DE4203832C2 - Halbleiter-Druckaufnehmer - Google Patents

Halbleiter-Druckaufnehmer

Info

Publication number
DE4203832C2
DE4203832C2 DE4203832A DE4203832A DE4203832C2 DE 4203832 C2 DE4203832 C2 DE 4203832C2 DE 4203832 A DE4203832 A DE 4203832A DE 4203832 A DE4203832 A DE 4203832A DE 4203832 C2 DE4203832 C2 DE 4203832C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
chip
pressure sensor
semiconductor pressure
pressure transducer
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4203832A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4203832A1 (de
Inventor
Yoshiharu Takahashi
Tetsuya Hirose
Hideyuki Ichiyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Publication of DE4203832A1 publication Critical patent/DE4203832A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4203832C2 publication Critical patent/DE4203832C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/84Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/141Monolithic housings, e.g. molded or one-piece housings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/0061Electrical connection means
    • G01L19/0084Electrical connection means to the outside of the housing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/147Details about the mounting of the sensor to support or covering means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49082Resistor making
    • Y10T29/49103Strain gauge making

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Halbleiter-Druckaufnehmer gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1 oder 2.
Fig. 12 ist ein Querschnitt durch einen konventionellen Druckaufnehmer, der beispielsweise in der US-PS 4 655 088 gezeigt ist. Die Fig. 13 bzw. 14 sind ein Querschnitt bzw. eine Draufsicht eines Außengehäuses des Druckaufnehmers von Fig. 12. Nach den Zeichnungen ist ein Druckaufnehmerchip 1 mit einem Chipbondmaterial 6 an einem Außengehäuse 10 befe­ stigt, das ein integrales Formteil beispielsweise aus Epoxidharz ist. In dem Außengehäuse 10 ist eine Öffnung 13 gebildet, und eine Zuleitung 8 ist vorher darin angebracht worden. Der Druckaufnehmerchip 1 und die Zuleitung 8 sind miteinander durch einen Leiter 9 verbunden, und der obere Teil des Druckaufnehmerchips 1 ist mit einem Schutzharz 14 überzogen. Eine Staubschutzscheibe 12 mit einer darin gebil­ deten Öffnung 11 ist im oberen Teil des Druckaufnehmerchips 1 angeordnet.
Dieser Druckaufnehmer wird so hergestellt, daß er gemeinsam mit der Zuleitung 8 integral geformt wird unter Bildung des Außengehäuses 10. Anschließend erfolgt Chipbonden des Druck­ aufnehmerchips 1 mit Hilfe des Chipbondmaterials 6, und der Druckaufnehmerchip 1 und die Zuleitung 8 werden durch Draht­ bonden mit dem Leiter 9 verbunden. Dann wird das Schutzharz 14 auf die Oberfläche des Druckaufnehmerchips 1 aufgebracht, und eine Scheibe 12 wird mit dem Außengehäuse 10 haftend ver­ bunden, so daß damit der Druckaufnehmer fertiggestellt ist. Wie oben beschrieben, ist der Druckaufnehmerchip 1 durch das Chipbondmaterial 6 mit dem Außengehäuse 10 fest verbunden, das gemeinsam mit der Zuleitung 8 integral geformt ist. Daher sind der Leiter 9 und der Druckaufnehmerchip 1 nicht integral mit dem Außengehäuse 10 geformt, sondern nur die Zuleitung 8 und das Außengehäuse 10 sind gemeinsam integral geformt.
Um die Charakteristiken des so aufgebauten Druckaufnehmers durch Verringerung der inneren Spannungen zu verbessern, ist es am wirksamsten, die herzustellende Komponente aus einem Material zu fertigen, dessen linearer Ausdehnungskoeffizient demjenigen von Silizium angenähert ist, das das Material für den Druckaufnehmerchip 1 ist. Das heißt also, daß die Genau­ igkeit des Druckaufnehmers durch die physikalischen Eigen­ schaften des eingesetzten Materials bestimmt ist, denn die bei der Herstellung erzeugten inneren Spannungen wirken auf den Widerstand des Druckaufnehmers, wodurch die Druckmeßge­ nauigkeit verschlechtert wird.
Bisher werden die Linearität der Offsetabwanderung (die Linearität der Temperaturänderung der Offsetspannung) und die Linearität der Bereichsabwanderung (die Linearität der Aus­ gangsspannung beim Aufbringen von Druck- im wesentlichen durch den Aufbau und das Material des Druckaufnehmers be­ stimmt. Das Material und die Struktur müssen daher geändert werden, um befriedigende Charakteristiken zu erreichen. Bei­ spielsweise hat der Druckaufnehmer von Fig. 12 schlechte Charakteristiken, und die Anwendungsgebiete, auf denen er eingesetzt werden kann, sind durch die erreichbare Meßgenau­ igkeit begrenzt. Der Grund liegt darin, daß die inneren Span­ nungen, die nach der Montage der Komponenten erzeugt werden, zu groß sind, weil die Differenz zwischen dem linearen Aus­ dehnungskoeffizienten 3,5 × 10-6 (l/°C) von Silizium, aus dem der Druckaufnehmerchip 1 besteht, und dem linearen Ausdeh­ nungskoeffizienten 33 × 10-6 (l/°C) beispielsweise des Epoxidharzes des Außengehäuses 10 zu groß ist, da das Außen­ gehäuse 10 durch Chipbonden direkt mit dem Druckaufnehmer 1 verbunden ist.
Um also einen genauen Druckaufnehmer zu erhalten, wird ein Siliziumsockel, der aus dem gleichen Material wie der Sili­ ziumchip besteht, oder beispielsweise ein Pyrex-Glassockel mit im wesentlichen dem gleichen linearen Ausdehnungskoeffi­ zienten wie der Siliziumchip mit dem Siliziumchip integral geformt, und der so geformte Sockel wird durch Chipbonden mit dem Leiterrahmen oder der Basis verbunden, wodurch die inne­ ren Spannungen verringert werden. Je dicker der Sockel, umso größer ist die Auswirkung in bezug auf eine Verminderung der inneren Spannungen. Wenn aber der Sockel große Dicke hat, kann beim Drahtbonden die Temperatur an der Drahtbondstelle des Druckaufnehmerchips nicht ohne weiteres erhöht werden. Es ist also notwendig, die Temperatur eines Heizelements zum Erwärmen der Drahtbondstelle zu erhöhen. Diese Temperatur darf aber zum Drahtbonden nicht über die Formänderungstem­ peratur des Gießharzes erhöht werden. Somit muß das Draht­ bonden durch Ultraschallschwingungen und Applikationsdraht­ bonden erfolgen, wobei Ultraschallschwingungen und Applika­ tionskraft angewandt werden. Wenn jedoch der Pegel der Ultra­ schallschwingungen erhöht wird, entsteht das weitere Problem, daß die Metallisierung auf der Zuleitung relativ dick gemacht werden muß.
Aus der US-PS 4 502 335 ist ein Drucksensor mit Sockel und einem darauf angeordneten selektiven Diaphragma bekannt. Das Diaphragma wird über Bonddrähte mit äußeren Anschlußelementen verbunden. Ein kappenförmiges Gehäuse umgibt das Diaphragma sowie die Anschlußelemente. Das Gehäuse steht dabei mit dem Diaphragma nicht unmittelbar in Verbindung. Dadurch, daß das Gehäuse nicht in einem Formvorgang integral ausgebildet ist, sondern über einen Träger gestülpt und mit diesem verlötet wird, werden mechanische Spannungen im Montageprozeß, die auf das Diaphragma übertragbar sind, von vorneherein minimiert. Nachteilig ist jedoch die außerordentlich aufwendige Gesamt­ konstruktion.
Bei dem gattungsbildenden JP-Abstract 2-69630 (A) wird ein Halbleiter-Drucksensor gezeigt, der einen Träger aufweist, welcher hermetisch mit einer Kappe verlötet ist. Eine integrale Außengehäuseausbildung ist nicht vorgesehen.
Die DE-OS 23 00 254 offenbart einen Druckaufnehmer für Flüssigkeiten oder Gase unter Verwendung einer Membran mit einem verdickten Unterstützungsrand. Durch die Ausbildung von Kanälen für Stromzuführungsleiter in einem Träger soll die elektrische und mechanische Verbindung vereinfacht werden.
Die EP 0 386 959 A2 zeigt ein kostengünstiges Gehäuse für einen Drucksensor, wobei der eigentliche sensitive Chip von einer zusammenhängenden, umlaufenden Wulst umfaßt ist. Die Wulst absorbiert Spannungen, die vom Gehäuse auf den Chip übertragen werden könnten. Das Gehäuse umfaßt den Chip weder unmittelbar noch integral. Nachteilig ist die Notwendigkeit des Vorsehens eines Spannungspuffers in Form der erwähnten umlaufenden Wulst.
Aus Werthschützky, R., "Messen, Steuern, Regeln", Berlin 32 (1989), Band 11, Seiten 486-489, sind unterschiedliche Dimensionierungen und Konstruktionsprinzipien industriell ge­ fertigter piezoresistiver Primärdrucksensoren bekannt.
