wird der Spritzvorgang unter einem Betriebsdruck des unter Hochdruck stehenden Wassers von 3-5 MPa (30-50 kp/cm²), einem Durchmesser der Spritzöffnung von 15-20 mm, einem Mi schungsverhältnis der Sandkörner zu dem Wasser von 15%, ei ner Spritzmenge von 285 l/min (75 Gallonen/min), einer Sprühentfernung von 10 cm und einem Spritzwinkel von 90° durchgeführt.

Das neunte Beispiel gemäß der Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren, bei dem der Abrieb durch Anblasen erfolgt. Wie in Fig. 23 und 24 dargestellt, wird bei diesem Verfah ren ein Abrieb durch Aufsprühen erzeugt, wobei Stahlkies (Stahlpartikel), geschliffene Stahlpartikel, mineralische Partikel (z. B. Siliciumoxidpulver) oder dergleichen mit Druckluft gemischt durch eine Sprühdüse 15 auf die Umfangs fläche einer lichtempfindlichen Schicht 1 a, eines unbe schichteten Bereichs 1 b oder beider Bereiche eines rotie renden Fotorezeptors 1 gesprüht werden. Fig. 25 stellt eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen der Aufsprühent fernung und der Sprühfläche dar. Fig. 26 zeigt Kurven be treffend den Zusammenhang zwischen dem Aufsprühwinkel und der Abriebmenge, und Fig. 27 stellt eine Kurve betreffend den Zusammenhang zwischen der Aufsprühzeit und der Rauhheit der geschliffenen Oberfläche dar. Wenn die Umfangsfläche des unbeschichteten Bereichs 1 b mit diesem Abriebverfahren abgeschliffen wird, dann sollte der Sprühbereich sorgfältig begrenzt sein, so daß die Umfangsfläche der lichtempfindli chen Schicht 1 a, die dem unbeschichteten Bereich 1 b benach bart ist nicht beeinträchtigt wird. Um den Sprühbereich einzuengen wird vorzugsweise der Durchmesser der Sprühöff nung der Sprühdüse 15 reduziert, und gleichzeitig wird die Aufsprühentfernung (z.B. auf 10 cm oder weniger) vermin dert, wie dies durch die Kurve in Fig. 25 angedeutet ist. Wie in Fig. 26 dargestellt wird, wenn Siliciumoxidpulver aufgesprüht wird, die abgeschliffene Menge bei einem Sprüh winkel von etwa 15° am größten und ist mit einem Wechsel des Sprühwinkels starken Schwankungen unterworfen. Vorzugs weise wird deshalb der Sprühwinkel entsprechend der Art des zum Aufsprühen verwendeten Abriebmaterials (z. B. Stahlkies, geschliffene Stahlpartikel, Siliciumoxidpulver) eingestellt. Um eine geschliffene Oberfläche mit einer 2-3 Mikrometern nicht übersteigende Rauhheit zu erhalten, werden überein stimmend mit Fig. 27 feine Partikel mit einer Partikelgröße von etwa 20 bis 40 Mikrometern und einer bevorzugten Sprüh zeit von mindestens 20 s verwendet. Wenn die lichtempfind liche Schicht 1 a abgeschliffen wird, wird zunächst die Sprühentfernung auf 20 cm eingestellt und der Sprühwinkel auf 90°, denn die abgeschliffene Menge erreicht dann ein Maximum bei einem Sprühwinkel von 90°, wenn die lichtemp findliche Schicht 1 a aus einem glasartigen Material be steht. Wie sich aus Fig. 28 ergibt, sind aufzusprühende ge schliffenen Stahlpartikel (grids) gegenüber mineralischen Partikeln wie Siliciumoxidpulver zu bevorzugen. Um eine Rauhheit der geschliffenen Oberfläche von einem Mikrometer oder weniger zu erhalten, wird eine Partikelgröße der auf zusprühenden Partikel von 20 Mikrometern oder weniger be vorzugt, und, wenn, wie in Fig. 27 dargestellt, die Sprüh zeit mindestens 40 s beträgt, dann kann eine Rauhheit von einem Mikrometer oder weniger erreicht werden.

