DE69434606T2 - Halbleiterbauelement mit Kondensator und dessen Herstellungsverfahren - Google Patents

Halbleiterbauelement mit Kondensator und dessen Herstellungsverfahren Download PDF

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Description

  • ERFINDUNGSGEBIET
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiteranordnung mit einer ferroelektrischen oder stark dielelektrischen Schicht als dielektrischer Schicht eines Kondensators und auf deren Herstellungsverfahren.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Entsprechend dem Trend zu einer höheren Geschwindigkeit und einer geringeren Leistungsaufnahme von Halbleiteranordnungen, wie zum Beispiel Mikrorechnern und digitalen Signalprozessoren, werden seit kurzem elektronische Gebrauchsartikel in ihrer Leistung zunehmend vervollkommnet, wobei jedoch eine elektromagnetische Störung, die in einem von diesen elektronischen Geräten ausgehenden elektromagnetischen Rauschen besteht, ein ernstes Problem darstellt. Demzufolge werden nicht nur in den elektronischen Geräten, sondern auch in den darin eingesetzten elektronischen Bauelementen Maßnahmen gegen die elektromagnetische Störung gefordert. Die effektivste Maßnahme gegen die elektromagnetische Störung in der Halbleiteranordnung ist das Einbauen eines Kondensators mit einer großen Kapazität zwischen der Vorspannungsleitung und der Masseleitung innerhalb der Halbleiteranordnung; bislang wurde der Kondensator außerhalb der Halbleiteranordnung angeordnet.
  • Darüber hinaus sind vor kurzem nichtflüchtige Speicher mit wahlfreiem Zugriff in einer einfachen Konstruktion mit Kondensator, in denen als dielektrische Schicht des Kondensators eine ferroelektrische Schicht verwendet wird, und dynamische Speicher mit wahlfreiem Zugriff mit Kondensator, in denen eine dielektrische Schicht mit einer großen Dielektrizitätskonstanten als Speicherkondensator dient, entwickelt worden.
  • Eine konventionelle Halbleiteranordnung mit Kondensator wird im Folgenden ausführlich beschrieben.
  • 1 ist eine Teilquerschnittsansicht einer repräsentativen Halbleiteranordnung. In 1 ist auf einem Siliziumsubstrat 1 in einem Bereich, der durch ein Feldoxidgebiet 2 umschlossen wird, ein integrierter Schaltkreis 6 angeordnet, der durch aktive Source/Drain-Bereiche 3, ein Gateoxid 4 und eine Gateelektrode 5 gegeben ist. Ferner wurde auf dem Siliziumsubstrat 1 eine Isolationsschicht 7 abgeschieden, und in einem bestimmten Bereich ist ein Kondensator 11 auf der Isolationsschicht 7 ausgebildet worden, der aus einer unteren Elektrode 8, einer dielektrischen Schicht des Kondensators 9 und einer oberen Elektrode 10 besteht. Mindestens zum Abdecken des Kondensators 11 ist außerdem eine Isolationszwischenschicht 12 vorgesehen. Angeordnet wurden auch Verbindungen 14a, die durch ein erstes Kontaktloch 13a mit den aktiven Source/Drain-Bereichen 3 verbunden sind, eine Verbindung 14b, die durch ein zweites Kontaktloch 13b mit der unteren Elektrode 8 des Kondensators 11 verbunden ist, und eine Verbindung 14c, die durch ein drittes Kontaktloch 130 mit der oberen Elektrode 10 des Kondensators 11 verbunden ist. Außerdem ist zum Schutz der Verbindungen 14a, 14b, 14c eine Passivierungsschicht 15 vorgesehen.
  • Ein Herstellungsverfahren der in 1 dargestellten, konventionellen Halbleiteranordnung mit Kondensator wird im Weiteren mit Bezug auf den in 2 im Zusammenhang mit 1 dargestellten Ablaufplan des Herstellungsprozesses erläutert. Zunächst wird im Schritt (1) der integrierte Schaltkreis 6 auf dem Siliziumsubstrat 1 hergestellt. Im Schritt (2) wird eine Isolationsschicht 7 auf einem Siliziumsubstrat 1 abgeschieden. Im Schritt (3) wird ein Kondensator 11 auf der Isolationsschicht 7 ausgebildet. Dieser Kondensator 11 entsteht durch aufeinanderfolgendes Abscheiden einer ersten leitfähigen Schicht als unterer Elektrode 8, einer dielektrischen Schicht des Kondensators 9 und einer zweiten leitfähigen Schicht als oberer Elektrode 10 sowie durch die entsprechende Formgebung mittels Ätzen. Als dielektrische Schicht 9 des Kondensators dient eine ferroelektrische Schicht oder eine stark dielektrische Schicht, und als untere Elektrode 8 sowie als obere Elektrode 10 werden Doppelschichten verwendet, die von der Kontaktfläche mit der dielektrischen Schicht 9 des Kondensators ausgehend jeweils aus einer Platin- und einer Titanschicht bestehen. Im Schritt (4) wird eine Isolationszwischenschicht 12, die aus PSG (Phosphorsilikatglas) besteht, mittels CVD so abgeschieden, dass mindestens der Kondensator 11 bedeckt ist. Im Schritt (5) werden ein erstes Kontaktloch 13a, das zu den aktiven Source/Drain-Bereichen 3 des integrierten Schaltkreises 6 führt, ein zweites Kontaktloch 13b, das zu der unteren Elektrode 8 des Kondensators 11 führt, und ein drittes Kontaktloch 13c, das zu der oberen Elektrode 10 des Kondensators 11 führt, hergestellt. Nach der Herstellung der Verbindungen 14a, 14b, 14c im Schritt (6) wird mittels Plasma-CVD im Schritt (7) eine Passivierungsschicht 15 aufgebracht, die aus einer Siliziumnitridschicht oder einer Siliziumoxinitridschicht mit einem hohen Feuchtewiderstand besteht. Ein Beispiel einer solchen Halbleiteranordnung ist im Dokument EP-A-0 503 078 beschrieben.
  • In einer derartigen konventionellen Halbleiteranordnung mit Kondensator, in der eine PSG-Schicht als Isolationszwischenschicht 12 dient, wird das Ziel einer Minderung der Beanspruchung des Kondensators 11 zwar erreicht, die bei der Herstellung der PSG – Schicht mittels CVD erzeugte Feuchtigkeit wird jedoch durch die PSG – Schicht absorbiert, und diese Feuchtigkeit diffundiert in die ferroelektrische Schicht, welche die dielektrische Schicht des Kondensators bildet, und setzt damit den elektrischen Widerstand herab. Dieses Phänomen führt zu einem Ansteigen des Kriechstroms des Kondensators 11 oder zu einer Abnahme der dielektrischen Durchschlagfestigkeit, was einen dielektrischen Durchschlag der dielektrischen Schicht 9 des Kondensators hervorrufen kann.
  • In einer solchen konventionellen Halbleiteranordnung mit Kondensator wird als Passivierungsschicht 15 sogar eine durch Plasma-CVD erzeugte Siliziumnitrid- oder Siliziumoxinitridschicht verwendet, und obwohl ein Eindringen von Feuchtigkeit von außen in den Kondensator 11 verhindert werden kann, wird beim Schichtherstellungsprozess mittels Plasma-CVD aktivierter Wasserstoff erzeugt, und dieser aktivierte Wasserstoff kann in die ferroelektrische oder stark dielektrische Schicht, welche die dielektrische Schicht 9 des Kondensators bildet, diffundieren, was zu einem Anstieg des Kriechstroms des Kondensators 11 oder zu einer Verschlechterung der elektrischen Kennlinie führen kann. Im Allgemeinen liegt der Gehalt an Wasserstoffatomen in der durch Plasma. CVD hergestellten Nitridschicht in einer Größenordnung von 1022 Atomen/cm3, und durch Wärmebehandlung nach der Schichtherstellung wird die Diffusion von Wasserstoff in die dielektrische Schicht 9 des Kondensators beschleunigt, und die Kennlinie des Kondensators 11 wird weiter verschlechtert.
  • DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist daher ein Hauptziel der Erfindung, eine Halbleiteranordnung mit einem Kondensator mit hoher Zuverlässigkeit zur Verfügung zu stellen. Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein Herstellungsverfahren für diese Halbleiteranordnung ohne Beeinträchtigung der auf dem Halbleitersubstrat ausgebildeten Halbleiteranordnung bereitzustellen.
  • Die vorliegende Erfindung ist in den Ansprüchen definiert.
  • Bei dieser Gestaltung kann eine Diffusion von Feuchtigkeit in die dielektrische Schicht des Kondensators unterdrückt und eine Abnahme der dielektrischen Festigkeit der dielektrischen Schicht des Kondensators vermeiden werden, und dadurch wird die Zuverlässigkeit nachweislich verbessert.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Teilquerschnittsansicht, in der die Struktur der Hauptbestandteile einer konventionellen Halbleiteranordnung mit Kondensator dargestellt ist.
  • 2 ist ein Ablaufplan zur Erläuterung eines konventionellen Herstellungsverfahrens einer Halbleiteranordnung mit Kondensator.
  • 3 ist ein Teilquerschnittsansicht, in der die Struktur der Hauptbestandteile einer Halbleiteranordnung mit dem erfindungsgemässen Kondensator dargestellt ist.
  • 4 ist ein Ablaufplan zur Erläuterung eines Herstellungsverfahrens einer Halbleiteranordnung mit dem erfindungsgemässen Kondensator.
  • 5 ist ein Diagramm, das die Temperaturabhängigkeit der von einer PSG – Schicht freigesetzten Feuchtemenge darstellt.
  • 6 ist ein Diagramm, das die elektrische Zuverlässigkeit einer Halbleiteranordnung mit dem erfindungsgemässen Kondensator darstellt.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
  • In der in 3 dargestellten Halbleiteranordnung ist eine isolierende Oxidschicht 32 auf einem Siliziumsubstrat 31 abgeschieden, und in einem Bereich, der von der isolierenden Oxidschicht 32 umfasst wird, ist ein integrierter Schaltkreis 36 angeordnet, der durch einen Transistor verkörpert wird, welcher aus einer Diffusionszone 33, einer Gate – Isolationsschicht 34 und einer Gate – Elektrode 35 besteht.
  • Auf dem Siliziumsubstrat 31 ist eine aus einer Siliziumoxidschicht bestehende Isolationsschicht 37 abgeschieden, und auf der Isolationsschicht 37 ist ein Kondensator 41 ausgebildet, der eine aus Platin- und Titanschicht zusammengesetzte untere Elektrode 38, eine aus einer ferroelektrischen oder stark dielektrischen Schicht bestehende dielektrische Schicht 39 des Kondensators und eine aus Platin- und Titanschicht zusammengesetzte obere Elektrode 40 umfasst. Zum Abdecken dieses Kondensators 41 ist eine Isolationszwischenschicht 42 ausgebildet, die aus einer PSG – Schicht mit einem Feuchtegehalt von 0,5 g oder weniger pro 1 cm3 gebildet wird. In der konventionellen Halbleiteranordnung mit Kondensator lag der Feuchtegehalt der Isolationszwischenschicht bei 0,9g oder mehr pro 1 cm3.
  • Oberhalb des integrierten Schaltkreises 36 ist in der Isolationsschicht 37 und der Isolationszwischenschicht 42 ein erstes Kontaktloch 43a ausgebildet, das zu einer Diffusionszone 33 führt, und oberhalb des Kondensators 41 sind in der Isolationszwischenschicht 42 ein zur unteren Elektrode 38 führendes Kontaktloch 43b sowie ein zur oberen Elektrode 40 führendes drittes Kontaktloch 43c ausgebildet. Durch das erste Kontaktloch 43a ist eine Zuleitung 44a, die aus einer Aluminium- oder Aluminiumlegierungsschicht gebildet wird, zum Anschluss des Diffusionsbereiches 33 vorgesehen, und durch das zweite und dritte Kontaktloch 43b, 43c sind Zuleitungen 44b, 44c, die aus einer Aluminium- oder einer Aluminiumlegierungsschicht gebildet werden, zum Anschluss der unteren Elektrode 38 und der oberen Elektrode 40 vorgesehen. Zum Schutz dieser Zuleitungen 44a, 44b, 44c ist eine Passivierungsschicht 45 aufgesetzt, die aus einer Siliziumnitrid- oder Siliziumoxinitridschicht gebildet wird.
  • Bei dieser Gestaltung wird der Feuchtegehalt in der isolationszwischenschicht 42 unter 0,5 g pro 1 cm3 gehalten, und beim Aufheizen in den nachfolgenden Schritten kann die Diffusion von Feuchte in die dielektrische Schicht 39 des Kondensators verhindert werden, wodurch ein Ansteigen des Kriechstromes und eine Abnahme der dielektrischen Durchschlagfestigkeit des Kondensators 41 vermieden werden kann, so dass eine Halbleiteranordnung mit dem Kondensator 41 realisiert werden kann, die im Vergleich zum Stand der Technik kaum zu Problemen infolge eines elektrischen Durchschlags führt.
  • Ein Herstellungsverfahren einer solchen Halbleiteranordnung wird im Weiteren mit Bezug auf den in 4 im Zusammenhang mit 3 dargestellten Ablaufplan des Herstellungsverfahrens erläutert. Zunächst werden in Schritt (1) ein integrierter Schaltkreis 36 und anderes auf einem Siliziumsubstrat 31 erzeugt. Im Schritt (2) wird eine Isolationsschicht 37 auf dem Siliziumsubstrat 31 abgeschieden. Im Schritt (3) wird ein Kondensator 41 auf der Isolationsschicht 37 ausgebildet. Dieser Kondensator 41 wird durch aufeinanderfolgendes Abscheiden einer ersten leitfähigen Schicht als unterer Elektrode 38, einer dielektrischen Schicht des Kondensators 39 und einer zweiten leitfähigen Schicht als oberer Elektrode 40 sowie durch die entsprechende Formgebung mittels Ätzen erzeugt. Als dielektrische Schicht 39 des Kondensators dient eine ferroelektrische oder eine stark dielektrische Schicht, und als untere Elektrode 38 sowie als obere Elektrode 40 werden Doppelschichten verwendet, die von der Kontaktfläche mit der dielektrischen Schicht 39 des Kondensators ausgehend jeweils aus einer Platin- und einer Titanschicht bestehen. Im Schritt (4) wird der Kondensator 41 erhitzt, um die Kennlinie der dielektrischen Schicht 39 des Kondensators zu verbessern und zu stabilisieren. Im Schritt (5) wird mittels CVD oder dergleichen eine aus einer PSG – Schicht (Phosphorsilikatglasschichte) bestehende Isolationszwischenschicht 42 zumindest zum Abdecken des Kondensators 41 aufgebracht, und im Schritt (6) wird die Isolationszwischenschicht 42 in einer Stickstoffatmosphäre erhitzt sowie die in der Isolationszwischenschicht 42 enthaltene Feuchte bis zu einem Wert von nicht mehr als 0,5g pro 1 cm3 der Isolationszwischenschicht 42 reduziert.
  • Im Schritt (7) werden ein erstes Kontaktloch 43a, das zur Diffusionszone 33 des integrierten Schaltkreises 36 führt, sowie ein zweites und ein drittes Kontaktloch 43b und 43c, die zu der unteren Elektrode 38 bzw. der oberen Elektrode 40 des Kondensators 41 führen, hergestellt. Im Schritt (8) werden die Zuleitungen 44a, 44b, 44c erzeugt, und im Schritt (9) wird mittels Plasma-CVD eine Passivierungsschicht 45 abgeschieden, die aus einer Siliziumnitridschicht oder einer Siliziumoxinitridschicht mit einem hohen Feuchtewiderstand besteht.
  • In der obigen Anordnung und dem obigen Herstellungsverfahren wird die PSG – Schicht mittels CVD als Isolationszwischenschicht 42 abgeschieden, und die Feuchte wird aus der PSG -Schicht durch einen nachfolgenden Wärmebehandlungsprozess beseitigt, aber die Erfindung ist nicht darauf beschränkt, und z.B. kann auch eine Siliziumoxidschicht bei hoher Temperatur und verringertem Druck abgeschieden werden, wobei eine Wärmebehandlung weggelassen werden kann.
  • Im oben beschriebenen Herstellungsverfahren wird die Wärmebehandlung der Isolationszwischenschicht 42 von Schritt (6) in 4 in Stickstoffgas ausgeführt, sie kann jedoch auch in einem Inertgas, wie z.B. Helium oder Argon, oder im Vakuum ausgeführt werden.
  • Messergebnisse der Feuchteabsorption einer mittels CVD hergestellten PSG – Schicht werden im Folgenden mit Bezug auf 5 erläutert. Auf der Abszisse in 5 ist die Temperatur und auf der Ordinate die bei der entsprechenden Temperatur abgegebene Feuchtemenge aufgetragen; das Verhältnis dieser Größen entspricht der Intensität der Feuchteadsorption. Wie in 5 dargestellt ist, liegt in einem ersten Maximum die Temperatur, bei der es zu einer maximalen Freisetzung von adsorbierter Feuchte durch die PSG – Schicht kommt, zwischen 300 und 350°C, in einem zweiten Maximum zwischen 450 und 530°C. Die dem zweiten Maximum entsprechende Feuchte ist an der PSG – Schicht mit einer ausreichend starken Adsorption adsorbiert und scheint die Zuverlässigkeit bei Normalbetrieb kaum zu beeinflussen. Im Gegensatz dazu reicht die Flanke des ersten Maximums bis zu niedrigen Temperaturen, und Wasser wird in einem Zustand relativ nahe der Betriebstemperatur freigesetzt, so dass es eine Verschlechterung der dielektrischen Schicht 39 des Kondensators hervorzurufen scheint.
  • Die Erfinder fanden, dass vorzugsweise eine Aufheizung auf 350°C oder höher erfolgen sollte, um das dem ersten Maximum in 4 entsprechende adsorbierte Wasser unmittelbar nach dem Abscheiden der Schicht mittels CVD freizusetzen. Außerdem hat sich gezeigt, dass für die Isolationszwischenschicht 42 eine Wärmebehandlung der Siliziumoxidschicht mit weniger als 6 Gew. % Phosphor auch hinsichtlich einer Verringerung der Beanspruchung des Kondensators 41 vorzuziehen Ist. Ansonsten wird die obige Wärmebehandlung bei keiner höheren als der Temperatur ausgeführt, die eine Verschlechterung der Kennlinie des integrierten Schaltkreises zur Folge hat. Eine Verschlechterung tritt im Allgemeinen bei etwa 900°C ein. Es ist vorzuziehen, auf etwa 850°C oder weniger aufzuheizen.
  • Das Ergebnis der Beurteilung der Zuverlässigkeit des in dieser Ausführungsform hergestellten Kondensators 41 ist in 6 dargestellt. Als dielektrische Schicht 39 des Kondensators wurde Barium-Strontium-Titanat verwendet. Auf der Abszisse Ist der Reziprokwert des auf den Kondensator 41 wirkenden elektrischen Feldes dargestellt, und die Ordinate stellt die Zeit dar, bis der Kriechstrom einen bestimmten Wert erreicht. Die Gerade (a) zeigt den Kriechstrom beim Anlegen einer Spannung an den nach dem konventionellen Verfahren hergestellten Kondensator 41, und der Feuchtegehalt der als Isolationszwischenschicht 42 verwendeten PSG – Schicht war 0,93 g/cm3. Die Gerade (b) bezieht sich auf das Ergebnis für den in der Ausführungsform hergestellten Kondensator 41, und der Feuchtegehalt der als Isolationszwischenschicht 42 dienenden PSG – Schicht war 0,45 g/cm3. Durch einen Vergleich dieser Geraden ist bewiesen, dass dieser Kondensator 41 mit dem geringeren Feuchtegehalt der Isolationszwischenschicht 42 dem konventionellen Muster weit überlegen ist. Als Folge davon kann der Feuchtegehalt in der PSG – Schicht 0.5g/cm3 oder kleiner sein.
  • In der Ausführungsform werden nach dem Ausbilden und Erhitzen der lsolationszwischenschicht 42 die Kontaktlöcher 43a, 43b, 43c hergestellt, aber die Abfolge der Wärmebe handlung kann in der Reihenfolge Ausbildung der Isolationszwischenschicht 42, Herstellung von Kontaktlöchern 43a, 43b, 43c und Wärmebehandlung abgeändert werden. In einem solchen Fall dienen die Kontaktlöcher 43a, 43b, 43c als Lüftungslöcher, und die am Kondensator 41 adsorbierte Feuchte ist leicht freizusetzen.
  • In dieser Ausführungsform wird die Isolationszwischenschicht 42 einmalig erhitzt, die Wärmebehandlung kann jedoch in mehrere Schritte unterteilt werden. Zum Beispiel kann eine erste Wärmebehandlung nach dem Abscheiden der Isolationszwischenschicht 42 und eine zweite Wärmebehandlung nach der Herstellung der Kontaktlöcher 43a, 43b, 43c ausgeführt werden. In diesem Fall können die Wärmebehandlungsbedingungen zwischen dem ersten und dem zweiten Wärmebehandlungsprozess variiert werden.

Claims (3)

  1. Halbleiteranordnung mit einer integrierten Schaltung (36) und einem auf der integrierten Schaltung ausgebildeten Kondensator (41), wobei der Kondensator eine untere Elektrode (38), die aus einer leitfähigen Schicht besteht, die auf einer Isolierschicht (37) der integrierten Schaltung ausgebildet ist; eine dielektrische Kondensatorschicht (39), die aus einer ferroelektrischen Schicht oder einer dielektrischen Schicht mit einer hohen Dielektrizitätskonstante, die auf der unteren Elektrode ausgebildet ist, besteht; und eine obere Elektrode (40), die aus einer leitfähigen Schicht besteht, die auf der dielektrischen Kondensatorschicht ausgebildet ist, aufweist und wobei die obere und die untere Elektrode des Kondensators mit Verbindungsleitungen (44b, 44c) der integrierten Schaltung durch Kontaktlöcher (43b, 43c) verbunden sind, die in einer Isolier-Zwischenschicht (42) vorgesehen sind, die so ausgebildet ist, dass sie den Kondensator bedeckt, dadurch gekennzeichnet, dass die Isolier-Zwischenschicht eine Siliciumoxidschicht aufweist, die Phosphor in einer Menge von 6 Masse-% oder weniger enthält, und dass der Feuchtigkeitsgehalt der Isolier-Zwischenschicht 0,5 g oder weniger je 1 cm3 beträgt.
  2. Herstellungsverfahren für eine Halbleiteranordnung mit den Schritten: (a) Ausbilden eines Kondensators (41), der eine aus einer leitfähigen Schicht bestehende untere Elektrode (38), eine dielektrische Kondensatorschicht (39), die aus einer ferroelektrischen Schicht oder einer dielektrischen Schicht mit einer hohen Dielektrizitätskonstante besteht, die auf der unteren Elektrode ausgebildet ist, und eine obere Elektrode (40), die aus einer leitfähigen Schicht besteht, die auf der dielektrischen Kondensatorschicht ausgebildet ist, aufweist, auf einer Isolierschicht (37) eines Halbleitersubstrats (31), in dem eine integrierte Schaltung hergestellt ist; (b) Ausbilden einer den Kondensator bedeckenden Isolier-Zwischenschicht (42); (c) Ausbilden von Kontaktlöchern (43a, 43b, 43c), die sich durch die Isolierschicht und die Isolier-Zwischenschicht bis zu der integrierten Schaltung und der oberen und unteren Elektrode des Kondensators erstrecken; (d) Ausbilden von Verbindungsleitungen (44a, 44b, 44c), die mit der integrierten Schaltung und dem Kondensator durch die Kontaktlöcher elektrisch verbunden werden sollen; und (e) Ausbilden einer die Verbindungsleitungen bedeckenden Passivierungsschicht (45), dadurch gekennzeichnet, dass die Isolier-Zwischenschicht eine Siliciumoxidschicht aufweist, die Phosphor in einer Menge von 6 Masse-% oder weniger enthält, und weiterhin durch einen Schritt gekennzeichnet, der zwischen den Schritten (b) und (d) der Wärmebehandlung der Isolier-Zwischenschicht vor der Ausbildung der Verbindungsleitungen (44a, 44b, 44c) ausgeführt wird, wobei die Wärmebehandlung in (I) Stickstoffgas, (II) Inertgas oder (III) Vakuum durchgeführt wird um den Feuchtigkeitsgehalt der Isolier-Zwischenschicht (42) auf 0,5 g oder weniger je cm3 zu verringern.
  3. Herstellungsverfahren für eine Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmebehandlung der Isolier-Zwischenschicht bei einer Temperatur von 350 °C bis weniger als 850 °C durchgeführt wird, um eine Verschlechterung einer Kennlinie der integrierten Schaltung zu vermeiden.
DE69434606T 1993-08-05 1994-08-03 Halbleiterbauelement mit Kondensator und dessen Herstellungsverfahren Active DE69434606T8 (de)

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