DE4203832A1 - Halbleiter-druckaufnehmer - Google Patents

Halbleiter-druckaufnehmer

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Description

Die Erfindung betrifft einen Halbleiter-Druckaufnehmer (kurz: Druckaufnehmer), der insbesondere Druck präzise dadurch mes­ sen kann, daß bei der Herstellung erzeugte innere Spannungen verringert sind.
Fig. 12 ist ein Querschnitt durch einen konventionellen Druckaufnehmer, der beispielsweise in der US-PS 46 55 088 gezeigt ist. Die Fig. 13 bzw. 14 sind ein Querschnitt bzw. eine Draufsicht eines Außengehäuses des Druckaufnehmers von Fig. 12. Nach den Zeichnungen ist ein Druckaufnehmerchip 1 mit einem Chipbondmaterial 6 an einem Außengehäuse 10 befe­ stigt, das ein integrales Formteil beispielsweise aus Epoxidharz ist. In dem Außengehäuse 10 ist eine Öffnung 13 gebildet, und eine Zuleitung 8 ist vorher darin angebracht worden. Der Druckaufnehmerchip 1 und die Zuleitung 8 sind miteinander durch einen Leiter 9 verbunden, und der obere Teil des Druckaufnehmerchips 1 ist mit einem Schutzharz 14 überzogen. Eine Staubschutzscheibe 12 mit einer darin gebil­ deten Öffnung 11 ist im oberen Teil des Druckaufnehmerchips 1 angeordnet.
Dieser Druckaufnehmer wird so hergestellt, daß er gemeinsam mit der Zuleitung 8 integral geformt wird unter Bildung des Außengehäuses 10. Anschließend erfolgt Chipbonden des Druck­ aufnehmerchips 1 mit Hilfe des Chipbondmaterials 6, und der Druckaufnehmerchip 1 und die Zuleitung 8 werden durch Draht­ bonden mit dem Leiter 9 verbunden. Dann wird das Schutzharz 14 auf die Oberfläche des Druckaufnehmerchips 1 aufgebracht, und eine Scheibe 12 wird mit dem Außengehäuse 10 haftend ver­ bunden, so daß damit der Druckaufnehmer fertiggestellt ist. Wie oben beschrieben, ist der Druckaufnehmerchip 1 durch das Chipbondmaterial 6 mit dem Außengehäuse 10 fest verbunden, das gemeinsam mit der Zuleitung 8 integral geformt ist. Daher sind der Leiter 9 und der Druckaufnehmerchip 1 nicht integral mit dem Außengehäuse 10 geformt, sondern nur die Zuleitung 8 und das Außengehäuse 10 sind gemeinsam integral geformt.
Um die Charakteristiken des so aufgebauten Druckaufnehmers durch Verringerung der inneren Spannungen zu verbessern, ist es am wirksamsten, die herzustellende Komponente aus einem Material zu fertigen, dessen linearer Ausdehnungskoeffizient demjenigen von Silizium angenähert ist, das das Material für den Druckaufnehmerchip 1 ist. Das heißt also, daß die Genau­ igkeit des Druckaufnehmers durch die physikalischen Eigen­ schaften des eingesetzten Materials bestimmt ist, denn die bei der Herstellung erzeugten inneren Spannungen wirken auf den Widerstand des Druckaufnehmers, wodurch die Druckmeßge­ nauigkeit verschlechtert wird.
Bisher werden die Linearität der Offsetabwanderung (die Linearität der Temperaturänderung der Offsetspannung) und die Linearität der Bereichsabwanderung (die Linearität der Aus­ gangsspannung beim Aufbringen von Druck) im wesentlichen durch den Aufbau und das Material des Druckaufnehmers be­ stimmt. Das Material und die Struktur müssen daher geändert werden, um befriedigende Charakteristiken zu erreichen. Bei­ spielsweise hat der Druckaufnehmer von Fig. 12 schlechte Charakteristiken, und die Anwendungsgebiete, auf denen er eingesetzt werden kann, sind durch die erreichbare Meßgenau­ igkeit begrenzt. Der Grund liegt darin, daß die inneren Span­ nungen, die nach der Montage der Komponenten erzeugt werden, zu groß sind, weil die Differenz zwischen dem linearen Aus­ dehnungskoeffizienten 3,5×10-6 (1/°C) von Silizium, aus dem der Druckaufnehmerchip 1 besteht, und dem linearen Ausdeh­ nungskoeffizienten 33×10-6 (1/°C) beispielsweise des Epoxidharzes des Außengehäuses 10 zu groß ist, da das Außen­ gehäuse 10 durch Chipbonden direkt mit dem Druckaufnehmer 1 verbunden ist.
Um also einen genauen Druckaufnehmer zu erhalten, wird ein Siliziumsockel, der aus dem gleichen Material wie der Sili­ ziumchip besteht, oder beispielsweise ein Pyrex-Glassockel mit im wesentlichen dem gleichen linearen Ausdehnungskoeffi­ zienten wie der Siliziumchip mit dem Siliziumchip integral geformt, und der so geformte Sockel wird durch Chipbonden mit dem Leiterrahmen oder der Basis verbunden, wodurch die inne­ ren Spannungen verringert werden. Je dicker der Sockel, umso größer ist die Auswirkung in bezug auf eine Verminderung der inneren Spannungen. Wenn aber der Sockel große Dicke hat, kann beim Drahtbonden die Temperatur an der Drahtbondstelle des Druckaufnehmerchips nicht ohne weiteres erhöht werden. Es ist also notwendig, die Temperatur eines Heizelements zum Erwärmen der Drahtbondstelle zu erhöhen. Diese Temperatur darf aber zum Drahtbonden nicht über die Formänderungstem­ peratur des Gießharzes erhöht werden. Somit muß das Draht­ bonden durch Ultraschallschwingungen und Applikationsdraht­ bonden erfolgen, wobei Ultraschallschwingungen und Applika­ tionskraft angewandt werden. Wenn jedoch der Pegel der Ultra­ schallschwingungen erhöht wird, entsteht das weitere Problem, daß die Metallisierung auf der Zuleitung relativ dick gemacht werden muß.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Bereitstellung eines Druckaufnehmers mit befriedigender Genauigkeit, die durch Verringerung von Spannungen und Dehnungen realisiert wird (die Spannungen und Dehnungen ändern sich linear innerhalb einer elastischen Grenze), die aufgrund der Differenz zwi­ schen den linearen Ausdehnungskoeffizienten von verschiedenen Materialien bei der Montage der Komponenten eines Druckauf­ nehmers erzeugt werden, indem die Dimensionen (die Dicke) eines Sockels und die Form eines Außengehäuses, durch die angegebenen Spannungen und Dehnungen besonders stark beein­ flußt werden, richtig bemessen werden.
Zur Lösung der angegebenen Aufgabe wird gemäß einem Aspekt der Erfindung ein Halbleiter-Druckaufnehmer angegeben, der folgendes aufweist: einen Halbleiter-Druckaufnehmerchip, an dem ein Widerstand vorgesehen und eine Membran gebildet ist; einen Sockel, auf dem der Halbleiter-Druckaufnehmerchip an­ geordnet ist; eine Chipkontaktfläche, auf der der Sockel an­ geordnet ist; eine Zuleitung; einen Leiter zum elektrischen Anschluß der Zuleitung an den Halbleiter-Druckaufnehmerchip; und ein Außengehäuse zum integralen Kapseln des Halbleiter- Druckaufnehmerchips, des Sockels, der Zuleitung, des Leiters und der Chipkontaktfläche mit Ausnahme der Membranoberfläche des Halbleiter-Druckaufnehmerchips und der Rückseite der Chipkontaktfläche.
Die Erfindung wird nachstehend auch hinsichtlich weiterer Merkmale und Vorteile anhand der Beschreibung von Ausfüh­ rungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in:
Fig. 1 einen Querschnitt durch ein Ausführungsbeispiel des Druckaufnehmers nach der Erfindung;
Fig. 2 eine Draufsicht auf den Druckaufnehmer von Fig. 1;
Fig. 3 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem Ver­ hältnis des Durchmessers einer im Außengehäuse ge­ bildeten Öffnung und des Durchmessers der Membran zu der mechanischen Spannung der Membran wieder­ gibt;
Fig. 4 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Verdeutlichung der in Fig. 3 dargestellten Durchmesser der Membran und der im Außengehäuse gebildeten Öffnung;
Fig. 5 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem Ver­ hältnis der Dicken eines Sockels und des Druckauf­ nehmers zu der mechanischen Spannung der Membran zeigt;
Fig. 6 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Verdeutlichung der in Fig. 5 angegebenen Dicken des Druckaufnehmers und des Sockels;
Fig. 7 einen Querschnitt durch ein weiteres Ausführungs­ beispiel des Druckaufnehmers nach der Erfindung;
Fig. 8 eine Rückansicht, die ein weiteres Ausführungsbei­ spiel des Druckaufnehmers nach der Erfindung zeigt;
Fig. 9 eine Rückansicht eines anderen Ausführungsbeispiels des Druckaufnehmers nach der Erfindung;
Fig. 10 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der Dicke des Außengehäuses und der Spannung der Membran zeigt;
Fig. 11 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Ver­ deutlichung der Dicke des Außengehäuses von Fig. 10;
Fig. 12 einen Querschnitt durch einen konventionellen Druckaufnehmer;
Fig. 13 einen Querschnitt durch das Außengehäuse des Druck­ aufnehmers von Fig. 12; und
Fig. 14 eine Draufsicht, die das Außengehäuse des Druckauf­ nehmers von Fig. 12 zeigt.
