DE60211832T2 - Bildaufzeichnungsgerät mit Beleuchtungsgitterlichtventil - Google Patents
Bildaufzeichnungsgerät mit Beleuchtungsgitterlichtventil Download PDFInfo
- Publication number
- DE60211832T2 DE60211832T2 DE60211832T DE60211832T DE60211832T2 DE 60211832 T2 DE60211832 T2 DE 60211832T2 DE 60211832 T DE60211832 T DE 60211832T DE 60211832 T DE60211832 T DE 60211832T DE 60211832 T2 DE60211832 T2 DE 60211832T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light
- cooling
- image recording
- light source
- shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J29/00—Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
- B41J29/377—Cooling or ventilating arrangements
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)
Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Aufzeichnung eines Bildes auf einem Aufzeichnungsmedium unter Verwendung eines Mehrkanal-Lichtmodulators.
- Beschreibung des Standes der Technik
- Eine Bildaufzeichnungsvorrichtung, die das Grating Light Valve (Marke der Silicon Light Machines, Sunnyvale, California) zur Modulation von Licht eines Halbleiterlasers verwendet, wurde bereits vorgeschlagen. Der Halbleiterlaser wird üblicherweise zur Stabilisierung der Wellenlänge und der Ausgangsleistung sowie Sicherstellung seiner Lebensdauer gekühlt. Andererseits beschreibt die japanische Patentanmeldungsveröffentlichung Nr. 2000-131628 eine Bildaufzeichnungsvorrichtung, welche zusätzlich mit einem Kühlsystem zur Kühlung des Lichtmodulators versehen ist.
- Das Grating Light Valve wandelt das einfallende Licht in nicht-gebeugte und gebeugte Bündel um, die als Signalbündel und als Nicht-Signalbündel verwendet werden. Die Nicht-Signalbündel werden abgeblockt, so dass sie das Aufzeichnungsmedium nicht erreichen. Wenn die Laserleistung hoch ist, muss die abgeblockte Lichtenergie durch ein Kühlsystem abgeführt werden.
- Im Allgemeinen wird die Laserquelle so lange eingeschaltet gehalten, wie die Aufzeichnungsvorrichtung in Betrieb ist, um so ihre Temperatur zu stabilisieren. Die Laserenergie, die oftmals durch eine Blende abgeblockt wird, erfordert ebenfalls Beseitigung.
- ÜBERBLICK ÜBER DIE ERFINDUNG
- Die vorliegende Erfindung ist für eine Bildaufzeichnungsvorrichtung mit einem Hochleistungslaser zur Aufzeichnung eines Bildes auf einem Aufzeichnungsmedium gedacht, wobei es eine Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung ist, in angemessener Weise einen Temperaturanstieg in der Bildaufzeichnungsvorrichtung zu unterdrücken.
- Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst die Bildaufzeichnungsvorrichtung eine einen Halbleiterlaser aufweisende Lichtquelle; das Grating Light Valve zur Modulierung des Lichts der Lichtquelle; ein Halterelement zum Halten des Aufzeichnungsmediums, welches Signalbündeln aus dem Lichtmodulator ausgesetzt ist; ein Lichtabschirmungselement zum Abblocken unerwünschten Lichts; und ein Lichtabschirmungs-Kühlelement zur Beseitigung von Wärme, die durch das Abblocken des unerwünschten Lichts erzeugt worden ist.
- Bei der Bildaufzeichnungsvorrichtung der vorliegenden Erfindung ist es möglich, in angemessener Weise schädliche Auswirkungen von Wärme auf ein optisches System durch Abführen der durch das Abblocken des unerwünschten Lichts erzeugten Wärme zu verhindern.
- Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung sind ein Lichtabschirmungs-Kühlelement zum Beseitigen der Lichtenergie und ein Lichtabschirmungselement zum Richten des Lichts aus der Lichtquelle auf das Lichtabschirmungs-Kühlelement vorgesehen. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst das Lichtabschirmungselement einen Spiegel, welcher Nicht-Signallicht aus dem Lichtmodulator reflektiert, wobei das Lichtabschirmungs-Kühlelement mit dem durch den Spiegel spiegelreflektierten Licht bestrahlt wird, um die durch Bestrahlung erzeugte Wärme zu beseitigen.
- Bei der Bildaufzeichnungsvorrichtung dieser bevorzugten Ausführungsformen wird die durch die Lichtabschirmung erzeugte Wärme vom optischen System weggeführt.
- Die vorliegende Erfindung ist auch für eine Technik zur effizienten Beseitigung von in der Vorrichtung erzeugter Wärme gedacht.
- Diese und andere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden ausführlichen Beschreibung der vorliegenden Erfindung bei Hinzunahme der beigefügten Zeichnungen deutlicher werden.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
-
1 ist eine Ansicht, welche einen Aufbau einer Bildaufzeichnungsvorrichtung gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform zeigt; -
2 ist eine schematische Draufsicht eines optischen Kopfs gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform; -
3 ist ein Blockdiagramm, welches zeigt, wie ein Kühlmittel umläuft; -
4 ist eine Ansicht, welche einen Aufbau einer Bildaufzeichnungsvorrichtung gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform zeigt; -
5 ist eine schematische Draufsicht eines optischen Kopfes gemäß der zweiten bevorzugten Ausführungsform. - BESCHREIBUNG DER BEVOZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
-
1 ist eine Ansicht, welche einen Aufbau einer Bildaufzeichnungsvorrichtung1 gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Bildaufzeichnungsvorrichtung1 weist einen optischen Kopf10 , welcher Licht zur Aufzeichnung eines Bildes emittiert, und eine Haltetrommel7 zum Halten eines Aufzeich nungsmediums9 , wie etwa einer Druckplatte, eines lichtempfindlichen Films und dergleichen, auf. Eine lichtempfindliche Trommel für ein plattenloses Drucken kann als Haltetrommel7 ebenfalls verwendet werden, wobei sich in diesem Fall versteht, dass das Aufzeichnungsmedium9 einer Oberfläche der lichtempfindlichen Trommel entspricht. - Der optische Kopf
10 mit einer Abdeckung10a zum Fernhalten von Staub wird durch einen (nicht gezeigten) Bewegungsmechanismus in Richtung senkrecht zum Papier bewegt. Die Haltetrommel7 dreht um eine zur Bewegungsrichtung des optischen Kopfes10 parallele Achse. Durch Drehen der Haltetrommel7 unter gleichzeitiger Bewegung des optischen Kopfes10 wird ein Bild auf dem Aufzeichnungsmedium9 aufgezeichnet. - Der optische Kopf
10 weist einen Halbleiterlaser (nachfolgend als „Lichtquelle" bezeichnet)11 mit Laseremittern111 , das Grating Light Valve12 , an das Licht aus der Lichtquelle11 über eine Linse21 geliefert wird, auf. Signalbündel aus dem Lichtmodulator12 erreichen die Haltetrommel7 über Linsen22 und23 . Der optische Kopf10 weist ferner einen Spiegel31 , der in den Lichtweg eingesetzt werden kann, Spiegel32 und33 zum Abblocken von Nicht-Signalbündeln aus dem Lichtmodulator12 , einen Lichtquellen-Kühlmantel41 , einen Vorrichtungs-Kühlmantel42 und einen Lichtabschirmungs-Kühlmantel43 auf. Der Vorrichtungskühlmantel42 kühlt Lichtmodulatorelemente121 über einen am Lichtmodulator12 angebrachten Wärmezerstreuer421 . - Licht aus den Laseremittern
111 wird in einer Richtung parallel zum Papier durch eine Linse112 kollimiert. Licht aus einer Anzahl von Emittern wird auf dem Lichtmodulator12 unter Überlagerung durch die Linse21 überlappt. - Die Lichtmodulatorelemente
121 werden unter Verwendung einer Halbleiterherstellungstechnik hergestellt, wobei jedes der Lichtmodulatorelemente121 ein Beugungsgitter ist, welches die Rillentiefe verän dern kann. Im Einzelnen ist eine Anzahl bandartiger Elemente parallel zueinander längs einer Referenzebene ausgebildet, und die Rillentiefe des Beugungsgitters wird durch eine Auf-Ab-Bewegung der bandartigen Elemente in Bezug auf die Referenzebene geändert. Durch Ändern der Rillentiefe erzeugt das Lichtmodulatorelement121 Beugungslicht nullten Ordnung (d.h., nicht-gebeugtes Licht) und gebeugtes Licht +/– erster oder höherer Ordnung. - Der an der Antriebswelle
311 befestigte Spiegel31 wird in den Lichtweg so eingesetzt, dass er das Licht aus der Lichtquelle11 auf den Kühlmantel43 in einem Nicht-Aufzeichnungszustand richtet, wobei er in einem Aufzeichnungszustand aus dem Lichtweg heraus angeordnet ist. - Die Spiegel
32 und33 empfangen Nicht-Signallicht aus dem Lichtmodulator12 , wie oben diskutiert, und richten das Nicht-Signallicht auf den Lichtabschirmungs-Kühlmantel43 .2 ist eine Draufsicht des optischen Kopfes10 , die schematisch zeigt, wie die Spiegel32 und33 angeordnet sind. Der Lichtquellen-Kühlmantel41 kühlt die Lichtquelle11 , um so die Wellenlänge und die Ausgangsleistung zu stabilisieren und ihre Lebensdauer zu gewährleisten. Der Vorrichtungs-Kühlmantel42 kühlt über den Wärmezerstreuer421 effizient den Lichtmodulator12 , um so seine Stabilität und Lebensdauer sicherzustellen. Der Lichtabschirmungs-Kühlmantel43 beseitigt Wärme, die durch Bestrahlung mit dem von den Spiegeln31 bis33 herkommenden Licht erzeugt wird. - Die Spiegel
31 ,32 und33 sind so orientiert, dass alle reflektierten Bündel ungefähr an der gleichen Stelle des Kühlmantels43 auftreffen. Dies gestattet eine Verminderung der Größe des Lichtabschirmungs-Kühlmantels43 . Die Lichtempfangsoberfläche auf dem Lichtabschirmungs-Kühlmantels43 besteht aus einem Material, welches das Licht der Lichtquelle11 effizient absorbiert. - Wie oben diskutiert, ist es, da alle Komponenten, welche eine Wärmeerzeugung verursachen, das heißt, die Lichtquelle
11 , der Licht modulator12 und die Lichtempfangsoberfläche des Lichtabschirmungs-Kühlmantels43 , gleichzeitig gekühlt werden, möglich, in angemessener Weise einen Temperaturanstieg im optischen Kopf10 zu unterdrücken. Dies hilft, eine Dejustierung der Optik zu verhindern. -
3 ist ein Blockdiagramm, welches einen Zustand zeigt, in dem ein Kühlmittel durch den Lichtquellen-Kühlmantel41 , den Vorrichtungs-Kühlmantel42 und den Lichtabschirmungs-Kühlmantel43 geführt wird. Die Bildaufzeichnungsvorrichtung1 umfasst eine Kühlereinheit44 zum Abkühlen des Kühlmittels und zur Regelung der Temperatur, wobei das durch die Kühlereinheit44 geschickte Kühlmittel den Lichtquellen-Kühlmantel41 , den Vorrichtungs-Kühlmantel42 und den Lichtabschirmungs-Kühlmantel43 in dieser Reihenfolge durchläuft und zur Kühlereinheit44 zurückgeführt wird. Die Kühlereinheit44 weist einen Tank zum Sammeln des Kühlmittels, ein Kühlelement zum Kühlen des Kühlmittels im Tank, eine Temperaturregelschaltung zur Regelung des Kühlens des Kühlmittels und eine Pumpe zum Aussenden des Kühlmittels auf. - Im Vergleich zwischen der Lichtquelle
11 und dem Lichtmodulator12 benötigt der Lichtmodulator12 keine so hochgenaue Temperaturregelung wie die Lichtquelle11 . Beispielsweise muss die Temperatur des Halbleiterlasers mit einer Genauigkeit von + – 1 °C geregelt werden, während der Lichtmodulator12 nur unter eine bestimmte Temperatur gekühlt werden muss, um zu verhindern, dass die Energieabsorbtion den Modulator schädigt. -
4 ist eine Ansicht, welche einen Aufbau der Bildaufzeichnungsvorrichtung1 gemäß der zweiten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. In4 sind Komponenten, die mit solchen aus der ersten bevorzugten Ausführungsform identisch sind, durch die gleichen Bezugszeichen dargestellt, und wie bei der ersten bevorzugten Ausführungsform wird das Licht aus der Lichtquelle11 ü ber die Linse21 auf den Lichtmodulator12 gerichtet, und das Signallicht aus dem Lichtmodulator12 wird über die Linsen22 und23 auf das von der Haltetrommel7 gehaltene Aufzeichnungsmedium gerichtet. Bei der Bildaufzeichnungsvorrichtung1 der zweiten bevorzugten Ausführungsform sind die Lichtquelle11 , der Lichtmodulator12 und die für eine Lichtabschirmung relevanten Komponenten im optischen Kopf luftgekühlt. - Als für die Lichtabschirmung relevante Komponenten sind eine Lichtabschirmungsplatte
301 zum Abblocken von Licht aus der Lichtquelle11 , zwei Lichtabschirmungsplatten302 und303 zum Abblocken des Nicht-Signallichts aus dem Lichtmodulator12 vorgesehen. Die Lichtabschirmungsplatte301 ist um die Antriebswelle311 drehbar und ihre Haltung ändert sich zwischen einer Position im Lichtweg von der Lichtquelle11 zum Lichtmodulator12 und einer Position außerhalb des Lichtweges. - Die Lichtquelle
11 wird mit einer Ventilatoreinheit401 und der Lichtmodulator12 mit einer Ventilatoreinheit402 gekühlt. Andererseits wird die Lichtabschirmungsplatte301 durch einen Luftstrom aus einem Ventilator431 gekühlt, wenn sie mit Licht aus der Lichtquelle11 bestrahlt wird. Die Lichtabschirmungsplatten302 und303 werden durch Ventilatoreinheiten432 bzw.433 luftgekühlt. -
4 ist eine Ansicht einer Bildaufzeichnungsvorrichtung1 gesehen von der Seite, weshalb die Lichtabschirmungsplatten302 und303 so gezeigt sind, als befänden sie sich auf einer optischen Achse, einander überlappend, tatsächlich aber sind die Lichtabschirmungsplatten302 und303 an bestimmten Abschnitten in der Richtung senkrecht zum Papier mit dazwischen liegender optischer Achse vorgesehen.5 ist eine Draufsicht des optischen Kopfes10 , die schematisch eine Lagebeziehung dieser Lichtabschirmungsplatten zeigt. Wie aus5 ersicht lich, sind die Lichtabschirmungsplatten302 und303 symmetrisch in Bezug auf die optische Achse angeordnet. - Bei dem optischen Kopf
10 ist ferner die Abdeckung10a mit einem Lufteinlass501 und einem Luftauslass502 versehen, wobei in dem Lufteinlass501 ein Ventilator51 und ein Filter52 angeordnet sind und in dem Luftauslass502 ein einfacher Filter53 angeordnet ist. Der optische Kopf10 nimmt dadurch Außenluft aus dem Ventilator51 und dem Filter52 herein und stößt die für eine Luftkühlung verwendete Luft über den Filter53 aus. - Auch bei der Bildaufzeichnungsvorrichtung
1 der zweiten bevorzugten Ausführungsform ist es, da die Lichtquelle11 , der Lichtmodulator12 und die Lichtabschirmungsplatten301 ,302 und303 , die eine Erzeugung von Wärme bewirken, gekühlt werden, möglich, angemessen einen Temperaturanstieg im optischen Kopf10 zu unterdrücken. - Die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wurden oben diskutiert, die vorliegende Erfindung beschränkt sich jedoch nicht auf die oben diskutierten bevorzugten Ausführungsformen, sondern lässt verschiedene Abwandlungen zu.
- Die Lichtquelle
11 in den bevorzugten Ausführungsformen beschränkt sich nicht auf einen Halbleiterlaserstab, sondern kann ein Halbleiterlaser mit einem einzelnen Emitter oder ein Halbleiterlaserfeld, welches eine Anzahl von Dioden aufweist, sein. Für eine strengere Temperaturregelung können Peltier-Module obigen Ausführungsformen hinzugefügt werden. - Das Kühlmittel beschränkt sich nicht auf Wasser, vielmehr können auch andere Kühlmittel verwendet werden.
- Die Erfindung wurde im Einzelnen wiedergegeben und beschrieben, die vorstehende Beschreibung ist jedoch in allen Aspekten veranschaulichend und nicht einschränkend. Es versteht sich daher, dass zahlreiche Abwandlungen und Variationen erdacht werden können, ohne die Erfindung, wie sich durch die Ansprüche definiert ist, zu verlassen.
Claims (12)
- Bildaufzeichnungsvorrichtung (
1 ) zur Aufzeichnung eines Bildes auf einem Aufzeichnungsmedium (9 ) durch Belichtung, welche aufweist: eine Lichtquelle (11 ), welche einen Halbleiterlaser (111 ) umfasst; ein Gitterlichtventil (12 ) zum Modulieren von Licht aus der Lichtquelle (11 ); ein Halteteil (7 ) zum Halten des Aufzeichnungsmediums (9 ) welches dem modulierten Licht ausgesetzt ist; ein Lichtabschirmungsteil (31 ,32 ,33 ) zum Abblocken von unerwünschtem Licht; und gekennzeichnet durch ein Lichtabschirmungskühlteil (43 ) zur Beseitigung von durch das Abblocken des unerwünschten Lichts erzeugter Wärme. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Abschirmungsteil (
31 ) für ein Abblocken von Licht zwischen der Lichtquelle (11 ) und dem Lichtventil (12 ) in einem Nicht-Aufzeichnungszustand eingerichtet ist. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Lichtabschirmungsteil einen Spiegel (
31 ) umfasst, welcher für ein Reflektieren des Lichts aus der Lichtquelle (11 ) eingerichtet ist; und das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) für ein Absorbieren des Lichts, das durch den Spiegel (31 ) reflektiert wird, eingerichtet ist, um die Wärme zu beseitigen. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Lichtabschirmungsteil (
32 ,33 ) für ein Abblocken von Nicht-Signalbündeln aus dem Lichtventil (12 ) eingerichtet ist. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 4, wobei das Lichtabschirmungsteil einen ersten Spiegel (
32 ) aufweist, welcher für ein Reflektieren der Nicht-Signallichtbündel eingerichtet ist, und das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) für ein Absorbieren der Lichtbündel, welche durch den Spiegel (32 ) reflektiert werden, eingerichtet ist, um die Wärme zu beseitigen. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 5, welche ferner aufweist: einen zweiten Spiegel (
31 ) zum Abblocken von Licht zwischen der Lichtquelle (11 ) und dem Lichtventil (12 ) in einem Nicht-Aufzeichnungszustand, wobei das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) für ein Absorbieren des durch den zweiten Spiegel (31 ) reflektierten Lichts eingerichtet ist. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welche ferner aufweist: ein Lichtquellenkühlteil (
41 ) zum Kühlen der Lichtquelle (11 ) mit einem Kühlmittel, wobei das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) für eine Verwendung des aus dem Lichtquellenkühlteil (41 ) kommenden Kühlmittels eingerichtet ist. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 7, welche ferner aufweist: ein Vorrichtungskühlteil (
42 ) zum Kühlen des Lichtventils (12 ) mit dem aus dem Lichtquellenkühlteil (41 ) kommenden Kühlmittel. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach Anspruch 8, welche ferner aufweist: ein Temperaturregelteil (
44 ) zur Regelung der Temperatur des Kühlmittels, wobei die Bildaufzeichnungsvorrichtung so aufgebaut ist, dass das Kühlmittel aus dem Temperaturregelteil (44 ) durch das Lichtquellenkühlteil (41 ), das Vorrichtungskühlteil (42 ) und das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) in dieser Reihenfolge geht und zum Temperaturregelteil (44 ) zurückgeführt wird. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welche ferner aufweist: ein Vorrichtungskühlteil (
42 ) zum Kühlen des Lichtventils (12 ) mit einem Kühlmittel, wobei das Lichtabschirmungskühlteil (43 ) für eine Durchführung der Kühlung mit Kühlmittel aus dem Vorrichtungskühlteil (42 ) eingerichtet ist. - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welche aufweist: ein Lichtquellenkühlteil (
41 ) zum Kühlen der Lichtquelle (11 ); und ein Vorrichtungskühlteil (42 ) zum Kühlen des Lichtventils (12 ). - Bildaufzeichnungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 8, 9 und 11, wobei die Lichtquelle (
11 ), das Lichtventil (12 ) und das Lichtabschirmungsteil (31 ,32 ,33 ) durch eine Verschlussabdeckung abgedeckt sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342767A JP3563384B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 画像記録装置 |
JP2001342767 | 2001-11-08 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60211832D1 DE60211832D1 (de) | 2006-07-06 |
DE60211832T2 true DE60211832T2 (de) | 2007-05-24 |
DE60211832T8 DE60211832T8 (de) | 2007-09-06 |
Family
ID=19156566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60211832T Active DE60211832T8 (de) | 2001-11-08 | 2002-10-24 | Bildaufzeichnungsgerät mit Beleuchtungsgitterlichtventil |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6806897B2 (de) |
EP (1) | EP1310375B1 (de) |
JP (1) | JP3563384B2 (de) |
DE (1) | DE60211832T8 (de) |
Families Citing this family (182)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004247438A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Canon Inc | 冷却装置 |
US7063920B2 (en) * | 2003-05-16 | 2006-06-20 | Asml Holding, N.V. | Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems |
US7183566B2 (en) * | 2003-05-28 | 2007-02-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus for manufacturing a device |
US7061591B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-06-13 | Asml Holding N.V. | Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays |
US6989920B2 (en) | 2003-05-29 | 2006-01-24 | Asml Holding N.V. | System and method for dose control in a lithographic system |
EP1482373A1 (de) | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels |
EP1489449A1 (de) * | 2003-06-20 | 2004-12-22 | ASML Netherlands B.V. | Räumlicher Lichtmodulator |
SG118283A1 (en) * | 2003-06-20 | 2006-01-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7110082B2 (en) * | 2003-06-24 | 2006-09-19 | Asml Holding N.V. | Optical system for maskless lithography |
SG119224A1 (en) * | 2003-06-26 | 2006-02-28 | Asml Netherlands Bv | Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
US7154587B2 (en) | 2003-06-30 | 2006-12-26 | Asml Netherlands B.V | Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7023463B2 (en) * | 2003-07-22 | 2006-04-04 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for printing images from digital image data |
US7224504B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-05-29 | Asml Holding N. V. | Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use |
US6831768B1 (en) * | 2003-07-31 | 2004-12-14 | Asml Holding N.V. | Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography |
US7414701B2 (en) * | 2003-10-03 | 2008-08-19 | Asml Holding N.V. | Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems |
SG110196A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7023526B2 (en) * | 2003-09-30 | 2006-04-04 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation |
US7410736B2 (en) * | 2003-09-30 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones |
US6876440B1 (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-05 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region |
US7109498B2 (en) * | 2003-10-09 | 2006-09-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
US7196772B2 (en) * | 2003-11-07 | 2007-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7116398B2 (en) * | 2003-11-07 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7001232B2 (en) * | 2003-12-11 | 2006-02-21 | Montgomery Robert E | Personal watercraft air intake assembly |
JP3708102B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2005-10-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工装置 |
US6995830B2 (en) * | 2003-12-22 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
US7012674B2 (en) * | 2004-01-13 | 2006-03-14 | Asml Holding N.V. | Maskless optical writer |
US7580559B2 (en) * | 2004-01-29 | 2009-08-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator |
US6847461B1 (en) * | 2004-01-29 | 2005-01-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry |
JP4083751B2 (ja) * | 2004-01-29 | 2008-04-30 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法 |
US7133118B2 (en) * | 2004-02-18 | 2006-11-07 | Asml Netherlands, B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7190434B2 (en) * | 2004-02-18 | 2007-03-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7081947B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7016014B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-03-21 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7061586B2 (en) * | 2004-03-02 | 2006-06-13 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7094506B2 (en) * | 2004-03-09 | 2006-08-22 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6967711B2 (en) * | 2004-03-09 | 2005-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
USRE43515E1 (en) | 2004-03-09 | 2012-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7561251B2 (en) * | 2004-03-29 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7153616B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-26 | Asml Holding N.V. | System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool |
US7053981B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-05-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7002666B2 (en) * | 2004-04-16 | 2006-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20050243295A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing |
US6963434B1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-08 | Asml Holding N.V. | System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator |
US20050259269A1 (en) * | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Asml Holding N.V. | Shearing interferometer with dynamic pupil fill |
US7242456B2 (en) | 2004-05-26 | 2007-07-10 | Asml Holdings N.V. | System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions |
US7477403B2 (en) | 2004-05-27 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
US7123348B2 (en) | 2004-06-08 | 2006-10-17 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and method utilizing dose control |
US6989886B2 (en) * | 2004-06-08 | 2006-01-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7016016B2 (en) * | 2004-06-25 | 2006-03-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7116403B2 (en) * | 2004-06-28 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7116404B2 (en) * | 2004-06-30 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7158208B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-01-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060001890A1 (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-05 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator as source module for DUV wavefront sensor |
US7573574B2 (en) * | 2004-07-13 | 2009-08-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060012779A1 (en) * | 2004-07-13 | 2006-01-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7335398B2 (en) * | 2004-07-26 | 2008-02-26 | Asml Holding N.V. | Method to modify the spatial response of a pattern generator |
US7259829B2 (en) * | 2004-07-26 | 2007-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7227613B2 (en) * | 2004-07-26 | 2007-06-05 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having double telecentric illumination |
US7142286B2 (en) * | 2004-07-27 | 2006-11-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7251020B2 (en) * | 2004-07-30 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7538855B2 (en) * | 2004-08-10 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7102733B2 (en) | 2004-08-13 | 2006-09-05 | Asml Holding N.V. | System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool |
US7500218B2 (en) * | 2004-08-17 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same |
US7304718B2 (en) * | 2004-08-17 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7079225B2 (en) * | 2004-09-14 | 2006-07-18 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7177012B2 (en) | 2004-10-18 | 2007-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7388663B2 (en) * | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
US7423732B2 (en) * | 2004-11-04 | 2008-09-09 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane |
US7609362B2 (en) * | 2004-11-08 | 2009-10-27 | Asml Netherlands B.V. | Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7170584B2 (en) * | 2004-11-17 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7061581B1 (en) * | 2004-11-22 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7474384B2 (en) * | 2004-11-22 | 2009-01-06 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus |
US7643192B2 (en) * | 2004-11-24 | 2010-01-05 | Asml Holding N.V. | Pattern generator using a dual phase step element and method of using same |
US7713667B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-05-11 | Asml Holding N.V. | System and method for generating pattern data used to control a pattern generator |
US7333177B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7365848B2 (en) * | 2004-12-01 | 2008-04-29 | Asml Holding N.V. | System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers |
US7391499B2 (en) * | 2004-12-02 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7362415B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7355677B2 (en) * | 2004-12-09 | 2008-04-08 | Asml Netherlands B.V. | System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus |
US7349068B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7180577B2 (en) * | 2004-12-17 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane |
US7391676B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Ultrasonic distance sensors |
US7256867B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7230677B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids |
US7375795B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7202939B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-04-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7274502B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-09-25 | Asml Holding N.V. | System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks |
US7656506B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-02-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
US7242458B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
US7538857B2 (en) * | 2004-12-23 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
US7426076B2 (en) * | 2004-12-23 | 2008-09-16 | Asml Holding N.V. | Projection system for a lithographic apparatus |
US7126672B2 (en) * | 2004-12-27 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060138349A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7317510B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7279110B2 (en) * | 2004-12-27 | 2007-10-09 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays |
US7459247B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7403865B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | System and method for fault indication on a substrate in maskless applications |
US7756660B2 (en) * | 2004-12-28 | 2010-07-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7145636B2 (en) * | 2004-12-28 | 2006-12-05 | Asml Netherlands Bv | System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications |
US7274029B2 (en) | 2004-12-28 | 2007-09-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7253881B2 (en) * | 2004-12-29 | 2007-08-07 | Asml Netherlands Bv | Methods and systems for lithographic gray scaling |
US7342644B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-03-11 | Asml Netherlands B.V. | Methods and systems for lithographic beam generation |
US7567368B2 (en) * | 2005-01-06 | 2009-07-28 | Asml Holding N.V. | Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography |
US7542013B2 (en) * | 2005-01-31 | 2009-06-02 | Asml Holding N.V. | System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode |
US20060199519A1 (en) * | 2005-02-09 | 2006-09-07 | Great Computer Corporation | Pressurized air-filter container for mounting on a laser engraver |
US7460208B2 (en) * | 2005-02-18 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7286137B2 (en) * | 2005-02-28 | 2007-10-23 | Asml Holding N.V. | Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization |
US7499146B2 (en) * | 2005-03-14 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping |
US7812930B2 (en) * | 2005-03-21 | 2010-10-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume |
US7209216B2 (en) * | 2005-03-25 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography |
US7403265B2 (en) * | 2005-03-30 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
US7728956B2 (en) * | 2005-04-05 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data |
US7330239B2 (en) * | 2005-04-08 | 2008-02-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device |
US7209217B2 (en) | 2005-04-08 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices |
US7221514B2 (en) * | 2005-04-15 | 2007-05-22 | Asml Netherlands B.V. | Variable lens and exposure system |
JP5126928B2 (ja) | 2005-04-20 | 2013-01-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
US20060244805A1 (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Ming-Hsiang Yeh | Multicolor pen |
US7400382B2 (en) | 2005-04-28 | 2008-07-15 | Asml Holding N.V. | Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form |
US7738081B2 (en) * | 2005-05-06 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler |
US7197828B2 (en) * | 2005-05-31 | 2007-04-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement |
US7477772B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression |
US7742148B2 (en) * | 2005-06-08 | 2010-06-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image |
US7292317B2 (en) * | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
US7233384B2 (en) * | 2005-06-13 | 2007-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor |
US7321416B2 (en) * | 2005-06-15 | 2008-01-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion |
US7408617B2 (en) * | 2005-06-24 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method |
US7965373B2 (en) * | 2005-06-28 | 2011-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load |
US7307694B2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method |
US7522258B2 (en) * | 2005-06-29 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination |
US20070013889A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus |
US7251019B2 (en) | 2005-07-20 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging |
US7606430B2 (en) * | 2005-08-30 | 2009-10-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD |
US20070046917A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU |
JP2007114750A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-05-10 | Asml Netherlands Bv | 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法 |
US7830493B2 (en) * | 2005-10-04 | 2010-11-09 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system |
US7391503B2 (en) * | 2005-10-04 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate |
US7332733B2 (en) * | 2005-10-05 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to correct for field curvature of multi lens array |
US20070127005A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Asml Holding N.V. | Illumination system |
US7626181B2 (en) * | 2005-12-09 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20070133007A1 (en) * | 2005-12-14 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using laser trimming of a multiple mirror contrast device |
US7440078B2 (en) * | 2005-12-20 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units |
US20070153249A1 (en) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types |
US7466394B2 (en) * | 2005-12-21 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array |
US7532403B2 (en) * | 2006-02-06 | 2009-05-12 | Asml Holding N.V. | Optical system for transforming numerical aperture |
US7528933B2 (en) * | 2006-04-06 | 2009-05-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement |
US7508491B2 (en) * | 2006-04-12 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity |
US7948606B2 (en) * | 2006-04-13 | 2011-05-24 | Asml Netherlands B.V. | Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns |
US7839487B2 (en) * | 2006-04-13 | 2010-11-23 | Asml Holding N.V. | Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device |
US8264667B2 (en) * | 2006-05-04 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure |
US8934084B2 (en) * | 2006-05-31 | 2015-01-13 | Asml Holding N.V. | System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system |
US7728954B2 (en) * | 2006-06-06 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Reflective loop system producing incoherent radiation |
US7649676B2 (en) * | 2006-06-14 | 2010-01-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to form unpolarized light |
US7936445B2 (en) * | 2006-06-19 | 2011-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Altering pattern data based on measured optical element characteristics |
US8896808B2 (en) * | 2006-06-21 | 2014-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US7697115B2 (en) * | 2006-06-23 | 2010-04-13 | Asml Holding N.V. | Resonant scanning mirror |
US7593094B2 (en) * | 2006-06-26 | 2009-09-22 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device |
US20080002174A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Asml Netherlands B.V. | Control system for pattern generator in maskless lithography |
US7630136B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-12-08 | Asml Holding N.V. | Optical integrators for lithography systems and methods |
US7548315B2 (en) * | 2006-07-27 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system |
US7738077B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same |
US7626182B2 (en) * | 2006-09-05 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7628875B2 (en) * | 2006-09-12 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | MEMS device and assembly method |
US8049865B2 (en) * | 2006-09-18 | 2011-11-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method |
US7683300B2 (en) | 2006-10-17 | 2010-03-23 | Asml Netherlands B.V. | Using an interferometer as a high speed variable attenuator |
US20080111977A1 (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Asml Holding N.V. | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings |
US7738079B2 (en) * | 2006-11-14 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Radiation beam pulse trimming |
US7453551B2 (en) * | 2006-11-14 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity |
US8054449B2 (en) * | 2006-11-22 | 2011-11-08 | Asml Holding N.V. | Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool |
US8259285B2 (en) * | 2006-12-14 | 2012-09-04 | Asml Holding N.V. | Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data |
US7965378B2 (en) * | 2007-02-20 | 2011-06-21 | Asml Holding N.V | Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography |
US8009269B2 (en) | 2007-03-14 | 2011-08-30 | Asml Holding N.V. | Optimal rasterization for maskless lithography |
US8009270B2 (en) * | 2007-03-22 | 2011-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Uniform background radiation in maskless lithography |
US7714986B2 (en) * | 2007-05-24 | 2010-05-11 | Asml Netherlands B.V. | Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control |
US20080304034A1 (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Dose control for optical maskless lithography |
US8692974B2 (en) * | 2007-06-14 | 2014-04-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control |
US8189172B2 (en) * | 2007-06-14 | 2012-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US7768627B2 (en) * | 2007-06-14 | 2010-08-03 | Asml Netherlands B.V. | Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system |
US8531755B2 (en) * | 2009-02-16 | 2013-09-10 | Micronic Laser Systems Ab | SLM device and method combining multiple mirrors for high-power delivery |
JP5714334B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2015-05-07 | 株式会社オーク製作所 | 熱交換機構および露光装置 |
US10747033B2 (en) * | 2016-01-29 | 2020-08-18 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Cooler for optics transmitting high intensity light |
US11586031B2 (en) | 2020-07-08 | 2023-02-21 | Xerox Corporation | In-line stitched image optical system architecture for GLV laser line imagers |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62231973A (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-12 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JP2826785B2 (ja) | 1992-07-09 | 1998-11-18 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
US6400444B2 (en) | 1992-07-09 | 2002-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device producing method using the same |
JPH1027751A (ja) | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Nikon Corp | 照明装置及びこれを用いた露光装置 |
JP4006833B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2007-11-14 | 株式会社日立製作所 | 光学装置 |
JP2000131628A (ja) | 1998-10-27 | 2000-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2002137440A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
US6765941B2 (en) * | 2001-12-03 | 2004-07-20 | Agfa Corporation | Method and apparatus for cooling a self-contained laser head |
-
2001
- 2001-11-08 JP JP2001342767A patent/JP3563384B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-10-24 EP EP02023887A patent/EP1310375B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-24 DE DE60211832T patent/DE60211832T8/de active Active
- 2002-10-25 US US10/279,819 patent/US6806897B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1310375A1 (de) | 2003-05-14 |
DE60211832T8 (de) | 2007-09-06 |
EP1310375B1 (de) | 2006-05-31 |
JP3563384B2 (ja) | 2004-09-08 |
US6806897B2 (en) | 2004-10-19 |
DE60211832D1 (de) | 2006-07-06 |
JP2003140354A (ja) | 2003-05-14 |
US20030085987A1 (en) | 2003-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60211832T2 (de) | Bildaufzeichnungsgerät mit Beleuchtungsgitterlichtventil | |
DE69531644T3 (de) | Projektionsbelichtungsgerät und Herstellungsverfahren für eine Mikrovorrichtung | |
DE10000191B4 (de) | Projektbelichtungsanlage der Mikrolithographie | |
DE112006001842B4 (de) | Einheit und Verfahren für Hochleistungs-Laserbearbeitung | |
US3266393A (en) | Means and methods for marking film | |
US5111343A (en) | Gradient filter | |
DE4136698C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Frequenzfilters und Musterdefekt-Nachweiseinrichtung | |
EP1113337A2 (de) | Optische Anordnung | |
DE102011113521A1 (de) | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage | |
EP0746800A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten | |
DE3215630A1 (de) | Schattenprojektionssystem | |
DE102020204722A1 (de) | Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems | |
DE1816198A1 (de) | Einrichtung zum aufeinanderfolgenden Projizieren von Bildern,insbesondere fuer Photosetzeinrichtungen | |
DE60116206T2 (de) | Optischer Druckkopf eines Randdruckgerätes zum Drucken von Daten auf lichtempfindliches Material | |
DE102017200934A1 (de) | Verfahren zum Betrieb eines Manipulators einer Projektionsbelichtungsanlage | |
DE3327689C1 (de) | Gerät zur Belichtung von Leiterplatten | |
DE19527528C2 (de) | Beleuchtungslichtquellenvorrichtung für einen photographischen Printer | |
DE102020208007A1 (de) | Optisches System mit einer Aperturblende | |
DE2653539B2 (de) | Anordnung zur Aufzeichnung von gerasterten Halbtonbildern | |
EP1380885A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Aufbelichten von digitalisierten Bildinformationen auf ein lichtempfindliches Material | |
DE60120303T2 (de) | Bildlesevorrichtung | |
DE102019217185A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie | |
DE102021202860B4 (de) | Optisches system und lithographieanlage | |
DE60122469T2 (de) | Vorrichtung zum belichten eines wärmeempfindlichen mediums | |
EP4276536A1 (de) | Kompakte lichtquellen-anordnung und deren verwendung bei der herstellung von siebdruckschablonen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8381 | Inventor (new situation) |
Inventor name: KATAOKA, YOSHIKAZU, HORIKAWA-DORI, KAMIKYO-KU,, JP Inventor name: TAMAKI, EIICHI, HORIKAWA-DORI, KAMIKYO-KU, KYO, JP |