DE69734762T2 - Verbindungsstruktur und verfahren zum verbinden eines halbleiterbauelementes mit einem substrat - Google Patents

Verbindungsstruktur und verfahren zum verbinden eines halbleiterbauelementes mit einem substrat Download PDF

Info

Publication number
DE69734762T2
DE69734762T2 DE69734762T DE69734762T DE69734762T2 DE 69734762 T2 DE69734762 T2 DE 69734762T2 DE 69734762 T DE69734762 T DE 69734762T DE 69734762 T DE69734762 T DE 69734762T DE 69734762 T2 DE69734762 T2 DE 69734762T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
semiconductor device
humps
spaces
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69734762T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69734762D1 (de
Inventor
Kenji Suwa-shi UCHIYAMA
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Publication of DE69734762D1 publication Critical patent/DE69734762D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69734762T2 publication Critical patent/DE69734762T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13452Conductors connecting driver circuitry and terminals of panels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/563Encapsulation of active face of flip-chip device, e.g. underfilling or underencapsulation of flip-chip, encapsulation preform on chip or mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/2919Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01027Cobalt [Co]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01049Indium [In]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0105Tin [Sn]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/0665Epoxy resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/0781Adhesive characteristics other than chemical being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12041LED
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Verbindungsstruktur für einen Halbleiterbaustein sowie ein Verfahren zum Verbinden eines Halbleiterbausteins mit einem Substrat (oder einer Leiterplatte).
  • Relevanter Stand der Technik
  • In den vergangenen Jahren haben Flüssigkristallanzeigeeinheiten zum Darstellen sichtbarer Information weit verbreitete Anwendung in elektronischen Geräten, beispielsweise Navigationssystemen, Fernsehgeräten, Handflächen-Rechnern, elektronischen Notizbüchern und tragbaren Telefonen gefunden. Insgesamt sind diese Flüssigkristallanzeigeeinheiten so aufgebaut, daß eine integrierte Schaltung zum Ansteuern der Flüssigkristalle, das heißt ein Halbleiterbaustein mit einem Flüssigkristallfeld verbunden ist und wahllose Teile, beispielsweise eine Hintergrundbeleuchtung und ein Gehäuse an dem Flüssigkristallfeld angebracht sind. Es ist üblich, daß dieses Flüssigkristallfeld so aufgebaut ist, daß ein Flüssigkristall zwischen mindestens zwei Substraten angeordnet ist und eine Polarisationsplatte, ein Farbfilter und sonstige Elemente angebracht sind, wenn nötig.
  • Es sind die verschiedensten Möglichkeiten erwogen worden, wie die integrierte Flüssigkristalltreiberschaltung mit dem Flüssigkristallfeld zu verbinden sei, zum Beispiel Verbindungsverfahren auf der Basis einer COB-Methode (Chip On Board – Chip auf Platte), einer COG-Methode (Chip on Glass – Chip auf Glas) oder dergleichen. Bei der COB-Methode wird die integrierte Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung mittels eines ACF (Anisotropic Conductive Film – anisotroper leitfähiger Film) oder sonstige Verbindungssubstanzen mit einem isolierenden Substrat verbunden, auf dem sich ein Verdrahtungsmuster befindet, und dieses isolierende Substrat wird mittels thermischen Schweißens oder dergleichen mit dem Flüssigkristallfeld verbunden.
  • Bei der COG-Methode wird andererseits die integrierte Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung unmittelbar mittels des ACF oder dergleichen mit einem Glassubstrat verbunden, welches Elektrodenanschlüsse besitzt. Sowohl bei der COB-Methode als auch der COG-Methode ist der Halbleiterbaustein, wie die integrierte Flüssigkristalltreiberschaltung auf dem Substrat angeordnet und mit ihm verbunden, beispielsweise dem isolierenden Substrat und dem Flüssigkristallglassubstrat.
  • Bei den genannten bekannten Verbindungsverfahren wird der anisotrope leitfähige Film (ACF) oder sonstige Verbindungssubstanzen gleichmäßig und kontinuierlich zwischen dem Substrat und der integrierten Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung vorgesehen, ohne daß irgend ein Hohlraum oder leerer Raum zwischen ihnen verbleibt. Aus diesem Grund kann sich die integrierte Schaltung selbst verwerfen, wenn sie unter Druck mit dem Substrat vereinigt wird. Oder wenn die integrierte Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung und/oder das Substrat sich aufgrund einer Temperaturän derung verformen, kommt es zu übermäßiger Beanspruchung an den Buckelstellen der integrierten Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung, die mit den Elektroden auf dem Substrat in direkter Verbindung stehen. Infolgedessen kann die elektrische Verbindung instabil werden. Um solche Schwierigkeiten zu vermeiden, müssen die Bedingungen für das Vereinigen unter Druck im Hinblick auf die integrierte Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung innerhalb geringer Toleranzen streng kontrolliert werden. Das bedeutet, daß ein kompliziertes Prozeßmanagement erforderlich ist.
  • Ferner ist in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 2-42738 eine Verbindungsstruktur offenbart worden, bei der in einer gedruckten Standardleiterplatte auf COB-Basis eine flexible Verbindungsschicht als Dämpfungsmaterial zwischen einem IC-Chip und einem Substrat angeordnet ist, um die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen ihnen zu verbessern. Bei dieser bekannten Verbindungsstruktur muß allerdings die flexible Verbindungsschicht ausschließlich zum Zweck der Abfederung und Dämpfung vorgesehen werden, was zu höheren Kosten für das Bauelement und die Fertigung führt.
  • Eine Verbindungsstruktur für einen Halbleiterbaustein gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1 und ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 8 ist aus EP-A-0 517 071 bekannt. Ähnlicher Stand der Technik ist in US-A-5 187 123 offenbart. Mit beiden Veröffentlichungen ist beabsichtigt, Blasen oder Hohlräume innerhalb der Verbindungsschicht zu vermeiden.
  • Anisotropisch leitfähige Polymerfilme zur Verwendung als Verbindungsschichten sind in den folgenden Veröffentlichungen offenbart: IEEE Transactions on Components, Hybrids and Manufacturing Technology, Bd. 13, Nr. 1, März 1990, SS. 229-234 und IEEE Transactions on Components, Hybrids and Manufacturing Technology, Bd. 16, Nr. 8, Dezember 1993 SS. 972-977.
  • Eine Lotzwischenverbindung ist in US 4 604 644 A offenbart, um I/O-Verbindungen (Ein/Aus-Verbindungen) zwischen einem integrierten Halbleiterbaustein und einem Stützsubstrat zu schaffen, auf dem eine Vielzahl von Lotverbindungen in einer flächigen Matrix vorgesehen sind. Dabei wird ein Satz der I/O auf einer ebenen Oberfläche des Halbleiterbausteins mit einem entsprechenden Satz mittels Lot netzbarer Lötaugen auf einem Substrat vereinigt. Zwischen dem Baustein und dem Substrat ist ein Band aus dielektrischem, organischem Material vorgesehen und angeklebt, in dem mindestens eine äußere Reihe Lotverbindungen eingebettet ist, während die inneren Lotverbindungen in der Mitte und die angrenzenden Ober- und Unterseiten von dielektrischem Material frei bleiben.
  • Aufgabe dieser Erfindung ist es, die Verbindungsbedingung eines Halbleiterbausteins zu einem Substrat nur durch Hinzufügen einer extrem einfachen Konstruktion beständig zu halten.
  • Beschreibung der Erfindung
  • Dieses Ziel wird mit einer Halbleiterbaustein-Verbindungsstruktur gemäß Anspruch 1 und einem Verfahren gemäß Anspruch 8 erreicht.
  • Bei dieser Verbindungsstruktur werden die Räume speziell im Verbindungsmaterial geschaffen, wenn die Haftung zwischen dem Halbleiterbaustein und dem Substrat herbeigeführt wird, so daß die Räume eine Verformung des Halbleiterbausteins und Sonstiger absorbieren und ihre Gestalt frei ändern in Abhängigkeit von der Verformung des Substrats oder des Halbleiterbausteins. Folglich kann sogar bei einer Verformung des Halbleiterbausteins oder des Substrats vermieden werden, daß übermäßig große Lasten auf die Elektrodenbereiche des Halbleiterbausteins ausgeübt werden, so daß der Zustand der elektrischen Verbindung des Halbleiterbausteins ständig in guter Kondition gehalten werden kann.
  • Die Räume werden in dem Verbindungsmaterial dadurch ausgebildet, daß eine integrierte Schaltung mit einem Druckkopf unter Druck gesetzt und gleichzeitig erhitzt wird, wie nachfolgend beschrieben. Wenn die Temperatur des Druckkopfes an das Verbindungsmaterial abgegeben wird, nimmt die Viskosität des Verbindungsmaterials rasch ab, so daß es nach außen fließt. Auf diese Weise können die Räume ausgebildet werden. Durch das Schaffen der Räume im Verbindungsmaterial kann folglich die Verformung des Halbleiterbausteins oder des Substrats entlastet werden.
  • In der oben beschriebenen Struktur, wie dem Halbleiterbaustein, kann ein IC-Chip und ein LSI-Chip in Betracht gezogen werden. Ferner kann im Fall einer Flüssigkristallanzeigeeinheit als Halbleiterbaustein eine integrierte Flüssigkristalltreiberschaltung in Erwägung gezogen werden. Als Substrat kann ein Isoliersubstrat gemäß COB-Methode oder ein transparentes Substrat gemäß COG-Methode ebenso wie verschiedene Substrate entsprechend anderen Verbindungsverfahren in Betracht gezogen werden. Als Verbindungsmaterial wird ein ACF (anisotroper leitfähiger Film) erwogen.
  • Der ACF wird durch Dispergieren leitfähiger Partikel in einem thermoplastischen Film oder einem Film aus duroplastischem Harz hergestellt und bietet ein Verbindungsmaterial, das Leitfähigkeit in einer einzigen Richtung besitzt, wenn es zum Verbinden unter Thermokompression verwendet wird.
  • Bei Verwendung des ACF werden die Anschlüsse auf dem Substrat und die Kontaktierungsbuckel des Halbleiterbausteins durch die leitfähigen Partikel miteinander elektrisch gekoppelt.
  • Wenn die integrierte Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung als Halbleiterbaustein für eine Flüssigkristallanzeigeeinheit verwendet werden soll, wird eine Vielzahl von Kontaktierungsbuckeln in Reihen auf einer aktiven Oberfläche der integrierten Schaltung zur Flüssigkristallansteuerung angeordnet. Zur Erzielung dieser Anordnung in Reihen sind verschiedene Wege möglich. Wie beispielsweise 2 und 7 zeigen, gibt es ein Paar Buckelketten 28, 29, die in Reihen in Längsrichtung (zwei Reihen in den Darstellungen) und ein Paar Buckelketten 28, 28, die in Reihen (zwei Reihen in den Darstellungen) in Querrichtung in Ringform angeordnet sind. Außerdem kann, wie 8 zeigt, ein Paar Buckelketten 28, 29 nur in Längsrichtung oder nur in Querrichtung angeordnet sein.
  • Um den Halbleiterbaustein mit der vorstehend beschriebenen Buckelanordnung auf dem Substrat anzubringen, werden, wie 2 zeigt, in einem Klebstoff (Verbindungsmaterial) Räume 33 innerhalb einer Fläche ausgebildet, die von der ringförmigen Anordnung der Kontaktierungsbuckel umgeben ist, oder es werden, wie in 7 gezeigt, Räume 33 zwischen den jeweiligen Buckeln 28, 29 oder außerhalb der Buckelketten ausgebildet.
  • Die innerhalb des Klebstoffs auszubildenden Räume können dadurch geschaffen werden, daß eine Vielzahl von Räumen mit geringem Volumen nahe beieinander vorgesehen wird, wobei jeder Raum sich über die gesamte Dicke des ACF hinweg erstreckt.
  • Das Raumverhältnis, das heißt das Verhältnis der Räume zum Klebstoff nimmt vorzugsweise einen prozentualen Wert zwischen 5 % und 70 % an, wobei zwischen 10 % und 30 % noch mehr bevorzugt wird. Das liegt daran, daß es bei einem niedrigeren Raumverhältnis von unterhalb 5 % unmöglich ist, die Verformung oder (Beanspruchung) des Halbleiterbausteins oder Substrats zu absorbieren. Ist andererseits der Wert mehr als 70 %, nimmt die Zuverlässigkeit an der Verbindung zwischen dem Halbleiterbaustein und dem Substrat (insbesondere den auf dem Substrat ausgebildeten Anschlüssen) ab. Wenn die Räume mit einem Raumverhältnis von 5 % bis 70 % ausgebildet werden, kann also eine zuverlässige Verbindung erzielt werden. Insbesondere kann eine Struktur mit verbesserter Zuverlässigkeit der Verbindung erhalten werden, wenn das Raumverhältnis auf einem Wert zwischen 10 % und 30 % gesetzt wird.
  • Die Verbindungsschicht besteht aus einem Klebstoff auf Epoxybasis. Außerdem absorbiert die Verbindungsschicht die Verformung des Halbleiterbausteins oder des Substrats.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung besteht ein Merkmal eines Verbindungsverfahrens zum Vereinigen eines Halbleiterbauelements mit einem Substrat darin, daß eine Verbindungsschicht zwischen dem Substrat und dem Halbleiterbaustein angeordnet wird, um diese miteinander zu vereinigen, und daß ein Druckkopf, der auf hohe Temperatur erhitzt wird, gegen den Halbleiterbaustein gepreßt wird, um die erwähnte Verbindungsschicht unter Druck zu setzen und zu erwärmen, damit das Substrat sich mit dem Halbleiterbaustein vereinigt, und die Räume in der genannten Verbindungsschicht ausgebildet werden. Bei dieser Konstruktion kann die Verformung des Halbleiterbausteins oder Substrats durch die Räume verringert werden, und es kann eine Verbindungsstruktur größerer Zuverlässigkeit erhalten werden. Darüber hinaus besteht die Verbindungsschicht aus einem Klebstoff auf Epoxybasis.
  • Eine Flüssigkristallanzeigeeinheit, welche die oben beschriebene Verbindungsstruktur des Halbleiterbausteins besitzt, ist aus einem Paar von Substraten zusammengesetzt, die einandergegenüber unter Zwischenschaltung eines Flüssigkristalls zwischen den Substraten angeordnet sind.
  • Wie schon gesagt, ist vorzugsweise das Raumverhältnis so eingestellt, daß es 5 % bis 70 erreicht, wobei 10 % bis 30 % noch mehr bevorzugt wird, so daß der Halbleiterbaustein und die auf dem Substrat ausgebildeten Elektrodenanschlüsse mit großer Zuverlässigkeit miteinander verbunden werden können.
  • Konkrete Beispiele eines elektronischen Geräts, in dem eine Flüssigkristallanzeigeeinheit gemäß dieser Erfindung Verwendung findet, sind verschiedene Arten von Geräten, beispielsweise ein Navigationssystem, ein Fernsehgerät, ein Handflächen-Rechner, ein elektronisches Notizbuch und ein tragbares Telephon. Im einzelnen ist eines der Beispiele ein elektronisches Gerät mit einer Vielzahl von Ausgangsanschlüssen zum Ansteuern von Halbleiterbausteinen, einer Flüssigkristallanzeigeeinheit, die zwischen diese Ausgangsanschlüsse geschaltet ist, und einer Eingabeeinheit. Die Flüssigkristallanzeigeeinheit umfaßt ein Paar Substrate, die einander gegenüber unter Zwischenschaltung eines Flüssigkristalls zwischen den Substraten angeordnet sind.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnungen
  • Es zeigt:
  • 1 eine Querschnittsansicht eines Ausführungsbeispiels einer Verbindungsstruktur eines Halbleiterbausteins gemäß der vorliegenden Erfindung;
  • 2 eine Draufsicht eines Verbindungsabschnitts eines Halbleiterbausteins gemäß einem Pfeil A in 1;
  • 3 eine seitliche Schnittansicht eines Ausführungsbeispiels einer Flüssigkristallanzeigeeinheit gemäß der Erfindung;
  • 4 eine auseinandergezogene, perspektivische Ansicht der in 3 gezeigten Flüssigkristallanzeigeeinheit;
  • 5 eine perspektivische Ansicht eines Beispiels elastischer Verbindungselemente zum elektrischen Verbinden einer Flüssigkristallanzeigeeinheit mit einem weiteren Schaltkreis im Innern eines elektronischen Geräts;
  • 6 eine auseinandergezogene, perspektivische Ansicht eines tragbaren Telephons als Beispiel eines elektronischen Geräts gemäß einem Ausführungsbeispiel dieser Erfindung;
  • 7 eine Draufsicht eines abgewandelten Beispiels der Schaffung von Räumen in einem Klebstoff; und
  • 8 eine Draufsicht auf eine abgewandelte Buckelanordnung auf einem Halbleiterbaustein.
  • Beschreibung der besten Art und Weise zum Ausführen der Erfindung.
  • 6 zeigt ein tragbares Telephon als ein Beispiel eines elektronischen Geräts, in dem eine Flüssigkristallanzeigeeinheit gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung verwendet ist. Dieses tragbare Telephon ist mit einem oberen Gehäuse 1 und einem unteren Gehäuse 2 ausgestattet. Das obere Gehäuse 1 umfaßt eine PCB (gedruckte Leiterplatte), die eine Tastatur 10 bildet. Darüber hinaus umfaßt das untere Gehäuse 2 eine Steuerleiterplatte 3, auf der eine Steuer LSI angebracht ist sowie eine Grundplatte 4, auf der die Steuerplatte 3 angebracht ist. Eine Flüssigkristallanzeigeeinheit 5 gemäß dieser Erfindung ist auf der Grundplatte 4 angebracht. In Form eines Verdrahtungsmusters ist auf der Oberfläche der Grundplatte 4 eine Vielzahl von Ausgangsanschlüssen 6 zur Halbleiteransteuerung ausgebildet. In der Flüssigkristallanzeigeeinheit 5 ist eine Flüssigkristalltreiber-IC 7, das heißt ein Halbleiterbaustein angeordnet. Die Flüssigkristalltreiber-IC 7 ist mit den Ausgangsanschlüssen 6 zur Flüssigkristallansteuerung elektrisch verbunden, wenn die Flüssigkristallanzeigeeinheit 5 an der Grundplatte 4 angebracht ist. Die Flüssigkristallanzeigeeinheit 5 und weitere erforderliche Einheiten werden im unteren Gehäuse 2 angeordnet und dann das obere Gehäuse 1 von oben aufgesetzt. Auf diese Weise ist ein tragbares Telephon vervollständigt. Übrigens bezeichnet Bezugszeichen 20 einen Lautsprecher.
  • Wie beispielsweise in 4 gezeigt, umfaßt die Flüssigkristallanzeigeeinheit 5 ein Flüssigkristallfeld 8, eine Hintergrundbeleuchtungseinheit 9, ein Abschirmgehäuse 11 und einen elastischen Verbinder 12. Das Flüssigkristallfeld 8 umfaßt, wie aus 3 hervorgeht, ein erstes Flüssigkristallhaltesubstrat 13 aus transparentem Glas und ein zweites Flüssigkristallhaltesubstrat 14 aus transparentem Glas. Auf der Innenfläche des ersten Substrats 13 sind transparente Elektroden 18 ausgebildet, während transparente Elektroden 19 auf der Innenfläche des zweiten Substrats 14 ausgebildet sind. Diese Elektroden sind aus ITO (Indium Thin Oxide) oder einem sonstigen transparenten, leitfähigen Material gemacht.
  • An Außenflächen des ersten und zweiten Substrats sind außerdem Polarisationsplatten 16a bzw. 16b angeheftet, die als Polarisationseinrichtung dienen. Das erste Substrat 13 und das zweite Substrat 14 sind mittels einer Dichtungsmasse 17 flüssigkeitsdicht vereinigt, wobei die Masse in einem ringförmigen Muster mit einem gewissen Spalt angeordnet ist, dem sogenannten Zellenspalt zwischen den beiden Substraten. In diesem Zellenspalt ist außerdem Flüssigkristall versiegelt. In einem rechten Endabschnitt sind auf der Innenfläche eines Teils 13a des ersten Substrats 13, der über die Kante (die rechte Seite in 3) des zweiten Substrats 14 vorsteht, Halbleitereingangsanschlüsse 21 ausgebildet. Die Flüssigkristalltreiber-IC 7 als Halbleiterbaustein ist mittels einer Verbindungsschicht 31 unmittelbar an das erste Substrat 13 geklebt, wodurch Ausgangsbuckel 28 der IC 7 mit den transparenten Elektroden 18 verbunden sind, während Eingangsbuckel 29 der IC 7 mit den Halbleitereingangsanschlüssen 21 verbunden sind.
  • Dieses Ausführungsbeispiel ist also mit einer Flüssigkristallanzeigeeinheit ausgestattet, das heißt einer Flüssigkristallanzeigeeinheit des Typs COG (Chip on Glass – Chip auf Glas), wobei die Flüssigkristalltreiber-IC 7 unmittelbar mit dem Substrat 13 verbunden ist, welches Teil des Flüssigkristallfeldes 8 ist.
  • Wie 3 zeigt, weist die Hintergrundbeleuchtungseinheit 9 einen Lichtwellenleiter 22 und eine Vielzahl (zum Beispiel vier) LED (Leuchtdioden) 23 auf, die an einem linken Endbereich des Lichtwellenleiters 22 befestigt sind. Wie 4 zeigt, ist in einem rechten Endbereich des Lichtwellenleiters 22 außerdem ein Loch 24 in Form eines rechteckigen Quaders ausgebildet, welches als Führung für den elastischen Verbinder 12 dient. 3 zeigt, daß dieses Führungsloch 24 in solcher Abmessung vorgesehen ist, daß es den elastischen Verbinder 12 mit keinem wesentlichen Spielraum oder Spalt oder mit gar keinem aufnimmt.
  • Der elastische Verbinder 12 ist, wie 5 zeigt, mit einem elektrisch isolierenden, elastischen Material versehen und hat beispielsweise einen elastischen nahen Abschnitt 25 aus Silikonkautschuk, der eine säulenartige Gestalt mit halbkreisförmigem Querschnitt hat und eine große Anzahl leitfähiger Abschnitte 26, die parallel zueinander auf der halbkreisförmigen äußeren Umfangsfläche des elastischen nahen Abschnitts 25 vorgesehen sind. Ein elastisches Material ist zwischen jedem Paar einander benachbarter leitfähiger Abschnitte vorgesehen, um einen nichtleitfähigen Abschnitt zu bilden. Es ist dafür gesorgt, daß die Breite des nichtleitfähigen Abschnitts von 15 μm bis 25 μm beträgt. Bezugszeichen W in der Darstellung gibt die Trennung zwischen einander benachbarten leitfähigen Abschnitten 26 wieder, den sogenannten Abstand leitfähiger Abschnitte, der normalerweise auf W = 30 μm bis 50 μm eingestellt ist.
  • Um die Flüssigkristallanzeigeeinheit dieses Ausführungsbeispiels auf der Grundplatte 4 des tragbaren Telephons (6) anzuordnen, wird, wie 4 zeigt, der elastische Verbinder 12 in das Führungsloch 24 im Lichtwellenleiter 22 eingesetzt, die Rückbeleuchtungseinheit 9 an einer gegebenen Stelle auf der Grundplatte 4 angeordnet, das Flüssigkristallfeld 8 an einer gegebenen Stelle auf der Hintergrundbeleuchtungseinheit 9 vorgesehen und das Abschirmgehäuse 11 auf das Flüssigkristallfeld 8 und die Hintergrundbeleuchtungseinheit 9 aufgesetzt, wobei ein Druck ausübendes Glied 30 aus Silikonkautschuk oder einem sonstigen elastischen Material dazwischengelegt wird. Ferner werden, wie aus 3 hervorgeht, die Grundplatte 4 und das Abschirmgehäuse 11 durch Verformung eines verstemmbaren Haltegliedes 27 angezogen und aneinander befestigt.
  • Hierbei wird der elastische Verbinder 12 zusammengepreßt und durch die Wirkung des Druck ausübenden Gliedes 30 in vertikaler Richtung elastisch verformt, woraufhin aufgrund der elastischen Rückstellkraft des elastischen nahen Abschnitts 25 die leitfähigen Abschnitte 26 (siehe 5) sowohl mit den Halbleitereingangsanschlüssen 21 auf seiten des Flüssigkristallfeldes 8 als auch mit den Ausgangsanschlüssen 6 zur Halbleiteransteuerung auf seiten der Grundplatte 4 fest in Berührung gelangen.
  • Was das Zusammenpressen des elastischen Verbinders 12 betrifft, ist es auch möglich, statt ein zweckgebundenes Bauelement, wie das Druck ausübende Glied 30 vorzubereiten, den entsprechenden Teil des Abschirmgehäuses 11 so zu verformen, daß er nach innen vorsteht und an diesem Teil des Abschirmgehäuses 11 eine Rippe bildet, so daß diese Rippe den elastischen Verbinder 12 zusammendrücken kann.
  • Wenn die Flüssigkristallanzeigeeinheit wie vorstehend beschrieben zusammengebaut ist, wird ein elektrisches Signal ebenso wie Flüssigkristallansteuerleistung von der Steuerplatte 3 (6) über die Eingangsanschlüsse 6 zum Ansteuern des Halbleiters, den elastischen Verbinder 12 (3) und die Halbleitereingangsanschlüsse 21 an die Flüssigkristalltreiber-IC 7 geliefert. Dementsprechend steuert die Flüssigkristalltreiber-IC 7 die an die Elektroden 18, 19 angelegten Spannungen. Aufgrund dieser Spannungssteuerung erscheint eine sichtbare Abbildung in einem effektiven Anzeigebereich des Flüssigkristallfeldes 8.
  • Mit diesem Ausführungsbeispiel wird die Montagearbeit extrem leicht, denn es ist nur der elastische Verbinder 12 zwischen den Halbleitereingangsanschlüssen auf seiten des Flüssigkristallfeldes 8 angeordnet und die Ausgangsanschlüsse 6 zum Ansteuern des Halbleiters auf seiten des tragbaren Telephons, und beide können elektrisch miteinander verbunden werden. Da außerdem der elastische Verbinder 12 in dem Führungsloch 24 steckt, wird der elastische Verbinder 12 zwar komprimiert, aber nicht gewölbt oder verbogen, wenn eine Kraft auf den elastischen Verbinder 12 einwirkt. Der Zustand der elektrischen Verbindung zwischen den Halbleitereingangsanschlüssen und den Ausgangsanschlüssen 6 zum Ansteuern des Halbleiters kann also immer beständig gehalten werden.
  • Wie aus 1 hervorgeht, ist bei diesem Ausführungsbeispiel die Flüssigkristalltreiber-IC 7 mittels der Verbindungsschicht 31 an das erste Substrat 13 geheftet. Die Verbindungsschicht 31 besteht aus einem ACF (anisotroper leitfähiger Film) 32, der als Klebstoff dient, und im Innern des ACF 32 ist eine Vielzahl von Höhlungen oder Räumen 33 ausgebildet. Der ACF 32 ist durch Dispergieren einer großen Anzahl leitfähiger Partikel 34 in einem Harzfilm mit Adhäsionseigenschaften gebildet, und die Ausgangsbuckel 28 der IC 7 sind durch die leitfähigen Partikel 34 mit den transparenten Elektroden 18 elektrisch verbunden, während die Eingangsbuckel 29 durch die leitfähigen Partikel 34 mit den Halbleitereingangsanschlüssen 21 elektrisch verbunden sind. Ferner sind die Buckel 28, die Buckel 29 und die Bereiche zwischen den Anschlüssen mit Hilfe eines Harzes, das Klebstoffeigenschaften hat, in isoliertem Zustand gehalten.
  • 2 zeigt den Verbindungsbereich der Flüssigkristalltreiber-IC 7 in Richtung eines Pfeiles A in 1 gesehen. Aus dieser Darstellung geht hervor, daß die Vielzahl von Räumen 33 nahe beieinander innerhalb eines Bereichs liegen, der von den Buckeln 28, 29 umgeben ist, die in zwei Reihen in Längsrichtung angeordnet sind, sowie von Buckeln 28, 28, die in zwei Reihen in Querrichtung angeordnet sind, mit anderen Worten, innerhalb einer Fläche, die von der Vielzahl Buckel 28, 29 umgeben ist, welche ringartig angeordnet sind. Obwohl in der Darstellung gemäß 2 die Buckel 28 und 29 fehlen, sind doch Buckel in den Umfangsendbereichen der Substrate ebenso ausgebildet wie gezeigt.
  • Um die Flüssigkristalltreiber-IC 7 mit dem Substrat 13 zu vereinigen, wird die Flüssigkristalltreiber-IC 7 erwärmt und unter gegebenem Druck gegen das Substrat 13 gepreßt, wobei der ACF 32 zwischen der IC 7 und dem Substrat 13 angeordnet ist. In diesem Fall besteht der ACF 32 vorzugsweise aus einem Klebstoff auf Epoxybasis. Eine ausgezeichnete Haftungseigenschaft kann insbesondere dann erhalten werden, wenn er mit Molekülen einschließlich eines Epoxyradikals von verhältnismäßig geringem Molekulargewicht gebildet ist.
  • Während dieses Prozesses der Erwärmung und Druckbeaufschlagung kann sich die Flüssigkristalltreiber-IC 7 verwerfen, und wenn sie sich verwirft, kann in den Verbindungsstellen der Buckel 28 und 29 eine übermäßig starke Spannung auftreten, was die elektrische Verbindung in instabilen Zustand versetzt. Auch wenn die Temperatur in der Flüssigkristalltreiber-IC 7 schwankt, kann die IC 7 und/oder das Substrat 13 sich verformen, was den Verbindungszustand der Buckel 28 und 29 instabil macht.
  • Wenn andererseits die Räume 33 innerhalb des ACF 32 wie bei diesem Ausführungsbeispiel vorgesehen sind, können sich die Räume 33, wenn sich die Flüssigkristalltreiber-IC 7 verformt, entsprechend der Verformung der IC 7 frei verformen und die Verformung der IC 7 absorbieren. Folglich kann eine übermäßige Beanspruchung der Verbindungsstellen der Buckel 28, 29 vermieden werden.
  • Die Art, wie die Räume 33 innerhalb des ACF 32 ausgebildet werden, ist nicht auf ein spezifisches Verfahren beschränkt. Wenn beispielsweise die Bedingung zum Verbinden unter Druck für das Vereinigen der Flüssigkristalltreiber-IC 7 mit dem Substrat 13 in geeigneter Weise für den Gebrauch der Flüssigkristalltreiber-IC eingestellt wird, können die Räume 33 hergestellt werden. Folgende Bedingungen sind als ein Beispiel für die Bedingung zur Verbindung unter Druck aufgeführt:
    • 1.) Flüssigkristalltreiber-IC 7 : SED1220 (hergestellt von Seiko Epson Co., Ltd.) In 2 hat diese integrierte Schaltung eine Abmessung von L × W = 7,7 mm × 2,8 mm, und die Anzahl der Buckel ist etwa 200, die Buckelgröße beträgt 80 μm × 120 μm.
    • 2.) ACF 32: CP8530 (hergestellt von Sony Chemical Co., Ltd.)
    • 3.) Erwärmungstemperatur für ACF: 180 bis 230° C (mittlere Temperatur = 200 bis 210° C). Die vorstehend genannte ACF Temperatur kann erhalten werden, wenn der ACF dadurch unter Druck gesetzt und erhitzt wird, daß die IC 7 mit einem auf hohe Temperatur erhitzten Druckkopf gepreßt wird, vorausgesetzt, daß die Temperatur des der Druckbeaufschlagung dienenden Kopfes auf 260 bis 360°C eingestellt ist (mittlere Temperatur = etwa 300°C).
    • 4.) Druckbeaufschlagende Kraft des druckbeaufschlagenden Kopfes: 12 kgf bis 20 kgf (1 kgf = 9,81 N)
    • 5.) Druckbeaufschlagungszeit des Druckbeaufschlagungskopfes: 10 Sekunden Wenn die Flüssigkristalltreiber-IC 7 mit dem Substrat 13 unter den vorstehend genannten Bedingungen (1) bis (5) vereinigt wurde, hat sich eine Vielzahl von Räumen 33 im ACF 32 gebildet, wie schematisch in 2 gezeigt.
  • Diese Räume werden im ACF ausgebildet, wenn während des Verfahrens der Erwärmung und Druckbeaufschlagung die Viskosität des Klebstoffs bei der anfänglichen Prozeßerwärmung rasch abnimmt (Prozeß während etwa 0,1 bis 0,5 Sekunden), so daß ein Teil der Verbindungsschicht nach außen zur Außenseite des Halbleiterbauelements fließt. Das Raumverhältnis (Verhältnis des Raums zum ACF) liegt vorzugsweise in einem Bereich von 5 % bis 70 %. Das liegt daran, daß bei einem Verhältnis von unterhalb 5 % die auf dem ACF lastende Beanspruchung nicht absorbiert werden kann. Wenn im Gegensatz dazu das Raumverhältnis 70 % übersteigt, ist das Raumverhältnis zu groß, um die Anschlüsse (oder die Elektroden) mit großer Zuverlässigkeit miteinander verbinden zu können. Infolgedessen wird das Raumverhältnis vorzugsweise innerhalb dieses Bereichs eingestellt. Um aber mit besonders großer Zuverlässigkeit eine Verbindung herzustellen, wird vorgezogen, das Raumverhältnis in einem Bereich von 10 % bis 30 % einzustellen. Wenn das Raumverhältnis so eingestellt ist, daß es innerhalb dieses Bereichs liegt, kann die interne Beanspruchung reduziert werden, ohne die Haftfestigkeit zu verlieren, die mit großer Zuverlässigkeit eine Verbindung bietet.
  • 7 zeigt eine Abwandlung des Verfahrens zur Schaffung der Räume 33. Der Unterschied dieser Abwandlung gegenüber dem vorstehend beschriebenen, in 2 gezeigten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß zusätzlich zur Schaffung der Räume 33 zwischen den Buckelketten 28, 29 in Längsrichtung und zwischen den Buckelketten 28, 28 in Querrichtung die Räume 33 zwischen den jeweiligen Buckeln und außerhalb des Paares der Buckelketten gebildet werden. Selbst wenn die Räume auf diese Weise angeordnet werden, kann die Verbindung der Halbleiterbausteine mit dem Substrat beständig eingehalten werden. Auch wenn 7 unter Weglassung der Buckel 28 und 29 dargestellt ist, sind um die Endbereiche des Substrats ebenso Buckel gebildet wie die dargestellten Buckel 28 und 29. Abwechselnde lange und kurze Strichpunktlinien zeigen die Buckel an. Auch sind 8 oder 2 unter Weglassung der Buckel dargestellt, aber die Buckel, wie die gezeigten Buckel 28, 29 sind um die Endbereiche der Substrate herum ausgebildet.
  • In 8 ist eine Abwandlung der Buckelanordnung gezeigt. Der Unterschied dieser Abwandlung gegenüber dem vorstehend beschriebenen, in 2 gezeigten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß statt die Vielzahl Buckel 28, 29 in ringförmiger Gestaltung anzuordnen, die Buckel in Reihen nur in Längsrichtung vorgesehen sind. Bei dieser Abwandlung ist eine Vielzahl von Räumen 33 zwischen den Buckelketten 28, 29 vorgesehen. Aber statt dieser Räume oder zusätzlich zu ihnen können auch Räume 33 zwischen den jeweiligen Buckeln und/oder außerhalb der Buckelketten vorgesehen sein.
  • Die Erfindung ist vorstehend an einigen bevorzugten Ausführungsbeispielen beschrieben worden; aber die Erfindung ist nicht auf diese Ausführungsbeispiele begrenzt, sondern deckt auch verschiedene Änderungen innerhalb der in den Ansprüchen beschriebenen technischen Bereiche mit ab.
  • Zum Beispiel ist die Verbindungsstruktur des Halbleiters und die Flüssigkristallanzeigeeinheit gemäß dieser Erfindung auf verschiedene andere elektronische Geräte als ein tragbares Telephon anwendbar, beispielsweise ein Navigationssystem, ein Fernsehgerät, einen Handflächen-Rechner und ein elektronisches Notizbuch, wo eine sichtbare Informationsanzeige erforderlich ist.
  • Die 3 bis 5 zeigen Ausführungsbeispiele, bei denen die Erfindung auf eine Flüssigkristallanzeigeeinheit des COG-Typs (Chip On Glass – Chip auf Glas) angewandt ist. Die Erfindung ist aber auch für andere Arten von Flüssigkristallanzeigeeinheiten geeignet, beispielsweise eine Flüssigkristallanzeigeeinheit des COB-Typs (Chip On Board – Chip auf Platte).
  • Bei den in 3 bis 5 dargestellten Ausführungsbeispielen ist der Ausgangsanschluß 6 auf seiten des tragbaren Telephons als elektronischem Gerät mit dem Eingangsanschluß 21 auf seiten des Flüssigkristallfeldes 8 durch den elastischen Verbinder 12 elektrisch verbunden. Das Verbindungsverfahren zum Verbinden der beiden ist jedoch nicht hierauf beschränkt. Die Erfindung umfaßt zum Beispiel auch den Fall einer Verbindung beider Anschlüsse mittels FPC (Flexible Printed Circuit – flexible Leiterplatte).

Claims (10)

  1. Verbindungsstruktur eines Halbleiterbausteins zum Verbinden des Halbleiterbausteins (7) mit einem Substrat (13) und zum elektrischen Verbinden von Buckeln (28, 29) des Halbleiterbausteins (7) mit Anschlüssen (18, 21) auf dem Substrat (13), wobei eine Verbindungsschicht (31) zwischen dem Halbleiterbaustein (7) und dem Substrat (13) angeordnet ist, die ein Verbindungsmaterial zum Anheften des Halbleiterbausteins (7) an dem Substrat (13) umfaßt und wobei innerhalb des Verbindungsmaterials eine Vielzahl von Räumen (33) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Raum (33) sich durch die gesamte Dicke der Verbindungsschicht (31) erstreckt und das Verbindungsmaterial ein anisotroper leitfähiger Film ist, bei dem leitfähige Partikel (34) in einem Harzfilm dispergiert sind.
  2. Verbindungsstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Buckel (28, 29) in Reihen angeordnet sind, und daß die Räume (33) zwischen Buckelreihen und/oder außerhalb der Buckelreihen und/oder zwischen den Buckeln (28, 29) ausgebildet sind.
  3. Verbindungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Räume (33) nahe beieinander angeordnet sind.
  4. Verbindungsstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Räume (33) zu dem Verbindungsmaterial 5 % bis 70 % ist.
  5. Verbindungsstruktur nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Räume (33) zu dem Verbindungsmaterial 10 % bis 30 % ist.
  6. Verbindungsstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindungsschicht (31) aus einem Verbindungsmaterial auf Epoxybasis gemacht ist.
  7. Verbindungsstruktur nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem das Substrat (13) mindestens eines von zwei Flüssigkristall-Haltesubstraten einer Flüssigkristallanzeigeeinheit ist, die in einander mit dazwischen befindlichem Flüssigkristall gegenüberliegend angeordnet sind.
  8. Verfahren zum Verbinden eines Halbleiterbausteins (7) mit einem Substrat (13) und elektrischem Anschließen von Buckeln (28, 29) des Halbleiterbausteins (7) an Anschlüsse (18, 21) auf dem Substrat (13), folgende Schritte aufweisend: Anordnen einer Verbindungsschicht (31) zwischen dem Halbleiterbaustein (7) und dem Substrat (13), um darin Adhäsion zu erwirken; und Vereinigen des Substrats (13) und des Halbleiterbausteins (7) miteinander dadurch, daß ein auf eine hohe Temperatur erhitzter Druckbeaufschlagungskopf gegen den Halbleiterbaustein (7) gepreßt wird, um die Verbindungsschicht (31) unter Druck zu setzen und zu erwärmen und dadurch eine Vielzahl von Räumen (33) innerhalb der Verbindungsschicht (31) zu schaffen; dadurch gekennzeichnet, daß jeder Raum (33) so ausgebildet wird, daß er sich durch die gesamte Dicke der Verbindungsschicht (31) erstreckt, und die Verbindungsschicht gebildet wird, indem leitfähige Partikel (34) in einem Harzfilm dispergiert werden, um einen anisotropen leitfähigen Film zu erhalten.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verbindungsmaterial aus einem Verbindungsmaterial auf Epoxybasis gemacht wird.
  10. Elektronisches Gerät mit einer Vielzahl von einen Halbleiter ansteuernden Ausgangsanschlüssen und einer Verbindungsstruktur nach Anspruch 7.
DE69734762T 1996-09-05 1997-09-04 Verbindungsstruktur und verfahren zum verbinden eines halbleiterbauelementes mit einem substrat Expired - Lifetime DE69734762T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23561596A JP3284262B2 (ja) 1996-09-05 1996-09-05 液晶表示装置及びそれを用いた電子機器
JP23561596 1996-09-05
PCT/JP1997/003115 WO1998010465A1 (fr) 1996-09-05 1997-09-04 Structure de raccordement d'element semi-conducteur, dispositif d'affichage a cristaux liquides utilisant cette structure, et equipement electronique utilisant le dispositif d'affichage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69734762D1 DE69734762D1 (de) 2006-01-05
DE69734762T2 true DE69734762T2 (de) 2006-07-27

Family

ID=16988638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69734762T Expired - Lifetime DE69734762T2 (de) 1996-09-05 1997-09-04 Verbindungsstruktur und verfahren zum verbinden eines halbleiterbauelementes mit einem substrat

Country Status (8)

Country Link
US (2) US6940180B1 (de)
EP (1) EP0878840B1 (de)
JP (1) JP3284262B2 (de)
KR (1) KR100511121B1 (de)
CN (1) CN1154166C (de)
DE (1) DE69734762T2 (de)
TW (1) TW354855B (de)
WO (1) WO1998010465A1 (de)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3441412B2 (ja) * 1999-10-29 2003-09-02 シャープ株式会社 樹脂封止型半導体装置およびこれを用いた液晶表示モジュール
GB2366669A (en) 2000-08-31 2002-03-13 Nokia Mobile Phones Ltd Connector for liquid crystal display
JP3989761B2 (ja) 2002-04-09 2007-10-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体表示装置
US7038239B2 (en) 2002-04-09 2006-05-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor element and display device using the same
JP3989763B2 (ja) 2002-04-15 2007-10-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体表示装置
TWI270919B (en) 2002-04-15 2007-01-11 Semiconductor Energy Lab Display device and method of fabricating the same
US7256421B2 (en) 2002-05-17 2007-08-14 Semiconductor Energy Laboratory, Co., Ltd. Display device having a structure for preventing the deterioration of a light emitting device
JP3879642B2 (ja) 2002-09-20 2007-02-14 セイコーエプソン株式会社 ハンダ印刷用マスク、配線基板及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器及びその製造方法
JP4576558B2 (ja) * 2005-03-15 2010-11-10 カシオ計算機株式会社 回路基板への半導体装置の実装方法及び液晶表示装置の製造方法
US8017873B2 (en) * 2008-03-03 2011-09-13 Himax Technologies Limited Built-in method of thermal dissipation layer for driver IC substrate and structure thereof
TW200939766A (en) * 2008-03-03 2009-09-16 Techview Internat Technology Inc Display device
KR100946597B1 (ko) * 2008-03-03 2010-03-09 엘지이노텍 주식회사 눌림 특성이 우수한 도전성 입자 구조체와 그의 제조방법및 이를 이용한 이방성 도전 필름
JP4816750B2 (ja) * 2009-03-13 2011-11-16 住友電気工業株式会社 プリント配線基板の接続方法
US8384114B2 (en) 2009-06-27 2013-02-26 Cooledge Lighting Inc. High efficiency LEDs and LED lamps
US8653539B2 (en) 2010-01-04 2014-02-18 Cooledge Lighting, Inc. Failure mitigation in arrays of light-emitting devices
US9480133B2 (en) 2010-01-04 2016-10-25 Cooledge Lighting Inc. Light-emitting element repair in array-based lighting devices
CN102959708B (zh) 2010-06-29 2016-05-04 柯立芝照明有限公司 具有易弯曲基板的电子装置
JP2012073233A (ja) * 2010-08-31 2012-04-12 Mitsumi Electric Co Ltd センサ装置及び半導体センサ素子の実装方法
JP5916334B2 (ja) * 2011-10-07 2016-05-11 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤及びその製造方法、発光装置及びその製造方法
US9231178B2 (en) 2012-06-07 2016-01-05 Cooledge Lighting, Inc. Wafer-level flip chip device packages and related methods
KR102231515B1 (ko) * 2014-02-04 2021-03-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
US9925612B2 (en) * 2014-07-29 2018-03-27 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Semiconductor component, semiconductor-mounted product including the component, and method of producing the product
CN105321435B (zh) * 2015-10-12 2019-03-12 华勤通讯技术有限公司 显示模组及含其的移动终端
US11217557B2 (en) 2019-05-14 2022-01-04 Innolux Corporation Electronic device having conductive particle between pads

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4356642A (en) * 1980-08-27 1982-11-02 Shephard Herman Support device
US4604644A (en) * 1985-01-28 1986-08-05 International Business Machines Corporation Solder interconnection structure for joining semiconductor devices to substrates that have improved fatigue life, and process for making
US4803112A (en) * 1986-04-24 1989-02-07 Hayakawa Rubber Co., Ltd. Impact-cushioning sheets and direct-applying restraint type floor damping structures using the same
EP0265077A3 (de) * 1986-09-25 1989-03-08 Sheldahl, Inc. Ein Anisotropisches Klebemittel zum Verbinden elektrischer Bauelemente
JPH0828399B2 (ja) 1987-03-13 1996-03-21 キヤノン株式会社 電気回路部材
JP2528112B2 (ja) 1987-03-13 1996-08-28 キヤノン株式会社 電気的接続部材及びそれを用いた電気回路部材
JPH01264230A (ja) 1988-04-15 1989-10-20 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH0234951A (ja) 1988-04-20 1990-02-05 Seiko Epson Corp 半導体装置の実装構造
US5187123A (en) * 1988-04-30 1993-02-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for bonding a semiconductor device to a lead frame die pad using plural adhesive spots
US5262225A (en) * 1988-09-02 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Embossable sign construction
EP0368262B1 (de) * 1988-11-09 2001-02-14 Nitto Denko Corporation Leitersubstrat, Filmträger, Halbleiteranordnung mit dem Filmträger und Montagestruktur mit der Halbleiteranordnung
JPH02133936A (ja) 1988-11-15 1990-05-23 Seiko Epson Corp 半導体装置
US5001542A (en) * 1988-12-05 1991-03-19 Hitachi Chemical Company Composition for circuit connection, method for connection using the same, and connected structure of semiconductor chips
US5299730A (en) * 1989-08-28 1994-04-05 Lsi Logic Corporation Method and apparatus for isolation of flux materials in flip-chip manufacturing
JP2698462B2 (ja) 1990-01-12 1998-01-19 松下電器産業株式会社 半導体装置の製造方法
US5670251A (en) * 1990-02-14 1997-09-23 Particle Interconnect Corporation Patternable particle filled adhesive matrix for forming patterned structures between joined surfaces
US5401587A (en) * 1990-03-27 1995-03-28 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Anisotropic nanophase composite material and method of producing same
JP2749178B2 (ja) 1990-03-30 1998-05-13 株式会社竹中工務店 香り発生装置付植物プランター
JPH0487213A (ja) * 1990-07-27 1992-03-19 Ricoh Co Ltd 異方性導電膜およびその製造方法
JPH04132258A (ja) * 1990-09-25 1992-05-06 Nec Corp 半導体基板の接続体およびその接続方法
JPH04174980A (ja) * 1990-11-07 1992-06-23 Hitachi Chem Co Ltd 回路の接続部材
US5888609A (en) * 1990-12-18 1999-03-30 Valtion Teknillinen Tutkimuskeskus Planar porous composite structure and method for its manufacture
JPH04292803A (ja) * 1991-03-20 1992-10-16 Hitachi Ltd 異方導電性フィルム
JPH04348540A (ja) * 1991-05-27 1992-12-03 Sony Corp フリップチップボンダー
US5225966A (en) * 1991-07-24 1993-07-06 At&T Bell Laboratories Conductive adhesive film techniques
US5232962A (en) * 1991-10-09 1993-08-03 Quantum Materials, Inc. Adhesive bonding composition with bond line limiting spacer system
DE4242408C2 (de) * 1991-12-11 1998-02-26 Mitsubishi Electric Corp Verfahren zum Verbinden eines Schaltkreissubstrates mit einem Halbleiterteil
JP2723747B2 (ja) * 1992-03-18 1998-03-09 シャープ株式会社 半導体装置の接続方法
US5422175A (en) * 1992-06-01 1995-06-06 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Void-containing composite film of polyester type
JPH0613432A (ja) 1992-06-26 1994-01-21 Citizen Watch Co Ltd 半導体集積回路装置の接続方法
US5352926A (en) * 1993-01-04 1994-10-04 Motorola, Inc. Flip chip package and method of making
JPH06232207A (ja) 1993-01-29 1994-08-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置の封止方法と封止構造
JPH06242458A (ja) 1993-02-17 1994-09-02 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
US5401564A (en) * 1993-03-23 1995-03-28 Hexcel Corporation Materials and processes for fabricating formed composite articles and use in shoe arch
US5445308A (en) * 1993-03-29 1995-08-29 Nelson; Richard D. Thermally conductive connection with matrix material and randomly dispersed filler containing liquid metal
KR0152901B1 (ko) * 1993-06-23 1998-10-01 문정환 플라스틱 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP3445641B2 (ja) * 1993-07-30 2003-09-08 株式会社デンソー 半導体装置
EP0641019A3 (de) * 1993-08-27 1995-12-20 Poly Flex Circuits Inc Flexibler, auf einem Polymer gedruckter Leiterrahmen.
JP3400051B2 (ja) * 1993-11-10 2003-04-28 ザ ウィタカー コーポレーション 異方性導電膜、その製造方法及びそれを使用するコネクタ
US5893623A (en) * 1993-11-12 1999-04-13 Seiko Epson Corporation Structure and method for mounting semiconductor devices, and liquid crystal display
US5545475A (en) * 1994-09-20 1996-08-13 W. L. Gore & Associates Microfiber-reinforced porous polymer film and a method for manufacturing the same and composites made thereof
JP2643895B2 (ja) 1995-01-30 1997-08-20 日本電気株式会社 セラミック半導体装置およびその製造方法
US5641995A (en) * 1995-03-22 1997-06-24 Hewlett-Packard Company Attachment of ceramic chip carriers to printed circuit boards
US6059917A (en) * 1995-12-08 2000-05-09 Texas Instruments Incorporated Control of parallelism during semiconductor die attach
JP3319261B2 (ja) * 1996-01-19 2002-08-26 松下電器産業株式会社 バンプの観察方法
JP3463501B2 (ja) * 1996-03-01 2003-11-05 富士ゼロックス株式会社 入出力装置
JPH09297318A (ja) * 1996-03-06 1997-11-18 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法および電子機器
JP3239762B2 (ja) * 1996-07-08 2001-12-17 松下電器産業株式会社 バンプ付きワークのボンディング方法
JPH1084014A (ja) * 1996-07-19 1998-03-31 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
US5818700A (en) * 1996-09-24 1998-10-06 Texas Instruments Incorporated Microelectronic assemblies including Z-axis conductive films
US6246098B1 (en) * 1996-12-31 2001-06-12 Intel Corporation Apparatus for reducing reflections off the surface of a semiconductor surface
US5973389A (en) * 1997-04-22 1999-10-26 International Business Machines Corporation Semiconductor chip carrier assembly

Also Published As

Publication number Publication date
US7084517B2 (en) 2006-08-01
DE69734762D1 (de) 2006-01-05
JP3284262B2 (ja) 2002-05-20
TW354855B (en) 1999-03-21
EP0878840A4 (de) 1999-11-10
US6940180B1 (en) 2005-09-06
CN1200196A (zh) 1998-11-25
EP0878840B1 (de) 2005-11-30
KR100511121B1 (ko) 2005-11-21
WO1998010465A1 (fr) 1998-03-12
CN1154166C (zh) 2004-06-16
US20050056948A1 (en) 2005-03-17
JPH1084002A (ja) 1998-03-31
EP0878840A1 (de) 1998-11-18
KR20000064326A (ko) 2000-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69734762T2 (de) Verbindungsstruktur und verfahren zum verbinden eines halbleiterbauelementes mit einem substrat
DE69936493T2 (de) Verbindungsstruktur für Leiterplatte, elektro-optische Vorrichtung, damit versehenes elektronisches Gerät und Herstellungsverfahren für elektro-optische Vorrichtung
DE102016114045B4 (de) Anzeigevorrichtung
DE69938582T2 (de) Halbleiterbauelement, seine herstellung, leiterplatte und elektronischer apparat
DE3616046C2 (de) Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit einer Leiterplatte
DE102017130538A1 (de) Biegsame anzeigevorrichtung und verfahren zur herstellung derselben
DE69819216T2 (de) Freitragende Kugelverbindung für integrierte Schaltungschippackung
KR100524033B1 (ko) 전자 모듈 및 그 제조 방법
DE60030612T2 (de) Anzeigevorrichtung und elektronisches Gerät
DE10261042A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung mit integriertem schichtartigen Touch-Panel
DE60024690T2 (de) Flüssigkristallanzeige
DE19930197A1 (de) Herstellungsverfahren für einen Padabschnitt einer LCD-Vorrichtung und Aufbau einer diesen Padabschnitt aufweisenden LCD-Vorrichtung
DE3527683C2 (de)
EP1192841B1 (de) Intelligentes leistungsmodul
DE69820388T2 (de) Anzeigevorrichtung mit Anschlüssen zur Verbindung mit einem gefalteten Filmsubstrat
DE102004022905A1 (de) Flüssigkristalldisplay und Verfahren zu dessen Herstellung
DE10132786A1 (de) Schicht mit flexibler gedruckter Schaltung
DE102005025941A1 (de) Leuchtdiode (LED)
DE102019121371A1 (de) Integrierte-Schaltung-Baugruppe und diese verwendende Anzeigevorrichtung
EP1222492B1 (de) Anzeigeeinheit für chipkarten und verfahren zu herstellung
EP0391024B1 (de) Schaltungsanordnung für Anzeigevorrichtung
DE60302793T2 (de) Anzeigezelle, insbesondere flüssigkristall- oder photovoltaische zelle mit mitteln zur verbindung mit einer elektronischen steuerschaltung
DE60304902T2 (de) Verfahren zur herstellung von flüssigkristallzellen auf siliciumsubstrat und solche zellen
DE112011101898T5 (de) Montieren einer Anzeigevorrichtung
US20230136653A1 (en) Liquid crystal cells

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition