DE4338578A1 - Zweidimensionale Laserstrahl-Ablenkvorrichtung - Google Patents
Zweidimensionale Laserstrahl-AblenkvorrichtungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich im allgemeinen
auf Laserstrahl-Ablenkvorrichtungen und betrifft im
spezielleren eine Laserstrahl-Ablenkvorrichtung, die
ein oder mehrere piezoelektrische bimorphe Elemente
zum gleichzeitigen Ablenken eines Laserstrahls in zwei
zueinander orthogonalen Richtungen verwendet.
Piezoelektrische Materialien sind in der Technik all
gemein bekannt und finden in vielerlei Gebieten häufi
ge Anwendung. Keramische piezoelektrische Materialien,
wie z. B. Bleizirkonattitanat, sind sehr starr und für
viele Anwendungen ungeeignet. Piezoelektrische Polyme
re sind weniger dicht und flexibler als keramische
piezoelektrische Materialien. Ein piezoelektrisches
Polymer, das bei vielen Anwendungen eine attraktive
Alternative zu keramischen piezoelektrischen Materia
lien darstellt, ist Polyvinylidenfluorid, das im fol
genden auch kurz als PVDF bezeichnet wird. PVDF be
sitzt im Gegensatz zu seinen keramischen Gegenstücken
ganz andere Eigenschaften. Z.B. ist der Ladungskoeffi
zient von PVDF ca. ein Zehntel des Werts von Bleizir
konattitanat. Außerdem ist die Feldstärke des elektri
schen Wechselfelds, das ohne Entpolarisierung an PVDF
angelegt werden kann, in etwa das 50fache der Feld
stärke, die an keramische piezoelektrische Materialien
angelegt werden kann.
PVDF wird typischerweise als Schicht mit einer Dicke
im Bereich von 5 bis 100 µm hergestellt. Die Fig. 4A
und 4B zeigen in schematischer Weise die allgemein
bekannten Eigenschaften solcher Schichten. Eine typi
sche PVDF-Schicht 10 besitzt auf ihrer oberen und ih
rer unteren Oberfläche aufgebrachte Elektrodenschich
ten 12 zum Anlegen einer Spannung über die Dicke der
Schicht 10. Während der Herstellung wird die Schicht
10 in einer gegebenen Richtung gedehnt, wie dies in
Fig. 4A angedeutet ist. Eine über die Dicke der
Schicht angelegte Spannung induziert über die Dicke
der Schicht 10 ein elektrisches Feld. In Fig. 4 sind
die Polarisierungsrichtung der Schicht in breiten
Pfeilen und die Richtung des elektrischen Felds in
schmalen Pfeilen dargestellt. Wie in Fig. 4A gezeigt
ist, erfolgt dann, wenn das elektrische Feld dieselbe
Richtung wie die Polarisierungsrichtung der Schicht
hat, eine Expansion der Schicht in der Dehnungsrich
tung. Wenn umgekehrt dazu das elektrische Feld und die
Polarisierung entgegengesetzte Richtungen haben, wie
dies in Fig. 4B gezeigt ist, verursacht das elektri
sche Feld ein Schrumpfen der Schicht in der Dehnungs
richtung.
Piezoelektrische Polymerschichten und PVDF-
Schichtmaterial im besonderen sind attraktive Materia
lien zur Verwendung bei bimorphen Elementen. Bei einem
bimorphen Element handelt es sich um ein Gebilde be
stehend aus zwei Streifen piezoelektrischen Schicht
materials, die derart miteinander verbunden sind, daß
ihre jeweiligen Polarisierungsrichtungen derart ange
ordnet sind, daß bei Anlegen eines elektrischen Felds
über beide Schichten hinweg die Feldrichtung der Pola
risierungsrichtung der einen Schicht entspricht und zu
der Polarisierungsrichtung der anderen Schicht entge
gengesetzt ist. Als Ergebnis hiervon dehnt sich eine
Schicht, während sich die andere Schicht zusammen
zieht, wodurch ein Biegen des bimorphen Elements in
einer Richtung verursacht wird. Bei Anlegen eines
Schwingungssignals über den Schichten erfolgt
abwechselnd ein Expandieren und Zusammenziehen der
Schichten, wodurch das bimorphe Element zum Schwingen
gebracht werden. PVDF ist aufgrund seiner Flexibilität
gut für bimorphe Anwendungen geeignet.
Fig. 5 zeigt die Struktur und die Arbeitsweise eines
typischen piezoelektrischen bimorphen Elements 14 des
Standes der Technik. Wie in der Zeichnung zu sehen
ist, besitzt das bimorphe Element 14 ein freitragendes
bzw. einseitig eingespanntes Ende 16, das an einem
Trägerelement 18 fest angebracht ist, sowie ein freies
Ende 20. Das bimorphe Element 14 besitzt eine erste
piezoelektrische Schicht 22 und eine zweite piezo
elektrische Schicht 24, die durch Epoxid oder ein be
liebiges anderes geeignetes Material derart miteinan
der verbunden sind, daß die jeweiligen Elektroden
schichten auf den Verbindungsseiten jeder Schicht eine
gemeinsam verbundene Elektrodenschicht 26 zwischen den
piezoelektrischen Schichten 22, 24 bilden. Eine Span
nungsquelle 28 ist mit den Elektrodenschichten auf den
Außenflächen jeder piezoelektrischen Schicht 22, 24
und mit der gemeinsamen Elektrodenschicht 26 gekop
pelt, um eine Spannung über die Dicke jeder piezo
elektrischen Schicht 22, 24 anzulegen. Wie vorstehend
erwähnt wurde, sind die piezoelektrischen Schichten
derart miteinander verbunden, daß ihre jeweiligen
Polarisierungsrichtungen derart angeordnet sind, daß
bei der einen Schicht das elektrische Feld und die
Polarisierung dieselbe Richtung haben, während bei der
anderen Schicht die Richtung des elektrischen Felds
und die Polarisierungsrichtung einander entgegenge
setzt sind. Eine über beide Schichten angelegte
Wechselspannung erzeugt abwechselnd Expansionen und
Kontraktionen der oberen und der unteren Schicht 22,
24, wodurch das freie Ende 26 des bimorphen Elements
14 in einer Richtung A zum Schwingen gebracht wird,
die im wesentlichen senkrecht zu der Ebene P verläuft,
in der das bimorphe Element liegt. Die Schwingungsfre
quenz entspricht der Frequenz des angelegten Schwings
pannungssignals.
Aufgrund der Entwicklung optischer Ablenk- bzw. Ab
tastvorrichtungen, wie z. B. Strichcode-Lesegeräten,
wie man sie häufig in Einzelhandelsgeschäften findet,
ist in der letzten Zeit ein Bedarf für kleine, kosten
günstige Laserstrahl-Ablenkvorrichtungen entstanden,
die zum Ablenken eines Laserstrahls bei relativ hohen
Frequenzen fähig sind. Bimorphe Elemente, wie z. B. das
vorstehend beschriebene, sind für Laserstrahl-Ablenk
vorrichtungen gut geeignet. Z.B. kann ein nicht ge
zeigter Spiegel an dem freien Ende 26 des bimorphen
Elements 14 angebracht sein. Ein auf den Spiegel auf
treffender Laserstrahl wird in Schwingungsrichtung des
freien Endes 26 abgelenkt. Auf diese Weise kann ein
typisches freitragendes bimorphes Element des Standes
der Technik zum Ablenken eines Laserstrahls in einer
Richtung verwendet werden. Strichcode-Lesegeräte be
nötigen jedoch Vorrichtungen, die zum Ablenken eines
Laserstrahls gleichzeitig in zwei zueinander orthogo
nalen Richtungen fähig sind, da mehrere verschiedene,
in einer parallelen Richtungen ausgerichtete
Strichcodes seriell ausgelesen werden müssen. Ein
freitragendes piezoelektrisches bimorphes Element, wie
z. B. das in Fig. 5 gezeigte Element, ist für diese
Zwecke ungeeignet.
Im Stand der Technik gibt es mehrere Vorrichtungen zum
Ablenken von Laserstrahlen. Z.B. offenbart die US-PS 3 758 199
eine Laserstrahl-Ablenkvorrichtung mit einem
Paar filmartiger piezoelektrischer Wandler, die ein
seitig an einem Ende an einem Trägerelement starr an
gebracht sind, während sie an dem anderen Ende an der
Rückseite eines Spiegels in beabstandeter Weise ge
lenkig angebracht sind, um eine Schwenkbewegung des
Spiegels relativ zu den Wandlern zu ermöglichen. Die
in diesem Patent offenbarte Vorrichtung ist von einem
bimorphen Element zu unterscheiden, da sich die piezo
elektrischen Schichten nicht biegen; statt dessen ver
ursachen die Expansion der einen Schicht und die
Kontraktion der anderen Schicht eine Rotationsbewegung
des gelenkig angebrachten Spiegels um eine durch die
Spiegelebene hindurchlaufende Achse. Obwohl die Vor
richtung für eine eindimensionale Laserstrahlablenkung
geeignet ist, ist sie für eine zweidimensionale Ab
lenkung nicht verwendbar.
Das US-PS 4 778 233 offenbart eine Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem schwenkbar angebrachten Ver
längerungselement, an dem eine reflektierende Fläche
angebracht ist. Ein Piezokristall liegt an dem
Verlängerungselement derart an, daß die Kristallver
formung aufgrund einer angelegten Spannung ein Ver
schwenken des Verlängerungselements verursacht. Wie
bei der Vorrichtung gemäß US-PS 3 758 199 ist die Vor
richtung gemäß US-PS 4 778 233 jedoch ebenfalls nicht
für ein zweidimensionales Ablenken geeignet.
Die US-PS 4 775 815 und 4 917 484 offenbaren eine
dynamische Halterungs- und Betätigungseinrichtung für
einen Lenkspiegel, der mit einem Laserstrahl hoher
Energie arbeitet. Die Vorrichtung dieser Patente ist
für sehr exakte Spiegelbewegungen in der Größenordnung
von Miliradian ausgelegt und dient zur Verwendung bei
Flugzeugen oder Weltraumsatelliten. Die komplexe Vor
richtung besitzt drei piezoelektrische Schubmotoren,
die im Abstand von 120° an einer zylindrischen Halte
rung angebracht sind. Mit dieser Vorrichtung ist zwar
eine zweidimensionale Laserstrahlablenkung möglich,
doch diese Vorrichtung ist nicht für Anwendungen wie
Strichcodelesen konzipiert und ist viel zu komplex und
groß, um für solche Anwendungen Eignung zu finden.
Die US-PS 4 251 798 beschreibt einen zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkkopf zur Verwendung in Strichcode-
Lesesystemen, wobei ein rotierendes, polygonal ausge
bildetes Rad verwendet wird, das Spiegel auf jeder
Facette des Rads aufweist, um ein Ablenken eines La
serstrahls in einer x-Richtung vorzunehmen. Ein ein
zelnes bimorphes Element wird zur Verwendung einer
Ablenkung in y-Achsenrichtung verwendet. Alternativ
hierzu erwähnt dieses Patent zwar, daß ein bimorphes
Element für eine Ablenkung sowohl in x-Achsenrichtung
als auch in y-Achsenrichtung verwendet werden könnte,
oder daß ein einziges bimorphes Element mit einer ent
sprechenden mechanischen Ausbildung verwendet werden
könnte, das entlang beider Achsen elektrisch angetrie
ben wird; dieses Patent beschreibt jedoch an keiner
Stelle, wie eine solche Ausführungsform mit zwei
bimorphen Elementen oder einem einzigen bimorphen
Element aussehen könnte. Weiterhin lehrt dieses Patent
nicht die Verwendung polymerer piezoelektrischer
Schichten z. B. aus PVDF.
In den US-PS 4 387 297 und 4 496 831 ist ein penta
bimorphes Ablenkelement (Fig. 15) offenbart. Diese
Patente erwähnen, daß ein penta-bimorphes Ablenkele
ment für eine Ablenkung in x-Achsenrichtung verwendet
werden kann und ein weiteres solches Element für eine
Ablenkung in y-Achsenrichtung verwendet werden kann.
Das penta-bimorphe Element besitzt ein paar Schwin
gungselemente, die ansprechend auf angelegte Spannun
gen wechselseitig oszillieren. Die bimorphen Elemente
sind jeweils an einem Ende an einer Trägerkonstruktion
angebracht, und Spiegel sind auf ihren oberen Enden
angebracht und derart positioniert, daß sie einen Win
kel von 45° einschließen. Die bimorphen Elemente
schwingen in derselben Ebene in einer Weise ähnlich
einer Stimmgabel. Die bimorphen Elemente werden zur
Erhöhung des Ablenkwinkels in einer einzigen Richtung
verwendet, da die bimorphen Elemente einzeln keine
Ablenkung in einem ausreichend großen Winkel erzielen.
Somit lenkt der zweite Spiegel den Strahl in derselben
Richtung wie der erste Spiegel ab und dient lediglich
zum Vergrößern des Ablenkwinkels. Ein einzelnes penta
bimorphes Element kann keine zweidimensionale Ablen
kung erzielen; statt dessen müssen zwei penta-bimorphe
Elemente verwendet werden, wenn eine zweidimensionale
Ablenkung erzielt werden soll. Obwohl eine zweidimen
sionale Ablenkung zwar möglich ist, müssen somit zwei
penta-bimorphe Elemente verwendet werden, wodurch sich
die Kosten, die Komplexität und die Größe einer voll
ständigen zweidimensionalen Ablenkvorrichtung erhöhen.
Es besteht daher ein Bedarf für eine Laserstrahl-Ab
lenkvorrichtung, die zum Ablenken eines Laserstrahls
gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtun
gen ausgelegt ist, weniger komplex als die Vorrich
tungen des Standes der Technik ist und die Eigenschaf
ten piezoelektrischer Schichten im allgemeinen und von
Polyvinylidenfluorid (PFDV) im besonderen ausnutzt.
Die vorliegende Erfindung erfüllt diese Bedürfnisse
durch eine Laserstrahl-Ablenkvorrichtung, wie sie in
den Kennzeichen der Ansprüche 1 und 6 angegeben ist.
Kurz gesagt ist die vorliegende Erfindung auf die
Schaffung einer zweidimensionalen Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung gerichtet. Bei einem Ausführungsbeispiel
umfaßt die Laserstrahl-Ablenkvorrichtung eine Träger
basis und ein piezoelektrisches bimorphes Gebilde mit
vier aufeinanderfolgend miteinander verbundenen piezo
elektrischen Schichten, die in der Trägerbasis ange
ordnet sind. Jede Schicht besitzt eine in Längs
richtung der Trägerbasis verlaufende Länge, eine in
senkrechter Richtung zu der Trägerbasis verlaufende
Breite und eine in Breitenrichtung der Trägerbasis
verlaufende Dicke. Die beiden äußeren Schichten des
bimorphen Gebildes besitzen eine kürzere Länge als die
beiden inneren Schichten und sind mit den beiden inne
ren Schichten derart verbunden, daß die miteinander
verbundenen inneren und äußeren Schichten einen vier
schichtigen bimorphen Bereich bilden und die beiden
inneren Schichten sich der Länge nach in einer
Richtung über die Enden der beiden äußeren Schichten
hinauserstrecken und einen zweischichtigen bimorphen
Bereich mit einem freien Ende bilden. Der vier
schichtige Bereich ist entlang einer ersten Längskante
an der Trägerbasis angebracht. Eine zweite Längskante
des vierschichtigen Bereichs definiert eine freie
Kante. Das freie Ende des zweischichtigen Bereichs ist
in einem Winkel von im wesentlichen 90° derart abge
bogen, daß sich das freie Ende des zweischichtigen
Bereichs in der Breitenrichtung der Trägerbasis er
streckt.
Ein Spiegel ist an dem freien Ende des zweischichtigen
bimorphen Bereichs angebracht, um das auf diesen ein
fallende Licht zu reflektieren. Elektrodeneinrichtun
gen sind mit den vier piezoelektrischen Schichten ver
bunden, um das bimorphe Gebilde mit einem elektrischen
Signal zu beaufschlagen, um dadurch eine Schwingung
der freien Kante des vierschichtigen Bereichs in der
Breitenrichtung der Trägerbasis sowie eine Schwingung
des freien Endes des abgebogenen zweischichtigen Be
reichs in einer zu der Schwingungsrichtung der freien
Kante des vierschichtigen Bereichs orthogonalen
Richtung zu erzeugen. Die zueinander orthogonalen
Schwingungen der freien Kante des vierschichtigen Be
reichs sowie des freien Endes des zweischichtigen Be
reichs werden somit mechanisch auf den Spiegel über
tragen. Auf den Spiegel einfallendes Licht wird somit
gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtun
gen abgelenkt.
Vorzugsweise besitzen der zweischichtige und der vier
schichtige bimorphe Bereich verschiedene Resonanzfre
quenzen. In diesem Fall besitzt das angelegte Signal
vorzugsweise eine erste Frequenzkomponente und eine
zweite Frequenzkomponente. Die erste Frequenzkomponen
te entspricht im wesentlichen der Resonanzfrequenz des
einen bimorphen Bereichs, und die zweite Frequenzkom
ponente entspricht im wesentlichen der Resonanzfre
quenz des anderen bimorphen Bereichs. Vorzugsweise ist
die Resonanzfrequenz des vierschichtigen bimorphen
Bereichs höher als die Resonanzfrequenz des zwei
schichtigen bimorphen Bereichs. Der zweischichtige
bimorphe Bereich kann weiterhin ein sich durch diesen
hindurcherstreckendes Loch zum Vermindern der Reso
nanzfrequenz des zweischichtigen Bereichs aufweisen.
Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel besitzt die
erfindungsgemäße zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung ein piezoelektrisches bimorphes Element
mit einem ersten und einem zweiten freien Endbereich,
die in zueinander orthogonalen Ebenen angeordnet sind.
Ein erster Spiegel ist an dem ersten freien Endbereich
des bimorphen Elements angebracht und befindet sich in
der Bahn des Lichts, das somit von dem ersten Spiegel
wegreflektiert wird. Ein zweiter Spiegel ist an dem
zweiten freien Endbereich des bimorphen Elements fest
angebracht und in der Bahn des von dem ersten Spiegel
wegreflektierten Lichts positioniert. Der erste und
der zweite Spiegel sind außerdem derart positioniert,
daß sie in zueinander orthogonalen Ebenen liegen.
Elektrodeneinrichtungen sind mit dem bimorphen Element
verbunden, um dieses mit einem Schwingungssignal zu
beaufschlagen, um dadurch gleichzeitig Schwingungen
des ersten und des zweiten freien Endbereichs zu er
zeugen. Jeder freie Endbereich schwingt in einer
Richtung, die senkrecht zu der Ebene ist, in der der
freie Endbereich liegt, so daß der erste und der zwei
te Endbereich somit in zueinander orthogonalen Rich
tungen schwingen. Als Ergebnis hiervon werden die zu
einander orthogonalen Schwingungen des ersten und des
zweiten freien Endbereichs des bimorphen Elements auf
den ersten bzw. den zweiten Spiegel übertragen. Das
auf die Spiegel auftreffende Licht wird somit gleich
zeitig in zueinander orthogonalen Richtungen abge
lenkt.
Der erste Endbereich und der zweite Endbereich be
sitzen jeweils eine Resonanzfrequenz. Wie bei dem
vorangehenden Ausführungsbeispiel besitzt das angeleg
te Schwingungssignal eine erste Frequenzkomponente und
eine zweite Frequenzkomponente. Vorzugsweise ent
spricht die erste Frequenzkomponente im wesentlichen
der Resonanzfrequenz des einen Endbereichs und ent
spricht die zweite Frequenzkomponente im wesentlichen
der Resonanzfrequenz des anderen Endbereichs. Die Re
sonanzfrequenzen des ersten und des zweiten Endbe
reichs sind vorzugsweise voneinander verschieden.
Bei einem Ausführungsbeispiel umfaßt das piezoelektri
sche bimorphe Element ein flexibles piezoelektrisches
bimorphes Element, bei dem der erste und der zweite
freie Endbereich relativ zueinander derart verdreht
sind, daß sie in zueinander orthogonalen Ebenen lie
gen. Bei diesem Ausführungsbeispiel besitzt die Ab
lenkvorrichtung außerdem eine auf das flexible bimor
phe Element geklemmte Trägerrichtung zum Halten des
ersten und des zweiten Endbereichs in den zueinander
orthogonalen Ebenen. Der erste und der zweite Endbe
reich erstrecken sich der Länge nach von der Träger
einrichtung weg und können in zueinander orthogonalen
Richtungen oder, alternativ hierzu, in parallelen
Richtungen verlaufen. In beiden Fällen sind die
Spiegel jedoch derart positioniert, daß sie in
zueinander orthogonalen Ebenen liegen.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel handelt es sich
bei dem piezoelektrischen bimorphen Element um ein L-
förmiges piezoelektrisches bimorphes Element mit einer
oberen und einer unteren L-förmigen piezoelektrischen
Schicht, die erstreckungsgleich miteinander verbunden
sind und zueinander orthogonale Dehnungsrichtungen
aufweisen. Das L-förmige bimorphe Element besitzt ei
nen ersten und einen zweiten Arm, die zueinander or
thogonal verlaufen. Jeder Arm besitzt einen freien
Endbereich, und wenigstens einer der freien Endberei
che ist relativ zu dem anderen freien Endbereich der
art umgebogen, daß die freien Endbereiche im wesentli
chen in zueinander orthogonalen Ebenen liegen.
Bei allen Ausführungsbeispielen der zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkvorrichtung der vorliegenden Erfin
dung handelt es sich bei dem verwendeten piezoelektri
schen Material vorzugsweise um Polyvinylidenfluorid
(PVDF).
Bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich
aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung und Weiterbildungen der Erfindung werden
im folgenden anhand der zeichnerischen Darstellungen
mehrerer Ausführungsbeispiele noch näher erläutert. In
den Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung gemäß einem ersten Ausführungs
beispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 eine Frontansicht der zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkvorrichtung der Fig. 1;
Fig. 3 eine Seitenansicht der zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkvorrichtung der Fig. 1;
Fig. 4A und 4B graphische Darstellungen der Eigen
schaften piezoelektrischer Schichten;
Fig. 5 eine Seitenansicht eines freitragenden,
piezoelektrischen bimorphen Elements des
Standes der Technik;
Fig. 6 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem ersten und einem
zweiten freitragenden bimorphen Element
gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 7 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem ersten und einem
zweiten freitragenden bimorphen Element
gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 8 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem einzigen piezoelek
trischen bimorphen Element gemäß einem
vierten Ausführungsbeispiel der vorliegen
den Erfindung;
Fig. 9 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem einzigen piezoelek
trischen bimorphen Element gemäß einem
fünften Ausführungsbeispiel der vorliegen
den Erfindung;
Fig. 10 eine Perspektivansicht einer zweischichti
gen rechteckigen piezoelektrischen Struktur
mit einer ersten und einer zweiten piezo
elektrischen Filmschicht, die zueinander
orthogonale Dehnungsrichtungen aufweisen;
Fig. 11A und 11B graphische Darstellungen der Eigen
schaften der zweischichtigen Struktur der
Fig. 10;
Fig. 12 eine graphische Darstellung der Herstellung
eines L-förmigen, biaxialen, bimorphen Ele
ments aus der zweischichtigen Struktur der
Fig. 10;
Fig. 13 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem L-förmigen, biaxia
len, bimorphen Element gemäß einem sech
sten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung; und
Fig. 14 eine zweidimensionale Laserstrahl-Ablenk
vorrichtung mit einem L-förmigen, biaxia
len, bimorphen Element gemäß einem siebten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung.
In den Zeichnungen, in den gleiche Bezugszeichen glei
che Elemente bezeichnen, ist in den Fig. 1 bis 3 ein
erstes Ausführungsbeispiel einer zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 40 gemäß der vorliegen
den Erfindung gezeigt. In dem ersten Ausführungs
beispiel besitzt die Ablenkvorrichtung 40 eine Träger
basis 42 und ein piezoelektrisches bimorphes Gebilde
44, das in der Trägerbasis 42 angeordnet ist. Das bi
morphe Gebilde 44 besitzt piezoelektrische Schichten
46a, 46b, 48a und 48b. Jede Schicht besitzt eine in
Längsrichtung der Basis 42 verlaufende Länge, eine
parallel zu der Basis 42 verlaufende Breite sowie eine
in Breitenrichtung der Basis 42 verlaufende Dicke. Bei
dem derzeit bevorzugten Ausführungsbeispiel ist jede
Schicht aus Polyvinylidenfluorid-(PVDF-)Schichtmate
rial gebildet. Es versteht sich jedoch, daß im Rahmen
der vorliegenden Erfindung jegliches piezoelektrisches
Polymer verwendet werden kann. Z.B. kann ein Kopolymer
aus Polyvinylidenfluorid-Trifluorethylen (PVDF-TrFE)
für jede Schicht 46a, 46b, 48a, 48b verwendet werden.
Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel besitzen die
beiden äußeren Schichten 46a, 46b eine kürzere Länge
als die beiden inneren Schichten 48a, 48b und sind mit
den beiden inneren Schichten 48a, 48b in der darge
stellten Weise derart verbunden, daß die miteinander
verbundenen inneren und äußeren Schichten einen vier
schichtigen bimorphen Bereich 50 bilden und sich die
beiden inneren Schichten 48a, 48b in einer Richtung
längs über die Enden der beiden äußeren Schichten 46a,
46b hinauserstrecken, um einen zweischichtigen
bimorphen Bereich mit einem freien Ende 54 zu bilden.
Das freie Ende 54 des zweischichtigen Bereichs 52 ist
in der dargestellten Weise derart abgebogen, daß sich
das freie Ende 54 in der Breitenrichtung der Träger
basis 42 erstreckt. Eine erste Längskante 56 des vier
schichtigen Bereichs 50 ist an der Trägerbasis 42 fest
angebracht. Die andere Längskante definiert eine freie
Kante 58 des vierschichtigen Bereichs 50.
Ein Spiegel 60 ist an dem freien Ende 54 des zwei
schichtigen Bereichs 52 angebracht. Elektrodeneinrich
tungen 62 sind in der in Fig. 1 dargestellten Weise
mit den vier PVDF-Schichten 46a, 46b, 48a, 48b verbun
den, um ein Spannungssignal von einer Hochfrequenz
quelle bzw. einer Niedrigfrequenzquelle 64, 66 zu er
halten. Die Signalquellen 64, 66 sind parallel ge
schaltet, um ein Schwingspannungssignal mit einer
ersten Frequenzkomponente und einer zweiten Frequenz
komponente zu erzeugen. Das Spannungssignal wird den
vier Schichten 46a, 46b, 48a, 48b über die Elektroden
einrichtungen 62 zugeführt, was zu relativen Signal
polaritäten über die Dicke jeder Schicht führt, wie
dies in Fig. 1 gezeigt ist.
Wie für den Fachmann erkennbar ist, erzeugt ein über
die Elektrodeneinrichtungen 62 an die vier Schichten
46a, 46b, 48a, 48b angelegtes Schwingspannungssignal
eine Schwingung der freien Kante 58 des vierschichti
gen Bereichs 50 in einer Richtung A, wie dies in Fig.
1 gezeigt ist. Die Richtung A verläuft im wesentlichen
senkrecht zu der Länge und der Breite des vierschich
tigen Bereichs 50 und parallel zu der Breitenrichtung
der Trägerbasis. Da der zweischichtige Bereich 52 in
bezug auf den vierschichtigen Bereich 54 orthogonal
gebogen ist, wird die Vibration bzw. Schwingung der
freien Kante 58 in eine Schwingung des freien Endes 54
in einer Richtung A′ umgesetzt, wie dies in der Zeich
nung dargestellt ist. Außerdem erzeugt das angelegte
Schwingungssignal an den Schichten 48a, 48b eine
Schwingung des freien Endes 54 des zweischichtigen
Bereichs 52 in einer Richtung B, die zu der Richtung
A′ orthogonal ist. Als Ergebnis hiervon schwingt der
Spiegel 60 gleichzeitig in den beiden zueinander or
thogonalen Richtungen A′ und B. Ein auf den Spiegel 60
auftreffender Laserstrahl (nicht gezeigt) kann daher
gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtun
gen abgelenkt werden.
Jeder der bimorphen Bereiche 50, 52 besitzt eine Reso
nanzfrequenz. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbei
spiel erzeugt die Hochfrequenzquelle 64 eine Hochfre
quenzkomponente, die auf die Resonanzfrequenz des
vierschichtigen Bereichs 50 abgestimmt ist. Die
Niedrigfrequenzquelle 66 erzeugt eine Niedrigfrequenz
komponente, die auf die Resonanzfrequenz des zwei
schichtigen Bereichs 52 abgestimmt ist. Wie in der
Technik bekannt ist, spricht ein piezoelektrisches
bimorphes Element bei seiner Resonanzfrequenz stärker
auf angelegte Signale an. Somit spricht der vier
schichtige Bereich am stärksten auf die Hochfrequenz
komponente an, und der zweischichtige Bereich spricht
am stärksten auf die Niedrigfrequenzkomponente des
angelegten Signals an. Vorzugsweise ist die Resonanz
frequenz des vierschichtigen Bereichs 50 höher als die
Resonanzfrequenz des zweischichtigen Bereichs 52, und
zwar z. B. um einen Faktor von 5 : 1. Bei einen der
artigen hohen Verhältnis läßt sich die Amplitude der
Schwingungen jedes bimorphen Bereichs 50, 52 in un
abhängiger Weise durch Einstellen der relativen
Amplituden der Hochfrequenz- und der Niedrigfrequenz
komponente des angelegten Spannungssignals steuern.
Ein sich durch den zweischichtigen bimorphen Bereich
52 hindurcherstreckendes Loch 68 bewirkt eine Re
duzierung der Resonanzfrequenz des zweischichtigen Be
reichs, so daß sich ein größeres Verhältnis in ein
facherer Weise erzielen läßt.
Fig. 2 zeigt eine Frontansicht der zweidimensionalen
Laserstrahl-Ablenkvorrichtung der Fig. 1, wobei die
Orthogonalität der Schwingungsrichtungen A′ und B noch
exakter dargestellt ist. Fig. 3 zeigt eine Seitenan
sicht der zweidimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrich
tung der Fig. 1. Wie in Fig. 3 am deutlichsten zu se
hen ist, ist das sich durch den zweischichtigen Be
reich 52 hindurcherstreckende Loch 68 vorzugsweise
rechteckig ausgebildet; es kann jedoch ein Loch mit
beliebiger Formgebung verwendet werden, wie z. B. auch
ein kreisförmiges Loch.
Die in den nachfolgend beschriebenen Ausführungsbei
spielen verwendeten bimorphen Elemente sind aus zwei
miteinander verbundenen Schichten aus PVDF-Schichtma
terial gebildet. Für den Fachmann ist jedoch klar, daß
jegliches piezoelektrisches Polymer im Rahmen der vor
liegenden Erfindung verwendet werden kann. Z.B. kann
auch ein Kopolymer aus Polyvinylidenfluorid-Trifluor
ethylen (PVDF-TrFE) verwendet werden.
Fig. 6 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel der zwei
dimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 70 der
vorliegenden Erfindung. Bei dem zweiten Ausführungs
beispiel besitzt die Ablenkvorrichtung 70 einer Trä
gerbasis 71 sowie ein erstes und ein zweites piezo
elektrisches bimorphes Element 72 bzw. 74. Das erste
bimorphe Element 72 besitzt ein einseitig einge
spanntes Ende 80, das an der Trägerbasis 71 fest ange
bracht ist, sowie ein freies Ende 82, das sich in
Längsrichtung des bimorphen Elements 72 von der
Trägerbasis 71 wegerstreckt. In ähnlicher Weise be
sitzt das zweite bimorphe Element 74 ein an der Basis
71 angebrachtes, einseitig eingespanntes Ende 84 sowie
ein freies Ende 86, das sich in Längsrichtung des
bimorphen Elements 74 von der Trägerbasis 71 weger
streckt. Ein erster Spiegel 76 ist mit dem freien Ende
82 des ersten bimorphen Elements 72 gekoppelt und in
der Bahn eines einfallenden Laserstrahls 88
positioniert. Ein zweiter Spiegel 78 ist mit dem
freien Ende 86 des zweiten bimorphen Elements 74 ge
koppelt und relativ zu dem ersten Spiegel 76 in der
Bahn des von dem ersten Spiegel 76 reflektierten
Laserstrahls positioniert.
Bei diesem Ausführungsbeispiel der Fig. 6 liegt das
erste bimorphe Element 72 im wesentlichen in einer
ersten Linie PA, und das zweite bimorphe Element 74
liegt im wesentlichen in einer zweiten Ebene PB, die
orthogonal zu der Ebene PA ist. Außerdem erstecken sich
das freie Ende 82 des ersten bimorphen Elements 72 und
das freie Ende 86 des zweiten bimorphen Elements 76 in
der dargestellten Weise in zueinander orthogonalen
Richtungen.
Eine erste Schwingspannungsquelle 98 ist mit dem er
sten bimorphen Element 72 über erste Elektroden 94
gekoppelt. Die Elektroden 94 sind mit dem bimorphen
Element in herkömmlicher Weise gekoppelt, z. B. so, wie
es vorstehend unter Bezugnahme auf Fig. 5 erläutert
worden ist. Die Quelle 98 beaufschlagt das erste bi
morphe Element 72 mit einem ersten Schwingspannungs
signal, durch das das freie Ende 82 zur Ausführung
einer Schwingung in einer im wesentlichen senkrecht zu
der Ebene PA verlaufenden Richtung A veranlaßt wird,
wie dies in Fig. 6 gezeigt ist. Das bimorphe Element
72 schwingt mit einer Rate entsprechend der Frequenz
des ersten Schwingungssignals. Vorzugsweise ist die
Frequenz des ersten Schwingungssignals im wesentlichen
gleich der Resonanzfrequenz des ersten bimorphen Ele
ments 72, da, wie vorstehend erwähnt wurde, ein bimor
phes Element bei seiner Resonanzfrequenz die maximale
Schwingungsamplitude erreicht.
Eine zweite Schwingspannungsquelle 100 ist über zweite
Elektroden 96 mit dem zweiten bimorphen Element 74
gekoppelt. Die Elektroden 96 sind wiederum in herkömm
licher Weise mit dem bimorphen Element 74 gekoppelt,
z. B. wiederum so, wie dies zuvor unter Bezugnahme auf
Fig. 5 erläutert worden ist. Die Quelle 100 beauf
schlagt das zweite bimorphe Element 74 mit einem zwei
ten Schwingspannungssignal, durch das das freie Ende
86 zur Ausführung einer Schwingung in einer zu der
Ebene PB im wesentlichen senkrechten Richtung B veran
laßt wird, wie dies in Fig. 6 gezeigt ist. Die Schwin
gungsrichtung B des zweiten bimorphen Elements 74 ist
somit orthogonal zu der Schwingungsrichtung A des er
sten bimorphen Elements 72. Das zweite bimorphe Ele
ment 74 schwingt mit einer Rate entsprechend der Fre
quenz des zweiten Schwingungssignals. Wie bei dem er
sten bimorphen Element 72 ist die Frequenz des zweiten
Schwingungssignals vorzugsweise im wesentlichen gleich
der Resonanzfrequenz des zweiten bimorphen Elements
74.
Wie vorstehend erwähnt wurde, schwingen das erste und
das zweite bimorphe Element 72, 74 und somit der erste
und der zweite Spiegel 76, 78 in zueinander orthogona
len Richtungen. Der auf den ersten Spiegel auftreffen
de und von diesem auf den zweiten Spiegel reflektierte
Laserstrahl 88 wird somit gleichzeitig in zwei zuei
nander orthogonalen Richtungen abgelenkt. Jedes bimor
phe Element 72, 74 kann eine andere Resonanzfrequenz
aufweisen, und somit können die Frequenzen des ersten
und des zweiten Schwingungssignals verschieden sein.
Dies ermöglicht ein Ablenken des Laserstrahls 88 bei
einer Frequenz in der Richtung A und bei einer anderen
Frequenz in der Richtung B. Alternativ hierzu kann die
Resonanzfrequenz der beiden bimorphen Elemente 72, 74
auch gleich sein. Wie für den Fachmann bekannt ist,
haben viele Variablen einen Einfluß auf die Resonanz
frequenz eines piezoelektrischen bimorphen Elements,
wie z. B. die Längen-, Breiten- und Dickenabmessungen
des bimorphen Elements sowie dessen Masse. Die Masse
der angebrachten Spiegel kann ebenfalls einen Einfluß
auf die Resonanzfrequenz haben. Durch Einstellen einer
oder mehrerer dieser Variablen läßt sich die Resonanz
frequenz jedes bimorphen Elements 72, 74 steuern.
Fig. 7 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel der zwei
dimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 73 gemäß
der vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 7 gezeigt ist,
ist das zweite Ausführungsbeispiel identisch mit dem
in Fig. 6 gezeigten zweiten Ausführungsbeispiel, mit
der Ausnahme, daß sich bei dem dritten
Ausführungsbeispiel die freien Enden 82, 86 des ersten
und des zweiten bimorphen Elements 72, 74 nicht ortho
gonal, wie bei dem zweiten Ausführungsbeispiel gemäß
Fig. 6, sondern relativ zueinander der Länge nach von
der Trägerbasis 81 wegerstrecken. Wie in Fig. 7 ge
zeigt ist, liegen das erste und das zweite bimorphe
Element 72, 74 wiederum in zueinander orthogonalen
Ebenen PA′ bzw. PB′. Somit schwingt das freie Ende 82
des ersten bimorphen Elements 72 in der im wesentli
chen senkrecht zu der Ebene PA′ verlaufenden Richtung
A. Gleichermaßen schwingt das freie Ende 86 des zwei
ten bimorphen Elements 74 in der im wesentlichen senk
recht zu der Ebene PB′ verlaufenden Richtung B. Wie bei
dem zweiten Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6 schwingen
der erste und der zweite Spiegel 76, 78 somit in zu
einander orthogonalen Richtungen. Die Spiegel 76, 78
sind relativ zueinander derart positioniert, daß ein
auf den ersten Spiegel auftreffender Laserstrahl 88
auf den zweiten Spiegel reflektiert wird. Aufgrund der
orthogonalen Schwingungen des ersten und des zweiten
Spiegels 76, 78 wird der Laserstrahl 88 somit in der
dargestellten Weise gleichzeitig in zwei zueinander
orthogonalen Richtungen abgelenkt.
Fig. 8 zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel der zwei
dimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 107 der
vorliegenden Erfindung. Gemäß dem vierten Ausführungs
beispiel umfaßt die Ablenkvorrichtung 107 ein einziges
flexibles piezoelektrisches bimorphes Element 110 mit
einem ersten Endbereich 112 und einem zweiten Endbe
reich 114. Wie in Fig. 8 gezeigt ist, sind der erste
und der zweite Endbereich 112, 114 relativ zueinander
derart verdreht angeordnet, daß der erste Endbereich
112 in einer Ebene PA liegt und der zweite Endbereich
114 in einer Ebene PB liegt, die zu der Ebene PA ortho
gonal ist. Eine Trägereinrichtung 116 ist auf das bi
morphe Element 110 geklemmt, um die Endbereiche 112
und 114 in den zueinander orthogonalen Ebenen PA bzw.
PB zu halten. Der erste Endbereich 112 erstreckt sich
der Länge nach von der Trägereinrichtung 116 weg und
bildet ein erstes freies Ende 118 des verdrehten bi
morphen Elements 110. Der zweite Endbereich 114 er
streckt sich der Länge nach von der Trägereinrichtung
116 weg und bildet ein zweites freies Ende 120. Gemäß
dem vierten Ausführungsbeispiel erstrecken sich das
erste und das zweite freie Ende 118, 120 in ortho
gonalen Richtungen von der Trägereinrichtung 116 weg.
Ein erster Spiegel 122 ist an dem ersten freien Ende
118 fest angebracht und in dem Weg eines einfallenden
Laserstrahls 88 positioniert. Ein zweiter Spiegel 124
ist an dem zweiten freien Ende 120 fest angebracht und
relativ zu dem ersten Spiegel 122 in der Bahn des von
dem ersten Spiegel 122 wegreflektierten Laserstrahls
88 positioniert. Elektrodeneinrichtungen 126 sind mit
dem bimorphen Element 110 verbunden, um ein Schwin
gungssignal von den Signalquellen 128 und 130 zu er
halten sowie das bimorphe Element 110 mit dem
Schwingungssignal zu beaufschlagen. Ein dem verdrehten
bimorphen Element 110 zugeführtes Schwingspannungs
signal erzeugt somit eine gleichzeitige Schwingung des
ersten und des zweiten freien Endes 118, 120 relativ
zu der Trägereinrichtung. Das erste freie Ende 118
schwingt dabei in einer zu der Ebene PA im wesentlichen
orthogonalen Richtung A, und das zweite freie Ende 120
schwingt in einer zu der Ebene PB im wesentlichen
orthogonalen Richtung B. Das erste und das zweite
freie Ende 118, 120 schwingen somit in zueinander or
thogonalen Richtungen. Dadurch wird der Laserstrahl 88
gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtun
gen abgelenkt.
Wie für den Fachmann erkennbar ist, hat die Distanz
von dem ersten freien Ende 118 bis zu der Trägerein
richtung 116 einen Einfluß auf die Resonanzfrequenz
des ersten Endbereichs 112. Gleichermaßen hat die
Distanz von dem zweiten freien Ende 120 bis zu der
Trägereinrichtung 116 einen Einfluß auf die Resonanz
frequenz des zweiten Endbereichs 114. Durch Einstellen
der Position der festgeklemmten Trägereinrichtung 116
relativ zu den einzelnen freien Enden 118, 120 des
bimorphen Elements 110 läßt sich somit die Resonanz
frequenz jedes Endbereichs 112, 114 individuell ein
stellen. Auch die Masse jedes Endbereichs 112, 114
sowie die Masse des daran angebrachten Spiegels können
einen Einfluß auf die Resonanzfrequenz haben. Bei dem
vorliegenden Ausführungsbeispiel ist die Trägerein
richtung 116 relativ zu den freien Enden 118, 120 der
art festgeklemmt, daß die Resonanzfrequenz des ersten
Endbereichs 112 sich von der Resonanzfrequenz des
zweiten Endbereichs 114 unterscheidet. Dies muß jedoch
nicht der Fall sein; beide Endbereiche 112, 114 können
dieselbe Resonanzfrequenz aufweisen, wenn dies
gewünscht ist.
Die Signalquellen 128, 130 sind einander parallel ge
schaltet. Die Signalquelle 128 liefert eine Niedrig
frequenzkomponente des angelegten Schwingungssignals,
und die Singalquelle 130 liefert eine Hochfrequenzkom
ponente des angelegten Schwingungssignals. Gemäß dem
vorliegenden Ausführungsbeispiel ist die Hochfrequenz
komponente auf die Resonanzfrequenz eines der End
bereiche 112, 114 abgestimmt, und die Niedrigfrequenz
komponente ist auf die Resonanzfrequenz des anderen
Endbereichs abgestimmt. Dies gestattet eine unab
hängige Steuerung der Schwingungsamplitude jedes End
bereichs durch Variieren der relativen Amplituden der
Hochfrequenz- und Niedrigfrequenzkomponenten des ange
legten Schwingungssignals.
Fig. 9 zeigt ein fünftes Ausführungsbeispiel der zwei
dimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 108 der
vorliegenden Erfindung. Wie in der Zeichnung zu sehen
ist, ist das fünfte Ausführungsbeispiel mit dem in
Fig. 8 gezeigten vierten Ausführungsbeispiel iden
tisch, mit der Ausnahme, daß sich das erste freie Ende
118 und das zweite freie Ende 120 in zueinander pa
rallelen Richtungen von der Trägereinrichtung 116 weg
erstrecken. Die bimorphen Einrichtungen 112, 114 lie
gen in zueinander orthogonalen Ebenen PA′ bzw. PB′. Der
erste und der zweite Spiegel 122, 124 sind wiederum
relativ zueinander derart positioniert, daß der Laser
strahl 88 von dem ersten Spiegel 122 weg auf den
zweiten Spiegel 124 reflektiert wird. Die gleich
zeitigen Schwingungen des ersten und des zweiten
freien Endes 118, 120 in zueinander orthogonalen
Richtungen A bzw. B führen wiederum zu einer Ablenkung
des Laserstrahls in zwei zueinander orthogonalen
Richtungen.
Fig. 10 zeigt eine Perspektivansicht eines zweischich
tigen rechteckigen piezoelektrischen Gebildes 150 mit
einer oberen filmartigen piezoelektrischen Schicht
152, die mit einer unteren filmartigen piezoelektri
schen Schicht 154 verbunden ist. Vorzugsweise sind die
obere und die untere Schicht 152, 154 aus Polyvinyli
denfluorid (PVDF) gebildet. Die Dehnungsrichtungen der
oberen und der unteren Schicht 152, 154 sind jedoch in
dem Verbundgebilde 150 zueinander orthogonal orien
tiert, wie dies in Fig. 10 gezeigt ist, wobei der
durchgezogen dargestellte Pfeil die Dehnungsrichtung
der oberen Schicht 152 zeigt und der gestrichelt dar
gestellte Pfeil die Dehnungsrichtung der unteren
Schicht 154 zeigt. Auf der Außenfläche jeder piezo
elektrischen 152, 154 ist ein nicht gezeigtes
Elektrodenmaterial aufgebracht, und eine gemeinsame
Elektrodenschicht (nicht gezeigt) liegt zwischen den
miteinander verbunden Schichten 152, 154. Elektroden
156 sind in der dargestellten Weise mit den Schichten
152, 154 verbunden.
Die Fig. 11A und 11B zeigen in schematischer Weise,
wie das rechteckige Gebilde 150 der Fig. 10 auf ein
über den Elektroden 156 angelegtes Spannungssignal
anspricht. Wie durch die Pfeile angedeutet ist, ist
die Beziehung zwischen den Richtungen des elektrischen
Felds (dünne Pfeile) und der Polarisierung (breite
Pfeile) in den jeweiligen Schichten 152, 154 derart,
daß ansprechend auf eine über den Elektroden 156 ange
legte Spannung die eine Schicht expandiert, während
die andere Schicht schrumpft. Da jedoch die Dehnungs
richtungen der oberen und der unteren Schicht 152, 154
zueinander orthogonal sind (und nicht parallel zuei
nander, wie bei einem herkömmlichen bimorphen Ele
ment), verformt sich das rechteckige Gebilde 150 unter
dem Einfluß der angelegten Spannung in eine kugelartig
gekrümmte Fläche. Die Richtung der kugelartigen Ver
formung hängt von der Polarität des angelegten Span
nungssignals ab, wie dies in den Fig. 11A und 11B zu
sehen ist.
Fig. 12 veranschaulicht die Herstellung eines L-för
migen biaxialen bimorphen Elements 158. Wie durch die
gestrichelten Linien angedeutet ist, wird das biaxiale
bimorphe Element 158 aus dem rechteckigen zweischich
tigen Gebilde 150 herausgeschnitten. Das L-förmige
bimorphe Element 158 besitzt einen ersten Arm 160 mit
einem ersten Endbereich 162 und einen zweiten Arm 164
mit einem zweiten Endbereich 166. Wie in Fig. 12 ge
zeigt ist, ist das L-förmige bimorphe Element 158 der
art aus dem rechteckigen Gebilde 150 herausgeschnit
ten, daß die Dehnungsrichtung der oberen Schicht 168
parallel zu der Längserstreckung des zweiten Arms 164
verläuft und die Dehnungsrichtung der unteren Schicht
170 parallel zu der Längserstreckung des ersten Arms
160 des biaxialen bimorphen Elements 158 verläuft. Wie
in der Zeichnung gezeigt ist, besitzt der erste Arm
160 eine Länge LB und eine Breite WB. Der zweite Arm
164 besitzt eine Länge LA und eine Breite WA.
Fig. 13 zeigt ein sechstes Ausführungsbeispiel der
zweidimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 180
der vorliegenden Erfindung, der anstatt des freitra
genden bimorphen Elements (Fig. 6 und 7) und des ver
drehten bimorphen Elements (Fig. 8 und 9) ein L-för
miges biaxiales bimorphes Element verwendet, wie z. B.
das bimorphe Element 158 der Fig. 12. Wie in der
Zeichnung zu sehen ist, ist der erste Arm 160 des bia
xialen bimorphen Elements 158 relativ zu dem zweiten
Arm 164 derart umgebogen, daß die freien Endbereiche
162, 166 jedes Arms in zueinander orthogonalen Ebenen
PA bzw. PB liegen. Ein erster Spiegel 167 ist an dem
freien Endbereich 162 des ersten Arms 160 angebracht,
und ein zweiter Spiegel 169 ist an dem freien Endbe
reich 166 des zweiten Arms 164 angebracht. Elektroden
172 sind in der dargestellten mit dem biaxialen bimor
phen Element 158 verbunden, um von Signalquellen 174
und 176 mit einem Schwingungssignal beaufschlagt zu
werden. Die Signalquellen 174 und 176 sind einander
parallel geschaltet. Die Elektroden 172 sind in ähnli
cher Weise wie die in Fig. 11 dargestellten Verbindun
gen mit dem bimorphen Element 158 verbunden. Die nicht
gezeigten Elektrodenschichten auf den Außenflächen der
oberen und der unteren Schicht 168, 170 des bimorphen
Elements 158 sind somit mit je einem Anschluß jeder
Signalquelle 174, 176 gekoppelt, und die nicht gezeig
te gemeinsame Elektrodenschicht zwischen der oberen
und der unteren Schicht 168, 170 des bimorphen Ele
ments 158 ist mit dem anderen Anschluß jeder Signal
quelle gekoppelt.
Ein an das biaxiale bimorphe Element 154 angelegte
Schwingspannungssignal erzeugt eine gleichzeitige
Schwingung des ersten und des zweiten freien Endbe
reichs 162, 166. Aufgrund der orthogonalen Ausrichtung
der Dehnungsrichtungen der oberen und der unteren
Schicht 168, 170 schwingt der erste freie Endbereich
162 in einer Richtung A, die im wesentlichen orthogo
nal zu der Ebene PA verläuft, in der der erste Endbe
reich 162 liegt, während der zweite freie Endbereich
166 in einer im wesentlichen orthogonal zu der Ebene PB
verlaufenden Richtung B schwingt. Der erste und der
zweite freie Endbereich 162, 166 schwingen daher in
zueinander orthogonalen Richtungen. Die Orthogonalität
der Dehnungsrichtungen (die auch parallel zu der
Längserstreckung der jeweiligen Arme 160, 164
verlaufen) der oberen und der unteren Schicht 168, 170
verhindert ein Schwingen der freien Endbereiche 162,
164 in jeglicher anderen Richtung. Die jeweiligen Län
gen LB und LA des ersten und des zweiten Arms 160, 164
müssen jedoch größer sein als die jeweiligen Breiten WB
und WA, damit die freien Endbereiche 162, 166 in wirk
samer Weise schwingen können. Wie bei den voraus
gehenden Ausführungsbeispielen wird ein auf den ersten
Spiegel 167 auf treffender und auf den zweiten Spiegel
169 reflektierter Laserstrahl (nicht gezeigt) gleich
zeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtungen ab
gelenkt.
Es versteht sich, daß die Länge LB und die Breite WB
des ersten Arms 160 einen Einfluß auf die Resonanzfre
quenz des ersten Arms 160 haben. Die Masse des Arms
und die Masse des ersten Spiegels 167 haben ebenfalls
einen gewissen Einfluß. Gleichermaßen haben die Länge
LA und die Breite WA des zweiten Arms 164 und die Masse
des Spiegels einen Einfluß auf die Resonanzfrequenz
des zweiten Arms 164. Durch Ändern der Längen- und
Breitenabmessungen jedes Arms 160, 164 und/oder der
Masse der Spiegel läßt sich somit die Resonanzfrequenz
jedes Arms 160, 164 individuell festlegen. Bei dem
vorliegenden Ausführungsbeispiel unterscheidet sich
die Resonanzfrequenz des ersten Arms 160 von der Reso
nanzfrequenz des zweiten Arms 164. Dies muß jedoch
nicht der Fall sein; beide Arme 160, 164 können auch
dieselbe Resonanzfrequenz aufweisen, wenn dies so ge
wünscht ist.
Wie bereits erwähnt wurde, sind die Signalquellen 174,
176 einander parallel geschaltet. Die Signalquelle 174
liefert eine Niedrigfrequenzkomponente des angelegten
Schwingungssignals, und die Signalquelle 176 liefert
eine Hochfrequenzkomponente des angelegten Schwin
gungssignals. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbei
spiel ist die Hochfrequenzkomponente auf die Resonanz
frequenz des einen der beiden Arme 160, 164 abge
stimmt, und die Niedrigfrequenzkomponente ist auf die
Resonanzfrequenz des anderen Arms abgestimmt. Die
freien Endbereiche 162, 166 erzielen ein maximales
Ansprechen auf das angelegte Schwingungssignal, wenn
sie mit ihren jeweiligen Resonanzfrequenzen betrieben
werden. Solange die Resonanzfrequenzen der jeweiligen
Arme 160, 164 in ausreichender Weise voneinander ver
schieden sind (z. B. durch ein Verhältnis von 5 : 1),
läßt sich die Schwingungsamplitude der jeweiligen
freien Endbereiche 162, 166 in unabhängiger Weise
durch Variieren der relativen Amplituden der Hochfre
quenz- und der Niedrigfrequenzkomponenten des angeleg
ten Schwingungssignals steuern.
Fig. 14 zeigt ein siebtes Ausführungsbeispiel der
zweidimensionalen Laserstrahl-Ablenkvorrichtung 181
der vorliegenden Erfindung. Wie in der Zeichnung zu
sehen ist, besitzt das siebte Ausführungsbeispiel
daßelbe biaxiale bimorphe Element 158 wie das sechste
Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 13; bei dem siebten
Ausführungsbeispiel sind jedoch sowohl der erste End
bereich 162 des ersten Arms 160 als auch der zweite
freie Endbereich 166 des zweiten Arms 164 gebogen, um
dadurch die freien Endbereiche 162 und 166 in zu
einander orthogonalen Ebenen PA bzw. PB zu bilden. Der
erste und der zweite Spiegel 167, 169 sind wiederum
derart relativ zueinander positioniert, daß ein Laser
strahl 188 von dem ersten Spiegel 167 weg auf den
zweiten Spiegel 169 reflektiert wird. Ansonsten ist
erkennbar, daß die Arbeitsweise der Ablenkvorrichtung
181 des siebten Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 14 im
wesentlichen identisch mit der Arbeitsweise der Ab
lenkvorrichtung 180 des sechsten Ausführungsbeispiels
gemäß Fig. 13 ist. Der erste und der zweite Endbereich
162, 166 schwingen wiederum gleichzeitig in zueinander
orthogonalen Richtungen A bzw. B. Als Ergebnis hiervon
wird der nicht gezeigte Laserstrahl in zwei zueinander
orthogonalen Richtungen abgelenkt.
Claims (13)
1. Zweidimensionale Laserstrahl-Ablenkvorrichtung mit
einer Trägerbasis (42) und einem piezoelektrischen
bimorphen Gebilde (44), das aufeinanderfolgend mitei
nander verbundene und in der Trägerbasis angeordnete
piezoelektrische Schichten (46a, 46b, 48a, 48b) auf
weist,
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den Schichten um vier Schichten handelt, deren jede eine in Längs richtung der Trägerbasis verlaufende Länge, eine in senkrechter Richtung zu der Trägerbasis verlaufende Breite und eine in Breitenrichtung der Trägerbasis verlaufende Dicke aufweist, wobei die beiden äußeren Schichten (46a, 46b) des bimorphen Gebildes eine kür zere Länge als die beiden inneren Schichten (48a, 48b) aufweisen und mit den beiden inneren Schichten derart verbunden sind, daß die miteinander verbundenen inne ren und äußeren Schichten einen vierschichtigen bimor phen Bereich (50) bilden und die beiden inneren Schichten sich der Länge nach in einer Richtung über die Enden der beiden äußeren Schichten hinaus er strecken und einen zweischichtigen bimorphen Bereich (52) mit einem freien Ende (54) bilden, wobei der vierschichtige Bereich entlang einer ersten Längskante an der Trägerbasis befestigt ist und eine zweite Längskante des vierschichtigen Bereichs eine freie Kante bildet und wobei das freie Ende (54) des zwei schichtigen Bereichs in einem Winkel von im wesent lichen 90° derart abgebogen ist, daß sich das freie Ende des zweischichtigen Bereichs in der Breiten richtung der Trägerbasis erstreckt,
daß an dem freien Ende (54) des zweischichtigen bimor phen Bereichs (52) ein Spiegel (60) zum Reflektieren von auf diesen einfallendem Licht angebracht ist; und
daß an die vier piezoelektrischen Schichten Elektro deneinrichtungen (62) zum Beaufschlagen des bimorphen Gebildes (44) mit einem elektrischen Signal ange schlossen sind, um eine Schwingung der freien Kante des vierschichtigen Bereichs in der Breitenrichtung der Trägerbasis sowie eine Schwingung des freien Endes (54) des abgebogenen zweischichtigen Bereichs (52) in einer zur Schwingungsrichtung der freien Kante des vierschichtigen Bereichs orthogonalen Richtung zu er zeugen, wobei die zueinander orthogonalen Schwingungen der freien Kante des vierschichtigen Bereichs sowie des freien Endes des zweischichtigen Bereichs mechanisch auf den Spiegel (60) übertragen werden, so daß auf den Spiegel auftreffendes Licht gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtungen abgelenkt wird.
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den Schichten um vier Schichten handelt, deren jede eine in Längs richtung der Trägerbasis verlaufende Länge, eine in senkrechter Richtung zu der Trägerbasis verlaufende Breite und eine in Breitenrichtung der Trägerbasis verlaufende Dicke aufweist, wobei die beiden äußeren Schichten (46a, 46b) des bimorphen Gebildes eine kür zere Länge als die beiden inneren Schichten (48a, 48b) aufweisen und mit den beiden inneren Schichten derart verbunden sind, daß die miteinander verbundenen inne ren und äußeren Schichten einen vierschichtigen bimor phen Bereich (50) bilden und die beiden inneren Schichten sich der Länge nach in einer Richtung über die Enden der beiden äußeren Schichten hinaus er strecken und einen zweischichtigen bimorphen Bereich (52) mit einem freien Ende (54) bilden, wobei der vierschichtige Bereich entlang einer ersten Längskante an der Trägerbasis befestigt ist und eine zweite Längskante des vierschichtigen Bereichs eine freie Kante bildet und wobei das freie Ende (54) des zwei schichtigen Bereichs in einem Winkel von im wesent lichen 90° derart abgebogen ist, daß sich das freie Ende des zweischichtigen Bereichs in der Breiten richtung der Trägerbasis erstreckt,
daß an dem freien Ende (54) des zweischichtigen bimor phen Bereichs (52) ein Spiegel (60) zum Reflektieren von auf diesen einfallendem Licht angebracht ist; und
daß an die vier piezoelektrischen Schichten Elektro deneinrichtungen (62) zum Beaufschlagen des bimorphen Gebildes (44) mit einem elektrischen Signal ange schlossen sind, um eine Schwingung der freien Kante des vierschichtigen Bereichs in der Breitenrichtung der Trägerbasis sowie eine Schwingung des freien Endes (54) des abgebogenen zweischichtigen Bereichs (52) in einer zur Schwingungsrichtung der freien Kante des vierschichtigen Bereichs orthogonalen Richtung zu er zeugen, wobei die zueinander orthogonalen Schwingungen der freien Kante des vierschichtigen Bereichs sowie des freien Endes des zweischichtigen Bereichs mechanisch auf den Spiegel (60) übertragen werden, so daß auf den Spiegel auftreffendes Licht gleichzeitig in zwei zueinander orthogonalen Richtungen abgelenkt wird.
2. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der zweischichtige und der
vierschichtige bimorphe Bereich (50, 52) verschiedene
Resonanzfrequenzen aufweisen, und daß das angelegte
Signal eine erste Frequenzkomponente und eine zweite
Frequenzkomponente besitzt, wobei die erste Frequenz
komponente im wesentlichen der Resonanzfrequenz des
einen bimorphen Bereichs entspricht und die zweite
Frequenzkomponente im wesentlichen der Resonanzfre
quenz des anderen bimorphen Bereichs entspricht.
3. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Resonanzfrequenz des
vierschichtigen bimorphen Bereichs (50) höher als die
Resonanzfrequenz des zweischichtigen bimorphen Be
reichs (52) ist.
4. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach einem der An
sprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der zweischichtige bimor
phe Bereich (52) ein sich durch diesen hindurcher
streckendes Loch (68) zum Reduzieren der Resonanzfre
quenz des zweischichtigen Bereichs (52) aufweist.
5. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach einem der An
sprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es sich
bei dem verwendeten piezoelektrischen Material um Po
lyvinylidenfluorid handelt.
6. Zweidimensionale Laserstrahl-Ablenkvorrichtung,
gekennzeichnet durch:
ein piezoelektrisches bimorphes Element (72, 74; 110; 158) mit einem ersten und einem zweiten freien Endbe reich (82, 86; 118, 120; 162, 166), die in zueinander orthogonalen Ebenen angeordnet sind;
einen ersten Spiegel (76; 122; 167), der an dem ersten freien Endbereich des bimorphen Elements fest ange bracht und in einer Bahn des Lichts angeordnet ist, wobei das Licht von dem ersten Spiegel wegreflektiert wird;
einen zweiten Spiegel (78; 124; 169), der an dem zwei ten freien Endbereich des bimporphen Elements fest angebracht ist und in der Bahn des von dem ersten Spiegel wegreflektierten Lichts angeordnet ist, wobei der erste und der zweite Spiegel in zueinander ortho gonalen Ebenen angeordnet sind; und durch mit dem bimorphen Element verbundene Elektrodenein richtungen (94, 96; 126; 172) zum Beaufschlagen des selben mit einem Schwingungssignal zur Erzeugung gleichzeitiger Schwingungen des ersten und des zweiten freien Endbereichs, wobei jeder freie Endbereich in einer Richtung schwingt, die senkrecht zu der Ebene ist, in der der freie Endbereich liegt, so daß der erste und der zweite Endbereich in zueinander orthogo nalen Richtungen schwingen und die zueinander orthogonalen Schwingungen des ersten und des zweiten freien Endbereichs des bimorphen Elements auf den ersten bzw. zweiten Spiegel übertragen werden und da durch ein Ablenken des Lichts gleichzeitig in zu einander orthogonalen Richtungen verursacht wird.
ein piezoelektrisches bimorphes Element (72, 74; 110; 158) mit einem ersten und einem zweiten freien Endbe reich (82, 86; 118, 120; 162, 166), die in zueinander orthogonalen Ebenen angeordnet sind;
einen ersten Spiegel (76; 122; 167), der an dem ersten freien Endbereich des bimorphen Elements fest ange bracht und in einer Bahn des Lichts angeordnet ist, wobei das Licht von dem ersten Spiegel wegreflektiert wird;
einen zweiten Spiegel (78; 124; 169), der an dem zwei ten freien Endbereich des bimporphen Elements fest angebracht ist und in der Bahn des von dem ersten Spiegel wegreflektierten Lichts angeordnet ist, wobei der erste und der zweite Spiegel in zueinander ortho gonalen Ebenen angeordnet sind; und durch mit dem bimorphen Element verbundene Elektrodenein richtungen (94, 96; 126; 172) zum Beaufschlagen des selben mit einem Schwingungssignal zur Erzeugung gleichzeitiger Schwingungen des ersten und des zweiten freien Endbereichs, wobei jeder freie Endbereich in einer Richtung schwingt, die senkrecht zu der Ebene ist, in der der freie Endbereich liegt, so daß der erste und der zweite Endbereich in zueinander orthogo nalen Richtungen schwingen und die zueinander orthogonalen Schwingungen des ersten und des zweiten freien Endbereichs des bimorphen Elements auf den ersten bzw. zweiten Spiegel übertragen werden und da durch ein Ablenken des Lichts gleichzeitig in zu einander orthogonalen Richtungen verursacht wird.
7. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem piezoelek
trischen bimorphen Element (110) um ein flexibles pie
zoelektrisches bimorphes Element handelt, wobei der
erste und der zweite freie Endbereich derart relativ
zueinander verdreht sind, daß der erste und der zweite
freie Endbereich in zueinander orthogonalen Ebenen
liegen, und daß eine auf das flexible bimorphe Element
geklemmte Trägereinrichtung (81; 116) zum Halten des
ersten und des zweiten Endbereichs in den zueinander
orthogonalen Ebenen vorgesehen ist, wobei sich der
erste und der zweite Endbereich der Länge nach von der
Trägereinrichtung wegerstrecken.
8. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 6 oder
7,
dadurch gekennzeichnet, daß sich der erste und der
zweite freie Endbereich des bimorphen Elements der
Länge nach in zueinander orthogonalen Richtungen von
der Trägereinrichtung wegerstrecken.
9. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 6 oder
7,
dadurch gekennzeichnet, daß sich der erste und der
zweite Endbereich des bimorphen Elements in parallelen
Richtungen von der Trägereinrichtung wegerstrecken.
10. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem piezoelek
trischen bimorphen Element um ein L-förmiges piezo
elektrisches bimorphes Element (158) handelt, das eine
obere und eine untere L-förmige piezoelektrische
Schicht aufweist, die erstreckungsgleich miteinander
verbunden sind und zueinander orthogonale Dehnungs
richtungen aufweisen, wobei das L-förmige bimorphe
Element einen ersten und einen zweiten Arm aufweist,
die zueinander orthogonal verlaufen, und wobei jeder
Arm einen freien Endbereich aufweist, wobei wenigstens
einer der freien Endbereiche relativ zu dem anderen
freien Endbereich derart umgebogen ist, daß die freien
Endbereiche in zueinander im wesentlichen orthogonalen
Ebenen liegen.
11. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach einem der An
sprüche 6 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste Endbereich und
der zweite Endbereich jeweils eine Resonanzfrequenz
aufweisen, und daß das angelegte Schwingungssignal
eine erste Frequenzkomponente (98; 130; 176) und eine
zweite Frequenzkomponente (100; 128; 174) aufweisen,
wobei die erste Frequenzkomponente im wesentlichen der
Resonanzfrequenz des einen Endbereichs entspricht und
die zweite Frequenzkomponente im wesentlichen der Re
sonanzfrequenz des anderen Endbereichs entspricht.
12. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Resonanzfrequenz des
ersten Endbereichs von der Resonanzfrequenz des zwei
ten Endbereichs verschieden ist.
13. Laserstrahl-Ablenkvorrichtung nach einem der An
sprüche 6 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem verwende
ten piezoelektrischen Material um Polyvinylidenfluorid
handelt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/975,396 US5295014A (en) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Two-dimensional laser beam scanner using PVDF bimorph |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4338578A1 true DE4338578A1 (de) | 1994-05-26 |
Family
ID=25522986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4338578A Withdrawn DE4338578A1 (de) | 1992-11-12 | 1993-11-11 | Zweidimensionale Laserstrahl-Ablenkvorrichtung |
Country Status (3)
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---|---|
US (1) | US5295014A (de) |
JP (1) | JPH06214175A (de) |
DE (1) | DE4338578A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19801139A1 (de) * | 1998-01-14 | 1999-07-15 | Rainer Dr Uhl | Punktabtastendes Luminiszenz-Mikroskop |
DE19802516C1 (de) * | 1998-01-25 | 2000-01-13 | Wolfgang Daum | Laserstrahlablenkvorrichtung |
DE10150424A1 (de) * | 2001-10-11 | 2003-04-30 | Siemens Ag | Piezoelektrischer Biegewandler sowie Reflexionssystem |
WO2018171841A1 (de) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Blickfeld GmbH | Scanner mit zwei sequentiellen scaneinheiten |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5477043A (en) * | 1989-10-30 | 1995-12-19 | Symbol Technologies, Inc. | Scanning arrangement for the implementation of scanning patterns over indicia by driving the scanning elements in different component directions |
GB2282906B (en) | 1993-10-13 | 1996-11-06 | Dataquill Ltd | Data enty systems |
JPH07303174A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-14 | Canon Inc | 原稿走査装置 |
JP3471156B2 (ja) * | 1995-05-30 | 2003-11-25 | シャープ株式会社 | イメージシフト機構および撮像装置 |
WO1998012660A1 (en) | 1996-09-23 | 1998-03-26 | Psc Scanning, Inc. | Dithering assemblies for barcode scanners |
US5903380A (en) * | 1997-05-01 | 1999-05-11 | Rockwell International Corp. | Micro-electromechanical (MEM) optical resonator and method |
US5982528A (en) * | 1998-01-20 | 1999-11-09 | University Of Washington | Optical scanner having piezoelectric drive |
US6046720A (en) * | 1997-05-07 | 2000-04-04 | University Of Washington | Point source scanning apparatus and method |
US6535318B1 (en) | 1999-11-12 | 2003-03-18 | Jds Uniphase Corporation | Integrated optoelectronic devices having pop-up mirrors therein and methods of forming and operating same |
DE10034250C2 (de) * | 2000-07-14 | 2003-04-17 | Siemens Ag | Konfokales Abbildungssystem |
JP4695250B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2011-06-08 | ミヤチテクノス株式会社 | レーザマーキング装置 |
US7245412B2 (en) | 2001-02-16 | 2007-07-17 | Electro Scientific Industries, Inc. | On-the-fly laser beam path error correction for specimen target location processing |
US6816294B2 (en) * | 2001-02-16 | 2004-11-09 | Electro Scientific Industries, Inc. | On-the-fly beam path error correction for memory link processing |
US8497450B2 (en) | 2001-02-16 | 2013-07-30 | Electro Scientific Industries, Inc. | On-the fly laser beam path dithering for enhancing throughput |
US6676020B2 (en) * | 2001-11-30 | 2004-01-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Radiation director apparatus and method using piezoelectric movement |
US7435927B2 (en) * | 2004-06-18 | 2008-10-14 | Electron Scientific Industries, Inc. | Semiconductor link processing using multiple laterally spaced laser beam spots with on-axis offset |
US7923306B2 (en) * | 2004-06-18 | 2011-04-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots |
US7633034B2 (en) * | 2004-06-18 | 2009-12-15 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots overlapping lengthwise on a structure |
US7935941B2 (en) * | 2004-06-18 | 2011-05-03 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis on non-adjacent structures |
US7687740B2 (en) * | 2004-06-18 | 2010-03-30 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots delivering multiple blows |
US8148211B2 (en) * | 2004-06-18 | 2012-04-03 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis delivered simultaneously |
US7629234B2 (en) * | 2004-06-18 | 2009-12-08 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots with joint velocity profiling |
US8383982B2 (en) * | 2004-06-18 | 2013-02-26 | Electro Scientific Industries, Inc. | Methods and systems for semiconductor structure processing using multiple laser beam spots |
US7573627B2 (en) * | 2004-07-27 | 2009-08-11 | The George Washington University | Amplified bimorph scanning mirror, optical system and method of scanning |
CN100354687C (zh) * | 2005-07-08 | 2007-12-12 | 北京航空航天大学 | 二维压电光学扫描器 |
EP3092939A4 (de) * | 2014-04-22 | 2017-08-09 | Olympus Corporation | Optische abtastungsvorrichtung und abtastungsendoskop |
DE102017002870A1 (de) | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Blickfeld GmbH | Überlagerungsfigur für Scanner |
CN110858030A (zh) * | 2018-08-24 | 2020-03-03 | 成都理想境界科技有限公司 | 一种扫描驱动器及光纤扫描器 |
CN113741027B (zh) * | 2020-05-27 | 2024-03-08 | 成都理想境界科技有限公司 | 一种格栅式扫描致动器及光纤扫描器 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3758199A (en) * | 1971-11-22 | 1973-09-11 | Sperry Rand Corp | Piezoelectrically actuated light deflector |
US4289379A (en) * | 1977-04-27 | 1981-09-15 | Quantel S.A. | Optical system having a variable focal length |
US4251798A (en) * | 1978-05-31 | 1981-02-17 | Symbol Technologies | Portable laser scanning arrangement for and method of evaluating and validating bar code symbols |
US4496831A (en) * | 1980-02-29 | 1985-01-29 | Symbol Technologies, Inc. | Portable laser scanning system and scanning methods |
US4387297B1 (en) * | 1980-02-29 | 1995-09-12 | Symbol Technologies Inc | Portable laser scanning system and scanning methods |
US4385798A (en) * | 1980-09-16 | 1983-05-31 | Yevick George J | Piezoelectric light beam deflector |
US4431912A (en) * | 1981-11-13 | 1984-02-14 | International Business Machines Corp. | Method for controlling the operation of an optical scanner |
US4500776A (en) * | 1982-11-08 | 1985-02-19 | Vadim Laser | Method and apparatus for remotely reading and decoding bar codes |
US4917484A (en) * | 1984-05-15 | 1990-04-17 | Rockwell International Corporation | High-performance dynamic mount for laser-beam steering mirror and actuating motor therefor |
US4775815A (en) * | 1984-05-15 | 1988-10-04 | Rockwell International Corporation | Shear motor for dynamic mount for laser-beam steering mirror |
US4793699A (en) * | 1985-04-19 | 1988-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection apparatus provided with an electro-mechanical transducer element |
DE3601764A1 (de) * | 1986-01-22 | 1987-07-23 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Retromodulator |
US4778233A (en) * | 1986-09-19 | 1988-10-18 | Ateo Corporation | Steering mirror |
JP2508247B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1996-06-19 | 三菱電機株式会社 | マスクromの製造方法 |
-
1992
- 1992-11-12 US US07/975,396 patent/US5295014A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-11-11 DE DE4338578A patent/DE4338578A1/de not_active Withdrawn
- 1993-11-12 JP JP5307220A patent/JPH06214175A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19801139A1 (de) * | 1998-01-14 | 1999-07-15 | Rainer Dr Uhl | Punktabtastendes Luminiszenz-Mikroskop |
US6088097A (en) * | 1998-01-14 | 2000-07-11 | Uhl; Rainer | Point-scanning luminescent microscope |
DE19801139B4 (de) * | 1998-01-14 | 2016-05-12 | Till Photonics Gmbh | Punktabtastendes Luminiszenz-Mikroskop |
DE19802516C1 (de) * | 1998-01-25 | 2000-01-13 | Wolfgang Daum | Laserstrahlablenkvorrichtung |
DE10150424A1 (de) * | 2001-10-11 | 2003-04-30 | Siemens Ag | Piezoelektrischer Biegewandler sowie Reflexionssystem |
DE10150424B4 (de) * | 2001-10-11 | 2004-07-29 | Siemens Ag | Reflexionssystem und Verwendung des Reflexionssystems |
WO2018171841A1 (de) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Blickfeld GmbH | Scanner mit zwei sequentiellen scaneinheiten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5295014A (en) | 1994-03-15 |
JPH06214175A (ja) | 1994-08-05 |
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