Das zehnte Beispiel gemäß der Erfindung bezieht sich auf Fig. 28, in der ein Waschbehälter 16 eine Halte- und Dreheinrichtung 17 für einen Fotorezeptor 1 enthält, sowie einen piezoelektrischen Ultraschallgeber 18 und dessen Übertragungseinrichtung 19. Der Waschbehälter 16 enthält eine Abrieblösung 20, die durch Mischen feiner Partikel, wie Abriebkörner, mit einer Flüssigkeit erzeugt wird, wobei betreffend das Gewicht der Mischungsanteil der Abriebkörner etwa 15% beträgt. Um einen Fotorezeptor 1 abzuschleifen, wird er in die Abrieblösung 20 getaucht, wobei er auf einem Ende stehend mit einem Ende mit einem Drehteller 21 der Halte- und Dreheinrichtung 17 verbunden ist. In diesem Zu stand ist der Fotorezeptor 1 über die Halte- und Dre heinrichtung 17 drehbar, und die Drehgeschwindigkeit ist dabei so eingestellt, daß sie mehrere 10 Umdrehungen/min beträgt, damit beim Abschleifen keine Ungleichförmigkeit auftreten kann. Der piezoelektrische Ultraschallgeber 18 wiederholt seine langsam nach oben und unten führende Zu führbewegung über die Übertragungseinrichtung 18 in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors 1. Ab riebkörner der Abrieblösung 20 treffen dabei über den ge samten Bereich der abzuschleifenden Umfangsfläche auf die Umfangsfläche des Fotorezeptors. Da gleichzeitig die licht empfindliche Schicht 1 a und der unbeschichtete Bereich 1 b durch dieses Abriebverfahren abgeschliffen werden, ist die ses Verfahren sehr leistungsfähig.

Da ursprünglich die lichtempfindliche Schicht 1 a aus einem im Vakuum aufgetragenen Film einer Se-As-Legierung mit ei ner Dicke von gewöhnlich einigen 10 Mikrometern zusammenge setzt ist, ergibt sich ein Unterschied in der Höhe des Um fangs des unbeschichteten Bereichs 1 b und des Umfangs der lichtempfindlichen Schicht 1 a. Aufgrund des genannten Hö henunterschiedes wird bei einem der Schleif- bzw. Abrieb verfahren nach einem der Beispiele 1 bis 9, z. B. nach dem Abschleifen des unbeschichteten Bereiches 1 b die Bearbei tung unterbrochen, um die Anordnung für ein Abschleifen entsprechend dem genannten Höhenunterschied umzustellen, damit anschließend die lichtempfindliche Schicht 1 a abge schliffen werden kann. In dem Beispiel stehen die, in Mi krometern ausgedrückte abgeschliffene Menge und die in Mi krometern ausgedrückte Rauhheit der geschliffenen Ober fläche hauptsächlich in Zusammenhang mit der Art, der Par tikelgröße, dem Mischungsanteil der Partikel in der Abrieb lösung, der Leistung des piezoelektrischen Gebers und des sen Entfernung zu der abzuschleifenden Oberfläche und der Abriebzeit. Wenn die lichtempfindliche Schicht 1 a aus einen Se-As enthaltenen Ausgangsmaterial zusammengesetzt ist, ist sie teilweise in Wasser löslich, so daß vorzugsweise die Abrieblösung 20 aus einem organischen Lösungsmittel be steht.

Das elfte Beispiel nach der Erfindung betrifft ein Verfah ren zum Auflösen des, aus einer Se-As-Legierung bestehenden Films an der Umfangsfläche der lichtempfindlichen Schicht mit einer Lösung, die auflösende Wirkung hat. Derartige Lö sungen sind beispielsweise, Königswasser (HNO₃/3 HCl), eine wäßrige Kaliumhydroxidlösung (KOH), Salpetersäure (HNO₃) oder dergleichen, damit eine klare Oberfläche gleichmäßiger Rauhheit an der Umfangsfläche erlangt wird. Wie in Fig. 29 dargestellt, wird der Fotorezeptor 1 in einer Lösung 23 (beispielsweise Königswasser, eine wäßrige 3%ige Lösung von Kaliumhydroxid oder eine 60%ige Salpetersäure), die mit einer Temperatur von etwa 30°C in einem Lösungsbehälter 22 gehalten ist, teilweise aufgelöst. Durch diesen Vorgang werden Stellen, an denen Toner abgelagert ist und durch Licht an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht kri stallisierte Schichten gleichzeitig mit dem Auflösen der Se-As-Legierung entfernt; gleichzeitig werden feine Risse, die an der Oberfläche ausgebildet sind, mit dem Auflösen der aus einer Se-As-Legierung bestehenden Schicht abgetra gen. Während des Auflösungsvorganges entstehende schädliche Gase wie Arsin (AsH₃) werden über einen Gasabzug 25 ent fernt. Anschließend wird der Fotorezeptor 1 mit Wasser 26 normaler Temperatur in einem Wassertank 27 gewaschen; die ses Waschen in Wasser wird mehrere Male wiederholt. An schließend wird der Fotorezeptor 1 mit Wasser 28 von 60°C in einem Wasserbehälter 29 gewaschen, um die lichtempfind liche Schicht 1 a zu stabilisieren; anschließend erfolgt als Endbehandlung ein Trocknen des Fotorezeptors 1. Damit der Fotorezeptor 1 wiederverwendet werden kann, ist es notwen dig, die Abnahme der lichtempfindlichen Schicht la, die aus einem, aus einer Se-As-Legierung bestehenden Film einer Dicke von mehreren 10 Mikrometern besteht, so zu überwa chen, daß sie auf etwa 1 Mikrometer oder weniger und die Rauhheit der Oberfläche auf 0,7 Mikrometer oder weniger be schränkt ist. In Fig. 30 ist der Zusammenhang zwischen der in Mikrometer angegeben aufgelösten Menge des Fotorezeptors und der Eintauchzeit in Minuten, während der der Fotorezep tor in eine Lösung bei 25°C eingetaucht ist, dargestellt. Fig. 31 stellt den Zusammenhang zwischen der, in Mikrome tern angegebenen, Rauhheit der Oberfläche und der Eintauch zeit in Minuten unter den oben genannten Bedingungen dar. Nach Fig. 30 und 31 ergibt sich für Königswasser (HNO₃/3 HCl) und eine wäßrige 3%ige Kaliumhydroxidlösung (KOH) bei 30°C eine Eintauchzeit von vorzugsweise 3 min und für 60%ige Salpetersäure (HNO₃) von etwa 8 min.

Die Wirkung der Erfindung läßt sich wie folgt beschreiben. Gemäß der Erfindung werden durch Schleifen der Umfangsflä che einer lichtempfindlichen Schicht, eines unbeschichteten Bereichs oder beider Bereiche eines rotierenden Fotorezep tors mit einem Schleifwerkzeug oder durch Eintauchen des Fotorezeptors in eine Lösung, zum Auflösen der Umfangsflä che der lichtempfindlichen Schicht, Risse und Stellen mit Ablagerungen, die an der Umfangsfläche des Fotorezeptors ausgebildet sind, oder durch die Einwirkung von Licht an der Umfangsfläche kristallisierte Schichten entfernt, um die Glätte und Rundheit des Fotorezeptors zu verbessern. Damit wird ermöglicht, daß als unbrauchbar erachtete Fotorezeptoren regeneriert und so wiederverwendet werden können, daß die damit erzielbare Qualität von Abbildungen derjenigen neuer Fotorezeptoren entspricht.

Claims

1. Verfahren zum Regenerieren eines Fotorezeptors für die Elektrofotographie, dadurch gekennzeich net, daß eine dünne Schicht der Umfangsfläche des Fotorezeptors (1), die zum Ausbilden einer lichtempfindli chen Oberflächenschicht (1 a) durch Auftragen eines Aus gangsmaterials, wie eines Se-As enthaltenden Materials oder dergleichen, auf der Umfangsfläche eines leitfähigen Sub strats, wie eines zylindrischen Rohres aus Aluminium, unter Vakuum gebildet ist, abgetragen wird durch physikalisches Einwirken wie Schleifen oder dergleichen oder durch che misches Einwirken wie Auflösen oder dergleichen, um Risse, Tonerablagerungen, Kristalle oder dergleichen, die an der Umfangsfläche von an beiden äußeren Enden der lichtempfind lichen Schicht (1 a) vorhandenen unbeschichteten Bereichen (1 b), dem Bereich der lichtempfindlichen Schicht (1 a) oder beider der oben genannten Bereiche vorhanden sind, zu ent fernen, um eine neue Oberfläche für die Umfangsfläche zu bilden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß ein, entgegen der Drehrichtung des Foto rezeptors bewegtes Schleifband unter Druck in Kontakt mit der Umfangsfläche der nicht beschichteten Teile des Fotore zeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezeptors oder beider Bereiche gebracht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen, wobei das Schleifband zum Abschleifen der Umfangsfläche weiter in eine schnelle hin- und hergehende Schwingung kurzer Amplitude in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors versetzt werden kann.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und eine Schleifscheibe in Kontakt mit der Um fangsfläche eines unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezeptors oder bei der Bereiche gebracht wird, um die Umfangsfläche abzu schleifen.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und die Umfangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Foto rezeptors oder beider Bereiche durch Feinschleifen abge schliffen wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß die Umfangs- oder Seitenfläche einer ro tierenden zylindischen oder säulenförmigen Schleifscheibe unter Druck mit der Umfangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Foto rezeptors oder beider Bereiche in Kontakt gebracht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen, wobei die Schleifscheibe weiter zum Abschleifen der Umfangsfläche in eine schnelle hin- und hergehende Schwingung kurzer Amplitude in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors versetzt wer den kann.

6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß die Umfangs- oder Seitenfläche eines ro tierenden, scheibenförmigen Abriebwerkzeuges mit in einer Trägerplatte aufgenommenen Abriebkörnern unter Druck in Kontakt mit der Umfangsfläche eines unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, einer lichtempfindlichen Schicht des Fo torezeptors oder beider genannter Bereiche gebracht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen, wobei das Abrieb werkzeug weiter, um die Umfangsfläche abzuschleifen, in eine schnelle hin- und hergehende Schwingung kleiner Am plitude in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezep tors versetzt werden kann .

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß Umfangs- oder Seitenfläche eines schei benförmigen Schwabbelwerkzeuges, das in verfestigter Form eine Fettsäure, ein gehärtetes Öl, eine Metallseife, ein Mineralöl oder dergleichen enthält, unter Druck in Kontakt mit der Umfangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotore zeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezeptors oder der beiden Bereiche unter Drehung des Schwabbelwerk zeuges gebracht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen, wobei das Schwabbelwerkzeug weiter zum Abschleifen der Um fangsfläche in eine schnelle hin- und hergehende Schwingung kleiner Amplitude in einer Richtung parallel zur Achse des Fotorezeptors versetzt werden kann.

8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß eine, durch eine Düse spritzbare, Schleiflösung zum Flüssigkeitshonen auf die Umfangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, der lichtemp findlichen Schicht des Fotorezeptors oder der beiden Berei che gesprüht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen.

9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß durch eine Einspritzdüse unter Hochdruck stehendes, Sandkörner enthaltendes Wasser auf die Um fangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, des lichtempfindlichen Bereichs des Fotorezeptors oder bei der Bereiche gesprüht wird, um die Umfangsfläche abzu schleifen.

10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in Drehung ver setzt wird und daß feine Partikel, wie Stahlpartikel, Sili ciumoxidpulver oder dergleichen enthaltende Druckluft über eine Einblasdüse auf die Umfangsfläche des unbeschichteten Teils des Fotorezeptors, der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezeptors oder beider Bereiche gebracht wird, um die Umfangsfläche abzuschleifen.

11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in eine, feine Partikel wie Abriebkörner enthaltende Flüssigkeit ein getaucht wird, wobei während der Drehung des Fotorezeptors in der Flüssigkeit, die gesamte Umfangsfläche des unbe schichteten Teils und der lichtempfindlichen Schicht des Fotorezeptors gleichzeitig durch den Einsatz von Ultra schallwellen abgerieben wird.

12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß der Fotorezeptor in eine Lösung mit auflösender Wirkung, wie beispielsweise Goldscheidewasser, wäßriges Kaliumhydroxid, Salpetersäure oder dergleichen, eingetaucht wird, wobei die Umfangsfläche der lichtempfind lichen Schicht aufgelöst wird und daß der Fotorezeptor, um den Auflösungsprozeß anzuhalten und die Umfangsfläche zu stabilisieren, mit Wasser gewaschen sowie anschließend ge trocknet wird.