Fig. 1 zeigt im Querschnitt ein Ausführungsbeispiel des Druckaufnehmers, und Fig. 2 ist eine Draufsicht auf ihn. In den Zeichnungen sind mit 1, 6 und 8-10 die gleichen Elemente wie bei dem konventionellen Druckaufnehmer bezeichnet. Der Druckaufnehmer 1 hat eine durch Ätzen geformte Membran 2, und auf der Membran 2 ist ein piezoelektrischer Widerstand 3 ge­ bildet. Der Druckaufnehmerchip 1 ist auf einem Sockel 5 ange­ ordnet, der auf der Oberfläche einer Chipkontaktfläche 7 durch Chipbondmaterial 6, beispielsweise Silikongummi, befe­ stigt ist. Die Chipkontaktfläche 7 wird vorher nach unten umgebogen zur Bildung einer Stufe, die der Gesamtdicke des Druckaufnehmerchips 1 und des Sockels 5 entspricht. Der Leiterrahmen einschließlich der Chipkontaktfläche 7 besteht beispielsweise aus 42-Legierung, und innere und äußere Zu­ leitungen des Leiterrahmens werden vorher metallisiert. Eine vorher auf dem Druckaufnehmerchip 1 gebildete Drahtbondinsel 4 und die Zuleitung 8 sind miteinander durch den Leiter 9 verbunden.
Der oben beschriebene Druckaufnehmerchip 1, der Sockel 5, der Leiter 9 und die Chipkontaktfläche 7 sind durch das Außenge­ häuse 10, das beispielsweise Epoxidharz ist, integral gekap­ selt mit Ausnahme der Oberfläche der Membran 2 und der Rück­ seite der Chipkontaktfläche 7. Das integrale Kapseln mittels des Außengehäuses 10 kann durch ein übliches Verfahren zur Herstellung von ICs vervollständigt werden. Bisher kann der integrale Formvorgang nicht mit einer allgemeinen IC-Montage­ straße kombiniert werden, weil die im Druckaufnehmerchip 1 aufgrund einer thermischen Verformung erzeugten Spannungen nicht absorbiert werden können. Die Komponenten für den Druckaufnehmer gemäß der Erfindung können aber unter Anwen­ dung konventioneller Einrichtungen und Montagestraßen zu­ sammengebaut werden.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4 wird beschrieben, wie die in dem piezoelektrischen Widerstand auf der Membran er­ zeugten Spannungen bei dem so aufgebauten Druckaufnehmer sich entsprechend dem Verhältnis des Durchmessers D1 einer in dem geformten Außengehäuse 10 gebildeten Öffnung zu dem Durch­ messer D0 der Membran 2 ändern. Das Diagramm von Fig. 3 zeigt die Größe der mechanischen Spannung in bezug auf das Verhält­ nis D1/D0, wobei die Spannung mit 1 (100%) angenommen ist, wenn also der Durchmesser D1 der Öffnung gleich der Dimension D0 der Membran ist. Aus dem Diagramm ist ersichtlich, daß bei einem Verhältnis D1/D0 von 1,6 die Spannung um 20% herabge­ setzt werden kann. Wie oben beschrieben, kann die in dem Teil des Druckaufnehmerchips 1, in dem der piezoelektrische Wider­ stand 3 angeordnet ist, erzeugte Spannung dadurch verringert werden, daß das Verhältnis D1/D0 zu 1 oder größer gemacht wird.
Die Fig. 5 bzw. 6 verdeutlichen eine Auswirkung, die erhalten wird, wenn die Rückseite der Chipkontaktfläche 7 nicht von dem Außengehäuse 10 umkapselt ist, und zeigen ferner die Be­ ziehung des Verhältnisses der Dicke T des Sockels 5 und der Dicke T1 des Druckaufnehmerchips 1 zu der mechanischen Span­ nung, die in einem Teil erzeugt wird, in dem der piezoelek­ trische Widerstand 3 angeordnet ist. In Fig. 5 wird davon ausgegangen, daß die erzeugten mechanischen Spannungen dann 1 (100%) sind, wenn T/T1 = 7,5, und schwarze Punkte zeigen die Größe der Hauptspannungen, die in dem piezoelektrischen Wi­ derstand 3 auf der Membran 2 des Druckaufnehmerchips 1 auf­ treten, während die weißen Punkte den Absolutwert der Haupt­ spannung zeigen, die auf den Sockel 5 wirkt. Wenn, wie die Zeichnungen zeigen, T/T1 von 7,5 auf 1,25 verringert wird, können die mechanischen Spannungen von 100% auf 50% ver­ ringert werden. Wie oben beschrieben, können die in dem Druckaufnehmerchip 1 erzeugten mechanischen Spannungen ver­ ringert werden, indem das Verhältnis zwischen der Dicke des Sockels 5 und der Dicke des Druckaufnehmerchips 1 zu 7,5 oder kleiner gemacht wird. Da die Dicke des Sockels 5 verringert ist, kann ferner als die Heizeinrichtung eine zum Formen von ICs verwendete normale Heizeinrichtung eingesetzt werden, um die Temperatur auf einen Wert zu erhöhen, der zum Drahtbonden notwendig ist.
Bei der in Fig. 5 gezeigten Konstruktion ist zwar das Außen­ gehäuse 10 nicht an der Rückseite der Chipkontaktfläche 7 vorgesehen, aber es kann auch die Konstruktion gemäß Fig. 7 verwendet werden, bei der das Außengehäuse 10 den Endab­ schnitt der Rückseite der Chipkontaktfläche 7 umgibt, um dadurch den Durchmesser der Öffnung größer als den Durch­ messer D1 zu machen. Die Form der Rückseite des Druckauf­ nehmers kann verschieden sein. Beispielsweise kann eine symmetrische Form entsprechend Fig. 8 und eine Konstruktion gemäß Fig. 9, bei der die gegenüberstehenden Flächen zuein­ ander symmetrisch sind, verwendet werden.
Das Diagramm von Fig. 10 zeigt, wie die mechanische Spannung in dem Teil, in dem der piezoelektrische Widerstand angeord­ net ist, geändert wird, wenn die Dicke W des Außengehäuses 10 von Fig. 11 geändert wird. Da die inneren Spannungen in dem Teil, in dem der piezoelektrische Widerstand 3 angeordnet ist, durch Vergrößern der Dicke des Seitenteils des Außen­ gehäuses 10 verringert werden kann, kann die Dicke des den Sockel 5, die Chipkontaktfläche 7 und den Druckaufnehmerchip 1 umgebenden Kunstharzes frei bestimmt werden, wenn sie grö­ ßer als ein vorbestimmter Wert ist. Wenn man also annimmt, daß die mechanische Spannung bei W = 0,3 mm (schwarzer Punkt A) 1 (100%) ist, wird die Spannung in dem Membranteil 93% bei W = 0,45 mm (schwarzer Punkt B). Ferner zeigt der schwar­ ze Punkt C die Tatsache, daß die mechanische Spannung 100% wird, weil sie um 7% ansteigt, wenn eine Druckeinführleitung 20 für einen Druckaufnehmer vorgesehen wird, der so ausge­ legt ist, daß W = 0,45 mm. Da, wie oben beschrieben, der integral gekapselte Druckaufnehmer eine in seinem Membranteil gebildete Öffnung hat, wird der Einfluß der Dicke der Kunst­ harzschicht, die den Sockel 5, die Chipkontaktfläche 7 und den Druckaufnehmerchip 1 umgibt, vermindert. Wenn also die Druckeinführleitung 20 vorgesehen oder die Form aus irgend­ welchen Gründen geändert ist, werden die in der Membran er­ zeugten mechanischen Spannungen nicht größer. Infolgedessen kann ein Druckaufnehmer mit großer Konstruktionsfreiheit erhalten werden.
Bei dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel hat der Druck­ aufnehmer einen Sockel 5. Eine Konstruktion mit Sockel kann verwendet werden, wenn der Druckaufnehmer sehr hohe Genauig­ keit haben soll. Eine Konstruktion ohne Sockel kann verwendet werden, wenn die große Genauigkeit nicht gefordert ist. In diesem Fall kann der sockellose Druckaufnehmer durch inte­ grales Formen im gleichen Montageablauf hergestellt werden, wenn die Form für das integrale Formen ausgewechselt wird.
Der Silikongummi, der als Chipkontaktmaterial 6 bei der Er­ findung eingesetzt wird, kann durch Epoxidharz oder Lot ersetzt werden.
Wie oben beschrieben, kann ein Druckaufnehmer mit der ge­ wünschten Genauigkeit erhalten werden, weil die in dem Druck­ aufnehmerchip erzeugten Wärmespannungen frei vermindert wer­ den können. Ferner kann der Druckaufnehmer in einem allge­ meinen IC-Herstellungsverfahren hergestellt werden, wodurch ein billiger Druckaufnehmer hoher Güte erhalten wird. Außer­ dem kann das Verhältnis zwischen der Dicke des Sockels und der Dicke des Druckaufnehmerchips auf 7,5 oder kleiner ver­ ringert werden. Die zum Drahtbonden erforderliche Temperatur kann dadurch gesenkt werden, und das Eindiffundieren von Grundmetall in die auf dem Leiterrahmen gebildete Metallisie­ rungsschicht kann vermindert werden. Infolgedessen kann die Dicke der Metallisierung herabgesetzt werden.

Claims (5)

1. Halbleiter-Druckaufnehmer, gekennzeichnet durch
einen Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1), auf dem ein Widerstand (3) vorgesehen und eine Membran (2) gebildet ist; einen Sockel (5), auf dem der Halbleiter-Druckaufnehmer­ chip (1) angeordnet ist;
eine Chipkontaktfläche (7), auf der der Sockel (5) posi­ tioniert ist;
eine Zuleitung (8);
einen Leiter (9) zum elektrischen Verbinden der Zuleitung (8) mit dem Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1); und
ein Außengehäuse (10) zum integralen Kapseln des Halb­ leiter-Druckaufnehmerchips (1), des Sockels (5), der Zu­ leitung (8), des Leiters (9) und der Chipkontaktfläche (7) mit Ausnahme der Oberfläche der Membran (5) des Halbleiter- Druckaufnehmerchips (1) und der Rückseite der Chipkontakt­ fläche (7).
2. Halbleiter-Druckaufnehmer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Dicke des Sockels (5) zu der Dicke des Halbleiter-Druckaufnehmerchips (1) 7,5 oder kleiner ist.
3. Halbleiter-Druckaufnehmer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Durchmessers einer in dem Außengehäuse (10) über der Membran (5) gebildeten Öffnung zu dem Durch­ messer der Membran (5) 1 oder größer ist.
4. Halbleiter-Druckaufnehmer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Außengehäuse (10) aus Epoxidharz besteht.
5. Halbleiter-Druckaufnehmer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Chipbondmaterial (6) Silikongummi ist.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4244460C1 (de) * 1992-12-23 1994-04-14 Siemens Ag Druckmeßumformer
DE4335588A1 (de) * 1992-10-19 1994-04-21 Mitsubishi Electric Corp Drucksensor
DE4244459C1 (de) * 1992-12-23 1994-05-11 Siemens Ag Druckmeßumformer
DE4306268A1 (de) * 1993-03-01 1994-09-08 Ust Umweltsensortechnik Gmbh Gehäuse für Sensoren
DE19724025A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE19724026A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
EP1063504A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-27 Rémy Kirchdoerffer Verfahren zur Herstellung einer Messvorrichtung
US6393922B1 (en) 1997-01-29 2002-05-28 Infineon Technologies Ag Pressure sensor component with hose connection
DE19726839C2 (de) * 1997-01-14 2003-09-25 Mitsubishi Electric Corp Halbleitersensor
WO2004106222A1 (de) * 2003-05-26 2004-12-09 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanischer drucksensor und verfahren zu seiner herstellung
DE10215104B4 (de) * 2001-04-11 2012-02-09 Denso Corporation Drucksensor, bei welchem ein Harzhaftmittel zwischen einem Halbleiter-Sensorelement und einem Metallschaft verwendet wird
DE102014114014B4 (de) 2013-09-27 2021-09-30 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Package mit integrierter Dichtung sowie Herstellungsverfahren dafür

Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5279164A (en) * 1990-12-18 1994-01-18 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor with improved temperature compensation
US5333505A (en) * 1992-01-13 1994-08-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor for use at high temperature and pressure and method of manufacturing same
US5686698A (en) * 1994-06-30 1997-11-11 Motorola, Inc. Package for electrical components having a molded structure with a port extending into the molded structure
CA2198909A1 (en) 1994-09-02 1996-03-14 Robert Z. Obara Ultra miniature pressure sensor and guidewire using the same and method
US6148673A (en) * 1994-10-07 2000-11-21 Motorola, Inc. Differential pressure sensor and method thereof
AU5417096A (en) 1995-02-24 1996-09-11 Lucas Novasensor Pressure sensor with transducer mounted on a metal base
US6229427B1 (en) * 1995-07-13 2001-05-08 Kulite Semiconductor Products Inc. Covered sealed pressure transducers and method for making same
US5747694A (en) * 1995-07-28 1998-05-05 Nippondenso Co., Ltd. Pressure sensor with barrier in a pressure chamber
US5551300A (en) * 1995-12-18 1996-09-03 Abbott Laboratories User-restricted passage in reusable portion of device for monitoring a physiological pressure
JP4024335B2 (ja) * 1996-01-26 2007-12-19 ハリス コーポレイション 集積回路のダイを露出させる開口部を有する集積回路装置とその製造方法
US5672832A (en) * 1996-02-15 1997-09-30 Nt International, Inc. Chemically inert flow meter within caustic fluids having non-contaminating body
JPH09232595A (ja) * 1996-02-26 1997-09-05 Denso Corp 圧力検出装置
US5763787A (en) * 1996-09-05 1998-06-09 Rosemont Inc. Carrier assembly for fluid sensor
DE19707503B4 (de) * 1997-02-25 2007-01-04 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
ES2137850B1 (es) * 1997-06-13 2000-08-16 Consejo Superior Investigacion Tecnica de encapsulacion para microsensores de presion entre ambientes humedos.
FR2771551B1 (fr) * 1997-11-21 2000-01-28 Ela Medical Sa Composant microelectromecanique, tel que microcapteur ou microactionneur, reportable sur un substrat de circuit hybride
JPH11211594A (ja) * 1998-01-28 1999-08-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体圧力センサ
JP2000162069A (ja) * 1998-11-26 2000-06-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体圧力センサ
US6307258B1 (en) 1998-12-22 2001-10-23 Silicon Bandwidth, Inc. Open-cavity semiconductor die package
US6255728B1 (en) * 1999-01-15 2001-07-03 Maxim Integrated Products, Inc. Rigid encapsulation package for semiconductor devices
JP2000356561A (ja) * 1999-04-14 2000-12-26 Denso Corp 半導体歪みセンサ
US6578435B2 (en) 1999-11-23 2003-06-17 Nt International, Inc. Chemically inert flow control with non-contaminating body
US6401545B1 (en) 2000-01-25 2002-06-11 Motorola, Inc. Micro electro-mechanical system sensor with selective encapsulation and method therefor
US6673023B2 (en) 2001-03-23 2004-01-06 Stryker Puerto Rico Limited Micro-invasive breast biopsy device
US20020138091A1 (en) * 2001-03-23 2002-09-26 Devonrex, Inc. Micro-invasive nucleotomy device and method
US20020138021A1 (en) * 2001-03-23 2002-09-26 Devonrex, Inc. Micro-invasive tissue removal device
WO2002089038A2 (en) 2001-04-27 2002-11-07 Atrua Technologies, Inc. Capacitive sensor system with improved capacitance measuring sensitivity
EP1407477A4 (de) * 2001-05-22 2006-06-07 Atrua Technologies Inc Verbesserte verbindungsbaugruppe für integrierte schaltungssensoren
US7259573B2 (en) * 2001-05-22 2007-08-21 Atrua Technologies, Inc. Surface capacitance sensor system using buried stimulus electrode
US6769319B2 (en) 2001-07-09 2004-08-03 Freescale Semiconductor, Inc. Component having a filter
US6987034B1 (en) 2002-01-09 2006-01-17 Bridge Semiconductor Corporation Method of making a semiconductor package device that includes singulating and trimming a lead
US6891276B1 (en) * 2002-01-09 2005-05-10 Bridge Semiconductor Corporation Semiconductor package device
US6936495B1 (en) 2002-01-09 2005-08-30 Bridge Semiconductor Corporation Method of making an optoelectronic semiconductor package device
US7190060B1 (en) 2002-01-09 2007-03-13 Bridge Semiconductor Corporation Three-dimensional stacked semiconductor package device with bent and flat leads and method of making same
JP3766034B2 (ja) * 2002-02-20 2006-04-12 富士通株式会社 指紋センサ装置及びその製造方法
JP2003247903A (ja) 2002-02-21 2003-09-05 Denso Corp 圧力センサ
US6946742B2 (en) * 2002-12-19 2005-09-20 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with isolator having selected modulus of elasticity
US20040041254A1 (en) * 2002-09-04 2004-03-04 Lewis Long Packaged microchip
US6768196B2 (en) * 2002-09-04 2004-07-27 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with isolation
US7166911B2 (en) 2002-09-04 2007-01-23 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with premolded-type package
DE10243515A1 (de) * 2002-09-19 2004-04-01 Robert Bosch Gmbh Sensor
US20050056870A1 (en) * 2002-12-19 2005-03-17 Karpman Maurice S. Stress sensitive microchip with premolded-type package
US8277386B2 (en) 2004-09-27 2012-10-02 Volcano Corporation Combination sensor guidewire and methods of use
JP2006300774A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Denso Corp ダイヤフラム型圧力検出装置
JP4556784B2 (ja) * 2005-06-27 2010-10-06 株式会社デンソー 圧力センサ
DE102005054177B4 (de) * 2005-11-14 2011-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von gehäusten Sensormodulen
KR100773759B1 (ko) * 2006-03-27 2007-11-09 한국기계연구원 마이크로 압력센서
US8344487B2 (en) * 2006-06-29 2013-01-01 Analog Devices, Inc. Stress mitigation in packaged microchips
DE102007005630B4 (de) 2007-02-05 2019-08-08 Infineon Technologies Ag Sensorchip-Modul und Verfahren zur Herstellung eines Sensorchip-Moduls
US20080277747A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Nazir Ahmad MEMS device support structure for sensor packaging
US7694610B2 (en) * 2007-06-27 2010-04-13 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Photo-multiplier tube removal tool
EP2090873B1 (de) * 2008-02-14 2011-06-01 Elmos Advanced Packaging B.V. Integriertes Schaltungsgehäuse
US8643127B2 (en) * 2008-08-21 2014-02-04 S3C, Inc. Sensor device packaging
US7775119B1 (en) 2009-03-03 2010-08-17 S3C, Inc. Media-compatible electrically isolated pressure sensor for high temperature applications
US20130130424A1 (en) * 2010-05-03 2013-05-23 S3C, Inc. Process for minimizing chipping when separating mems dies on a wafer
JP4968371B2 (ja) * 2010-06-30 2012-07-04 大日本印刷株式会社 センサデバイスの製造方法及びセンサデバイス
WO2012049742A1 (ja) * 2010-10-13 2012-04-19 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサおよびその製造方法並びに流量センサモジュールおよびその製造方法
JP5710538B2 (ja) * 2012-04-06 2015-04-30 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサ
JP5761126B2 (ja) * 2012-05-31 2015-08-12 日本精機株式会社 圧力検出装置
US9676614B2 (en) 2013-02-01 2017-06-13 Analog Devices, Inc. MEMS device with stress relief structures
US9470593B2 (en) * 2013-09-12 2016-10-18 Honeywell International Inc. Media isolated pressure sensor
US10167189B2 (en) 2014-09-30 2019-01-01 Analog Devices, Inc. Stress isolation platform for MEMS devices
JP6213527B2 (ja) * 2015-06-30 2017-10-18 株式会社デンソー 圧力センサ
US10131538B2 (en) 2015-09-14 2018-11-20 Analog Devices, Inc. Mechanically isolated MEMS device
WO2017056673A1 (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 日立オートモティブシステムズ株式会社 力学量測定装置
EP3396329A1 (de) * 2017-04-28 2018-10-31 Sensirion AG Sensorpaket
US11417611B2 (en) 2020-02-25 2022-08-16 Analog Devices International Unlimited Company Devices and methods for reducing stress on circuit components
US11879790B2 (en) * 2021-10-28 2024-01-23 Texas Instruments Incorporated Isolated temperature sensor package with embedded spacer in dielectric opening

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2300254A1 (de) * 1972-01-12 1973-07-26 Philips Nv Druckaufnehmer fuer fluessigkeiten oder gase
US4502335A (en) * 1983-05-04 1985-03-05 Honeywell Inc. Fluid pressure transmitter assembly
US4655088A (en) * 1985-10-07 1987-04-07 Motorola, Inc. Unibody pressure transducer package
EP0386959A2 (de) * 1989-03-06 1990-09-12 Honeywell Inc. Konsumdirektdrucksensoreinheit

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE35321T1 (de) * 1985-01-28 1988-07-15 Kristal Instr Ag Messwandlereinsatz, verfahren zu seiner herstellung und verwendung fuer einen aufnehmer zur messung mechanischer groessen.
US4658651A (en) * 1985-05-13 1987-04-21 Transamerica Delaval Inc. Wheatstone bridge-type transducers with reduced thermal shift
JPH061226B2 (ja) * 1986-05-07 1994-01-05 日本電装株式会社 半導体圧力センサ
JP2695643B2 (ja) * 1988-04-12 1998-01-14 シチズン時計株式会社 圧力センサユニットの製造方法
JPH02296373A (ja) * 1989-05-10 1990-12-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2300254A1 (de) * 1972-01-12 1973-07-26 Philips Nv Druckaufnehmer fuer fluessigkeiten oder gase
US4502335A (en) * 1983-05-04 1985-03-05 Honeywell Inc. Fluid pressure transmitter assembly
US4655088A (en) * 1985-10-07 1987-04-07 Motorola, Inc. Unibody pressure transducer package
EP0386959A2 (de) * 1989-03-06 1990-09-12 Honeywell Inc. Konsumdirektdrucksensoreinheit

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP-Abstr. 2-69630 (A) *
R. Werthschützky, Drucksensoren mit piezoresisti- ven Widerständen - Stand und Tendenzen msr, Berlin, 32 (1989) 11, S. 486-489 *

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4335588A1 (de) * 1992-10-19 1994-04-21 Mitsubishi Electric Corp Drucksensor
US5436491A (en) * 1992-10-19 1995-07-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Pressure sensor for high temperature vibration intense environment
DE4244459C1 (de) * 1992-12-23 1994-05-11 Siemens Ag Druckmeßumformer
US5691479A (en) * 1992-12-23 1997-11-25 Siemens Aktiengellschaft Pressure transducer with a housing for use with a conventionally packaged pressure sensor
DE4244460C1 (de) * 1992-12-23 1994-04-14 Siemens Ag Druckmeßumformer
DE4306268A1 (de) * 1993-03-01 1994-09-08 Ust Umweltsensortechnik Gmbh Gehäuse für Sensoren
DE19726839C2 (de) * 1997-01-14 2003-09-25 Mitsubishi Electric Corp Halbleitersensor
US6393922B1 (en) 1997-01-29 2002-05-28 Infineon Technologies Ag Pressure sensor component with hose connection
DE19724025A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE19724026A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
US6313514B1 (en) 1997-06-06 2001-11-06 Infineon Technologies Ag Pressure sensor component
EP1063504A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-27 Rémy Kirchdoerffer Verfahren zur Herstellung einer Messvorrichtung
US6532650B1 (en) 1999-06-24 2003-03-18 Remy Kirchdoerffer Process of making an encapsulated electronic device
FR2795520A1 (fr) * 1999-06-24 2000-12-29 Remy Kirchdoerffer Procede de fabrication d'un dispositif du type instrument ou appareil de mesure ou de detection et dispositifs resultants
DE10215104B4 (de) * 2001-04-11 2012-02-09 Denso Corporation Drucksensor, bei welchem ein Harzhaftmittel zwischen einem Halbleiter-Sensorelement und einem Metallschaft verwendet wird
WO2004106222A1 (de) * 2003-05-26 2004-12-09 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanischer drucksensor und verfahren zu seiner herstellung
DE10324139B4 (de) * 2003-05-26 2005-07-21 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102014114014B4 (de) 2013-09-27 2021-09-30 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Package mit integrierter Dichtung sowie Herstellungsverfahren dafür

Also Published As

Publication number Publication date
KR920017291A (ko) 1992-09-26
DE4203832C2 (de) 1996-06-13
US5207102A (en) 1993-05-04
JPH04258176A (ja) 1992-09-14
KR950001169B1 (ko) 1995-02-11

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