Einzelheiten zur integralen Außengehäuseausbildung mittels Formvorgang werden nicht beschrieben.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, einen Halbleiter-Druckaufnehmer anzugeben, dessen Außengehäuse mittels Form­ vorgang ausgebildet werden kann, wobei der eigentliche Halb­ leiter-Druckaufnehmerbereich von mechanischen Spannungen frei bleibt, so daß eine hohe Zuverlässigkeit und ausreichende Meßgenauigkeit derartiger Druckaufnehmer gewährleistet ist.
Die Lösung der Aufgabe der Erfindung erfolgt mit einem Gegen­ stand gemäß den Merkmalen der Patentansprüche 1 oder 2.
Die Erfindung soll nachstehend anhand der Beschreibung von Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegen­ den Zeichnungen näher erläutert werden. Die Zeichnungen zei­ gen in:
Fig. 1 einen Querschnitt durch ein Ausführungsbeispiel des Druckaufnehmers;
Fig. 2 eine Draufsicht auf den Druckaufnehmer von Fig. 1;
Fig. 3 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem Ver­ hältnis des Durchmessers einer im Außengehäuse ge­ bildeten Öffnung und des Durchmessers der Membran zu der mechanischen Spannung der Membran wieder­ gibt;
Fig. 4 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Verdeutlichung der in Fig. 3 dargestellten Durchmesser der Membran und der im Außengehäuse gebildeten Öffnung;
Fig. 5 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem Ver­ hältnis der Dicken eines Sockels und des Druckauf­ nehmers zu der mechanischen Spannung der Membran zeigt;
Fig. 6 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Verdeutlichung der in Fig. 5 angegebenen Dicken des Druckaufnehmers und des Sockels;
Fig. 7 einen Querschnitt durch ein weiteres Ausführungs­ beispiel des Druckaufnehmers;
Fig. 8 eine Rückansicht, die ein weiteres Ausführungsbei­ spiel des Druckaufnehmers;
Fig. 9 eine Rückansicht eines anderen Ausführungsbeispiels des Druckaufnehmers;
Fig. 10 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der Dicke des Außengehäuses und der Spannung der Membran zeigt;
Fig. 11 einen Querschnitt durch den Druckaufnehmer zur Verdeutlichung der Dicke des Außengehäuses von Fig. 10;
Fig. 12 einen Querschnitt durch einen konventionellen Druckaufnehmer;
Fig. 13 einen Querschnitt durch das Außengehäuse des Druck­ aufnehmers von Fig. 12; und
Fig. 14 eine Draufsicht, die das Außengehäuse des Druckauf­ nehmers von Fig. 12 zeigt.
Fig. 1 zeigt im Querschnitt ein Ausführungsbeispiel des Druckaufnehmers, und Fig. 2 ist eine Draufsicht auf ihn. In den Zeichnungen sind mit 1, 6 und 8-10 die gleichen Elemente wie bei dem konventionellen Druckaufnehmer bezeichnet. Der Druckaufnehmer 1 hat eine durch Ätzen geformte Membran 2, und auf der Membran 2 ist ein piezoelektrischer Widerstand 3 ge­ bildet. Der Druckaufnehmerchip 1 ist auf einem Sockel 5 ange­ ordnet, der auf der Oberfläche einer Chipkontaktfläche 7 durch Chipbondmaterial 6, beispielsweise Silikongummi, befe­ stigt ist. Der Leiterrahmen einschließlich der Chipkontaktfläche 7 besteht beispielsweise aus einer Legierung, und innere und äußere Zu­ leitungen des Leiterrahmens werden vorher metallisiert. Eine vorher auf dem Druckaufnehmerchip 1 gebildete Drahtbondinsel 4 und die Zuleitung 8 sind miteinander durch den Leiter 9 verbunden.
Der oben beschriebene Druckaufnehmerchip 1, der Sockel 5, der Leiter 9 und die Chipkontaktfläche 7 sind durch das Außenge­ häuse 10, das beispielsweise Epoxidharz ist, integral gekap­ selt mit Ausnahme der Oberfläche der Membran 2 und der Rück­ seite der Chipkontaktfläche 7. Das integrale Kapseln mittels des Außengehäuses 10 kann durch ein übliches Verfahren zur Herstellung von ICs vervollständigt werden. Bisher kann der integrale Formvorgang nicht mit einer allgemeinen IC-Montage­ straße kombiniert werden, weil die im Druckaufnehmerchip 1 aufgrund einer thermischen Verformung erzeugten Spannungen nicht absorbiert werden können. Die Komponenten für den Druckaufnehmer können aber unter Anwen­ dung konventioneller Einrichtungen und Montagestraßen zu­ sammengebaut werden.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4 wird beschrieben, wie die in dem piezoelektrischen Widerstand auf der Membran er­ zeugten Spannungen bei dem so aufgebauten Druckaufnehmer sich entsprechend dem Verhältnis des Durchmessers D₁ einer in dem geformten Außengehäuse 10 gebildeten Öffnung zu dem Durch­ messer D₀ der Membran 2 ändern. Das Diagramm von Fig. 3 zeigt die Größe der mechanischen Spannung in bezug auf das Verhält­ nis D₁/D₀, wobei die Spannung mit 1 (100%) angenommen ist, wenn der Durchmesser D₁ der Öffnung gleich der Dimension D₀ der Membran ist. Aus dem Diagramm ist ersichtlich, daß bei einem Verhältnis D₁/D₀ von 1,6 die Spannung um 20% herabge­ setzt werden kann. Wie oben beschrieben, kann die in dem Teil des Druckaufnehmerchips 1, in dem der piezoelektrische Wider­ stand 3 angeordnet ist, erzeugte Spannung dadurch verringert werden, daß das Verhältnis D₁/D₀ zu 1 oder größer gemacht wird.
Die Fig. 5 bzw. 6 verdeutlichen eine Auswirkung, die erhalten wird, wenn die Rückseite der Chipkontaktfläche 7 nicht von dem Außengehäuse 10 umkapselt ist, und zeigen ferner die Be­ ziehung des Verhältnisses der Dicke T des Sockels 5 und der Dicke T₁ des Druckaufnehmerchips 1 zu der mechanischen Span­ nung, die in einem Teil erzeugt wird, in dem der piezoelek­ trische Widerstand 3 angeordnet ist. In Fig. 5 wird davon ausgegangen, daß die erzeugten mechanischen Spannungen dann 1 (100%) sind, wenn T/T₁ = 7,5, und schwarze Punkte zeigen die Größe der Spannungen, die in dem piezoelektrischen Wi­ derstand 3 auf der Membran 2 des Druckaufnehmerchips 1 auf­ treten, während die weißen Punkte die Absolutwerte der Spannungen zeigen, die auf den Sockel 5 wirken. Wenn, wie die Zeichnungen zeigen, T/T₁ von 7,5 auf 1,25 verringert wird, können die mechanischen Spannungen von 100% auf 50% ver­ ringert werden. Wie oben beschrieben, können die in dem Druckaufnehmerchip 1 erzeugten mechanischen Spannungen ver­ ringert werden, indem das Verhältnis zwischen der Dicke des Sockels 5 und der Dicke des Druckaufnehmerchips 1 zu 7,5 oder kleiner gemacht wird. Da die Dicke des Sockels 5 verringert ist, kann ferner als die Heizeinrichtung eine zum Formen von ICs verwendete normale Heizeinrichtung eingesetzt werden, um die Temperatur auf einen Wert zu erhöhen, der zum Drahtbonden notwendig ist.
Bei der in den Fig. 4 und 6 gezeigten Konstruktion ist zwar das Außen­ gehäuse 10 nicht an der Rückseite der Chipkontaktfläche 7 vorgesehen, aber es kann auch die Konstruktion gemäß Fig. 7 verwendet werden, bei der das Außengehäuse 10 den Endab­ schnitt der Rückseite der Chipkontaktfläche 7 umgibt, um dadurch den Durchmesser der Öffnung größer als den Durch­ messer D₁ zu machen. Die Form der Rückseite des Druckauf­ nehmers kann verschieden sein. Beispielsweise kann eine symmetrische Form entsprechend Fig. 8 und eine Konstruktion gemäß Fig. 9, bei der die gegenüberstehenden Flächen zuein­ ander symmetrisch sind, verwendet werden.
Das Diagramm von Fig. 10 zeigt, wie die mechanische Spannung in dem Teil, in dem der piezoelektrische Widerstand angeord­ net ist, geändert wird, wenn die Dicke W des Außengehäuses 10 von Fig. 11 geändert wird. Da die inneren Spannungen in dem Teil, in dem der piezoelektrische Widerstand 3 angeordnet ist, durch Vergrößern der Dicke des Seitenteils des Außen­ gehäuses 10 verringert werden kann, kann die Dicke des den Sockel 5, die Chipkontaktfläche 7 und den Druckaufnehmerchip 1 umgebenden Kunstharzes frei bestimmt werden, wenn sie grö­ ßer als ein vorbestimmter Wert ist. Wenn man also annimmt, daß die mechanische Spannung bei W = 0,3 mm (schwarzer Punkt A) 1 (100%) ist, wird die Spannung in dem Membranteil 93% bei W = 0,45 mm (schwarzer Punkt B). Ferner zeigt der schwar­ ze Punkt C die Tatsache, daß die mechanische Spannung 100% wird, weil sie um 7% ansteigt, wenn eine Druckeinführleitung 20 für einen Druckaufnehmer vorgesehen wird, der so ausge­ legt ist, daß W = 0,45 mm. Da, wie oben beschrieben, der integral gekapselte Druckaufnehmer eine in seinem Membranteil gebildete Öffnung hat, wird der Einfluß der Dicke der Kunst­ harzschicht, die den Sockel 5, die Chipkontaktfläche 7 und den Druckaufnehmerchip 1 umgibt, vermindert. Wenn also die Druckeinführleitung 20 vorgesehen oder die Form aus irgend­ welchen Gründen geändert ist, werden die in der Membran er­ zeugten mechanischen Spannungen nicht größer. Infolgedessen kann ein Druckaufnehmer mit großer Konstruktionsfreiheit erhalten werden.
Bei dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel hat der Druck­ aufnehmer einen Sockel 5. Eine Konstruktion mit Sockel kann verwendet werden, wenn der Druckaufnehmer sehr hohe Genauig­ keit haben soll. Eine Konstruktion ohne Sockel kann verwendet werden, wenn die große Genauigkeit nicht gefordert ist. In diesem Fall kann der sockellose Druckaufnehmer durch inte­ grales Formen im gleichen Montageablauf hergestellt werden, wenn die Form für das integrale Formen ausgewechselt wird.
Der Silikongummi, der als Chipkontaktmaterial 6 bei der Er­ findung eingesetzt wird, kann durch Epoxidharz oder Lot ersetzt werden.
Wie oben beschrieben, kann ein Druckaufnehmer mit der ge­ wünschten Genauigkeit erhalten werden, weil die in dem Druck­ aufnehmerchip erzeugten Wärmespannungen frei vermindert wer­ den können. Ferner kann der Druckaufnehmer in einem allge­ meinen IC-Herstellungsverfahren hergestellt werden, wodurch ein billiger Druckaufnehmer hoher Güte erhalten wird. Außer­ dem kann das Verhältnis zwischen der Dicke des Sockels und der Dicke des Druckaufnehmerchips auf 7,5 oder kleiner ver­ ringert werden. Die zum Drahtbonden erforderliche Temperatur kann dadurch gesenkt werden, und das Eindiffundieren von Grundmetall in die auf dem Leiterrahmen gebildete Metallisie­ rungsschicht kann vermindert werden. Infolgedessen kann die Dicke der Metallisierung herabgesetzt werden.

Claims (2)

1. Halbleiter-Druckaufnehmer, umfassend einen Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1), auf dem mindestens ein Widerstand (3) vorgesehen und eine Membran (2) gebildet ist;
einen Sockel (5), auf dem der Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) angeordnet ist;
eine Chipkontaktfläche (7), auf die der Sockel (5) positio­ niert ist;
Zuleitungen (8);
Leiter (9) zum elektrischen Verbinden der Zuleitungen (8) mit dem Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) und
ein Außengehäuse (10), welches einen Teil der Oberfläche des Halbleiter-Druckaufnehmerchips (1) und einen Teil der Rückseite der Chipkontaktfläche (7) freiläßt,
dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1), der Sockel (5), die Leiter (9), Teile der Zuleitungen (8) und die Chipkontaktfläche (7) mittels Formvorgang unter integraler Bildung des Außengehäuses (10) umfaßt und gekapselt sind, wobei zur Verringerung mechanischer Spannungen im Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) das Verhältnis der Dicke (T) des Sockels (5) zur Dicke (T1) des Halbleiter-Druckaufnehmerchips (1) 7,5 oder kleinen ist.
2. Halbleiter-Druckaufnehmer, umfassend einen Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1), auf dem mindestens ein Widerstand (3) vorgesehen und eine Membran (2) gebildet ist;
einen Sockel (5), auf dem der Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) angeordnet ist;
eine Chipkontaktfläche (7), auf die der Sockel (5) positio­ niert ist;
Zuleitungen (8);
Leiter (9) zum elektrischen Verbinden der Zuleitungen (8) mit dem Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) und
ein Außengehäuse (10), welches einen Teil der Oberfläche des Halbleiter-Druckaufnehmerchips (1) und einen Teil der Rückseite der Chipkontaktfläche (7) freiläßt,
dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1), der Sockel (5), die Leiter (9), Teile der Zuleitungen (8) und die Chipkontaktfläche (7) mittels Formvorgang unter integraler Bildung des Außengehäuses (10) umfaßt und gekapselt sind, wobei zur Verringerung mechanischer Spannungen im Halbleiter-Druckaufnehmerchip (1) das Verhältnis des Durchmessers (D1) des vom Außengehäuse (10) freigelassenen Teiles der Ober­ fläche des Halbleiter-Druckaufnehmerchips (1) zum Durchmesser (D0) der Membran (2) 1 oder größer ist.
DE4203832A 1991-02-12 1992-02-10 Halbleiter-Druckaufnehmer Expired - Fee Related DE4203832C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3038902A JPH04258176A (ja) 1991-02-12 1991-02-12 半導体圧力センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4203832A1 DE4203832A1 (de) 1992-08-13
DE4203832C2 true DE4203832C2 (de) 1996-06-13

Family

ID=12538127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4203832A Expired - Fee Related DE4203832C2 (de) 1991-02-12 1992-02-10 Halbleiter-Druckaufnehmer

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5207102A (de)
JP (1) JPH04258176A (de)
KR (1) KR950001169B1 (de)
DE (1) DE4203832C2 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19707503A1 (de) * 1997-02-25 1998-08-27 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE19703206C2 (de) * 1997-01-29 2002-01-24 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Bauteil mit Schlauchanschluß
US7851829B2 (en) 2007-02-05 2010-12-14 Infineon Technologies Ag Semiconductor chip module

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5279164A (en) * 1990-12-18 1994-01-18 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor with improved temperature compensation
US5333505A (en) * 1992-01-13 1994-08-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor for use at high temperature and pressure and method of manufacturing same
JPH06132545A (ja) * 1992-10-19 1994-05-13 Mitsubishi Electric Corp 圧力検出装置
DE4244460C1 (de) * 1992-12-23 1994-04-14 Siemens Ag Druckmeßumformer
DE4244459C1 (de) * 1992-12-23 1994-05-11 Siemens Ag Druckmeßumformer
DE4306268A1 (de) * 1993-03-01 1994-09-08 Ust Umweltsensortechnik Gmbh Gehäuse für Sensoren
US5686698A (en) * 1994-06-30 1997-11-11 Motorola, Inc. Package for electrical components having a molded structure with a port extending into the molded structure
WO1996007351A1 (en) * 1994-09-02 1996-03-14 Cardiometrics, Inc. Ultra miniature pressure sensor and guidewire using the same and method
US6148673A (en) * 1994-10-07 2000-11-21 Motorola, Inc. Differential pressure sensor and method thereof
AU5417096A (en) 1995-02-24 1996-09-11 Lucas Novasensor Pressure sensor with transducer mounted on a metal base
US6229427B1 (en) * 1995-07-13 2001-05-08 Kulite Semiconductor Products Inc. Covered sealed pressure transducers and method for making same
US5747694A (en) * 1995-07-28 1998-05-05 Nippondenso Co., Ltd. Pressure sensor with barrier in a pressure chamber
US5551300A (en) * 1995-12-18 1996-09-03 Abbott Laboratories User-restricted passage in reusable portion of device for monitoring a physiological pressure
JP4024335B2 (ja) * 1996-01-26 2007-12-19 ハリス コーポレイション 集積回路のダイを露出させる開口部を有する集積回路装置とその製造方法
US5672832A (en) * 1996-02-15 1997-09-30 Nt International, Inc. Chemically inert flow meter within caustic fluids having non-contaminating body
JPH09232595A (ja) * 1996-02-26 1997-09-05 Denso Corp 圧力検出装置
US5763787A (en) * 1996-09-05 1998-06-09 Rosemont Inc. Carrier assembly for fluid sensor
JPH10197374A (ja) * 1997-01-14 1998-07-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体センサ
DE19724025A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE19724026A1 (de) * 1997-06-06 1998-12-10 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
ES2137850B1 (es) * 1997-06-13 2000-08-16 Consejo Superior Investigacion Tecnica de encapsulacion para microsensores de presion entre ambientes humedos.
FR2771551B1 (fr) * 1997-11-21 2000-01-28 Ela Medical Sa Composant microelectromecanique, tel que microcapteur ou microactionneur, reportable sur un substrat de circuit hybride
JPH11211594A (ja) * 1998-01-28 1999-08-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体圧力センサ
JP2000162069A (ja) * 1998-11-26 2000-06-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体圧力センサ
US6307258B1 (en) * 1998-12-22 2001-10-23 Silicon Bandwidth, Inc. Open-cavity semiconductor die package
US6255728B1 (en) 1999-01-15 2001-07-03 Maxim Integrated Products, Inc. Rigid encapsulation package for semiconductor devices
JP2000356561A (ja) * 1999-04-14 2000-12-26 Denso Corp 半導体歪みセンサ
FR2795520B1 (fr) * 1999-06-24 2001-09-07 Remy Kirchdoerffer Procede de fabrication d'un dispositif du type instrument ou appareil de mesure ou de detection et dispositifs resultants
US6578435B2 (en) 1999-11-23 2003-06-17 Nt International, Inc. Chemically inert flow control with non-contaminating body
US6401545B1 (en) 2000-01-25 2002-06-11 Motorola, Inc. Micro electro-mechanical system sensor with selective encapsulation and method therefor
US6673023B2 (en) * 2001-03-23 2004-01-06 Stryker Puerto Rico Limited Micro-invasive breast biopsy device
US20020138091A1 (en) * 2001-03-23 2002-09-26 Devonrex, Inc. Micro-invasive nucleotomy device and method
US20020138021A1 (en) * 2001-03-23 2002-09-26 Devonrex, Inc. Micro-invasive tissue removal device
JP2002310827A (ja) * 2001-04-11 2002-10-23 Denso Corp 圧力センサ
JP2004534217A (ja) 2001-04-27 2004-11-11 アトルア テクノロジーズ インコーポレイテッド 改善されたキャパシタンス測定感度を持つ容量性のセンサシステム
AU2002310087A1 (en) * 2001-05-22 2002-12-03 Atrua Technologies, Inc. Improved connection assembly for integrated circuit sensors
US7259573B2 (en) * 2001-05-22 2007-08-21 Atrua Technologies, Inc. Surface capacitance sensor system using buried stimulus electrode
US6769319B2 (en) 2001-07-09 2004-08-03 Freescale Semiconductor, Inc. Component having a filter
US6936495B1 (en) 2002-01-09 2005-08-30 Bridge Semiconductor Corporation Method of making an optoelectronic semiconductor package device
US6891276B1 (en) 2002-01-09 2005-05-10 Bridge Semiconductor Corporation Semiconductor package device
US6987034B1 (en) 2002-01-09 2006-01-17 Bridge Semiconductor Corporation Method of making a semiconductor package device that includes singulating and trimming a lead
US7190060B1 (en) 2002-01-09 2007-03-13 Bridge Semiconductor Corporation Three-dimensional stacked semiconductor package device with bent and flat leads and method of making same
JP3766034B2 (ja) * 2002-02-20 2006-04-12 富士通株式会社 指紋センサ装置及びその製造方法
JP2003247903A (ja) 2002-02-21 2003-09-05 Denso Corp 圧力センサ
US6768196B2 (en) * 2002-09-04 2004-07-27 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with isolation
US6946742B2 (en) * 2002-12-19 2005-09-20 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with isolator having selected modulus of elasticity
US20040041254A1 (en) * 2002-09-04 2004-03-04 Lewis Long Packaged microchip
US7166911B2 (en) 2002-09-04 2007-01-23 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with premolded-type package
DE10243515A1 (de) * 2002-09-19 2004-04-01 Robert Bosch Gmbh Sensor
US20050056870A1 (en) * 2002-12-19 2005-03-17 Karpman Maurice S. Stress sensitive microchip with premolded-type package
DE10324139B4 (de) * 2003-05-26 2005-07-21 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
US8277386B2 (en) * 2004-09-27 2012-10-02 Volcano Corporation Combination sensor guidewire and methods of use
JP2006300774A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Denso Corp ダイヤフラム型圧力検出装置
JP4556784B2 (ja) * 2005-06-27 2010-10-06 株式会社デンソー 圧力センサ
DE102005054177B4 (de) * 2005-11-14 2011-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von gehäusten Sensormodulen
KR100773759B1 (ko) * 2006-03-27 2007-11-09 한국기계연구원 마이크로 압력센서
WO2008003051A2 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 Analog Devices, Inc. Stress mitigation in packaged microchips
US20080277747A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Nazir Ahmad MEMS device support structure for sensor packaging
US7694610B2 (en) * 2007-06-27 2010-04-13 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Photo-multiplier tube removal tool
EP2090873B1 (de) * 2008-02-14 2011-06-01 Elmos Advanced Packaging B.V. Integriertes Schaltungsgehäuse
US8643127B2 (en) * 2008-08-21 2014-02-04 S3C, Inc. Sensor device packaging
US7775119B1 (en) * 2009-03-03 2010-08-17 S3C, Inc. Media-compatible electrically isolated pressure sensor for high temperature applications
JP2013526083A (ja) * 2010-05-03 2013-06-20 エス3シー インコーポレイテッド ウエハ上のmemsダイ分離時のチッピングを最小にする方法
JP4968371B2 (ja) * 2010-06-30 2012-07-04 大日本印刷株式会社 センサデバイスの製造方法及びセンサデバイス
WO2012049742A1 (ja) * 2010-10-13 2012-04-19 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサおよびその製造方法並びに流量センサモジュールおよびその製造方法
JP5710538B2 (ja) * 2012-04-06 2015-04-30 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサ
JP5761126B2 (ja) * 2012-05-31 2015-08-12 日本精機株式会社 圧力検出装置
US9676614B2 (en) 2013-02-01 2017-06-13 Analog Devices, Inc. MEMS device with stress relief structures
US9470593B2 (en) * 2013-09-12 2016-10-18 Honeywell International Inc. Media isolated pressure sensor
US9366593B2 (en) 2013-09-27 2016-06-14 Infineon Technologies Ag Pressure sensor package with integrated sealing
US10167189B2 (en) 2014-09-30 2019-01-01 Analog Devices, Inc. Stress isolation platform for MEMS devices
JP6213527B2 (ja) * 2015-06-30 2017-10-18 株式会社デンソー 圧力センサ
US10131538B2 (en) 2015-09-14 2018-11-20 Analog Devices, Inc. Mechanically isolated MEMS device
CN108027290B (zh) * 2015-09-30 2020-07-21 日立汽车系统株式会社 力学量测定装置
EP3396329A1 (de) * 2017-04-28 2018-10-31 Sensirion AG Sensorpaket
US11417611B2 (en) 2020-02-25 2022-08-16 Analog Devices International Unlimited Company Devices and methods for reducing stress on circuit components
US11879790B2 (en) * 2021-10-28 2024-01-23 Texas Instruments Incorporated Isolated temperature sensor package with embedded spacer in dielectric opening

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE793922A (fr) * 1972-01-12 1973-07-11 Philips Nv Dispositif de mesure de la pression de liquides ou de gaz
US4502335A (en) * 1983-05-04 1985-03-05 Honeywell Inc. Fluid pressure transmitter assembly
ATE35321T1 (de) * 1985-01-28 1988-07-15 Kristal Instr Ag Messwandlereinsatz, verfahren zu seiner herstellung und verwendung fuer einen aufnehmer zur messung mechanischer groessen.
US4658651A (en) * 1985-05-13 1987-04-21 Transamerica Delaval Inc. Wheatstone bridge-type transducers with reduced thermal shift
US4655088A (en) * 1985-10-07 1987-04-07 Motorola, Inc. Unibody pressure transducer package
JPH061226B2 (ja) * 1986-05-07 1994-01-05 日本電装株式会社 半導体圧力センサ
JP2695643B2 (ja) * 1988-04-12 1998-01-14 シチズン時計株式会社 圧力センサユニットの製造方法
US4942383A (en) * 1989-03-06 1990-07-17 Honeywell Inc. Low cost wet-to-wet pressure sensor package
JPH02296373A (ja) * 1989-05-10 1990-12-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19703206C2 (de) * 1997-01-29 2002-01-24 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Bauteil mit Schlauchanschluß
DE19707503A1 (de) * 1997-02-25 1998-08-27 Siemens Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
US6201467B1 (en) 1997-02-25 2001-03-13 Infineon Technologies Ag Pressure sensor component and production method
DE19707503B4 (de) * 1997-02-25 2007-01-04 Infineon Technologies Ag Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
US7851829B2 (en) 2007-02-05 2010-12-14 Infineon Technologies Ag Semiconductor chip module

Also Published As

Publication number Publication date
DE4203832A1 (de) 1992-08-13
KR950001169B1 (ko) 1995-02-11
JPH04258176A (ja) 1992-09-14
KR920017291A (ko) 1992-09-26
US5207102A (en) 1993-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4203832C2 (de) Halbleiter-Druckaufnehmer
DE10305625B4 (de) Drucksensor
DE19939118C2 (de) Drucksensor
EP0140992B1 (de) Wandlerelement, Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung für einen Druckaufnehmer
DE19714703B4 (de) Drucksensor
DE2237535C2 (de) Druckwandler
DE3811311C1 (de)
EP0033749B2 (de) Piezoresistive zylinderdosenartige Druckmesszelle
DE2711749C2 (de) Mechanisch-elektrischer Umformer
DE2913772A1 (de) Halbleiter-druckwandler
DE19726839C2 (de) Halbleitersensor
DE8407322U1 (de) Piezoresestive druckmesszelle
DE102006013414A1 (de) Drucksensorvorrichtung
DE3937522A1 (de) Mit einem traegerelement verbundener halbleiter-drucksensor
DE2849738A1 (de) Halbleiterkraftwandler
DE102004041388A1 (de) Drucksensorzelle und diese verwendende Drucksensorvorrichtung
DE2938240A1 (de) Druckempfindliche einrichtung und verfahren zu ihrer herstellung
DE3937996A1 (de) Verfahren zur herstellung von halbleiteranordnungen
DE102006017535A1 (de) Druckfühler
DE10018404A1 (de) Halbleiterdehnungssensor
DE4107347A1 (de) Halbleiterdrucksensorgeraet und verfahren zu dessen herstellung
WO1998038483A1 (de) Drucksensor-bauelement und verfahren zur herstellung
DE4201634C2 (de) Halbleiter-Druckaufnahmevorrichtung
DE19804748B4 (de) Anordnung und Verfahren der Isolierung gegen mechanische Spannung bei der Befestigung von Halbleiterchips
DE10316084A1 (de) Halbleiterdrucksensor

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee