DE3924952C2 - Dynamischer Schreib-Lese-Speicher mit einer Selbstauffrischfunktion und Verfahren zum Anlegen einer Halbleitersubstratvorspannung - Google Patents

Dynamischer Schreib-Lese-Speicher mit einer Selbstauffrischfunktion und Verfahren zum Anlegen einer Halbleitersubstratvorspannung

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Description

Die Erfindung betrifft einen dynamischen Schreib-Lese-Speicher nach dem Oberbe­ griff des Patentanspruchs 1 und ein Verfahren zum Anlegen einer Vorspannung an ein Halbleitersubstrat nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 18.
Ein dynamischer Schreib-Lese-Speicher der eingangs beschriebenen Art und ein Verfahren zum Anlegen einer Vorspannung an ein Halbleitersubstrat sind aus der EP 01 73 980 A2 bekannt. Zwar wird das Freigabesignal auch zyklisch in einem vorbestimmten Intervall während der Zeitdauer erzeugt, in der das interne Auffrischsignal in dem aktivierten Zustand bleibt, jedoch ist nicht vorgesehen, daß das Halbleitersubstrat nur während einer Zeitdauer vorgespannt wird, die kürzer als das vorbestimmte Intervall ist. Dadurch wird die Leistungsaufnahme bei dem bekannten Speicher relativ groß.
Aus der US 4 616 346 ist ein RAM bekannt, bei dem die Frequenz von aktiven Zuständen und Wartezuständen variiert werden kann. Auch hier ist eine innere Auffrischsteuerung vorgesehen, die auf ein äußeres Signal reagiert. Das Substrat wird ebenfalls vorgespannt. Dabei besteht eine Verknüpfung zwischen der Auffrischtätigkeit und der Substratvorspannung. Es ist jedoch nicht vorgesehen, daß die Vorspannung des Substrates nur während einer kurzen Zeitdauer durchgeführt wird, die noch kürzer ist als das Intervall, in dem das Freigabesignal erzeugt ist.
Aus der DE 36 43 546 A1 ist eine Substratvorspannungseinrichtung bekannt, die jedoch nicht mit irgendeiner Auffrischtätigkeit verknüpft ist.
In den letzten Jahren konnte eine erhebliche Verbreitung der Verwendung von Personal-Computern in vielfältigen Anwen­ dungsgebieten beobachtet werden. Unter den Personal-Compu­ tern sind insbesondere tragbare Modelle äußerst gefragt. In derartigen tragbaren Personal-Computern werden Speichergerä­ te mit niedriger Leistungsaufnahme mit einem Batteriereser­ vemodus benötigt.
Als derartige Speichergeräte werden üblicherweise dynamische Schreib-Lese-Speicher (DRAM) oder statische Schreib-Lese- Speicher (SRAM) eingesetzt. Von diesen Speichergeräten ar­ beitet das DRAM nach dem Prinzip des Ansammelns der Infor­ mationsladung in einem MOS-Kondensator. Ein MOS-Kondensator hat eine Metallschicht als Elektrode, eine Halbleiterschicht als andere Elektrode und einen zwischen diesen Schichten liegenden isolierenden Film als dielektrische Schicht. Je­ doch wird die in dem MOS-Kondensator angesammelte Ladung aufgrund von Leckstellen über den Übergang zwischen dem Halbleiterbereich, der als andere Elektrode dient, und dem Halbleitersubstart verloren, wodurch es erforderlich ist, die gespeicherte Information in bestimmten zeitlichen Ab­ ständen erneut einzuschreiben. Diese erneute Einschreibak­ tion ist als Auffrischen bekannt. Wenn ein DRAM als Speicher in einem tragbaren Personal-Computer verwendet wird, ist es nötig, das Auffrischen zu bestimmten Zeitabständen auch dann durchzuführen, wenn ein Batteriereservemodus vorliegt.
Die allgemeinen Auffrischbetriebsarten oder Auffrischmoden werden mit den Bezeichnungen "Nur-"-Auffrischen und "- vor-"-Auffrischen bezeichnet. Das "Nur-"-Auffrischen ist der Auffrischmodus, bei dem eine äußere Reihenadresse zum Auffrischen (Auffrischadresse) angelegt wird und der Pegel des Reihenadreßabtastsignales abgesenkt wird, um das DRAM in einen auswählbaren Zustand zu bringen. Bei die­ sem "Nur-"-Auffrischen wird das Spaltenadreßabtastsignal bei einem "H"-Pegel gehalten. Das "-vor-"-Auffri­ schen ist diejenige Auffrischbetriebsart, bei der vor dem Absenken des Pegels des Signales auf den "L"-Pegel das Signal zunächst auf den "L"-Pegel abgesenkt wird, so daß ein Auffrischbefehlssignal erzeugt wird, um eine automati­ sche Auffrischungsvorgehensweise in Abhängigkeit vom Signal­ zustand stattfinden zu lassen. Bei jeder dieser allgemeinen Auffrischbetriebsarten wird das Auffrischen unter zykluswei­ sen Steuerung von externen Taktsignalen durchgeführt, wie beispielsweise die Signale und . Daher würde die Ver­ wendung dieser allgemeinen Auffrischbetriebsarten während der Reservestromversorgung durch die Batterie eine kompli­ zierte Steuerung erforderlich machen, was als nicht wün­ schenswert anzusehen ist.
Um diese Nachteile zu überwinden, wurde ein DRAM vorge­ schlagen und zur Anwendung gebracht, welches derart aufge­ baut ist, daß ein Freigeben des Auffrischens gespeicherter Daten selbst in der Batteriereservebetriebsart auf einfache Weise ausgeführt werden kann. Dieses DRAM hat eine Auf­ frischadresse und eine Taktgeberschaltung für die Bezeich­ nung des Taktes des Auffrischens einer jeden Reihe, und weist eine Selbstauffrischfunktion in der Weise auf, daß Auffrischungen automatisch unter der Steuerung der Zeitge­ berschaltung ausgeführt werden. Obwohl dieses DRAM mit Selbstauffrischfunktion detailliert beschrieben ist in der Fachveröffentlichung Yamada et al., "A 64K bit MOS Dynamic RAM with Auto/Self Refresh Functions", The Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers, Japan, Band J66-C, Nr. 1, Januar 1983, Seiten 62-69, wird nachfolgend dieses DRAM überblicksartig erläutert.
Fig. 1 ist ein Blockdiagramm einer typischen Bauweise des bekannten 64K bit DRAM mit Selbstauffrischfunktion. In dieser Figur sind lediglich die für die Auffrischfunktion bedeutsamen Elemente und Komponenten gezeigt. Wie in Fig. 1 zu sehen ist, umfaßt das DRAM einen Speicherbereich 97 mit Speicherzellen, die in 256 (2⁸) Reihen × 256 (2⁸) Spalten angeordnet sind, einen Adreßpuffer 96, der ein Adreßsignal von einem Adreßmultiplexer 95 empfängt, dieses zeitweise hält und ein inneres Reihenadreßsignal erzeugt, und einen Reihendekoder 98, der in Reaktion auf das interne Reihen­ adreßsignal von dem Adreßpuffer 96 die entsprechende Reihe der Speichermatrix 97 auswählt. Der Adreßpuffer 96 führt ein 7-bit internes Adreßsignal RA0-RA6 dem Reihendekoder 98 zu. Obwohl dies nicht detailliert gezeigt ist, ist die Speichermatrix 97 in zwei Blöcke von jeweils 128 Reihen × 256 Spalten unterteilt, wobei aus diesen beiden Blöcken zwei Wortleitungen gleichzeitig durch das Signal RA0-RA6 ausge­ wählt werden, d. h. eine Wortleitung von jedem Block. Das höchstwertige Adreßsignal RA7 von dem Adreßpuffer 96 wird als Blockauswahladreßsignal verwendet.
Der Adreßmultiplexer 95 empfängt ein Reihenadreßsignal A0- A7 von einem äußeren Gerät und ein Auffrischsignal Q0-Q6 von einem Auffrischadreßzähler 94 und führt jedes dieser Signale zum Adreßpuffer 96 unter Steuerung einer Auffrisch­ steuerung 92 zu. Als externe Adreßsignale an A0-A7 werden ein Reihenadreßsignal und ein Spaltenadreßsignal einer Zeit­ multiplexbetriebsweise unterwofen und zu dem Adreßmulti­ plexer 95 zugeführt.
Zum Zweck der Bezeichnung der Auffrischbetriebsart des DRAM beinhaltet der Speicher ferner einen Selbstauffrischbe­ triebsartdetektor 91, der ein Signal über eine Eingangs­ klemme 1 empfängt und erfaßt, ob oder ob nicht eine Angabe einer Auffrischbetriebsart vorliegt. Der Speicher beinhaltet ferner die Auffrischsteuerung 92, die in Reaktion auf ein Ausgangssignal des Selbstauffrischbetriebsartdetektors 91 Signale zum Steuern der Aktionen des Adreßmultiplexers 95, des Auffrischadreßzählers 94 und eines Zeitgebers 93 erzeugt. Der Adreßmultiplexer 95 führt in Reaktion auf ein Auffrisch­ befehlssignal von der Auffrischsteuerung 92 eine Auffrisch­ adresse Q0-Q6 von dem Auffrischadreßzähler 94 zu dem Adreßpuffer 96 zu.
Der Zeitgeber 93 erzeugt ausgangsseitig in Reaktion auf das Auffrischbefehlssignal ΦT von der Auffrischsteuerung 92 ein Auffrischbetriebsartfreigabesignal ΦR zu einem vorbestimmten Intervall. Der Auffrischadreßzähler 94 inkrementiert in Reaktion auf das Auffrischbetriebsartfreigabesignal ΦR von dem Zeitgeber 93 seinen Zählwert und führt dem Adreßmulti­ plexer 95 die Auffrischadresse Q0-Q6 entsprechend des Zählwertes unter der Steuerung des Auffrischzählers 92 zu. Die Betriebsweise des auf diese Weise aufgebauten DRAM wird nachfolgend kurz erläutert.
Das Signal wird einem Eingangsanschluß 2 zugeführt und bei "H"-Pegel (in einem standby-Zustand) gehalten. Das äußere Auffrischsignal , das einem Eingangsanschluß 1 zu­ geführt wird, hat den "L"-Pegel. In Reaktion auf diesen Zu­ stand erfaßt der Selbstauffrischbetriebsartdetektor 91, daß der Befehl für ein Auffrischen vorliegt, und erzeugt demge­ mäß ein Auffrischbefehlssignal ΦS. In Reaktion auf dieses Auffrischbefehlssignal ΦS führt der Adreßmultiplexer 95 die Auffrischadressen Q0-Q6 von dem Auffrischadreßzähler 94 zu dem Adreßpuffer 96 und der Steuerung der Auffrischsteuerung 92 zu. Der Adreßpuffer 96 erzeugt ein internes Auffrisch­ adreßsignal RA0-RA6 von der Auffrischadresse Q0-Q6 und führt diese zum Reihendekoder 98 zu. Der Reihendekoder 98 dekodiert die 7-bit Auffrischadresse Q0 bis Q6 und wählt eine der 128 Reihen in jedem Block der Speichermatrix 97 aus. Daraufhin wird ein Auffrischen der Daten in an sich üb­ licher Art in den Speicherzellen ausgeführt, die mit der ausgewählten Reihe verbunden sind.
Wenn das äußere Auffrischsignal bei einem "L"-Pegel län­ ger als eine vorbestimmte Zeitdauer (von maximal 16 Mikrose­ kunden) gehalten wird, wird die Bezeichnung der Selbstauf­ frischbetriebsart durch den Selbstauffrischbetriebsartdetek­ tor 91 erfaßt. In Reaktion auf diese Erfassung der Bezeich­ nung der Selbstauffrischbetriebsart hebt die Auffrischsteu­ erung 92 den Pegel des Signales ΦT zum Treiben des Zeitge­ bers 93. In Reaktion auf dieses Zeitgeberstartsignal ΦT er­ zeugt der Zeitgeber 93 ausgangsseitig ein Auffrischfreigabe­ signal ΦR nach Verstreichen einer vorgegebenen Zeitdauer (maximal 16 Mikrosekunden) und führt dieses der Auffrisch­ steuerung 92 zu. In Reaktion auf dieses Auffrischfreigabe­ signal ΦR führt die Auffrischsteuerung 92 eine Inkrementie­ rung des Zählwertes des Auffrischadreßzählers 94 aus. In Reaktion hierauf führt der Auffrischadreßzähler 94 dem Adreßmultiplexer 95 eine Auffrischadresse Q0-Q6 zu, die von der Auffrischadresse abweicht, die in dem vorhergehenden Auffrischzyklus erzeugt worden ist. Ähnlich wie in dem vor­ hergehenden Auffrischzyklus wird eine Reihe, die dieser neuen Auffrischadresse Q0-Q6 entspricht, in der Speicher­ matrix 97 ausgewählt, wobei die Daten der Speicherzellen, die an die neu ausgewählte Reihe angeschlossen sind, aufge­ frischt werden. Die Erzeugung des Auffrischfreigabesignals ΦR durch den Zeitgeber 93 wird in sich wiederholender Weise bei einem vorbestimmten Zyklus so lange ausgführt, wie das äußere Auffrischsignal bei einem "L"-Pegel bleibt und das Signal bei einem "H"-Pegel bleibt. Daher werden in jedem Block der Speichermatrix 97 128 Wortleitungen der Reihe nach ausgwählt und die Daten in den Speicherzellen, die an die entsprechenden ausgewählten Wortleitungen ange­ schlossen sind, aufgefrischt. Im Beispielsfall eines 64K bit DRAM werden sämtliche Speicherzellen in der Speichermatrix 97 in einem Zyklus von 16 Mikrosekunden × 128 = ungefähr 2 Millisekunden aufgefrischt. Bei ausgeschalteter Netzlei­ stungsversorgung in der Batteriereservebetriebsart wird das Signal in Reaktion auf die Änderung der Versorgungslei­ stung auf einen niedrigen Pegel gebracht, woraufhin das obige Auffrischen durchgeführt wird.
Üblicherweise ist in dem obenbeschriebenen DRAM ein Sub­ stratvorspannungsgenerator zum Vermindern der parasitären Kapazität zwischen den DRAM-Schaltungselementen und dem Halbleitersubstrat, das das DRAM trägt, vorgesehen, um eine stabile Hochgeschwindigkeitsbetriebsart des DRAMs zu gewähr­ leisten. Daher ist das Halbleitersubstrat auf ein negatives Potential VBB im Falle eines Substrates der p-Leitfähigkeit vorzuspannen, um die Übergangskapazität zwischen dem Halb­ leitersubstrat und dem Verunreinigungsbereich (source-drain- Bereiche) zu vermindern, um die Schwellenspannung der auf dem Halbleitersubstrat ausgebildeten MOS-Transistoren zu stabilisieren und um die Erzeugung eines parasitären MOS- Transistors zu verhindern, welcher eine Signalleitungs­ schicht auf dem Feldisolationsfilm und dem Verunreinigungs­ bereich an der Oberfläche des Halbleitersubstrates umfaßt.
Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines bekannten Sub­ stratvorspannungsgenerators zur Verwendung in einem DRAM mit einer Selbstauffrischfunktion. Wie in Fig. 2 gezeigt ist, umfaßt der allgemein mit dem Bezugszeichen 41 bezeichnete Substratvorspannungsgenerator einen Ringoszillator 411, der ausgangsseitig ein Oszillatorsignal ΦCP von vorbestimmter Frequenz erzeugt, einen Ladungspumpenkondensator C, der dieses Oszillationssignal von dem Ringoszillator 411 empfängt, einen n-Kanal MOS-Transistor Q1, der zwischen einem Knoten NB und dem Massepotential liegt und zum Klam­ mern des Potentials des Knotens NB bei diesem Schwellen­ spannungspegel dient, und einen n-Kanal MOS-Transistor Q2, der zwischen dem Knoten NB und einem Ausgangsanschluß 412 liegt und zum Klammern des Knotens NB auf einen Potential­ pegel dient, der durch die Differenz zwischen dessen Schwel­ lenspannung und dem Potential des Halbleitersubstrates fest­ gelegt ist.
Fig. 3 zeigt Signalverläufe zum Erläutern der Wirkungsweise des Substratvorspannungsgenerators gemäß Fig. 2. Der Betrieb des Substratvorspannungsgenerators wird kurz unter Bezugnah­ me auf die Fig. 2 und 3 erläutert.
Wenn das Oszillationssignal ΦCP von dem Ringoszillator 411 auf "H"-Pegel steigt, beginnt das Potential des Knotens NB auf den "H"-Pegel zu steigen, der dem Versorgungsspannungs­ pegel VCC entspricht, was durch die kapazitive Kopplung durch den Kondensator C bewirkt wird. In Reaktion auf dieses Ansteigens des Potentials am Knoten NB wird der MOS-Tran­ sistor Q1 leitfähig. Das Potential an dessen Knoten NB wird an den Schwellenspannungspegel VVT 1 des MOS-Transistors Q1 geklammert. In diesem Zustand bleibt der MOS-Transistor Q2 ausgeschaltet.
Daraufhin fällt das Potential am Knoten NB durch kapazitive Kopplung durch den Kondensator C ab, da das Oszillations­ signal ΦCP auf den "L"-Pegel abfällt. In Reaktion auf diesen Potentialabfall am Knoten NB wird der MOS-Transistor Q1 aus­ geschaltet, während der MOS-Transistor Q2 eingeschaltet wird. Dies führt dazu, daß eine positive Ladung von dem Halbleitersubstrat zum Knoten NB fließt. Wenn dieses Poten­ tial am Knoten NB einen Wert erreicht, der der Differenz zwischen dem Halbleitersubstratpotential VBB und der Schwel­ lenspannung VT 2 des MOS-Transistors Q2 entspricht, wird der MOS-Transistor Q2 nichtleitend, so daß die Ladungsbewegung angehalten wird. Durch diesen einen Zyklus des Ansteigens und Abfallens des Oszillationssignal ΦCP wird das Potential auf dem Halbleitersubstrat lediglich geringfügig abgesenkt. Da jedoch dieser gleiche Zyklus vielfach wiederholt wird, fällt die Halbleitersubstratspannung VBB schrittweise ab, bis ein bestimmtes negatives Potential entsteht. Bei einer Versorgungsspannung von VCC beträgt die Vorspannung von VBB dieses Halbleitersubstrates VT 1 + VT 2 - VCC unter idealen Umständen und hat im allgemeinen einen Wert von ungefähr minus 3 Volt.
Aus der obigen Beschreibung ist es offensichtlich, daß bei dem bekannten dynamischen Schreib-Lese-Speicher der Sub­ stratvorspannungsgenerator konstant arbeitet und ständig Leistung verbraucht, unabhängig davon, ob der normale Be­ triebszustand oder Selbstauffrischbetriebszustand vorliegt. Jedoch werden während des Selbstauffrischbetriebszustandes andere Handlungen als das Auffrischen, wie beispielsweise das Schreiben und Lesen von Daten und die Auswahl von Spal­ ten, nicht ausgeführt. Daher ist der zum Halbleitersubstrat fließende Halbleiterleckstrom (der während des Schaltungs­ betriebes erzeugte Gesamtstrom) kleiner in der Selbstauf­ frischungsbetriebsart als in der normalen Betriebsart. Da­ rüberhinaus ist die Größe des Leckstromes in der Selbst­ auffrischungsbetriebsart vorhersagbar. Daher wird die Lei­ stungsaufnahme während der Selbstauffrischungsbetriebsart oder während der Batteriereservebetriebsart minimiert. Das bekannte DRAM hat dagegen den Nachteil, daß der Substratvor­ spannungsgenerator während der Selbstauffrischbetriebsweise die gleiche Leistung wie während der normalen Betriebsweise oder der Auffrischbetriebsweise verbraucht.
Weiterhin offenbart die japanische Patentveröffentlichung KOKAI 59688/1986 eine RAM-Bauweise mit einem Paar Substrat­ vorspannungsgeneratoren mit unterschiedlichen Vorspannungs­ kapazitäten, wobei der Substratvorspannungsgenerator mit der höheren Vorspannungskapazität in der Selbstauffrischbe­ triebsweise betrieben wird. Jedoch wird auch bei dieser Bauweise der Substratvorspannungsgenerator mit der größeren Vorspannungskapazität ständig in der Auffrischbetriebsart betrieben, was zu einer unnötigen Leistungsaufnahme führt.
Wiederum ein weiteres DRAM mit Selbstauffrischfunktion ist beschrieben in der Fachveröffentlichung Taniguchi et al, "Fully Boosted 64k Dynamic RAM with Automatic and Self- Refresh", IEEE Journal of Solid-State Circuits, Band SC-16, Nr. 5, Oktober 1981, Seiten 492-498. Diese Literaturstelle beinhaltet keine Diskussion bezüglich des Themas der Lei­ stungsvergeudung durch den Substratvorspannungsgenerator.
In Hinblick auf diesen Stand der Technik liegt der vorlie­ genden Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen dynamischen Schreib-Lese-Speicher nach dem Oberbegriff des Patentan­ spruchs 1 und ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Patent­ anspruchs 18 so weiterzubilden, daß eine reduzierte Lei­ stungsaufnahme in der Selbstauffrischbetriebsweise oder Batteriereservebetriebsweise erreicht wird.
Diese Aufgabe wird durch einen dynamischen Schreib-Lese- Speicher mit den im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen sowie durch ein Verfahren mit den im Patentanspruch 18 an­ gegebenen Merkmalen gelöst.
Der dynamische Schreib-Lese-Speicher mit Selbstauffrischfunktion hat einen verbesserten Substratvor­ spannungsgenerator, der die nötige Substratvorspannung bei niedriger Leistungsaufnahme in der Selbstauffrischbetriebs­ weise erzeugt.
Bei dem dynamischen Schreib-Lese-Speicher ist der Substratvorspannungsgenerator zur Erzeugung einer Sub­ stratvorspannung bei minimaler Leistungsaufnahme in genauer Abhängigkeit von dem Halbleitersubstratpotential in der Selbstauffrischbetriebsweise in der Lage.
Der dynamische Schreib-Lese-Speicher ent­ hält eine Schaltung zum Erzeugen eines inneren Auffrischbe­ fehlssignales in Reaktion auf ein äußeres Auffrischbefehls­ signal, eine Schaltung, die in Reaktion auf das innere Auf­ frischbefehlssignal ein Auffrischfreigabesignal erzeugt, das eine bestimmte Pulsbreite in einem vorbestimmten Zyklus hat, eine Schaltung zum Anlegen einer Substratvorspannung an das Halbleitersubstrat und eine Schaltung, die in Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal und das Auffrischfreigabe­ signal eine Substratvorspannungsschaltung während einer Zeitdauer aktiviert, die kürzer als ein Zyklus des Auf­ frischfreigabesignales ist.
Vorzugsweise umfaßt die Substratvorspannungsschaltung ein Paar von Substratvorspannungsanbringungsvorrichtungen mit verschiedenen Vorspannkapazitäten, einen Substratpotential­ detektor und eine Schaltung, die in Reaktion auf das erfaßte Substratpotential ein Aktivierungssignal an eine der Sub­ stratvorspannungsanbringungsvorrichtungen anliegt.
Vorzugsweise hat der Substratpotentialdetektor einen Eingang mit hoher Eingangsimpedanz und erfaßt das Substratpotential durch diesen Eingang.
Das Verfahren zum Anlegen der Substratvorspannung in dem dynamischen Schreib-Lese-Speicher gemäß der vorliegenden Er­ findung umfaßt einen Verfahrensschritt des Erzeugens eines inneren Auffrischbefehlssignales in Reaktion auf ein äußeres Auffrischbefehlssignal, einen Schritt des Erzeugens eines Auffrischfreigabesignales in einem vorbestimmten Zyklus in Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal, und einen Schritt des Anlegens eines Substratvorspannungspotentiales an das Halbleitersubstrat während einer Zeitdauer, die kürzer als ein Zyklus des Auffrischfreigabesignales ist, in Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal und das Auf­ frischfreigabesignal.
Das Verfahren zum Anlegen einer Vorspannung an das Halblei­ tersubstrat beinhaltet einen Schritt des Anlegens des Vor­ spannungspotentiales lediglich für eine Zeitdauer, die kürzer als die Pulsbreite des Auffrischfreigabesignales ist.
Vorzugsweise beinhaltet der Vorspannungsanlegungsschritt einen Schritt des Erfassens des Potentiales des Halbleiter­ substrates und einen Schritt des Aktivierens des Vorspan­ nungsgenerators mit einer Vorspannungskapazität entsprechend des erfaßten Substratpotentiales.
Vorzugsweise umfaßt der Substratpotentialerfassungsschritt einen Schritt des Erfassens des Potentiales des Halbleiter­ substrates durch eine hohe Eingangsimpedanz.
Bei dem dynamischen Schreib-Lese-Speicher kann die Leistungsaufnahme in der Substratvorspannungsschal­ tung erheblich vermindert werden, da diese nur für einen be­ stimmten Teil der Auffrischwirkungszykluszeit aktiviert wird.
Bevorzugte Ausführungsformen werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung der Bauweise eines Hauptteiles des bekannten dynamischen Schreib-Lese- Speichers;
Fig. 2 ein Diagramm eines Ausführungsbeispieles des Sub­ stratvorspannungsgenerators, der in dem dynamischen Schreib-Lese-Speicher gemäß. Fig. 1 Einsatz findet;
Fig. 3 ein Signalformdiagramm zum Erläutern der Wirkung des in Fig. 2 gezeigten Substratvorspannungsgenerators;
Fig. 4 ein schematisches Blockdiagramm des Hauptteiles einer Ausführungsform des dynamischen Schreib-Lese-Speichers;
Fig. 5 eine diagrammartige Darstellung eines Ausführungsbeispieles des Selbstauffrischbetriebs­ artdetektors gemäß Fig. 4;
Fig. 6 eine diagrammartige Darstellung eines Ausführungs­ beispieles des Selbstauffrischbetriebsartdetektors gemäß Fig. 1;
Fig. 7 ein Signalformdiagramm der Arbeitsweise des in Fig. 6 gezeigten Selbstauffrischbetriebsartdetektors;
Fig. 8 eine diagrammartige Darstellung eines Ausführungsbeispieles eines Zeitgebers 93 gemäß Fig. 4;
Fig. 9A und 9B Signalformdiagramme des Betriebes des in Fig. 8 gezeigten Zeitgebers;
Fig. 10 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles einer Steuerung für die intermittierende Betriebsweise;
Fig. 11A Signalformdiagramme zum Darstellen der Arbeitsweise der Steuerung für die intermittierende Betriebsweise gemäß Fig. 10;
Fig. 12 eine diagrammartige Darstellung eines Ausführungs­ beispieles des Substratsvorspannungsgenerators gemäß Fig. 4;
Fig. 13 eine diagrammartige Darstellung des Ausführungs­ beispieles des Ringoszillators gemäß Fig. 12;
Fig. 14A und 14B Diagramme zum Darstellen der Zeitbeziehung des Wortleitungsaktivierungssignales mit der Arbeits­ weise des Substratvorspannungsgenerators in der Selbstauffrischbetriebsart, wobei Fig. 14A den Ablauf der Arbeitsweise des Substratsvorspannungs­ generators nach dem Stand der Technik und Fig. 14B den Ablauf der Arbeitsweise des Substratvorspan­ nungsgenerators gemäß der Erfindung zeigt;
Fig. 15 eine diagrammartige Darstellung eines anderen Ausführungsbeispieles des in dem Substratvorspan­ nungsgenerator verwendeten Ringoszillators;
Fig. 16 eine Darstellung der Bauweise einer Steuerung für die intermittierende Betriebsweise eines anderen Ausführungsbeispieles;
Fig. 17 ein Signalformdiagramm der Arbeitsweise der in Fig. 16 gezeigten Steuerung;
Fig. 18 eine Darstellung der Arbeitsweise des Ringoszil­ lators des Substratvorspannungsgenerators gemäß noch einem anderen Ausführungsbeispiel;
Fig. 19 eine Darstellung wiederum einer anderen Version des in Fig. 4 gezeigten Substratvorspannungsgenerators;
Fig. 20 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles des Substratvorspannungspotentialdetektors gemäß Fig. 19;
Fig. 21 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles der schaltenden Schaltung gemäß Fig. 19;
Fig. 22 ein Signalformdiagramm der Arbeitsweise der in Fig. 21 gezeigten schaltenden Schaltung;
Fig. 23 eine Darstellung wiederum eines anderen Ausfüh­ rungsbeispieles des Substratvorspannungsgenerators gemäß Fig. 4;
Fig. 24 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles der Auswahlsteuerung gemäß Fig. 23;
Fig. 25 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles des Bezugspotentialgenerators gemäß Fig. 24;
Fig. 26 eine Darstellung der Beziehung zwischen dem Subs­ tratvorspannungspotentialgenerator, an den das Bezugspotential von dem Bezugspotentialgenerator angelegt wird, und dem Halbleitersubstrat, an das das Substratvorspannungspotential angelegt wird;
Fig. 27 ein Signalformdiagramm der Arbeitsweise der selek­ tiven Steuerung gemäß Fig. 24;
Fig. 28 eine Darstellung des weiteren Ausführungsbeispieles der in Fig. 23 gezeigten selektiven Steuerung;
Fig. 29 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles eines Flip-Flop gemäß Fig. 28;
Fig. 30 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles der Pufferschaltung gemäß Fig. 28;
Fig. 31 eine Darstellung eines Ausführungsbeispieles des Bezugspotentialgenerators gemäß Fig. 24 und 28;
Fig. 32 eine Darstellung wiederum eines anderen Ausfüh­ rungsbeispieles einer Vorspannungsschaltung gemäß den Fig. 19 und 23.
In Fig. 4 ist eine Auf­ frischschaltung und eine Substratvorspannungserzeugungs­ schaltung eines 4Mbit (2² × 2²⁰) DRAM gezeigt.
Wie in Fig. 4 zu sehen ist, beinhaltet dieser dynamische Schreib-Lese-Speicher eine Speichermatrix 97 von 2048 (2¹¹) Speicherzellen in einer Matrixanordnung. Die Speichermatrix 97 ist in zwei Blöcke unterteilt. Jeder Block hat 1024 × 2048 Speicherzellen. Zum Auswählen einer Reihe aus der Spei­ chermatrix 97 sind ein Adreßmultiplexer 95 zum selektiven Durchlassen entweder eines äußeren Adreßsignales A0 bis A10 oder eines Auffrischadreßsignales Q0 bis Q9 von einem Auffrischadreßzähler 94, ein Adreßpuffer 96 zum Empfangen eines Adreßsignales von dem Adreßmultiplexer 95 und zum Erzeugen eines inneren Reihenadreßsignales RA0 bis RA10 und ein Reihendekoder zum Dekodieren des 10-bit internen Adreßsignales RA0 bis RA9 von dem Adreßpuffer 96 und zum Auswählen einer entsprechenden Reihe aus der Speichermatrix 97 vorgesehen. Durch die Adreßsignale RA0 bis RA9 werden eine Wortleitung von jedem Block oder gleichzeitig zwei Wortleitungen aus der gesamten Matrix ausgewählt. Das höchstwertige Reihenadreßsignal RA10 von dem Adreßpuffer 96 wird als Adreßsignal für die Blockauswahl verwendet.
Zum Auffrischen des Schreib-Lese-Speichers beinhaltet dieser einen Selbstauffrischbetriebsartdetektor 91, der in Reaktion auf ein äußeres Auffrischsignal und ein Reihenadreß­ abtastsignal RAS an dessen Eingangsanschlüssen 1 und 2 er­ mittelt, ob ein Selbstauffrischen bezeichnet worden ist. Wenn eine derartige Bezeichnung vorliegt, wird ausgangssei­ tig ein internes Selbstauffrischbefehlssignal ΦS erzeugt. Eine Auffrischsteuerung 92 treibt in Reaktion auf das interne Selbstauffrischbefehlssignal ΦS von dem Selbstauf­ frischbetriebsartdetektor 91 einen Zeitgeber 93 und einen Auffrischadreßzähler 94. Der Zeitgeber wird in Reaktion auf ein Zeitgeberstartsignal ΦT von der Auffrischsteuerung 92 betrieben und erzeugt ausgangsseitig ein Auffrischfreigabe­ signal ΦR in einem vorbestimmten Zyklus. Der Zeitgeber 93 wird durch das Auffrischbefehlssignal (Zeitgeberstartsignal) ΦT von der Auffrischsteuerung 92 betrieben und legt ein Auffrischfreigabesignal ΦR an die Auffrischsteuerung 92 und an die Steuerung 99 für die intermittierende Betriebsweise zu jeder vorgegebenen Zeit T (von maximal 16 Mikrosekunden) an, während das Signal ΦT in seinem aktiven Zustand bleibt. Das Signal ΦT wird aktivgeschaltet, wenn das Signal ΦS länger als eine vorbestimmte Zeitdauer aktiv geblieben ist.
In Reaktion auf das Auffrischfreigabesignal ΦR von dem Zeitgeber 93 und unter der Steuerung der Auffrischsteuerung 92 inkrementiert der Auffrischadreßzähler 94 seinen Zählwert. Ferner bewirkt die Auffrischsteuerung 92 in Reaktion auf das interne Selbstauffrischbefehlssignal ΦS von dem Selbstauffrischbetriebsartdetektor 91, das der Adreß­ multiplexer 95 das Auffrischadreßssignal Q0 bis Q9 von dem Auffrischadreßzähler 94 auswählt.
Zum Anlegen einer nötigen Vorspannung an das Halbleiter­ substrat beinhaltet das DRAM eine Steuerung 99 für die intermittierende Betriebsweise, die in Reaktion auf das innere Selbstauffrischbefehlssignal ΦS von dem Selbstauf­ frischbetriebsartdetektor 91 und das Auffrischfreigabesignal ΦR von dem Zeitgeber 93 ein Aktivierungssignal ΦC mit vor­ bestimmter zeitlicher Breite erzeugt, sowie einen Substrat­ vorspannungsgenerator 100, der in Reaktion auf ein Steuer­ signal ΦC von der Steuerung 99 für die intermittierende Betriebsweise aktiviert wird und eine nötige Vorspannung an das Halbleitersubstrat anlegt.
Jedesmal wenn bei der Schaltung mit der obigen Bauweise das Auffrischfreigabesignal ΦR erzeugt wird, inkrementiert der Auffrischadreßzähler 94 einen Zählwert und erzeugt ausgangs­ seitig ein Auffrischadreßsignal Q0 bis Q9 entsprechend seines Zählwertes. Dieses Auffrischadreßsignal Q0 bis Q9 wird einem Reihendekoder 98 über den Adreßmultiplexer 95 und einen Adreßpuffer 96 zugeführt. Der Reihendekoder 98 deko­ diert dieses 10-bit Auffrischadreßsignal Q0 bis Q9 (20 bits für das interne Adreßsignal RA0 bis RA9, falls dies als komplimentäre Daten vorliegt) und wählt die entsprechende Reihe von jedem Block der Speichermatrix 97 aus. Daraufhin werden die Daten in den Speicherzellen, die an diese aus­ gewählte Wortleitungen angeschlossen sind, aufgefrischt. Daher werden in der Selbstauffrischbetriebsweise die Daten in sämtlichen Speicherzellen innerhalb der Speichermatrix 97 in einem Zyklus von 16 Mikrosekunden × 1024 = ungefähr 16 ms aufgefrischt. Während bei dieser Selbstauffrischbetriebsart das Signal , das den Standby- und Betriebs-Zustand des DRAM bestimmt, einen "H"-Pegel hat, und das innere Auffrischsignal sich bei dem "L"-Pegel befindet, sind die Wortleitungen in der Speichermatrix 97 der Reihe nach in Reaktion auf die Auffrischadreßsignale Q0 bis Q9 ausgewählt, um die gespeicherten Daten aufzufrischen.
Fig. 5 zeigt ein spezielles Ausführungsbeispiel des Selbst­ auffrischbetriebsartdetektors 91. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, beinhaltet der Detektor 91 einen Inverter 911, der das äußere Auffrischsignal empfängt, das dem Eingangsan­ schluß 1 zugeführt wird. Zwischen dem Eingangsanschluß 1 und dem Eingang des Inverters 911 ist ein Hochziehwiderstand RS mit hohem Widerstandswert. Wenn bei einer Schaltung mit dieser Bauweise das äußere Auffrischsignal auf den "H"-Pegel gebracht wird oder wenn der entsprechende Stift sich in einem "offenen" Zustand befindet, steigt der Eingang des Inverters 911 auf den Versorgungsspannungspegel VCC durch den Hochziehwiderstand RS, so daß der Ausgang ΦS des Inverters 911 auf den "L"-Pegel fällt. Wenn das äußere Auf­ frischsignal sich bei dem "L"-Pegel befindet, erzeugt der Inverter 911 ausgangsseitig ein "H"-Pegel-Ausgangssignal ΦS. Durch diese Anordnung kann ein internes Auffrischbe­ fehlssignal ΦS, das die Selbstauffrischbetriebsweise be­ zeichnet, in Reaktion auf das äußere Auffrischsignal er­ zeugt werden. Wenn das Signal ΦS bei dem "H"-Pegel länger als eine vorbestimmte Zeitdauer bleibt, wird die Selbstauf­ frischbetriebsart erfaßt und das Signal ΦS steigt an.
Fig. 6 ist eine Darstellung der Bauweise des DRAM, wobei anstatt des Vorsehens einer bestimmten Eingangsklemme oder eines bestimmten Eingangsanschlusses für das Auffrischbe­ fehlssteuersignal die Selbstauffrischbetriebsart unter Verwenden des äußeren Reihenadreßabtastsignales und des Spaltenadreßabtastsignales erfaßt wird, wobei diese Signale in dem üblichen DRAM verwendet werden. Bei der in Fig. 6 gezeigten Bauweise beinhaltet der Selbstauffrisch­ betriebsartdetektor 91 ein Flip-Flop 921 mit einem Setzein­ gang S, der das Signal über einen Eingangsanschluß 2 empfängt, und mit einem Rücksetzeingang R, der das Signal über einen Eingangsanschluß 3 empfängt, einen Komparator 922, der ein Signal CbR von der Ausgangsstelle Q des Flip-Flop 921 empfängt, und einen Zeitgeber 923, der in Reaktion auf ein Aktivierungssignal von dem Komparator 922 startet und eine vorgegebene Zeit zählt. Der Zeitgeber 923 wird durch den Komparator 922 in Reaktion auf eine Ver­ schiebung des Signals CbR in den aktiven Zustand gestartet. In Reaktion auf die Zählinformation von dem Zeitgeber 923 hebt der Komparator 922 das innere Auffrischbefehlssignal ΦS an, wenn das Signal CbR in dem "H"-Pegel, welches der aktivierte Pegel ist, länger als eine vorbestimmte Zeitdauer bleibt.
Die Wirkung des Selbstauffrischbetriebsartdetektors 91, die in Fig. 6 gezeigt ist, wird nachfolgend unter Bezugnahme auf das Signalformdiagramm von Fig. 7 erläutert.
Bei dieser Bauweise wird die Erfassung des Selbstauf­ frischens durch Herabziehen des Signales auf "L" durch­ geführt, während das Signal den "H"-Pegel hat. In dieser "-vor-"-Auffrischbetriebsart wird das Flip-Flop 921 gesetzt und dessen Ausgangssignal CbR auf den "H"-Pegel angehoben. In der Reaktion auf diese Verschiebung des Signales CbR auf den "H"-Pegel wird der Zeitgeber 923 durch den Komparator 922 gestartet und zählt eine vorgegebene Zeitdauer T′. Der Komparator 922 erzeugt ausgangsseitig ein "H"-Pegelsigal ΦS, wenn das Signal CbR ständig bei dem "H"-Pegel bei Ablauf des Zeitgebers 923 (mit Verstreichen der vorgegebenen Zeit) bleibt. Dieser "H"-Pegel des Signales CbR hält an, wenn das Signal bei dem "L"-Pegel bleibt und wenn während dieser Zeit "H"-Pegelsignal ΦS erzeugt wird. Wenn der Pegel des Signales "H" wird, wird das Flip-Flop 921 rückgesetzt. Der Pegel seines Ausgangssignales CbR wird "L", was zum Ergebnis hat, daß das Signal ΦS von dem Komparator 922 gleichfalls "L" wird. Die Auffrischbe­ triebsweise ist hierdurch abgeschlossen.
Fig. 8 ist eine diagrammartige Darstellung der Bauweise des Zeitgebers gemäß Fig. 4. Wie in Fig. 8 gezeigt ist, umfaßt der Zeitgeber 93 einen Ringoszillator 93-1, der aktiviert wird und in Reaktion auf ein Signal ΦT von der Auffrisch­ steuerung 92 oszilliert, einen Pufferschaltung 93-2, die eine Signalformung des Oszillatorsignales des Oszillators 93-1 durchführt, und eine Zählerschaltung 93-3, die das Pulssignal von dem Puffer 93-2 zählt und bei jedem vorbestimmten Zählwert ein Auffrischfreigabesignal ΦB er­ zeugt.
Der Ringoszillator 93-1 umfaßt sechs serielle Stufen von Invertern I1 bis I6 und ein NAND-Gate N1, das den Ausgang von dem Inverter I6 an einem seiner Eingänge empfängt, und das ein Treibersignal ΦT von der Auffrischsteuerung 92 an seinem anderen Eingang empfängt. Der Ausgang des NAND-Gates N1 wird dem Puffer 93-2 zugeführt und gleichzeitig zum Eingang des Inverters I1 der ersten Stufe rückgeführt.
Der Puffer 93-2 umfaßt vier serielle Inverterstufen I7 bis I10. Durch diesen Puffer 93-2 wird eine mangelhafte Signal­ form des Oszillatorsignalausganges des Ringoszillators 93-1 korrigiert. Der Inverter I10 erzeugt ausgangsseitig ein Oszillationssignal Φr. Der Inverter I11 invertiert dieses Ausgangssignal des Inverters I10 und erzeugt ausgangsseitig ein invertiertes Ausgangssignal . Diese komplementären Oszillationssignale Φr und werden der Zählerschaltung 93-3 zugeführt. Die Zählerschaltung 93-3 hat vier Stufen von Binärzählern BC1 bis BC4, die in Reihe geschaltet sind. Jeder der Binärzähler BC1 bis BC4 teilt die Frequenz der den Eingängen I, zugeführten Signale durch zwei und erzeugt ausgangsseitig das Ergebnis. Die Operation einer jeden Komponente wird nachfolgend erläutert.
Zunächst wird die Wirkung oder Arbeitsweise des Ringoszil­ lators 93-1 nachfolgend unter Bezugsnahme auf Fig. 9A er­ läutert, die ein Signalformdiagramm dieses Oszillators zeigt. Wenn die Treibersignale ΦT von der Auffrischsteuerung 92 bei "L"-Pegel sind und keine Selbstauffrischbetriebsart erfaßt ist, ist der Ausgang des NAND-Gates N1 auf einem konstanten "H"-Pegel. In diesem Fall oszilliert der Ring­ oszillator 93-1 nicht.
Wenn dann das Signal ΦS bie dem "H"-Pegel länger als eine vorgegebene Zeitdauer T11 bleibt, wird die Selbstauffrisch­ betriebsart erfaßt, woraufhin das Treibersignal ΦT auf den "H"-Pegel ansteigt, wobei das NAND-Gate N1 als Inverter arbeitet. Daher werden die Inverter I1 bis I6 und das NAND-Gate N1 äquivalent zu einem 7-stufigen Inverter, so daß der Ringoszillator 93-1 zu oszillieren beginnt. Dieses Oszillationssignal von dem Ringoszillator 93-1 wird der Pufferschaltung 93-2 zugeführt, in der das Signal geformt wird. Die auf diese Weise geformten komplementären Oszil­ lationssignale Φr, werden zur Zählerschaltung 93-3 zugeführt.
Die binären Zähler BC1 bis BC3 in der Zählerschaltung 93-3 führen die Zählbetriebsweise gemäß Fig. 9B durch. Daher erzeugt der Binärzähler BC1 ausgangsseitig ein Ausgangs­ signal O1, daß auf einen "H"-Pegel bei jedem zweiten Schwingungssignal ΦR ansteigt. Daher hat der Ausgang des Binärzählers BC1 ein Signal mit einem Tastverhältnis von 50 (%) und einem Zyklus von zwei Mikro­ sekunden, wenn der Zyklus des Signales Φr eine Mikrosekunde ist. Ähnlich erzeugt der Binärzähler BC2 ein Ausgangssignal O2 mit einem Tastverhältnis von 50 (%) und einem Zyklus von 4 Mikrosekunden. Der Binärzähler BC3 erzeugt ein Ausgangssignal O3 mit einem Zyklus von Mikro­ sekunden bei einem Tastverhältnis oder Lastverhältnis von 50 (%). Als Ergebnis erzeugt der Binärzähler BC4 ausgangs­ seitig ein Auffrischfreigabesignal ΦR mit einem Tastver­ hältnis von 50% und einem Zyklus von 16 Mikrosekunden. Wenn das Auffrischfreigabesignal ΦR den "H"-Pegel beibehält, wird automatisch eine Auffrischoperation ausgeführt.
Wenn dies nötig ist, kann ein Rücksetzsignal RESET in jedem Binärzähler BC1 bis BC4 verwendet werden. Deren Zählwert kann auf einen gewünschten Wert rückgesetzt werden.
Fig. 10 ist eine diagrammartige Darstellung eines Ausführungsbeispieles der Steuerung für die Intermittierung für die Betriebsweise gemäß Fig. 4. Wie in Fig. 10 gezeigt ist, umfaßt die Steuerung für die intermittierende Betriebs­ weise einen monostabilen Multivibrator 99-1, der in Reaktion auf das Auffrischfreigabesignal ΦR von dem Zeitgeber 93 aus­ gangsseitig einen Puls des Pulssignales ΦTS erzeugt, und enthält ferner ein Flip-Flop 99-2, daß in Reaktion auf den Puls des Pulssignales ΦTS von dem monostabilen Multivibrator 99-1, das Selbstauffrischbefehlsignals ΦS, von dem Auffrischbetriebsartdetektors 91 und das invertierte Oszil­ lationssignals von dem Zeitgeber 93 ausgangsseitig ein Signal ΦC zum Steuern der Arbeitsweise des Substratvor­ spannungsgenerators 100 erzeugt.
Der monostabile Multivibrator 99-1 beinhaltet eine Reihe von drei Stufen von Invertern I20 bis I22, die das Auffrisch­ freigabesignal ΦR empfangen, und ein NAND-Gate N10, das das Ausgangssignal des Inverters I22 an einem seiner Eingänge empfängt und das das Auffrischfreigabesignal ΦR an seinem anderen Eingang empfängt. Die Inverter I20 bis I22 in­ vertieren und verzögern das Auffrischfreigabesignal ΦR und führen dieses zu einem der Eingänge des NAND-Gatters N10 zu. Das SR-Flip-Flop 99-2 umfaßt ein NAND-Gatter N11 mit drei Eingängen, das das Pulssignal ΦTS mit einem Puls empfängt, und ferner das Selbstauffrischbetriebsarterfassungssignal ΦS und den Ausgang des NAND-Gatters N12, welches nachfolgend erläutert wird, empfängt, sowie ein NAND-Gatter N12 mit zwei Eingängen, das den Ausgang des NAND-Gatters N11 an einem seiner Eingänge und das invertierte Oszillationssignal von dem Ringoszillator 93-1 und dem Puffer 93-2 in der Zeitgeberschaltung 93 an dem anderen seiner Eingänge empfängt. Das NAND-Gatter N11 erzeugt ausgangsseitig ein Signal ΦC zum Steuern der Betriebsweise oder Wirkungsweise des Substratvorspannungsgenerators 100. Der Betrieb der Steuerung 99 für die intermittierende Betriebsweise wird nachfolgend erläutert.
Die Wirkung in einem Zustand, der nicht der Selbstauffrisch­ betriebsart entspricht, sowie die Selbstauffrischbetriebs­ arterfassungssignale ΦS mit einem "L"-Pegel werden nach­ folgend unter Bezugnahme auf Fig. 11A erläutert. In diesem Zustand ist der Ausgang des NAND-Gatters N11 konstant bei einem "H"-Pegel unabhängig vom Ausgang des NAND-Gatters N12 und unabhängig von dem Signal ΦTS. Wenn dieses Signal ΦC somit einen "H"-Pegel hat, wird der Substratvorspannungs­ generator 100 aktiviert, um ein Vorspannungspotential zu dem Halbleitersubstrat zuzuführen.
Es sei nunmehr angenommen, daß der Pegel des Signals "L" wird und daß das DRAM eine Selbstauffrischbetriebsweise nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitdauer einnimmt. In diesem Zustand wird in Reaktion auf eine Verschiebung des Signales zu dem "L"-Pegel das Selbstauffrischbetriebs­ arterfassungssignal ΦS auf den "H"-Pegel angehoben, wie dies in Fig. 11B gezeigt ist. Vor Verstreichen der vorbestimmten Zeitdauer und bei Beibehalten des "L"-Pegels durch das Selbstauffrischfreigabesignal ΦR ist das Ausgangssignal ΦTS des monostabilen Multivibrators 99-1 bei dem "H"-Pegel. Wenn daher die vorbestimmte Zeitdauer verstrichen ist und das Auffrischfreigabesignal ΦR auf "H" gestiegen ist, wird das Signal ΦTS auf "L"-Pegel während einer vorbestimmten Zeit­ dauer oder Zeitbreite (die durch die Verzögerungszeit in den Invertern I10 bis I12 festgelegt ist) in Reaktion auf das Ansteigen des Signales ΦR herabgezogen. Als Ergebnis steigt der Ausgang des NAND-Gatters N11 auf den "H"-Pegel. Dieses Ansteigen des Ausgangssignales ΦC des NAND-Gatters N11 ist synchron mit dem Ansteigen des invertierten Signales ′, wobei das Signal ΦC bei dem "H"-Pegel gehalten wird, während das inverse Signal bei dem "H"-Pegl bleibt. Wenn daher das inverse Signal nach unten zum "L"-Pegel geschoben wird, steigen sämtliche Eingänge des NAND-Gatters N11 mit drei Eingängen auf den "H"-Pegel, wobei dessen Ausgangssignal ΦC auf "L"-Pegel rückgesetzt wird. Die Zeitdauer, während der das obige Signal ΦC aktiv ist, liegt bei etwa 0,5 Mikrose­ kunden, wenn die Zykluszeit des Oszillationssignales Φr vom Zeitgeber eine Mikrosekunde beträgt.
Fig. 12 ist eine diagrammartige Darstellung eines speziellen Ausführungsbeispieles des Substratvorspannungsgenerators 100, welcher in Fig. 4 gezeigt ist. Bei der in Fig. 12 ge­ zeigten Bauweise beinhaltet der Substratvorspannungsge­ nerator 100 einen Ladungspumpkondensator C, Spannungs- Klammer-MOS-Transistoren Q1, Q2 und einen Ringoszillator 511, der ein Oszillationssignal ΦCP von vorbestimmter Frequenz ausgangsseitig erzeugt. Die Operation des Ring­ oszillators 511 wird durch das Steuersignal ΦC von der Steuerung 99 für intermittierende Betriebsweise gesteuert. Fig. 13 zeigt ein spezielles Ausführungsbeispiel des Ring­ oszillators 511 gemäß Fig. 12.
Bezugnehmend auf Fig. 13 umfaßt der Ringoszillator 511 sieben serielle Inverterstufen I30 bis I36, ein NAND-Gatter N30, das den Ausgang des Inverters I36 an einem seiner Eingänge empfängt, und das Steuersignal ΦC an dem anderen Eingang empfängt, und eine Reihe von zwei Inverterstufen I37, I38, die den Ausgang eines NAND-Gatters N30 empfangen. Das NAND-Gatter N 30 arbeitet als Inverter, wenn das Steuersignal ΦC bei dem "H"-Pegel ist, und erzeugt ein Ausgangssignal von "H"-Pegel, wenn das Steuersignal bei dem "L"-Pegel ist, unabhängig vom Ausgangszustand des Inverters I36. Wenn daher das Steuersignal ΦC sich bei dem "H"-Pegel befindet, bilden die Inverter I30 bis I36 und das NAND-Gatter N30 einen sieben-stufigen Ringoszillator. Das NAND-Gatter N30 erzeugt ausgangsseitig ein Oszillationssignal ΦCP, das die Ladungspumpwirkung des Landungspumpkondensators C durch die Signalforminverter I37, I38 bestimmt. Wenn die Ringoszillatorbauweise gemäß Fig. 13 verglichen wird mit der konventionellen, bekannten Bauweise gemäß Fig. 2, fallen folgende Unterschiede ins Auge:
Bei dem bekannten Ringoszillator gemäß Fig. 2 schwingt der Oszillator konstant unabhängig vom Betriebszustand des DRAM. Im Gegensaz hierzu schwingt der Ringoszillator 511 gemäß Fig. 10 nach der vorliegenden Erfindung nur dann, wenn das Steuersignal ΦC sich bei den "H"-Pegel befindet, und schwingt nicht, während sich das Steuersignal ΦC bei dem "L"-Pegel befindet, so daß dessen Signalausgang bei "H"-Pegel gehalten wird. Wie in Fig. 11B gezeigt ist, steigt dieses Steuersignal ΦC an und wird bei dem aktivierten "H"-Pegel lediglich für eine vorbestimmte Zeitdauer in Reaktion in das Auffrischfreigabesignal ΦR, das ausgangsseitig von dem Zeitgeber 93 erzeugt wird, gehalten.
Andererseits wird gemäß der obigen Beschreibung der Auf­ frischadreßzähler 94 durch die Auffrischsteuerung 92 in Reaktion auf das Auffrischfreigabesignal ΦR aktiviert und die Wortleitung in der Adresse entsprechend dem Auffrisch­ adreßsignal Q0 bis Q9 aus der Speichermatrix 97 ausgewählt, so daß Daten in der Speicherzelle, die an die ausgewählte Wortleitung angeschlossen sind, aufgefrischt werden.
Die Betriebszeitsignaldiagramme nach den Fig. 14A und 14B beziehen sich auf den Stand der Technik und auf die vor­ liegende Erfindung. Diese Diagramme zeigen den Unterschied zwischen dem Stand der Technik und der Erfindung bezüglich der zeitlichen Verhältnisse, nämlich bezüglich des Zeit­ verhaltens der Aktivierung des Auffrischfreigabesignals ΦR, des Zeitverhaltens der Auswahl einer Wortleitung und des Zeitverhaltens des Ausgangssignales eines Oszillationssig­ nales von dem Ringoszillator. Fig. 14A zeigt die Beziehung des Auffrischfreigabesignales, der Auswahl einer Wortleitung und des Ladungspumposzillationssignales ΦCP bei dem bekann­ ten DRAM, während Fig. 14B eine ähnliche Beziehung bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt.
Wie in Fig. 14A zu sehen ist, steigt das Auffrischfreigabe­ signal ΦR auf den "H"-Pegel alle 16 Mikrosekunden an, während die Wortleitungen sequentiell in Reaktion auf das Auffrischadreßsignal von dem Auffrischadreßzähler 94 ausge­ wählt werden und das Potential WL der ausgewählten Wort­ leitungen auf "H" steigt. Wie in Fig. 14 auch zu sehen ist, wird beispielsweise die (n)-te Wortleitung zu einem Zeitpunkt t(n) aktiviert, während die (n+1)-te Wortleitung zu einem Zeitpunkt t(n+1) aktiviert wird, der sich 16 Mikrosekunden nach dem Zeitpunkt t(n) befindet. Bei der Bauweise der bekannten Substratvorspannungsgeneratorschal­ tung oszilliert das Ausgangssignal ΦCP ihres Ringoszilla­ tors 411 ständig unabhängig von der Auswahl der Wortleitungen oder vom Zeitverhalten des Auffrischfreigabe­ signales ΦR.
Dies steht im Gegensatz zu dem Substratvorspannungsgenerator gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem gemäß Fig. 14B das Oszillationssignal ΦC von dessen Ringoszil­ lator 511 lediglich während einer Zeitdauer von 0,5 Mikro­ sekunden ab dem Anstieg des Auffrischfreigabesignal ΦR schwingt, so daß die Substratvorspannung nur während dieser Zeitdauer erzeugt wird. Bei dieser Anordnung ist es möglich, wie man aus der Fig. 11B erkennt, den Substratvorspannungs­ generator lediglich vor und nach der Zeitdauer zu betätigen, während der die Wortleitungsauswahl und das Auffrischen aus­ geführt werden (wobei diese Zeitdauer ungefähr 100 bis 200 ns im typischen Fall beträgt).
Allgemein sinkt der Absolutwert der Substratvorspannung aufgrund eines Leckstromes (Löcherstromes), der beispiels­ weise zwischen dem source-Bereich eines MOS-Transistors und einem Halbleitersubstrat stattfinden kann. Der Leckstrom in das Halbleitersubstrat ist notwendigerweise konstant, hängt jedoch von Schaltungsbetriebszuständen ab. Dieser Substrat­ leckstrom ist vergleichsweise klein, wenn der Schaltzustand der Transistoren fest oder ruhig ist, aber steigt an, wenn eine Speicherschaltung betrieben wird und der Schaltzustand von MOS-Transistoren sich ändert. Daher ändert sich die Substratvorspannung hauptsächlich dann, wenn Wortleitungen aktiviert werden und wenn eine Auffrischung eines Speichers stattfindet. Daher ist es möglich, durch Treiben des Subs­ tratvorspannungsgenerators lediglich während dieser Zeitdauer derartige Änderungen in der Substratvorspannung auszuschließen und die Leistungsaufnahme in der Substrat­ vorspannungsgeneratorschaltung zu vermindern.
Bei dem vorherigen Ausführungsbeispiel wird der Substrat­ vorspannungsgenerator 100 lediglich während der kürzest­ möglichen Zeit aktiv geschaltet, d. h. während der Zeit, während der tatsächlich eine Speicherauffrischung stattfindet. Jedoch ist es für den alleinigen Zweck der Reduktion der Leistungsaufnahme in der Selbstauffrischungs­ betriebsart ausreichend, den Substratvorspannungsgenerator während der Selbstauffrischungsbetriebsart intermittierend zu betreiben. Die folgende Beschreibung bezieht sich auf eine Bauweise, bei der der Substratvorspannungsgenerator während einer Zeitdauer betätigt wird, die kürzer als ein Auffrischzyklus ist, und die länger als die Aktivierungs­ periode des Auffrischfreigabesignales (die Periode während der das tatsächliche Auffrischen stattfindet) ist.
Fig. 15 zeigt ein spezielles Ausführungsbeispiel des Ring­ oszillators im Substratvorspannungsgenerator 100. Anders als bei der Struktur gemäß Fig. 13, wird ein NOR-Gatter N100 als Ausgangsstufe verwendet. Daher enthält der Ringoszillator, der allgemein bei dem Bezugszeichen 511′ gezeigt ist, eine gerade Zahl von in Reihe geschalteten Invertern IR₁ bis IR2n, und ein NOR-Gatter N100 mit zwei Eingängen, das den Ausgang des Inverters IR2n und das Steuersignal IC empfängt. Das NOR-Gatter N100 empfängt ausgangsseitig ein Oszillationssignal ΦCP. Der Ausgang des NOR-Gatters NF100 wird zu dem Inverter IR₁ rückgekoppelt. Das NOR-Gatter N100 arbeitet als Inverter, wenn sich das Steuersignal ΦC bei "L"-Pegel befindet, und erzeugt ausgangsseitig ein "L"-Pegel­ signal, wenn das Steuersignal ΦC sich bei dem "H"-Pegel befindet, unabhängig vom Ausgangssignal des Inverters IR2n. Daher arbeitet der Ringoszillator nicht, wenn sich das Steuersignal ΦC bei dem "L"-Pegel befindet. Aus diesem Grunde versorgt der Substratvorspannungsgenerator 100 bei Ausstattung mit dem Ringoszillator gemäß Fig. 15 das Halbleitersubstrat mit der Substratvorspannung nur dann, wenn das Steuersignal ΦC sich bei dem "H"-Pegel befindet.
Wie in Fig. 16 gezeigt ist, ist die Steuerschaltung für die intermittierende Betriebsart allgemein mit dem Bezugszeichen 99′ bezeichnet und beinhaltet ein RS-Flip-Flop 321, einen Inverter IC, der das Q-Ausgangssignal RS-Flip-Flop 312m empfängt, sowie ein UND-Gatter AN100, das das Selbstauf­ frischbefehlssignal ΦS empfängt und das das Ausgangssignal des Inverters IC empfängt. Das UND-Gatter erzeugt ausgangsseitig ein Steuersignal ΦC.
Das RS-Flip-Flop 312 hat einen Setzeingang S, der das Auf­ frischfreigabesignal ΦR empfängt und einen Rücksetzeingang R, der den Q-Ausgang durch eine gerade Anzahl von in Reihe geschalteten Invertern Ic 1 bis Ic 2m empfängt. Diese Inverter Ic 1 bis Ic 2m bilden eine Verzögerungsschaltung.
Fig. 17 zeigt die Betriebssignalform der in Fig. 16 gezeigten Steuerschaltung. Fig. 18 zeigt die Arbeitssignal­ form des Substratvorspannungsgenerators 511′ bei diesem Ausführungsbeispiel. Die Wirkungsweise des Substratvor­ spannungsgenerators gemäß eines anderen Ausführungsbei­ spieles der Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Fig. 15 bis 18 beschrieben.
Wenn das Selbstauffrischsignal IS auf den "H"-Pegel ansteigt, um einen Befehl für die Selbstauffrischbetriebsart zu geben, erzeugt der Zeitgeber 93 ausgangsseitig ein Puls­ signal (Auffrischfreigabesignal) ΦR mit einer Zykluszeit TT. Wenn das Auffrischfreigabesignal ΦR auf den "H"-Pegel ansteigt, wird das Flip-Flop 321 gesetzt, so daß dessen Q-Ausgang (der Knoten NF) den Pegel "H" annimmt. Das Potential des Knoten NF wird zu einem der Eingänge eines UND-Gatters AN100 durch den Inverter IC zugeführt, wodurch das UND-Gatter AN100 gesperrt wird und dessen Ausgangssignal ΦC den Pegel "L" annimmt. Nach dem Anstieg des Potential des Knotens NF auf den "H"-Pegel und nach der Verzögerungszeit TC, die durch die Inverter Ic 2m erzeugt wird, steigt das Knotenpotential des Knotens NR auf den "H"-Pegel, wodurch das Flip-Flop 321 rückgesetzt wird und das Potential des Knotens NF zurückfällt auf das Potential "L". Als Ergebnis hiervon wird das Ausgangssignal des Inverters Ic 1 "H". Da das Auffrischbefehlssignal ΦF einen "H"-Pegel hat, wird das Steuersignal ΦC von dem UND-Gatter AN100 "H" zu. Daher wird als Steuersignal ΦC ein Pulssignal mit Zykluszeit TT und einer Pulsbreite TC erhalten. Als Ergebnis schwingt der Ringoszillator 511′ gemäß dem Steuersignal ΦC lediglich der Zeitdauer IC und hört auf zu schwingen während der anschließenden Zeitdauer (TT-TC). Der Ringoszillator 511′ wiederholt diese intermittierende Arbeitsweise während der Selbstauffrischungsbetriebsart. Da keine Leistungsaufnahme in den Substratvorspannungsgenerator 511′ während dieser Unterdrückung der Schwingung auftritt, wird die Gesamtleistungsaufnahme des DRAM abgesenkt.
Andererseits bleibt während des Normalbetriebes und der Auffrischbetriebsart außerhalb der Auffrischbetriebsart das Signal ΦS bei einem niedrigem Pegel. Daher ist das Ausgangssignal ΦC unabhängig vom Pegel des Signales ΦR ständig bei einem niedrigen Pegel, so daß der Ringoszillator 511′ ständig schwingt.
Obwohl bei dem obigen Ausführungsbeispiel die Schwingung des Ringoszillators durch das Ausgangssignal ΦR der Selbst­ auffrischzeitgeberschaltung intermittierend gemacht wird, kann die Wirkung des Ringoszillators durch das Ausgangssignal einer unabhängigen Zeitgeberschaltung gesteuert werden.
Fig. 19 ist ein Blockdiagramm einer Substratvorspannungs­ erzeugungsschaltung nach einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung. Die Vorspannungserzeugungsschaltung gemäß Fig. 19 beinhaltet eine Hauptvorspannungserzeugungsschaltung 110 mit relativ hoher Vorspannungskapazität oder Vor­ spannungsfähigkeit (Stromzuführfähigkeit) und eine Hilfs­ vorspannungserzeugungsschaltung 120 mit vergleichsweise niedriger Vorspannungsfähigkeit oder Vorspannungskapazität. In der Konfiguration gemäß Fig. 19 wird ein Schwingungssignal ΦCP zu jeder der Vorspannungserzeugungs­ schaltung 110 und 120 in Reaktion auf das Substratpotential­ erfassungssignal ΦD von einer Substratpotentialerfassungs­ schaltung 610 unter der Steuerung einer schaltenden Schaltung 600 zugeführt. Die Hauptvorspannungsschaltung 110 beinhaltet einen Ladungspumpkondensator CM zum Empfangen eines Schwingungssignal ΦCPM für die schaltende Schaltung 600, und Klammer-MOS (Metalloxyd-Halbleiter)-Transistoren Q1M und Q2M.
Die Hilfsvorspannungsschaltung 120 beinhaltet einen Ladungs­ pumpkondensator CS zum Empfangen eines Schwingungssignales ΦCPS von der schaltenden Schaltung 600 und Klammer-MOS- Transistoren Q1S und Q2S.
Allgemein wird die Vorspannfähigkeit oder Vorspannkapazität eines Vorspannungspotentialgenerators mit einer Ladungs­ pumpoperation eines Kondensators durch die Menge der injizierten Ladungen pro Punktzyklus und durch die Anzahl der Operationen des Ladungspumpens pro Zeiteinheit bestimmt, d. h. durch den Kapazitätswert des Ladungspumpkondensators und durch die Schwingungsfrequenz eines Ringoszillators sowie durch die Treibbarkeit (Stromzufuhrfähigkeit) der Klammer-MOS-Transistoren. Daher wird die Hauptvorspann­ schaltung 110 mit einer größeren Vorspannfähigkeit ausgestattet als die Hilfsvorspannschaltung 120, indem der Kondensator CM mit einem größeren Kapazitätswert gewählt wird als der Kondensator CS und indem die Treiberfähigkeit des MOS-Transistors Q2M (oder dessen Transistorgröße) größer gewählt wird als diejenige des MOS-Transistors Q2S. Nachfolgend wird die Wirkungsweise der Schaltung gemäß Fig. 19 kurz erläutert. Es sei ein Fall betrachtet, bei dem der Ringoszillator 511 sich in seinem Schwingungszustand befindet. Die Substratvorspannungserfassungsschaltung 610 erfaßt im Potentialpegel der Substratvorspannung VBB. Wenn der erfaßte Pegel kleiner bezüglich seines Absolutwertes als ein vorbestimmter Potentialpegel ist, wird die schaltende Schaltung 600 hierauf ansprechend derart gesteuert, daß die Hauptvorspannschaltung 110 aktiviert wird, so daß die Substratvorspannung vor VBB schnell auf einen vorbestimmten Pegel abgesenkt wird. Nachdem die Vorspannung VBB ein vorbestimmtes Potential erreicht, wird die Hilfsvor­ spannungsschaltung 120 unter der Steuerung der schaltenden Schaltung 600 in Reaktion auf das Erfassungssignal ΦD von der Substratvorspannungspotentialerfassungsschaltung 610 aktiviert. Wie oben beschrieben wurde, wird durch Anpassung der Vorspannungsfähigkeit des Substratvorspannungsgenerators an dem Potentialpegel der Substratvorspannung VBB bei der Schwingungsoperation des Ringoszillators 511 die Leistungs­ aufnahme in diesen stärker reduziert als bei einer Struktur, die eine Substratvorspannungserzeugungsschaltung mit lediglich einer Art von Vorspannungsfähigkeit hat, wie diese in Fig. 12 gezeigt ist.
Fig. 20 zeigt eine spezielle Bauweise der Substratpotential­ erfassungsschaltung gemäß Fig. 19.
Wie in Fig. 20 gezeigt ist, beinhaltet die Substratpoten­ tialerfassungsschaltung 610 einen p-Kanal-MOS-Transistor Q3 und n-Kanal-MOS-Transistoren Q4 und Q5, die ein Reihe zwischen einem Leistungsversorgungspotential Vcc und einem Substratvorspannungspotential VBB geschaltet sind. Der MOS- Transistor Q3 ist mit einem Leiteranschluß an das Leistungszuführungspotential Vcc angeschlossen, während dessen Gate mit Masse GND und während dessen anderer Leiter am Schluß an einen Knoten N1 angeschlossen sind. Der MOS- Transistor Q4 ist mit seinem Gate an Masse, mit einem Leiteranschluß an den Knoten N1 und mit dem anderen Leiteranschluß an einen Knoten N2 angeschlossen. Der MOS- Transistor Q5 ist mit seinem Gate und mit einem Leiteran­ schluß jeweils mit dem Knoten N2 verbunden, während der andere Leiteranschluß mit dem Substratvorspannungspotential VBB verbunden ist. Der Ausgangspotentialpegel am Knoten N1 wird als Substratpotentialerfassungssignal ΦD zu der schaltenden Schaltung 600 durch eine signalformende zweistufige Inverterschaltung I50, I51 zugeführt. Nach­ folgend wird die Betriebsweise dieser Schaltung erläutert.
Da der MOS-Transistor Q3 mit seinem Gate an Masse GND an­ geschlossen ist, ist er normalerweise ausgeschaltet. Es sei nun ein Fall betrachtet, bei dem die Substratvorspannung VBB einen kleinen Absolutwert hat und die Substratvorspannung gering ist. Wenn die Substratvorspannung VBB null Volt beträgt, entspricht der Potentialpegel am Knoten N2 im wesentlichen der Schwellenspannung des Transistors Q5. Der n-Kanal-MOS-Transistor Q4 ist mit seinem Gate an Masse GND angeschlossen und hat ein Potential am Knoten N2, das größer als null Volt ist, so daß der MOS-Transistor Q4 sich in seinem ausgeschalteten Zustand befindet. Dann wird der Knoten N2 auf einen hohen Pegel durch den MOS-Transistor Q3 geladen. In diesem Zustand ist das Substratpotentialer­ fassungssignal ΦD bei einem hohen "H"-Pegel.
Es sei angenommen, daß die Substratvorspannung einen größeren Absolutwert als der Wert von -(VT 5+VT4) annimmt, wobei VT 4 und VT 5 die Schwellenspannungen der MOS-Transis­ toren Q4 und Q5 bezeichnen. in diesem Fall wird der Po­ tentialpegel am Knoten N2 einen größeren Absolutwert annehmen als der Wert -VT 4. Als Ergebnis wird der MOS-Tran­ sistor Q4 eingeschaltet, so daß die MOS-Transistoren Q4 und Q5 beide leitfähig werden. In dem Fall, daß das Verhältnis der Leitfähigkeiten der MOS-Transistoren Q3 und Q4 geeignet gewählt ist, kann der Potentialpegel am Knoten N1 niedrig "L" für den Inverter I50 gemacht werden. Wenn daher die Substratvorspannung tief ist, befindet sich das Erfassungssignal ΦD bei "L"-Pegel. Wenn die Substratvor­ spannung VBB einen kleineren Absolutwert als der Wert von -(VT 5+VT 4) aufgrund eines Leckstromes in das Substrat (eines Löcherstromes, der durch die Schaltungsbetriebsweise erzeugt wird) annimmt, wird der MOS-Transistor Q4 ausgeschaltet. Dementsprechend steigt das Potential an dem Knoten N1 auf den "H"-Pegel, so daß das Steuersignal ΦD den "H"-Pegel annimmt.
Es sei angemerkt, daß bei gleichzeitiger Einschaltung der MOS-Transistoren Q4 und Q5 ein Strom von der Leistungs­ versorgung Vcc zu dem Substrat fließt, um das Substrat­ potential zu ändern, wodurch die Substratvorspannung einen kleineren Absolutwert erhält. Um die Abweichung der Subs­ tratvorspannung und des Stromflusses durch die Potential­ erfassungsschaltung selbst zu vermindern und um den "L"-Pegel am Knoten N1 ausreichend abzusenken, wird die Leitfähigkeit MOS-Transistors Q3 so klein als möglich gewählt. Mit anderen Worten muß der MOS-Transistor Q3 einen so hoch gewählten Widerstandswert haben.
Fig. 21 ist ein Diagramm eines Ausführungsbeispiels einer speziellen Bauweise der schaltenden Schaltung 600 gemäß Fig. 19. Wie in Fig. 21 gezeigt ist, umfaßt die schaltende Schaltung 600 ein UND-Gatter AD1 zum Empfangen eines Schwingungssignals ΦCP von dem Ringoszillator 511 und ein Erfassungssignal ΦD von der Substratpotentialerfassungs­ schaltung 610 und ein NOR-Gatter NR1 zum Empfangen des Schwingungssignals ΦCP und des Erfassungssignals ΦD. Ein Ausgang des UND-Gatters AD1 wird als Schwingungssignal ΦCPM zu der Vorspannungspotentialerfassungsschaltung 110 mit großer Vorspannungsfähigkeit zugefährt. Ein Ausgang des NOR-Gatters NR10 wird als Schwingungssignal ΦCPS zu einer zweiten Vorspannungspotentialerzeugungsschaltung 120 mit kleiner Vorspannungsfähigkeit zugeführt.
Fig. 22 ist eine Signalformdiagrammdarstellung der Betriebs­ weise der schaltenden Schaltung 600 gemäß Fig. 21. Nach­ folgend wird unter Bezugnahme auf die Fig. 19 bis 21 der Betrieb der schaltenden Schaltung 600 erläutert. Wenn das Erfassungssignal ΦD der Substratpotentialerfassungsschaltung 610 sich bei "H"-Pegel befindet, d. h. wenn das Potential des Halbleitersubstrates nicht einen vorbestimmten Pegel erreicht, ermöglicht das UND-Gatter AD1 ein Durchlassen des Schwingungssignals ΦCP. Andererseits wird der Ausgang des NOR-Gatters NR1 bei "L"-Pegel unabhängig vom Pegel des Schwingungssignals ΦCP gehalten. Daher wird das Schwingungs­ signal ΦCPM, wenn das Erfassungssignal ΦD bei einem "H"-Pegel ist, zu dem Kondensator CM der ersten Substrat­ vorspannungspotentialerzeugungsschaltung 110 mit großer Vorspannungsfähigkeit zugeführt, wodurch das Potential des Halbleitersubstrates schnell auf einen vorbestimmten Pegel abgesenkt wird.
Wenn andererseits das Potential des Halbleitersubstrates den vorbestimmten Pegel erreicht und das Erfassungssignal ΦD von der Substratpotentialerfassungsschaltung 610 auf den "L"-Pegel fällt, fällt das Ausgangssignal des UND-Gatters AD1 auf den "L"-Pegel, während das NOR-Gatter N1 als Inverter arbeitet. Daher wird das Schwingungssignal ΦCPM auf dem "L"-Pegel festgehalten, wobei das Schwingungssignal ΦCPS ein Schwingungssignal ist, das durch Umkehrung des Schwingungssignals ΦCP von dem Ringoszillator 511 erhalten wird. Als Ergebnis hiervon arbeitet die zweite Substratvor­ spannungspotentialerzeugungsschaltung 120 mit kleinerer Vorspannfähigkeit, so daß das Potential des Halbleitersub­ strates auf einem vorbestimmmten Pegel durch die Ladungs­ pumpfunktion des Kondensators Cs gehalten wird.
Fig. 23 ist ein Diagramm der Bauweise einer Substratvor­ spannungspotentialerzeugungsschaltung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung. Die Bauweise gemäß Fig. 23 umfaßt eine Steuerschaltung 700 zum abwechselnden Betätigen der Vorspannungserzeugungsschaltungen 110 und 120. Die Steuerschaltung 700 beinhaltet eine Bezugspotential­ erzeugungsschaltung 720 zum Erzeugen eines Bezugspotentials von vorbestimmten Pegel, eine Vergleichsschaltung 740 für einen Vergleich mit dem Ausgangssignal einer Substratpoten­ tialerfassungsschaltung 730 und eine schaltende Schaltung 710 zum Übertragen des Schwingungssignals ΦCP von dem Ring­ oszillator 511 zu der Substratvorspannungspotentialerzeu­ gungsschaltung 110 und der Substratvorspannungserzeugungs­ schaltung 120 in Reaktion auf das Ausgangssignal der Ver­ gleichsschaltung 740. Die Substratpotentialerfassungs­ schaltung 730 hat eine hohe Eingangsimpedanz, durch die das Substratpotential erfaßt wird. Eine derart hohe Eingangs­ impedanz für die Substratpotentialerfassung hat folgenden Vorteil. Wenn bei der Substratpotentialerfassungsschaltung gemäß Fig. 20 beide MOS-Transistoren Q3, Q4 eingeschaltet sind, findet ein Stromfluß von dem Versorgungspotential Vcc zum Substrat statt. Auch dann, wenn die Leitfähigkeit des Transistors Q3 so klein wie möglich gewählt wird, um einen Stromfluß zu begrenzen, kann ein Leckstrom zum Substrat nicht vollständig verhindert werden. Der Leckstrom, der zum Substrat fließt, vermindert die Substratvorspannung in absoluten Werten und bewirkt eine schwache Substratvor­ spannung. Die schwache Substratvorspannung betätigt die Substratvorspannungserzeugungsschaltung 110 mit großer Stromzuführfähigkeit. Daher arbeitet die Hauptvorspann­ schaltung 110 in Reaktion auf den Leckstrom durch die Potentialerfassungsschaltung selbst. Dies wird zu dem Problem, daß die Potentialerfassungsschaltung selbst eine schwache Substratvorspannung herbeiführt, wodurch die Haupt­ vorspannungsschaltung 110 unnötig arbeitet.
Wenn im Gegensatz hierzu bei der Struktur gemäß Fig. 23 das Substratpotential durch einen Eingang mit hoher Impedanz er­ faßt wird, so kann das Substratpotential genau erfaßt werden, ohne daß dies einen negativen Einfluß auf das Substratpotential hat. Das auf diese Weise erfaßte Substrat­ potential wird mit einem intern erzeugten negativen Bezugs­ potential verglichen. Die Vorspannungsschaltungen 110 und 120 arbeiten jeweils in Abhängigkeit von dem Vergleichs­ ergebnis. Daher werden Vorspannungsschaltungen mit unter­ schiedlichen Vorspannungsfähigkeiten wahlweise und in genau geeigneter Weise in Abhängigkeit vom Substratpotential betätigt, so daß eine verminderte Leistungsaufnahme bewerk­ stelligt werden kann.
Fig. 24 ist ein Diagramm eines Ausführungsbeispiels einer speziellen Bauweise der Auswahlsteuerschaltung 700 gemäß Fig. 23. Wie in Fig. 24 gezeigt ist, umfaßt die Auswahl­ steuerschaltung 700 eine Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 zum Erzeugen eines Bezugspotentials, das den vorbe­ stimmten Pegel schneller annimmt, verglichen mit dem Substratpotential nach Einschaltung der Leistungsversorgung; einen p-Kanal-MOSFET Q1G zum Erfassen eines Ausgangs­ potentials Vr der Bezugspotentialerzeugungsschaltung; einen p-Kanal MOSFET Q2G zum Erfassen des Substratpotentiales VBB; und MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G und Q12G zum Erzeugen von Signalen zum Ausschalten von einer der Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltungen und zum Aktivieren der anderen Substratvorspannungspotentialerzeu­ gungsschaltung in Reaktion auf die Erfassungsausgangssignale der MOSFETs Q1 und Q2G. Die Transistoren Q7G, Q8G, Q11G und Q12G bilden einen CMOS-Flip-Flop-Differential- Verstärker, der Signale entsprechend den Ausgangssignalen der Erfassung durch die MOSFETs Q1G und Q2G an den Ausgangsknoten P1 und P2 erzeugt. An den Ausgangsknoten P1 und P2 liegen Schwingungssignale ΦCPS und ΦCPM an, die an die erste Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung 120 mit der kleineren Vorspannungsfähigkeit und an die zweite Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung 110 mit der größeren Vorspannungsfähigkeit jeweils angelegt werden müssen.
Es sind p-Kanal-MOSFETs Q3G und Q4G zwischen den Erfassungs-MOSFET 37944 00070 552 001000280000000200012000285913783300040 0002003924952 00004 37825s Q1G und Q2G und den Ausgangsknoten P1 und P2 angeordnet. Die MOSFETs Q3G und Q4G arbeiten als Abschneidetransistoren zum Verhindern eines Stromflußes von dem Leistungsversorgungspotential Vcc zu den Ausgangsknoten P1 und P2, wenn die Erfassungstransistoren Q1G und Q2G eingeschaltet sind. Es sind p-Kanal-MOSFETs Q5G und Q6G parallel zu den MOSFETs Q7G und Q8G geschaltet, um die Ausgangsknoten P1 und P2 auf einem bestimmten Potentialpegel vorzuladen. Das Schwingungssignal ΦCP wird von dem Ringoszillator 511 an die Gates der MOSFETs Q5G und Q6G angelegt. Wenn daher das Schwingungssignal ΦCP auf den "L"-Pegel fällt, werden die MOSFETs Q5G und Q6G eingeschaltet, um die Knoten P1 und P2 auf dem Pegel des Leistungsversorgungspotentials V zu laden. Das Schwingungssignal ΦCP′ wird an jeweils einen Leiteranschluß (Sourcen) der n-Kanal-MOSFETs Q11G und Q12G durch den Inverter Q2G angelegt, so daß der Flip-Flop-Differential- Verstärker (d. h. die Schaltung, die durch die MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G und Q12G gebildet wird) aktiviert wird.
Ein inneres Steuersignal ΦCP′ wird an die Gates der MOSFETs Q3G und Q4G angelegt, die als Abschneidetransistoren arbeiten. Das innere Steuersignal ΦCP′ wird erzeugt, indem das Schwingungssignal ΦCP von dem Ringoszillator 511 durch die Inverter I1G und I2G durchgelassen wird.
Die Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 zum Erzeugen des Bezugspotentials Vr hat die in Fig. 25 gezeigte Bauweise. Wie in Fig. 25 gezeigt ist, umfaßt die Bezugspotentialer­ zeugungsschaltung 720 einen Ladepumpenkondensator C1G, p-Kanal-MOSFETs Q9G und Q10G, die mit der Ladepumpen­ operation des Kondensators C1G zusammenarbeiten und das Potential des Knotens B1 auf das vorbestimmte Potential klammern, und eine parasitäre Kapazität C2G. Der p-Kanal- MOSFET Q9G liegt zwischen dem Knoten B1 und dem Masse­ potential und klammert das Potential des Knotens B1 auf dessen Schwellenspannungspegel. Der p-Kanal-MOSFET Q10G liegt zwischen dem Knoten B1 und einem Ausgangsknoten B2 und klammert das Potential des Knotens B1 auf einen Wert, der durch dessen Schwellenspannung bestimmt ist, sowie durch das Bezugspotential Vr. Die p-Kanal-MOSFETs Q9G und Q10G sind jeweils als Dioden verschaltet. Die Bezugspotentialer­ zeugungsschaltung 720 ist in einem n-Typ-Wannenbereich 160 an der Oberfläche des p-Typ-Halbleitersubstrates 150 aus­ gebildet, wie dies in Fig. 26 gezeigt ist, da dessen Komponenten ein Kondensator und p-Kanal-MOSFETs sind. Die parasitäre Kapazität C2G umfaßt eine Grenzschichtkapazität zwischen dem p-Typ-Bereich 150 und dem n-Typ-Wannenbereich 160, und dergleichen.
Das Ausgangssignal Vr der Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 wird an einen p⁺-Typ-Dotierungsbereich 170 angelegt, der in der n-Typ-Wanne 160 gebildet ist, um den p⁺-Dotierungs­ bereich 170 auf einen vorbestimmten Pegel gemäß dem Potential der Leistungsversorgung vorzuspannen. Das Bezugs­ potential Vr hat eine negative Polarität in der gleichen Art wie das Bezugsvorspannungspotential VBB, welches an das Halbleitersubstrat 150 angelegt wird. Das Signal zum Betätigen der Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 wird durch einen Inverter I1G angelegt.
Fig. 27 ist ein Signaldiagramm des Betriebes der Substrat­ vorspannungspotentialerzeugungsschaltung gemäß Fig. 24. Unter Bezugnahme auf die Fig. 24 bis 27 wird die Funktions­ weise der Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung gemäß des Ausführungsbeispiels der Erfindung nachfolgend erläutert.
Obwohl dies nicht in direkter Beziehung steht zu der Selbst­ auffrischbetriebsart, wird eine Übergangsarbeitsweise, die unmittelbar dem Einschalten der Leistungsversorgung auf­ tritt, aus Gründen des besseren Verständnisses der Betriebs­ weise der Steuerschaltung 700 erläutert.
Im Anfangszustand eines derartigen Einschaltens der Lei­ stungsversorgung sind sowohl das Bezugspotential Vr als auch das Substratvorspannungspotential VBB beide auf Massepegel mit null Volt. In der Reaktion auf das Einschalten der Leistungsversorgung muß der Ringoszillator 511 gemäß Fig. 19 mit der Schwingung beginnen, um schnell das Substratpoten­ tial auf ein vorbestimmtes Potential zu senken.
Diesbezüglich ist der Ringoszillator 511 derart aufgebaut, daß er in einer normalen Betriebsart gemäß Fig. 10 arbeitet. Eine derartige Struktur zum Betreiben des Ringoszillators 511 in der normalen Betriebsart wird durch eine Bauweise realisiert, bei der das Signal ΦC bei einem "H"-Pegel während des "L"-Pegels des Signales ΦS gehalten wird, um die Substratvorspannungserzeugungsschaltung 100 zu aktivieren, wie dies in Fig. 10 gezeigt ist.
In einem Anfangszustand des Einschaltens der Leistungs­ versorgung eines Halbleiterspeichergeräts bei Beginn des Schwingens des Ringoszillators 511 gemäß Fig. 10 in Reaktion auf das Einschalten der Leistungsversorgung nimmt das Bezugspotential Vr am Ausgang der Bezugspotentialerzeugungs­ schaltung 720 schnell den vorbestimmten Pegel -VR ein. Andererseits nimmt das Substratvorspannungspotential VBB, das an dem Halbleitersubstrat 150 anliegt, langsam einen vorbestimmten Vorspannungspegel an verglichen mit dem Abfall des Bezugspotential Vr. Eine Zeitdifferenz in dem Absenken des Bezugspotentials Vr und des Substratvorspannungspoten­ tials VBB wird durch nachfolgende Gründe verursacht. Die Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 ist in dem n-Typ- Wannenbereich 160 ausgebildet. Um das Bezugspotential Vr zu erzeugen, wird das Potential des p⁺-Typ-Dotierungsbereichs 170 mit kleinem Volumen, welcher in dem n-Typ-Wannenbereich 160 gebildet ist, abgesenkt. Daher kann das Bezugspotential schnell das vorbestimmte Vorspannungspotential -VR annehmen. Andererseits ist es zum Absenken des Potentials des Halb­ leitersubstrates 150 auf das vorbestimmte Potential nötig, das Potential des gesamten Halbleitersubstrats 150 abzusenken. Im Hinblick auf das Verhältnis der Kapazitäten (in der Größenordnung eines mehrtausendfachen) des p⁺-Typ- Dotierungsbereiches 170 und des Halbleitersubstrates 150 ist eine relativ lange Zeit (in der Größenordnung von einigen 100 Mikrosekunden) benötigt, um das Potential des Halblei­ tersubstrates 150 zu senken. Daher ist bei einem Anfangszu­ stand, bei dem das Bezugspotential Vr größer als das Substratvorspannungspotential VBB bezüglich des Absolutwertes ist, die Impedanz des MOSFET Q1G kleiner als diejenige des MOSFET Q2G. Wenn das Schwingungssignal ΦCP auf den "L"-Pegel fällt, werden die Vorlade-MOSFETs Q5G und Q6G eingeschaltet, und es werden die Ausgangsknoten P1 und P2 auf den "H"-Pegel vorgeladen, welcher der gleiche Pegel wie derjenige des Leistungsversorgungspotentials Vcc ist. Zu diesem Zeitpunkt liegt das Ausgangssignal ΦCP von dem Inverter I1G bei "H"-Pegel. Daher arbeitet der Flip-Flop-Differentialverstärker nicht, der durch die MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G, und Q12G gebildet wird. Wenn als nächstes das Schwingungssignal ΦCP auf den "H"-Pegel ansteigt, werden die Hochlade-Transistoren Q5G und Q6G ausgeschaltet und die Vorladebetriebsweise derKnoten P1 und P2 angehalten. Da zu diesem Zeitpunkt das Schwingungssignal ΦCP zu den Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G durch die Inverter I1G und I2G übertragen wird, wird das Signal ΦCP′ mit einer Verzögerung zu dem Schwingungssignal ΦCP entsprechend der Verzögerungszeit der beiden Stufen der Inverter I1G und I2G übertragen. Daher werden die MOSFETs Q3G und Q4G mit einer Verzögerungszeit eingeschaltet, die der Verzögerungszeit des Ausschaltens der Vorlade-Transistor-MOSFETs Q5G und Q6G entspricht. Wenn das Ausgangssignal ΦCP des Inverters I1G auf den "L"-Pegel in den obenbeschriebenen Zustand fällt, sind die Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G immer noch in ihrem eingeschalteten Zustand, so daß dem gemäß einer Potential­ differenz zwischen den Knoten P1 und P2 erzeugt wird. Daher arbeitet der durch die MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G und Q12G gebildete Flip-Flop-Differentialverstärker zur Änderung des Potentialpegels des Ausgangsknotens P1 in den "H"-Pegel und des Ausgangs-Pegels des Ausgangsknotens P2 in den "L"-Pegel. Wenn dann das Schwingungssignal ΦCP auf den "L"-Pegel fällt, werden die Ausgangsknoten P1 und P2 auf den vorbestimmten Leistungsversorgungspotentialpegel in der bereits beschriebenen Art vorgeladen. Diese Arbeitsweise wird wiederholt und, wenn das Ausgangspotential Vr größer als das Substratvorspannungspotential VBB in Absolutwerten ist, steigt das Ausgangssignal ΦCPS von dem Ausgangsknoten P1 auf den "H"-Pegel in Reaktion auf das Schwingungssignal ΦCP an. Das Ausgangssignal ΦCPM des Ausgangsknotens P2 wird ein Schwingungssignal entsprechend des Schwingungssignales ΦCP. Daher arbeitet die Substratvorspannungspotentialer­ zeugungsschaltung 120 gemäß Fig. 19 nicht, während die Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung 110 mit der größeren Vorspannfähigkeit arbeitet, wodurch das Potential des Halbleitersubstrates 150 schnell auf einen vorbestimmten Potentialpegel gesenkt wird.
Bei dem in Fig. 27 gezeigten Signalformdiagramm sind die Signale ΦCP und ΦCP′ als Signale der gleichen Phase aus Gründen der Einfachheit der Darstellung gezeigt. Jedoch ändert sich in der Praxis das Signal ΦCP′ mit einer Ver­ zögerung gegenüber dem Signal ΦCP entsprechend der Ver­ zögerungszeit durch der Inverter I1G und I2G.
Bei der oben beschriebenen Betriebsweise wurde erläutert, daß der Ringoszillator 511 unmittelbar nach dem Einschalten der Leistungsversorgung arbeitet. Wenn das Bezugspotential Vr der Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 einen größeren Absolutwert hat als das Substratvorspannungspotential VBB, d. h. wenn die Substratvorspannung schwach ist, gilt die oben beschriebene Beschreibung, wobei jedoch der Ringoszillator 511 (511′) in Reaktion auf das Steuersignal ΦC in der Selbstauffrischbetriebsart aktiviert wird. Das bedeutet, daß der Ringoszillator 511 eine Schwingungsbetriebsweise in der Selbstauffrischbetriebsart ausführt und daß das Substratvor­ spannungspotential schnell auf einen vorbestimmten Pegel in Reaktion auf das Erfassungssignal von der Substratpotential­ erfassungsschaltung 730 gesenkt werden kann, so daß eine stabilere Zuführung der Substratvorspannung erzielt werden kann.
Wenn das Potential des Halbleitersubstrates 150 größer wird als das Bezugspotential Vr bezüglich absoluter Werte, wird das Signal ΦCPS ein Schwingungssignal entsprechend dem Schwingungssignal ΦCP, und das Signal ΦCPM wird auf "H"-Pegel festgelegt, was im Gegensatz zu der obigen Be­ triebsweise steht. Wenn als Ergebnis hiervon das Vorspan­ nungspotential des Halbleitersubstrates größer wird als das vorbestimmte Bezugspotential -VR (=Vr) bezüglich absoluter Werte, arbeitet die erste Substratvorspannungspotentialer­ zeugungsschaltung 120 mit der kleineren Vorspannungsfähig­ keit. Bei der oben beschriebenen Bauweise können nicht nur nach einem ausreichenden Ansteigen des Leistungsversorgungs­ potentiales, sondern auch unmittelbaren Einschalten des Leistungsversorgungspotentials beide Substratvorspannungs­ potentialerzeugungsschaltungen in Abhängigkeit von ihrer Vorspannfähigkeit gemäß dem Potential des Halbleitersub­ strates betätigt werden, so daß die Leistungsaufnahme ver­ mindert werden kann.
Ferne ist bei der oben beschriebenen Bauweise die Gate-Elektrode des MOSFET Q2G mit dem Halbleitersubstrat verbunden, um das Potential VBB des Halbleitersubstrates zu erfassen. Demgemäß erfaßt die Substratpotentialerfassungs­ schaltung das Substratpotential durch den Eingang mit hoher Eingangsimpedanz. Daher übt die Substratpotentialerfassungs­ schaltung keinen negativen Effekt auf das Potential des Halbleitersubstrates aus, wie beispielsweise in Form eines Leckstromes in das Substrat, wobei lediglich eine der Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung in Reaktion auf das Potential des Halbleitersubstrates richtig betätigt werden kann.
Fig. 28 ist ein Diagramm einer anderen Bauweise eines Ausführungsbeispiels der Auswahlsteuerschaltung gemäß Fig. 24. In Fig. 28 sind diejenigen Schaltungsteile, die den Schaltungsteilen der Schaltung gemäß Fig. 24 entsprechend mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet.
Bei der in Fig. 28 gezeigten Schaltung wird das Steuersignal ΦCP′ zum Steuern der Betriebsweise der Abschalt-MOSFETs Q3G und Q4G durch ein Flip-Flop 750 anstelle des in Fig. 24 gezeigten Inverters I2G erzeugt. Das Flip-Flop 750 empfängt ein Signal ΦCP′ von dem Inverter I1G sowie Signale ΦCPS′′ und ΦCPM′′ von einer Pufferschaltung 760. Die Pufferschaltung 760 erzeugt ausgangsseitig nicht nur die Betriebssteuersignale ΦCPM′′ und ΦCPS′′ für das Flip-Flop 750, sondern gleichfalls die Betriebssteuersignale ΦCPM und ΦCPS für die Substratvorspannungspotentialserzeugungsschal­ tungen 110 und 120 in Reaktion auf die Signale ΦCPM′ und ΦCPS′ von der Vergleichserfassungsschaltung 700′.
Die Vergleichserfassungsschaltung 700′ hat die gleiche Bauweise wie die Vergleichserfassungsschaltung 700 gemäß Fig. 23 und vergleicht das Bezugspotential Vr von der Bezugspotentialerfassungsschaltung 720 und das Substrat­ potential VBB sowie die Ausgangssignale ΦCPM′ und ΦCPS′ gemäß dem Vergleichsergebnis.
Ein konkretes Ausführungsbeispiel des Flip-Flop 750 ist in Fig. 29 gezeigt. Wie in Fig. 29 zu sehen ist, beinhaltet das Flip-Flop 750 zwei NOR-Gatter N70 und N71. Das NOR-Gatter N70 empfängt das Signal ΦCP von dem Inverter I2G sowie das Ausgangssignal des NOR-Gatters N71. Das NOR-Gatter N71 empfängt die beiden Steuersignale ΦCPM′′ und ΦCPS′′ von der Pufferschaltung 760 sowie das Ausgangssignal von dem NOR-Gatter N70. Das NOR-Gatter erzeugt ausgangsseitig das Signal ΦCP′ zum Steuern des Betriebes der MOSFETs Q3G und Q4G für das Stromabschneiden. In dem Flip-Flop 750 wird das Ausgangssignal ΦCP′ auf den "L"-Pegel zurückgesetzt, wenn das Signal ΦCP sich bei dem "H"-Pegel befindet.
Fig. 30 ist eine Diagrammdarstelung der speziellen Bauweise eines Ausführungsbeispiels der Pufferschaltung 760 gemäß Fig. 28. Wie in Fig. 30 zu sehen ist, umfaßt die Puffer­ schaltung 760 einen Weg für die Ausgabe des Signales ΦCPM zum Steuern des Betriebes der Substratvorspannungspotential­ erzeugungsschaltung 110 mit der größeren Vorspannfähigkeit und einem Weg zum Ausgeben eines Signals ΦCPS zum Steuern des Betriebes der Substratvorspannungspotentialerzeugungs­ schaltung 120 mit der kleineren Vorspannfähigkeit. Der Weg zum Ausgeben des Signals ΦCPM umfaßt zwei Inverterstufen I80, I81, die kaskadenartig zum Empfangen des Signales ΦCPM′ von dem Ausgangsknoten P2 der Vergleichserfassungsschaltung 700′ geschaltet sind. Der Inverter I80 erzeugt ausgangsseitig das Signal ΦCPM′′ zum Steuern des Betriebes des Flip-Flop 750. Der Inverter I81 erzeugt ausgangsseitig das Signal ΦCPM zum Steuern des Betriebes der Substratvor­ spannungspotentialerzeugungsschaltung 110.
Der Weg zum Ausgeben des Signales ΦCPS beinhaltet zwei Inverterstufen I82 und I83, die kaskadenartig geschaltet sind zum Empfangen des Signal ΦCPS′ von dem Ausgangsknoten P1 der Vergleichserfassungsschaltung 700′. Der Inverter I82 erzeugt ausgangsseitig das Signal ΦCPS′′ zum Steuern des Betriebes des Flip-Flop 750. Der Inverter I83 erzeugt ausgangsseitig das Signal ΦCPS zum Steuern des Betriebes der Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung 120. Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf die Fig. 28 und 30 der Betrieb der Vorspannungspotentialerzeugungsschaltung gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutert.
Zunächst sei der Fall angenommen, bei dem das Ausgangssignal ΦCP des Inverter I1G sich bei "H"-Pegel befindet, während der Ringoszillator 511 eine Schwingungsbetriebsweise aus­ führt. In diesem Fall befindet sich das Flip-Flop 750 in dem rückgesetzten Zustand. Da insbesondere das Signal mit "H"-Pegel einem Eingang des NOR-Gatters N70 zugeführt wird, wird ein Signal mit "L"-Pegel ausgangsseitig von dem NOR-Gatter N70 unabhängig von dem Signalen ΦCPM′′ und ΦCPS′′ erzeugt. In Reaktion hierauf sind die Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G beide in dem eingeschalteten Zustand. Die Ausgangsknoten P1 und P2 sind auf den "H"-Pegel vorgeladen.
Wenn dann das Ausgangssignal ΦCP von dem Inverter I1G sich auf dem "L"-Pegel ändert, wird der Flip-Flop- Differentialverstärker mit CMOS-Struktur, der durch die MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G und Q1G gebildet wird, aktiviert, um einen Vergleich zwischen dem Bezugspotential Vr der Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 und dem Substratvorspannungspotential VBB durchzuführen. Da die Ausgangsknoten P1 und P2 auf den "H"-Pegel durch die MOSFETs Q5G und Q6G aufgeladen sind, bevor der Differential­ verstärker aktiviert wird, steigen beide Signale ΦCPM′ und ΦCPS′ der Ausgangsknoten P1 und P2 auf den "H"-Pegel an. Demgemäß werden die Ausgangssignale ΦCPM′′ und ΦCPS′′ der Pufferschaltung 760 beide auf den "L"-Pegel abgesenkt. Daher wird das Flip-Flop 750 in dem anfänglichen Aktivierungszustand des Flip-Flop-Differentialverstärkers der CMOS-Struktur (nämlich in einem Zustand, in dem eine Potentialdifferenz zwischen dem Bezugspotential Vr und dem Substratvorspannungspotential VBB nicht angehoben ist) in einem rückgesetzten Zustand gehalten, und das Ausgangssignal ΦCP′ bei einem "L"-Pegel gehalten. Selbst wenn der Flip-Flop-Differentialverstärker mit CMOS-Struktur aktiviert wird, bleiben beide Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G in dem eingeschalteten Zustand.
Wenn als nächstes die Potentialpegel der Knoten P1 und P2 auf den "H"-Pegel und den "L"-Pegel festgelegt werden gemäß dem Ergebnis des Vergleiches zwischend dem Bezugspotential Vr und dem Substratvorspannungspotential VBB als Ergebnis des Betriebes des Differentialverstärkers, steigen beide Ausgangssignale ΦCPM′′ und ΦCPS′′ der Pufferschaltung 760 auf den "H"-Pegel. Als Ergebnis hiervon wird das Flip-Flop 750 gesetzt und das Ausgangssignal ΦCP′ steigt den "H"-Pegel. Genauer gesagt fällt der Ausgang des NOR-Gatters N71 auf den "L"-Pegel, wenn ein Eingang des NOR-Gatters N71 einen "H"-Pegel annimmt. Als Ergebnis hiervon fallen beide Eingänge des NOR-Gatters N70 auf den "L-Pegel, so daß das Ausgangssignal ΦCP′ auf den "H"-Pegel steigt. In Reaktion auf das Signal ΦCP′ mit "H"-Pegel werden beide Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G ausgeschaltet. Hierdurch wird der Weg, den der durchfließende Strom von dem Versor­ gungspotential Vcc zu den Ausgangsknoten P1 und P2 über die Erfassungs-MOSFETs Q1G und Q2G fließt, unterbrochen. Andererseits werden die Potentialpegel der Ausgangsknoten P1 und P2 als Steuersignale ΦCPM und ΦCPS von der Pufferschaltung 760 ausgegeben. Diese Signale werden zu einer ersten und zweiten Substratvorspannungspotentialerzeu­ gungsschaltung 110 und 120 übertragen.
Wenn das Schwingungssignal ΦCP erneut auf den "L"-Pegel fällt und das Ausgangssignal ΦCP des Inverters I1G auf den "H"-Pegel steigt, wird das Flip-Flop 750 zurückgesetzt und die Ausgangsknoten P1 und P2 werden den "H"-Pegel als Leistungsversorgungspotentialpegel vorgeladen. Durch Wiederholen dieser Operation wird jeweils eine der Substrat­ vorspannungspotentialerzeugungsschaltungen in Abhängigkeit der Differenz zwischen dem Substratpotential und dem Bezugs­ potential aktiviert.
In dem Fall der in Fig. 24 gezeigten Bauweise sei angenommen, daß die MOSFETs Q3G und Q4G ausgeschaltet werden könnten, bevor die Differenz zwischen dem Bezugspotential Vr und dem Substratvorspannungspotential VBB erfaßt ist, abhängig von der Erfassungsempfindlichkeit des Differentialverstärkers vom CMOS-Flip-Flop-Typ, der durch die MOSFETs Q7G, Q8G, Q11G und Q12G gebildet wird, falls das Bezugspotential Vr von der Bezugspotentialerzeu­ gungsschaltung 720 sehr nahe dem Wert Substratvorspannungs­ potentiales VBB kommt. Dies rührt daher, daß die Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G mit einem vorbestimmten Zeitverhalten unabhängig von der Erfassung des Betriebes des Differentialverstärkers ausgeschaltet werden d. h. die Ausgangspegel der Ausgangsknoten P1 und P2, da die Betriebs­ weise der Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G einfach durch die Verzögerungszeit der Inverter I1G und I2G gesteuert wird. Wenn daher die Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G abgeschaltet werden, bevor die Differenz zwischen dem Substratpotential VBB und dem Bezugspotential Vr erfaßt ist, sind die Potentialpegel der Ausgangsknoten P1 und P2 jeweils Mittenpegel, so daß es vorkommen kann, daß ein durchdringender Stromfluß ständig von dem Leistungs­ versorgungspotential Vcc zu dem Massepotential durch den CMOS-Flip-Flop-Differentialverstärker während der Zeitdauer des "H"-Pegels des Schwingungssignales ΦCP fließt. Da allerdings das Flip-Flop 750 anstelle des Inverters für die Verzögerung gemäß Fig. 28 verwendet wird, wird der CMOS- Flip-Flop-Differentialverstärker aktiviert, und die Abschneide-MOSFETs Q3G und Q4G können abgeschaltet werden, nachdem die Potentialpegel an den Ausgangsknoten P1 und P2 auf einen Pegel festgesetzt werden, der durch Differentialverstärkung der Differenz zwischen dem Bezugs­ potential Vr und Substratvorspannungspotential VBB erhalten wird. Demgemäß kann die Zeit minimiert werden, in der die Potentialpegel der Ausgangsknoten P1 und P2 den mittleren Pegel annehmen. Daher kann die Zeitdauer des Durchdringungs­ stromflußes durch den CMOS-Flip-Flop-Differentialverstärker sehr kurz geschaltet werden, was es möglich macht, die Stromaufnahme zu vermindern und die Differenz zwischen dem Bezugspotential Vr und dem Substratvorspannungspotential VBB sicher zu erfassen.
Fig. 31 ist eine diagrammartige Darstellung einer weiteren Bauweise eines Ausführungsbeispiels einer Bezugspotential­ erzeugungsschaltung. Wie in Fig. 31 gezeigt ist, umfaßt die Bezugspotentialerzeugungsschaltung 720 folgende Bauteile:
Einen Ladungspumpkondensator C1G zum Empfangen eines Schwingungssignals ΦCP; einem p-Kanal-MOSFET Q10G zum Klammern des Potentials des Knotens B5 auf einen Wert entsprechend der Differenz der zwischen dem Bezugspotential Vr und der Schwellenspannung Vt des MOSFET Q10G; einen p-Kanal-MOSFET Q9G zum Klammern des Potentials des Knotens B5 auf einen Masse-Potentialpegel; einen Kondensator C3G und einen p-Kanal-MOSFET Q11G zum Steuern der Klammeroperation des MOSFET Q9G; und eine parasitäre Kapazität Q2G, die zwischen einem Leitfähigkeitsbereich (Dotierungsbereich) des MOSFET Q10G und dem Halbleitersubstrat (im Beispielsfall der n-Typ-Wannenbereich) gebildet wird. Das Gate des MOSFET Q9G ist mit dem Ladungspumpkondensator C3G verbunden, der das Schwingungssignal ΦCP empfängt.
Der als die Diode verschaltete p-Kanal-MOSFET Q11G liegt zwischen einem Verbindungsknoten des Kondensators C3G und des Gate des MOSFET Q9G, nämlich zwischen dem Knoten B6 und dem Massepotential.
Bei der Bauweise der in Fig. 25 gezeigten Bezugspotentialer­ zeugungsschaltung ist das erzeugte Bezugspotential Vr bei dem Pegel -(Vcc-Vt(9G) - Vt(10G)), wobei Vt (9G) und Vt (10G) Absolutwerte der Schwellenspannungen der MOSFETs Q9G und Q10G sind. Daher kann das bei der Schaltung gemäß Fig. 25 erhaltene Potential durch das Bezugspotential Vr nicht kleiner als der oben genannte Wert gemacht werden, und kann in Absolutwerten nicht größer als dieser Wert gemacht werden. Jedoch kann bei der Schaltung gemäß Fig. 31 der Wert des Bezugspotentials Vr auf ein niedrigeres Potential gesetzt werden. Nachfolgend wird die Betriebsweise der Bezugspotentialerzeugungsschaltung gemäß Fig. 31 kurz erläutert. Wenn das Schwingungssignal ΦCP sich bei dem "H"-Pegel befindet, beginnt das Potential des Knotens B6, auf den "L"-Pegel aufgrund der kapazitiven Kopplung des Kondensators C3G zu steigen. Jedoch ist aufgrund der Funktion des MOSFET Q11G das Potential des Knotens B6 auf einen Pegel nahe des Massepotentialpegels Vt (11G) geklammert. Wenn daher das Betriebssignal ΦCP auf den "L"-Pegel fällt und das komplementäre Schwingungssignal ΦCP auf den "H"-Pegel steigt, beginnt das Potential des Knotens B5, auf den "H"-Pegel zu steigen, während das Potential des Knotens B6 auf ein negatives Potential abgesenkt wird. Wenn zu diesem Zeitpunkt die Kapazität des Kondensators C3G und die Schwellenspannung des MOSFET Q11G eingestellt sind, um freizugeben, daß das Potential des Knotens B6 niedriger ist als die Schwellenspannung Vt(9G) des MOSFET Q9G, ist der MOSFET Q9G vollständig durchgeschaltet oder leitfähig und der Potentialpegel des Knotens B5 ist an den Massepoten­ tialpegel geklammert. Wenn daher das komplementäre Schwingungssignal ΦCP als nächstes "L"-Pegel fällt, wird das Potential des Knotens B5′ - (Vr-Vt(10G)). Im Falle der Ab­ senkung des Potential des Knotens B5 fällt das komplementäre Signal ΦCP auf den "L"-Pegel. Jedoch steigt in diesem Fall das Schwingungssignal ΦCP auf den "H"-Pegel zu der gleichen Zeit und damit unabhängig von der Klammeroperation des MOSFET Q11G, und der Potentialpegel wird höher als der Schwellenspannungspegel des MOSFET Q9G, wodurch der MOSFET Q9G ausgeschaltet wird. Daher ist der erzielbare Poten­ tialpegel des Knotens -(Vr-Vt(10G)). Wenn das Schwingungs­ signal ΦCP ständig angelegt wird, kann das erzielbare Potential des Bezugspotentiales Vr auf -(Vcc-Vt(10G)) ab­ gesenkt werden. Es sei angenommen, daß die Schwellenspannungen der MOSFETs Q9G und Q10G -1,5 Volt sind und daß das Betriebsleistungsversorgungspotential Vcc 5 Volt beträgt. Dann ist das erzielbare Potential des Bezugspotentials -2 Volt im Falle der Bauweise der Bezugspotentialerzeu­ gungsschaltung gemäß Fig. 25, während das erzielbare Poten­ tial des Bezugspotentiales auf -3,5 Volt im Falle der Bezugspotentialerzeugungsschaltung gemäß Fig. 31 eingestellt werden kann.
Wenn die Bezugspotentialerzeugungsschaltung gemäß Fig. 31 an die Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung angelegt wird, kann die in Fig. 32 gezeigte Bauweise der Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung erhalten werden. Wie in Fig. 32 gezeigt ist, hat die Substratvor­ spannungspotentialerzeugungsschaltung 110 mit der höheren Vorspannfähigkeit zwei Inverterstufen IM 1 und IM 2, die kaskadenartig verschaltet sind, um das Schwingungssignal ΦCPM zu empfangen, einen Ladungspumpkondensator CM, der an einen Ausgang des Inverters IM 2 angeschlossen ist, einen Ladungspumpkondensator CMP, der an einen Ausgang des Inverters IM 1 angeschlossen ist, und p-Kanal-MOSFETs, Q1M, Q2M und Q3M, zum Erzeugen des Substratpotentiales. Die MOSFETs Q1M, Q2M und Q3M haben die gleiche Funktion und die gleiche Bauweise, wie die MOSFETs Q9G, Q10G und Q11G gemäß Fig. 31.
Die Substratvorspannungspotentialerzeugungsschaltung 120 mit der kleineren Vorspannfähigkeit hat zwei Inverterstufen IS 1 und IS 2, die kaskadenartig, um das Schwingungssignal ΦCPS zu empfangen, einen Kondensator CSP zum Ausführen der Ladungs­ pumpoperation gemäß einem Ausgangssignales eines Inverters IS 1, einen Kondensator CS zum Ausführen der Ladungspumpope­ ration gemäß einem Ausgangssignal eines Inverters IS 2, und p-Kanal-MOSFETs Q1S, Q2S und Q3S zum Erzeugen eines vorbe­ stimmten Vorspannungspotentialpegels gemäß der Ladungspump­ operation der Kondensatoren CS und CSP. Die MOSFETs Q1S, Q2S und Q3S haben die Funktion und die gleiche Bauweise wie die MOSFETs Q9G, Q10G und Q11G gemäß Fig. 31. Daher ist es im Falle der Bauweise der Substratvorspannungs­ potentialerzeugungsschaltung gemäß Fig. 32 möglich, das Substratvorspannungspotential VBB auf -(Vcc-Vt) in der gleichen Art wie im Falle der Bezugspotentialerzeugungs­ schaltung gemäß Fig. 31 einzustellen. In diesem Falle ist die Schwellenspannung Vt ein Absolutwert der Schwellen­ spannung der p-Kanal-MOSFETs Q2M und Q2S. Daher wird es unter Verwenden dieser Struktur möglich, das Halbleitersub­ strat tiefer vorzuspannen und die parasitäre Kapazität des Halbleiterspeichergerätes zu reduzieren. Daher kann das Halbleiterspeichergerät mit einer höheren Zuverlässigkeit bei hoher Geschwindigkeit betrieben werden.
Bei dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel der Leit­ fähigkeitstyp des MOSFET, welcher in der Substratvorspan­ nungspotentialerzeugungsschaltung enthalten ist, entgegen­ gesetzt zu dem oben genannten ist, können die gleichen Effekte erhalten werden.
Ferner können zusätzlich, wie dies in Fig. 2 gezeigt ist, eine selektive Aktivierung der Substratvorspannungspoten­ tialerzeugungsschaltungen unter Verwenden des NOR-Gates ausgeführt werden. Es kann allerdings auch ein NAND-Gate anstelle dessen Anwendung finden. In ähnlicher Weise können trotz der Bauweise unter Verwenden von NOR-Gates in dem Flip-Flop 750 gemäß Fig. 28 andere Gate-Strukturen, wie beispielsweise NAND-Gates, anstelle dessen verwendet werden.
Obwohl die Bauweise der Substratvorspannungspotentialerzeu­ gungsschaltungen für das Halbleiterspeichergerät bei vorher­ gehenden Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, kann eine integrierte Halbleiterschaltung verwendet werden, bei der ein vorbestimmtes Vorspannpotential allgemein an ein Halb­ leitersubstrat angelegt wird.
Ferner kann das Halbleitersubstrat eine Halbleiterschicht oder ein Wannenbereich mit einer Oberfläche sein, in der Schaltungselemente ausgebildet sind, soweit hieran ein vorbestimmtes Vorspannungspotential angelegt werden kann.
Bezüglich der Auffrischintervalle und der Anzahl der Auf­ frischzyklen in der Selbstauffrischbetriebsart wurde in der vorliegenden Beschreibung der Standardwert verwendet (z. B. 8 ms/512 Zyklen für 1 M bit DRAM, 16 ms/1024 Zyklen ür 4 M bit DRAM und 32 ms/1024 Zyklen für 16 M bit DRAM). Jedoch kann die Leistungsaufnahme in der Auffrischbetriebsart weiter vermindert werden, indem diese Parameter auf größere Werte innerhalb der Grenzen gesetzt werden, die nicht die Daten in den Speicherzellen beinträchtigen (beispielsweise 32 ms/2048 Zyklen oder 256 ms/4096 Zyklen für 4 M bit DRAM). Eine derartige Verlängerung des Auffrischintervalles und eine Verminderung der Anzahl der Auffrischzyklen kann realisiert werden, indemm der Maximalzählwert des Auffrisch­ adreßzählers 94 erhöht wird oder indem der Zeitgeber 93 eingestellt wird, um ein Auffrischfreigabesignal mit einer längeren Schwingungsperiodendauer zu erzeugen.
Obwohl bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel ein Zeitgeber 923 zur Erzeugung des Auffrischbefehlssignales (in dem Falle der " vor "-Auffrischbetriebsart, vgl. Fig. 6) zusätzlich zu dem Zeitgeber 93 zum Erzeugen des Auffrischfreigabesignales verwendet wird, können der Zeit­ geber 923 und der Zeitgeber 93 als gemeinsamer Zeitgeber unter Verwenden eines Binärzählers und eines Ringoszillators integriert sein.
Soweit die Anzahl der Stufen des Ringoszillators zum Erzeugen eines Signales einer gewünschten Schwingungsfrequenz betroffen ist, kann diese ebenfalls auf einen gewünschten Wert eingestellt werden, um eine gewünschte Schwingungsfrequenz sicherzustellen.
Das gleiche gilt für die Anzahl der Stufen der Inverter für die Signalformung des Oszillatorausgangssignales, die unter bestimmten Umständen auch fortgelassen werden können.
Die Anzahl der Stufen der Binärzähler 93-3 (Fig. 8), die in dem Zeitgeber 93 für die Erzeugung des Auffrischfreigabe­ signales verwendet werden, kann ebenso entsprechend dem gewünschten Anwendungszweck variiert werden.
Fig. 8 bis 10 zeigen eine Schaltung, bei das Steuersignal ΦC für die intermittierende Betriebsweise der Substratvorspan­ nungsschaltung von den Schwingungssignalen Φr und ΦR in dem Zeitgeber 93 erzeugt werden. Jedoch kann die Schaltung bei­ spielsweise derart angeordnet werden, daß das Steuersignal ΦC unter Verwenden des komplementären Ausgangssignales O1 von der ersten Stufe des Binärzählers innerhalb des Zeitgebers und dem wirklichen Ausgangssignal ΦR von der letzten Stufe des komplimentären Ausganges O2 der zweiten Stufe und dem Ausgangssignal ΦR von der letzten Stufe erzeugt wird. Bei einer derartigen Anordnung kann die Puls­ breite des Steuersignals ΦC gemäß Fig. 11 zwei- oder viermal so breit gewählt werden. Daher kann die Pulsbreite des Steuersignals ΦC auf einem geeigneten Wert entsprechend der Leistungsaufnahme und der Vorspannfähigkeit des Substratvor­ spanngenerators in dem Schreib-Lese-Speicher eingestellt werden.
Daher kann erfindungsgemäß der Substratvorspannungsgenerator intermittierend in der Selbstauffrischbetriebsweise betrieben werden, um einen unnötigen Leistungsverbrauch zu vermeiden, wodurch ein dynamischer Schreib-Lese-Speicher mit niedriger Leistungsaufnahme erzeugt wird.
Die unnötige Leistungsaufnahme kann ferner herabgesenkt werden und ein DRAM mit noch weiter abgesenkter Leistungs­ aufnahme in der Selbstauffrischbetriebsart durch eine Bauweise realisiert werden, bei der der Substratvorspann­ generator ledigleich während der Zeitdauer betätigt wird, während der das RAM in jedem Auffrischzyklus arbeitet.
Ferner vermindert die wahlweise Betätigung der beiden Substratvorspanngeneratoren mit unterschiedlichen Kapazitäten die Leistungsaufnahme in einer noch wirksameren Weise.
Ferner können die Substratvorspannungsgeneratoren durch Steuern der selektiven Betätigung der beiden unterschied­ lichen Substratvorspanngeneratoren unter Verwenden des Ausgangssignales einer Schaltung, die das Substratpotential durch einen Einang mit hoher Impedanz erfaßt, mit größerer Präzision und Selektivität betrieben werden, wodurch ein weiterer Beitrag zur Verminderung der Leistungsaufnahme geleistet wird.

Claims (24)

1. Dynamischer Schreib-Lese-Speicher, der auf einem Halbleitersubstrat (150) ausgebildet ist und eine Selbstauffrischfunktion hat, durch die in diesem gespeicherte Speicherzellendaten automatisch als Reaktion auf ein äußeres Auffrischbefehlssignal (; , ) aufgefrischt werden, mit
einer Einrichtung (91) zum Erzeugen eines inneren Auffrischbefehlssignales (ΦS) als Reaktion auf das äußere Auffrischbefehlssignal (; , );
einer mit dem inneren Auffrischbefehlssignal beaufschlagten Datenauffrischeinrichtung (94, 95, 96, 98) zum Auffrischen der Speicherzellendaten;
einer mit der Datenauffrischeinrichtung (94, 95, 96, 98) verbundenen Einrichtung (92, 93) zum Erzeugen eines Freigabesignales (ΦR) zum Freigeben der Datenauffrischeinrichtung (94, 95, 96, 98) als Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal (ΦS), wobei das Freigabesignal (ΦR) zyklisch in einem vorbestimmten Intervall während der Zeitdauer erzeugt wird, in der das innere Auffrischbe­ fehlssignal (ΦS) in seinem aktivierten Zustand bleibt; und
einer Vorspanneinrichtung (100) zum Vorspannen des Halbleitersub­ strates (150) mit einem vorbestimmten Potential (VBB);
gekennzeichnet durch eine mit der Einrichtung (92, 93) zum Erzeugen eines Freigabesignales (ΦR) und der Vorspanneinrichtung (100) verbundenen Steuereinrichtung (99, 99′) zum Aktivieren der Vor­ spanneinrichtung (100) während einer Zeitdauer, die kürzer ist als das vorbestimmte Intervall des Freigabesignales (ΦR), als Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal (ΦS) und den Aktivierungszustand des Freigabesignales (ΦR).
2. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuereinrichtung eine Aktivierungseinrichtung (99′) zum Aktivieren der Vorspanneinrichtung (100) für eine Zeitdauer (TC), die länger als die Zeitdauer des aktivierten Zustandes des Freigabesignales (ΦR) ist, aufweist (Fig. 17).
3. Speicher nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktivierungseinrichtung (99′), die Vorspanneinrichtung (100) über eine Zeit­ dauer aktiviert, in die die Zeitdauer des aktivierten Zu­ standes des Freigabesignales (ΦR) fällt.
4. Speicher nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuereinrichtung folgende Merkmale aufweist:
eine Einrichtung (321, IC, AN100) zum Erzeugen eines ersten Vorspannungsaktivierungssignales (ΦC) zum Aktivieren der Vorspanneinrichtung (100) und zum Anlegen desselben (ΦC) an die Vorspanneinrichtung (100) als Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal (ΦS) und das Freigabesignal (ΦR); und
eine Einrichtung (Ic1-Ic2m) zum Deaktivieren der Vor­ spanneinrichtung-Aktivierungssignal-Erzeugungseinrich­ tung (321, Ic, AN100) nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitdauer (Tc) nach Anlegen des Freigabesignales (ΦR) als Reaktion auf das Freigabesignal (ΦR).
5. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuereinrichtung eine Aktivierungseinrichtung (99) zum Aktivieren der Vorspanneinrichtung (100) während einer Zeitdauer, die kürzer als die Zeitdauer ist, während der das Freigabesignal (ΦR) in seinem aktivierten Zustand bleibt, aufweist (Fig. 14B).
6. Speicher nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktivierungseinrichtung (99), die Vorspanneinrichtung (100) während einer Zeit­ dauer aktiviert, die in die Zeitdauer fällt, während der das Freigabesignal (ΦR) sich in seinem aktiven Zustand befindet.
7. Speicher nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung (92, 93) zum Erzeugen eines Freigabesignales (RR) folgende Merkmale aufweist:
eine Einrichtung (93-1, 93-2) zum Erzeugen eines Puls­ signales (Φr, ) in einem vorbestimmten Zyklus als Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal (Φs); und
eine Einrichtung (93-3) zum Zählen des Pulssignales (Φr, ) und zum ausgangsseitigen Erzeugen des ersten Vorspannungseinrich­ tungsaktivierungssignales (ΦC), wenn der Zählwert einen vor­ bestimmten Wert erreicht; und
daß die Aktivierungseinrichtung (99) folgende Merkmale aufweist:
eine Einrichtung (99-1) zum Erzeugen eines voreingestellten Signales als Reaktion auf das Freigabesignal (ΦR); und
eine Einrichtung (99-2) zum Erzeugen des ersten Vorspannungs­ einrichtungsaktivierungssignales (ΦC) über eine Zeitdauer, die von dem Pulssignal (Φr, ) als Reaktion auf das voreingestellte Signal definiert wird, wenn das innere Auffrischbefehls­ signal (ΦS) sich in seinem aktiven Zustand befindet, und zum Erzeugen des ersten Vorspanneinrichtungsaktivierungssignales (ΦC) in einem ständig aktiven Zustand, während sich das innere Auffrischbefehlssignal (ΦS) in seinem inaktiven Zustand befindet.
8. Speicher nach einem derr Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Vorspanneinrichtung (100) folgende Merk­ male aufweist:
eine Einrichtung (511) zum Erzeugen eines zweiten Vorspannungs­ aktivierungssignales (Φcp) als Reaktion auf das erste Vorspannakti­ vierungssignal (ΦC);
eine erste und eine zweite Potentialerzeugungseinrich­ tung (110, 120) mit unterschiedlichen Stromzuführfähig­ keiten, deren Ausgänge mit dem Halbleitersubstrat (150) ver­ bunden sind;
eine Substratpotentialerfassungseinrichtung (610; 730), die mit dem Halbleitersub­ strat (150) verbunden ist, um ein Potential (VBB) des Halbleitersub­ strates (150) durch deren Eingang zu erfassen;
eine Auswahlaktivierungseinrichtung (600; 710, 720, 740), die auf ein Aus­ gangssignal (ΦD) der Substratpotentialerfassungs­ einrichtung (610; 730) und auf das zweite Vorspannungsaktivierungssignal (Φcp) an­ spricht, um entweder die erste (110) oder die zweite (120), nicht jedoch beide Potentialerzeugungseinrichtungen (110, 120) zu aktivieren.
9. Speicher nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Auswahlaktivierungseinrichtung (600; 710, 720, 740) folgende Merkmale aufweist:
eine Bezugspotentialerfassungseinrichtung (720) zum Erzeugen eines Bezugspoten­ tials (Vr);
eine Vergleichseinrichtung (740) zum Vergleichen des Ausgangssig­ nals (ΦD), der Substratpotentialerfassungseinrichtung (610; 730) und des Ausgangssignals (Vr) der Bezugspotentialerfassungseinrich­ tung (720);
eine Einrichtung (710), die auf ein Ausgangssignal der Vergleichseinrichtung (740) anspricht, um das zweite Vorspannungsaktivie­ rungssignal (Φcp) entweder zur ersten oder zur zweiten Poten­ tialerzeugungseinrichtung (110; 120) zu übertragen, um dadurch entweder die erste oder die zweite Potentialerzeugungs­ einrichtung (110, 120) zu aktivieren.
10. Speicher nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratpotentialerfassungseinrichtung (730) einen Eingang mit hoher Impedanz hat, der mit dem Substrat (150) gekoppelt ist, und eine Einrichtung (Q2G) aufweist, um das Substratpotential (VBB) durch diesen Eingang zu erfassen.
11. Speicher nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Auswahlaktivierungseinrichtung (600; 710, 720, 740) eine Einrichtung (Q5G, Q6G, Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) zum Übertragen des zweiten Vorspannungsaktivierungssignales (Φcp) zu der Potentialerzeugungseinrichtung (110) mit der größeren Stromzuführungsfähigkeit von der ersten und zweiten Potentialerzeugungseinrichtung (110, 120), wenn der Ausgang der Vergleichseinrichtung (740) anzeigt, daß ein Absolutwert des Potentials (VBG) des Substrates (150) kleiner als ein Absolutwert (|Vr|) des Bezugspotentiales (Vr) ist, aufweist.
12. Speicher nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeich­ net,
daß das zweite Vorspannungsaktivierungssignal (Φcp) ein Pulsfolgesignal ist,
daß die Substratpotentialerfassungeinrichtung (730) einen ersten Feldeffekttransistor (Q2G) mit isoliertem Gate aufweist, dessen Gate-Elektrode mit dem Halbleitersub­ strat (150) verbunden ist, und
daß die Vergleichseinrichtung (740) folgende Merkmale auf­ weist:
einen ersten Knoten (P2), der mit der ersten Potential­ erzeugungseinrichtung (110) verbunden ist,
einen zweiten Knoten (P1), der mit der zweiten Poten­ tialerzeugungseinrichtung (120) verbunden ist,
einen zweiten Feldeffekttransistor (Q1G) mit isoliertem Gate, dessen Gate-Elektrode das Ausgangssignal (Vr) der Bezugspotentialerzeugungseinrichtung (720) empfängt,
eine Differentialverstärkereinrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G), die mit dem ersten und zweiten Knoten (P1, P2) verbunden ist, um differentiell die Potentiale auf dem ersten und zweiten Knoten (P1, P2) zu verstärken,
eine Einrichtung (I1G) zum Aktivieren der Differential­ verstärkereinrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) als Reaktion auf das zweite Vorspannungsaktivierungssignal (Φcp, und
eine Verbindungs/Unterbrechungs-Steuereinrichtung (Q3G, Q4G, I2G; Q3G, Q4G, 750) zum Steuern der Verbindung/Trennung des ersten und zweiten Knotens (P1, P2) mit oder von dem ersten und zweiten Feldeffekttransistor (Q2G, Q1G) mit isoliertem Gate als Reaktion auf das zweite Vorspannungsaktivierungssignal (Φcp), wobei die Steuereinrichtung den ersten und zweiten Knoten (P1, P2) von dem ersten und zweiten Feldeffekttransistor (Q2G, Q1G) mit isoliertem Gate trennt, wenn die Differentialverstärkereinrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) aktiviert ist, und den ersten und zweiten Knoten (P1, P2) mit dem ersten und zweiten Feldeffekttransistor (Q2G, Q1G) mit isoliertem Gate verbindet, wenn die Differentialverstärkereinrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) nicht aktiviert ist.
13. Speicher nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtung zum Aktivieren der Differentialver­ stärkereinrichtung eine Einrichtung (I1G) zum Invertieren des zweiten Vorspannungsaktivierungssignales (Φc) aufweist, und
daß die Verbindungs/Unterbrechungs-Steuereinrichtung eine Verzögerungseinrichtung (I2G, 750, 760) zum Verzögern des zweiten Vorspannungsaktivierungssignals (Φcp) um eine vorbestimmte Zeitdauer aufweist.
14. Speicher nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet,
daß die Differentialverstärkereinrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) eine Potentialanlegeeinrichtung (Q5G, Q6G) aufweist, die als Reaktion auf das zweite Vorspannungsakivierungssignal (Φcp) zu aktivieren ist, um ein Potential von vorbestimmten Pegel sowohl an dem ersten als auch an dem zweiten Knoten (P1, P2) anzulegen, und
daß die Potentialpegelanlegeeinrichtung (Q5G, Q6G) als Reaktion auf die Aktivierung der Differentialverstärker­ einrichtung (Q7G, Q8G, Q11G, Q12G) deaktiviert wird.
15. Speicher nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeich­ net, daß die Verzögerungseinrichtung (I2G, 750, 760) folgende Merkmale auf­ weist:
eine Puffereinrichtung (760), die zwischen den ersten und zweiten Knoten (P1, P2) und den ersten und zweiten Potential­ erzeugungseinrichtungen (110, 120) angeordnet ist und einen Inverter (I80, I81, I82, I83) aufweist, und
eine Flip-Flop-Einrichtung (750), die als Reaktion auf ein Inversionssignal () des Vorspannungsaktivierungssignales (Φcp) gesetzt wird und als Reaktion auf ein Ausgangssignal (ΦCPM′′, ΦCPS′′) des Inverters (I80, I81, I82, I83) der Puffereinrichtung (760) rückgesetzt wird, um die Verbindungs/Unterbrechungs-Steuereinrichtung zu sperren.
16. Speicher nach einem der Ansprüche 9 bis 15, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Bezugspotentialerzeugungseinrichtung (720) folgende Merkmale aufweist:
eine erste Kondensator-Einrichtung (C1G) mit einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode zum Emfpan­ gen des zweiten Vorspannungsaktivierungssignales (ΦCP),
eine zweite Kondensator-Einrichtung (C3G) mit einer dritten Elektrode und einer vierten Elektrode zum Empfangen eines Inversionssignales () des zweiten Vorspannungsaktivie­ rungssignales (ΦCP),
einen ersten Feldeffekttransistor (Q10G) mit isoliertem Gate, der als Diode verschaltet ist und zwischen der ersten Kondensatoreinrichtung (CIG) und einer festgelegten Region (170) in dem Halbleitersubstrat (150) angeordnet ist,
einen zweiten Feldeffekttransistor (Q9G) mit isoliertem Gate, der zwischen der zweiten Elektrode der ersten Kondensatoreinrichtung (CIG) und einem vorbestimmten Potential geschaltet ist und dessen Gate-Elektrode mit der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatoreinrichtung (C3G) verbunden ist, und
einen dritten Feldeffekttransistor (Q11G) mit isoliertem Gate, der als Diode verschaltet ist und zwischen der vierten Elektrode des zweiten Kondensators (C3G) und einem vorbestimmten Potential angeordnet ist.
17. Speicher nach einem der Ansprüche 8 bis 16, dadurch ge­ kennzeichnet,
daß das zweite Vorspannungsaktivierungssignal (Φcp) eine Reihe von Pulssignalen ist, und
daß die erste und zweite Potentialerzeugungseinrichtung (110, 120) folgende Merkmale ausweisen:
eine dritte Kondensatoreinrichtung (CM, CS) mit einer Elektrode zum Empfangen des zweiten Vorspannungsaktivierungssignales (ΦCP) und mit einer weiteren Elektrode,eine vierte Kondensatoreinrichung (CMP, CSP) mit einer Elektrode zum Empfangen eines Inversionssignales () des zweiten Vorspannungsaktivierungssignales (ΦCP) und mit einer weiteren Elektrode,
einen vierten Feldeffekttransistor (Q2M, Q2S) mit isoliertem Gate, der als Diode verschaltet ist, und zwischen der weiteren Elektrode der dritten Kondensator­ einrichtung (CM, CS) und dem Halbleitersubstrat (150) angeordnet ist,
einen fünften Feldeffekttransistor (Q3M, Q3S) mit isoliertem Gate, der als Diode verschaltet ist und zwischen der weiteren Elektrode der vierten Kondensator­ einrichtung (CMP, CSP) und einem vorbestimmten Potential geschaltet ist, und
einen sechsten Feldeffekttransistor (Q1M, Q2S) mit isoliertem Gate, der zwischen der andere Elektrode der dritten Kondensatoreinrichtung (CM, CS) und dem vorbestimmten Potential geschaltet ist und eine Gate-Elektrode aufweist, die mit der anderen Elektrode der vierten Kondensatoreinrichtung (CMP, CSP) verbunden ist.
18. Verfahren zum Anlegen einer Vorspannung an ein Halb­ leitersubstrat, auf dem ein dynamischer Schreib-Lese- Speicher mit Selbstauffrischfunktion für Speicherzel­ lendaten ausgebildet ist, mit den folgenden Verfahrensschritten:
Erzeugen eines inneren Auffrischbefehlssignales (ΦS) in Reaktion auf ein äußeres Auffrischbefehlssignal (; , );
Erzeugen eines Auffrischfreigabesignales (ΦR) zu einem vorbestimmten Zeitintervall als Reaktion auf das innere Auffrischbefehlssignal (ΦS);
Auffrischen von Speicherzellendaten als Reaktion auf das Auffrischfreigabesignal (ΦR), wobei das Auffrischen durchgeführt wird, während sich das Auffrischfreigabesignal (ΦR) in seinem aktivierten Zustand befindet;
gekennzeichnet durch Anlegen einer Vorspannung (VBB) an das Halbleiter­ substrat (150) während lediglich eines Teiles des Erzeugungs­ zyklus des Auffrischfreigabesignales (ΦR) als Reaktion auf das interne Auffrischbefehlssignal (ΦS) und das Auffrischfreigabesignal (ΦR).
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Anlegens einer Vorspannung (VBB) an das Halblei­ tersubstrat während einer Zeitdauer, in die der aktivierte Zustand des Auffrischfreigabesignales (ΦR), fällt, durchgeführt wird.
20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Schritt des Anlegens einer Vorspannung (VBB) an das Halblei­ tersubstrat lediglich während eines Teiles der Zeitdauer, während der sich das Auffrischfreigabesignal (ΦR) in aktiviertem Zustand befindet, durchgeführt wird.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Anlegens Vorspannung (VBB) folgende Schritte umfaßt:
Erzeugen eines Bezugspotentials (Vr),
Erfassen eines ersten Potentiales (VBB) des Halbleitersubstrates unter Verwenden eines Detektors (730) mit einem Eingang von hoher Eingangsimpedanz, wobei der Eingang des Detektors (730) mit dem Halbleitersubstrat verbunden ist,
Vergleichen des ersten Potentiales (VBB) des Substrates und des Bezugspotentiales (Vr), und
Selektive Aktivierung von nur einer von einer ersten und zweiten Vorspannungspotentialerzeugungseinrichtung (110, 120) auf der Grundlage der Vergleichsergebnisse, wobei die erste und zweite Vorspannungspotentialerzeugungseinrichtung (110, 120) voneinander unterschiedliche Vorspannungspotentialzuführfähigkeiten haben.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Vergleichens und selektiven Aktivie­ rens folgende Verfahrensschritte umfaßt:
Erzeugen eines Aktivierungssignales (ΦCP),
Erzeugen von Signalen (Vr, ΦD) entsprechend dem Bezugspotential (Vr) und dem Potentiales (VBB) des Substrates als Reaktion auf das Aktivierungssignal (ΦCP),
differentielles Verstärken der erzeugten Signale (Vr, ΦD) in Reaktion auf das Aktivierungssignal, und
Übertragen von Aktivierungssignalen (ΦCPS, ΦCPM) entweder zur ersten oder zur zweiten Vorspannungserzeugungseinrichung (110, 120) auf der Grundlage des Ergebnisses der differentiellen Verstärkung.
23. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Schritte des Vergleichens und selektiven Akti­ vierens folgende Verfahrensschritte umfassen:
Erzeugen eines Aktivierungssignales (ΦCP) in Pulsform,
Erfassen des erzeugten Bezugssignales (Vr),
Übertragen des erfaßten Bezugssignales (Vr) und des Poten­ tiales (VBB) des Substrates zu einem ersten und einem zweiten Knoten (P1, P2),
differentielles Verstärken der Potentiale des ersten und zweiten Knotens (P1, P2),
Anhalten der Übertragung des Bezugspotentiales (Vr) und des Potentiales (VBB) des Substrates zu dem ersten und zweiten Knoten (P1, P2) als Reaktion auf die differentielle Verstärkungs­ operation,
Einstellen eines vorbestimmten Potentiales (ΦCPM, ΦCPS) an dem ersten und zweiten Knoten (P1, P2) nach Beendigung der differentiellen Verstärkungsoperation, und
Anlegen der Potentiale (ΦCPM, ΦCPS) des ersten und zweiten Knotens (P1, P2) an die erste und zweite Vorspannungserzeugungseinrichtung (110, 120).
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Anlegens einer Vorspannung (VBB) folgende Schritte umfaßt:
Erzeugen eines Bezugspotentiales (Vr);
Erfassen eines Potentiales (VBB) des Halbleitersubstrates;
Vergleichen des erfaßten Potentiales (VBB) mit dem Bezugs­ potential (Vr); und als Reaktion hierauf wahlweise Anlegen einer ersten Stromquelle mit einem vergleichsweise hohen Strom oder einer zweiten Stromquelle mit einem vergleichsweise niedrigen Strom an das Substrat, ohne daß die Stromquellen gleichzeitig angelegt werden, um eine Substratvorspannung zu erzeugen.
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