DE69914956T2 - Thermotransfer einer russ enthaltenden schwarzen matrix - Google Patents

Thermotransfer einer russ enthaltenden schwarzen matrix Download PDF

Info

Publication number
DE69914956T2
DE69914956T2 DE69914956T DE69914956T DE69914956T2 DE 69914956 T2 DE69914956 T2 DE 69914956T2 DE 69914956 T DE69914956 T DE 69914956T DE 69914956 T DE69914956 T DE 69914956T DE 69914956 T2 DE69914956 T2 DE 69914956T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
black matrix
layer
thermal transfer
substrate
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69914956T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69914956D1 (de
Inventor
J. Richard POKORNY
Raghunath Padiyath
Kazuki Noda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of DE69914956D1 publication Critical patent/DE69914956D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69914956T2 publication Critical patent/DE69914956T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/38207Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by aspects not provided for in groups B41M5/385 - B41M5/395
    • B41M5/38214Structural details, e.g. multilayer systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/265Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used for the production of optical filters or electrical components
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42Intermediate, backcoat, or covering layers
    • B41M5/426Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by inorganic compounds, e.g. metals, metal salts, metal complexes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft den Thermotransfer einer Black matrix, hier Schwarzmatrix genannt, auf einen Rezeptor sowie damit in Beziehung stehende Thermotransfer-Donatorbahnen und daraus hergestellte Produkte. Insbesondere betrifft die Erfindung den Thermotransfer einer Schwarzmatrix auf einen Rezeptor unter Verwendung einer Thermotransfer-Donatorbahn mit einer Donatorschicht, die Kohleschwarz enthält.
  • Schwarzmatrixbeschichtungen kommen in zahlreichen Anzeigeanwendungen zum Einsatz, um Umlicht zu absorbieren und Kontrast zu verbessern. Die Schwarzmatrix ist um einzelne Pixel oder Lichtstrahler der Anzeige gebildet. In vielen Flüssigkristallanzeigen (LCDs) ist die Schwarzmatrix eine 0,1 bis 0,2 μm dicke schwarze Chromoxidbeschichtung auf einem Anzeigesubstrat. Normalerweise wird schwarzes Chromoxid auf das Anzeigesubstrat gesputtert, was ein relativ teures Verfahren ist. Zudem bildet das schwarze Chromoxid normalerweise eine metallische Oberfläche mit höherem Reflexionsvermögen als erwünscht (und entsprechend verringertem Kontrast). Ferner ist Chrom unter Umwelt- und Gesundheitsaspekten bedenklich.
  • Als Alternative zu schwarzem Chromoxid wurde eine Harz-Schwarzmatrix (ein Pigment in einer Harzmatrix) vorgeschlagen. Die Harz-Schwarzmatrix wird auf das Anzeigesubstrat aufgetragen und dann mit Fotolithographie gemustert. Um eine hohe optische Dichte in einer dünnen Harz-Schwarzmatrixbeschichtung zu erreichen, müssen normalerweise relativ hohe Pigmentzusätze verwendet werden. Dies erschwert die Fotolithographie, da das Musterungslicht (z. B. Ultraviolett- (UV) Licht) normalerweise nicht gut in Beschichtungen mit hohen optischen Dichten eindringt. Außerdem haben Beschichtungen mit hohen Pigmentgehalten weniger Harz. Da Harz die Komponente einer Beschichtung ist, die geätzt wird, lassen sich Be schichtungen mit hoher optischer Dichte (d. h. Beschichtungen mit hohem Pigmentgehalt) möglicherweise nicht sauber ätzen.
  • Die WO-A-96/01718 betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Matrix auf einem Substrat, wobei die Matrix bei der Bildung von Farbfilterelementen von besonderem Nutzen ist, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: Bereitstellen eines abbildungsfähigen Artikels, der ein Substrat aufweist, das auf mindestens einer Oberfläche eine Schwarzschicht hat, und Richten von Energie mit ausreichender Stärke auf die Schwarzschicht, um die Schwarzschicht transparent zu machen. Das Richten von Energie erfolgt so, daß die Schwarzschicht in einigen Flächen entfernt, aber in anderen Flächen nicht entfernt wird, so daß Schwarzschichtgrenzen Flächen umgeben, von denen Schwarzschicht entfernt wurde.
  • Die US-A-5689318 beschreibt eine Vorrichtung zur Farb-Flüssigkristallanzeige mit einem Farbfilter, das eine Struktur hat, die aufweist: eine Schwarzmatrix, die auf einem transparenten Substrat gebildet ist, eine farbige Schicht, die in mindestens drei Primärfarben gefärbt und durch Farbstoff-Thermotransfertechnologie gebildet ist, einen Schutzbereich zum Schutz vor Farbstoffdiffusion, der die Lücken zwischen den farbigen Mustern fixiert, einen transparenten Schutzüberzug, der auf der farbigen Schicht gebildet ist, und eine transparente leitende Elektrode, die auf dem transparenten Schutzüberzug gebildet ist. Der Schutzbereich gegen Farbstoffdiffusion ist aus einem nicht farbigen Teil einer Farbstoffaufnahmeschicht, Schutzüberzügen oder aus einer Schwarzmatrix mit einer hohen Wärmebeständigkeit gebildet.
  • Die EP-A-0529362 betrifft ein Verfahren zur Herstellung thermotransferierter Farbfilteranordnungen mit eingebauter Schwarzmatrix mit elektronischen Lichtblitzen. Offenbart ist ein Thermodrucksystem, bei dem verschiedene Mustermasken zusammen mit einem elektronischen Lichtblitz und anderer zugehöriger Hardware verwendet werden, um Farbstoffe auf einen Empfänger so zu thermotransferieren, daß eine Farbfilteranordnung mit einer eingebauten Schwarzmatrix zur Verwendung in einer Vorrichtung zur Farb-Flüssigkristallanzeige erzeugt wird. Die Schwarzmatrix erhält man durch überlappende benachbarte Flächen unterschiedlicher Farben.
  • Die EP-A-0400737 offenbart ein Verfahren zur Erzeugung opaker Gitterlinien für ein Farbfilteranordnungselement mit dem Schritt des durch ein Negativgittermuster erfolgenden Belichtens eines fotohärtbaren Elements mit einem Träger, der eine Beschichtung darauf hat, die aufweist: ein wasserlösliches Polymer, ein wasserlösliches Dichromatsalz und bis zu 1 g/m2 eines schwarzen Pigments, eines oder mehrerer schwarzer Farbstoffe, die für eine opake Farbe sorgen, oder eines Vorläufers davon. Ferner weist das Verfahren die folgenden Schritte auf: Waschen des Elements mit dem Lösungsmittel, um die unbelichteten Flächen des Elements zu entfernen, wodurch ein Gitterlinienmuster aus gehärteter Polymersubstanz auf dem Element verbleibt, und Trocknen des Elements, um offene Zellen auf dem Träger zu erzeugen, die durch opake Linien aus der gehärteten Polymersubstanz mit über 0,3 μm Höhe oberhalb des Trägers geteilt sind.
  • Die EP-A-0365222 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung einer Anordnung aus sich wiederholenden Mosaikmustern aus Färbemitteln, die auf einem Träger getragen werden, unter Verwendung mehrerer Donatormaterialien, die jeweils ein strahlungsabsorbierendes Material bzw. einen sublimierbaren Farbstoff mit einer unterschiedlichen Farbe aufweisen, und eines Empfängerelements, das einen Träger mit einer farbstoffaufnehmenden Schicht darauf aufweist. Jedes Donatormaterial wird nacheinander in Flächenkontakt mit dem Empfänger gebracht und durch eine starke Lichtquelle in einem Muster belichtet, um das gewünschte Farbstoffmuster auf die Empfängerschicht zu transferieren.
  • Die EP-A-0790138 betrifft ein laserinduziertes Thermotransfer-Abbildungsverfahren unter Verwendung eines laseradressierbaren Thermotransfer- oder Ablationsabbildungsfilms, um ein lasergeneriertes Bild mit reduzierten sichtbaren Interferenzmustern zu erzeugen. Die Abbildungsfilme verfügen über eine mikrostrukturierte Oberfläche mit einem allmählichen Brechzahlübergang von Luft zum Substrat und einem Reflexionsvermögen von kleiner oder gleich 4%.
  • Allgemein betrifft die Erfindung die Bildung einer Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat durch Thermotransfer z. B. zur Verwendung in einer Anzeigeanwendung. Insbesondere betrifft die Erfindung Verfahren zur Herstellung einer Farbfilter-Schwarzmatrix oder einer TFT- (Dünnfilmtransistor) Schwarzmatrix sowie die zum Gebrauch in den Verfahren geeigneten Thermotransferelemente und die durch die Verfahren gebildeten Artikel. Die Erfindung ist durch die Merkmale der Ansprüche festgelegt.
  • Eine Ausführungsform ist eine optische Anzeige, die ein Substrat, auf dem Substrat angeordnete Pixelelemente und eine zwischen den Pixelelementen angeordnete Schwarzmatrix aufweist. Jedes der Pixelelemente weist mindestens ein elektrisch leitendes Element auf, um das Pixelelement zu betreiben. Die Schwarzmatrix hat eine ausreichende optische Dichte, um für optischen Kontrast zwischen den benachbarten Pixelelementen zu sorgen, einen Widerstand bzw. einen spezifischen Widerstand, der Nebensprechen zwischen den elektrisch leitenden Elementen benachbarter Pixelelemente im wesentlichen verhindert, und eine Dicke, um im wesentlichen Planheit mit mindestens einem Abschnitt benachbarter elektrisch leitender Elemente zu wahren.
  • Eine weitere Ausführungsform ist ein Thermotransferelement zum Transferieren einer Schwarzmatrix auf einen Rezeptor, um benachbarte aktive Bauelemente zu trennen. Das Thermotransferelement weist ein Substrat, eine Licht-Wärme-Umwandlungsschicht und eine Transferschicht auf. Die Transferschicht weist Kohleschwarz auf und ist normalerweise so konfiguriert und angeordnet, daß sie bei Transfer auf einen Rezeptor eine Schwarzmatrix mit einem mittleren spezifischen Widerstand von mindestens 1 × 1010 Ohm-cm bildet.
  • Noch eine weitere Ausführungsform ist ein Thermotransferelement zum Transferieren einer Schwarzmatrix auf einen Rezeptor, um benachbarte aktive Bauelemente zu trennen. Das Thermotransferelement weist ein Substrat, eine Licht-Wärme-Umwandlungsschicht und eine Transferschicht auf. Die Transferschicht weist Kohleschwarz auf und ist normalerweise so konfiguriert und angeordnet, daß sie bei Transfer auf einen Rezeptor eine Schwarzmatrix mit einer optischen Dichte von mindestens 3,0 bildet.
  • Eine weitere Ausführungsform ist ein Verfahren zur Bildung einer Anzeigevorrichtung mit Pixelelementen, die jeweils ein elektrisch leitendes Element aufweisen, um das Pixelelement zu betreiben. Eine Licht-Wärme-Umwandlungsschicht wird über einem Donatorsubstrat gebildet. Eine Schwarzmatrix-Transferschicht wird über der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht gebildet. Die Schwarzmatrix-Transferschicht wird mit einem Substrat der Anzeigevorrichtung in Kontakt gebracht. Die Licht-Wärme-Umwandlungsschicht wird in einem Muster selektiv mit Licht bestrahlt, das mindestens eine Wellenlänge hat, die die Licht-Wärme-Umwandlungsschicht in Wärmeenergie umwandeln kann. Danach wird ein Abschnitt der Schwarzmatrix-Transferschicht gemäß dem Muster auf das Substrat der Anzeigevorrichtung thermotransferiert, um eine Schwarzmatrix zu bilden, die mehrere Pixelelemente definiert. Die Schwarzmatrix hat eine ausreichende optische Dichte, um für optischen Kontrast zwischen benachbarten Pixelelementen zu sorgen, einen spezifischen Widerstand, der Nebensprechen zwischen den elektrisch leitenden Elementen benachbarter Pixelelemente im wesentlichen verhindert, und eine Dicke, um im wesentlichen Planheit mit mindestens einem Abschnitt benachbarter elektrisch leitender Elemente zu wahren. Ein elektrisch leitendes Element wird für jedes Pixelelement auf dem Substrat der Anzeigevorrichtung gebildet. Die Schwarzmatrix trennt benachbarte elektrisch leitende Elemente.
  • Diese Zusammenfassung der Erfindung soll nicht jede einzelne offenbarte Ausführungsform oder jede Realisierung der Erfindung beschreiben. In den nachfolgenden Zeichnungen und der näheren Beschreibung sind diese Ausführungsformen näher exemplarisch dargestellt.
  • Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden näheren Beschreibung verschiedener Ausführungsformen der Erfindung im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen vollständiger verständlich. Es zeigen:
  • 1 eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix, die auf einem Rezeptorsubstrat gebildet ist;
  • 2 einen schematischen Querschnitt einer Ausführungsform einer Flüssigkristallanzeige- (LCD) Einheit, die mögliche Positionen für eine erfindungsgemäße Schwarzmatrix zeigt;
  • 3 einen schematischen Querschnitt einer Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat;
  • 4 einen schematischen Querschnitt einer zweiten Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat;
  • 5 einen schematischen Querschnitt einer dritten Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat;
  • 6 einen schematischen Querschnitt einer vierten Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat;
  • 7A einen schematischen Querschnitt einer fünften Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat; und
  • 7B einen schematischen Querschnitt einer sechsten Ausführungsform eines Thermotransferelements zum Erzeugen einer erfindungsgemäßen Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat.
  • Während die Erfindung verschiedenen Abwandlungen und alternativen Formen zugänglich ist, sind spezifische Einzelheiten in den Zeichnungen exemplarisch dargestellt und werden näher beschrieben. Allerdings sollte klar sein, daß die Erfindung nicht auf die speziellen beschriebenen Ausführungsformen beschränkt sein soll. Statt dessen soll sie alle Abwandlungen, Äquivalente und Alternativen erfassen, die in den Schutzumfang der Erfindung fallen.
  • Man geht davon aus, daß die Erfindung auf die Bildung einer Schwarzmatrix auf einem Rezeptorsubstrat anwendbar ist, das z. B. zum Einsatz in einer Anzeigeanwendung dient. Insbesondere betrifft die Erfindung Verfahren zur Bildung einer Schwarzmatrix durch Thermotransfer unter Verwendung eines Thermotransferelements, zu dem ein Substrat, eine Licht-Wärme-Umwandlungsschicht und eine Schwarzmatrix-Transferschicht, die Kohleschwarz aufweist, gehören können; und sie betrifft die für die Verfahren nützlichen Thermotransferelemente sowie die dadurch gebildeten Artikel. Obwohl die Erfindung nicht darauf beschränkt ist, werden verschiedene Aspekte der Erfindung durch eine Diskussion der nachfolgend beschriebenen Beispiele deutlich.
  • 1 zeigt schematisch eine Schwarzmatrix 100, die auf einem Rezeptorsubstrat 102 so gebildet ist, daß sie für Fenster 104 sorgt, durch die Licht, z. B. von einer Hintergrundbeleuchtungsquelle (nicht gezeigt), durchdringen kann. Die Fenster 104 entsprechen einzelnen Pixeln und/oder Komponenten (z. B. Flüssigkristallen, Farbfiltern usw.). Die Schwarzmatrix 100 erhöht den Kontrast und absorbiert Umlicht.
  • 2 zeigt schematisch einen Querschnitt eines Beispiels für ein TFT- (Dünnfilmtransistor) Anzeigepixel 200. Verständlich ist, daß andere Arten von Anzeigen verwendet werden können und das Anzeigepixel 200 andere und/oder alternative Komponenten aufweisen kann. Das Anzeigepixel verfügt über ein erstes Substrat 202, eine TFT-Schwarzmatrix 204, eine Anzeigeelektrode 206, einen Dünnfilmtransistor 208, einen Leiter 210, einen Flüssigkristall 212, eine gemeinsame Elektrode 214, ein Farbfilter 216, eine Farbfilter-Schwarzmatrix 218 und ein zweites Substrat 220. Das Anzeigepixel 200 wird durch eine Lichtquelle 222 von hinten beleuchtet. Zudem kann das Anzeigepixel andere Komponenten aufweisen, z. B. einen Kondensator und/oder einen Polarisationsfilm. Zusätzlich kann das Anzeigepixel andere alternative Komponenten aufweisen, z. B. eine Elektrolumineszenzlampe mit organischen Dielektrika (OEL-Lampe) statt des Flüssigkristalls, Farbfilters und/oder der Lichtquelle. In einigen Ausführungsformen werden sowohl die TFT-Schwarzmatrix 204 als auch die Farbfilter- Schwarzmatrix 218 verwendet. In anderen Ausführungsformen wird nur die TFT-Schwarzmatrix 204 oder nur die Farbfilter-Schwarzmatrix 218 verwendet. Beispiele für geeignete Anzeigepixel und Verfahren zur Bildung von Anzeigepixeln sind in der WO 00/70399 beschrieben, die zeitgleich eingereicht wurde.
  • Eine Schwarzmatrixschicht, z. B. die TFT-Schwarzmatrix 204 und/oder die Farbfilter-Schwarzmatrix 218, kann durch den Transfer einer Schwarzmatrix-Transferschicht von einem Thermotransferelement gebildet werden. Das Thermotransferelement kann durch Einwirken gerichteter Wärme auf einen ausgewählten Abschnitt des Thermotransferelements erwärmt werden. Wärme läßt sich erzeugen mit einem Heizelement (z. B. einem Widerstandsheizelement), durch Umwandlung von Strahlung (z. B. eines Lichtstrahls) in Wärme und/oder durch Anlegen eines elektrischen Stroms an einer Schicht des Thermotransferelements, um Wärme zu erzeugen. In vielen Fällen ist der Thermotransfer unter Verwendung von Licht, z. B. von einer Lampe oder einem Laser, aufgrund der Genauigkeit und Präzision vorteilhaft, die sich oft erreichen lassen. Die Größe und Form des transferierten Musters (z. B. Linie, Kreis, Quadrat oder andere Form) läßt sich z. B. durch Auswahl der Größe des Lichtstrahls, des Belichtungsmusters des Lichtstrahls, der Dauer des gerichteten Strahlkontakts mit dem Thermotransferelement und/oder der Materialien des Thermotransferelements steuern.
  • Der Thermotransfer einer Transferschicht zur Bildung einer Schwarzmatrix ist z. B. nützlich, um die Beschränkungen der Naßbearbeitungsschritte solcher Verfahren wie fotolithographisches Mustern zu überwinden und sie zu reduzieren oder zu beseitigen. Außerdem bietet der Thermotransfer unter Verwendung von Licht oft bessere Genauigkeit und Qualitätskontrolle. Ferner sorgt der Thermotransfer mit Licht zumindest in einigen Fällen für bessere Paßgenauigkeit bei der Bildung anderer Schichten, z. B. Farbfilterschichten, Dünnfilmtransistorschichten oder Elektrodenschichten, durch anschließende oder vorhergehende Thermotransferschritte oder andere Verfahren zur Bildung dieser Schichten.
  • In 3 ist ein Beispiel für ein geeignetes Thermotransferelement 300 gezeigt. Das Thermotransferelement 300 weist ein Donatorsubstrat 302, eine optionale Grundierungsschicht 304, eine Licht-Wärme-Umwandlungs- (LWU) Schicht 306, eine optionale Zwischenschicht 308 und eine Transferschicht 310 auf. Gerichtetes Licht von einer lichtabstrahlenden Quelle, z. B. einem Laser oder einer Lampe, kann dazu dienen, das Thermotransferelement 300 in einem Muster zu beleuchten. Die LWU-Schicht 306 weist ein Strahlungsabsorptionsmittel bzw. einen Strahlungsabsorber auf, der Lichtenergie in Wärmeenergie umwandelt. Die Umwandlung der Lichtenergie in Wärmeenergie führt zum Transfer eines Abschnitts der Transferschicht 310 auf ein Rezeptorsubstrat (nicht gezeigt).
  • Ein weiteres Beispiel für ein Thermotransferelement 400 verfügt über ein Donatorsubstrat 402, eine LWU-Schicht 406, eine Zwischenschicht 408 und eine Transferschicht 410 gemäß 4. Ein weiteres geeignetes Thermotransferelement 500 weist ein Donatorsubstrat 502, eine LWU-Schicht 506 und eine Transferschicht 510 gemäß 5 auf. Noch ein weiteres Beispiel für ein Thermotransferelement 600 verfügt über ein Donatorsubstrat 602 und eine Transferschicht 610 gemäß 6 mit einem optionalen Strahlungsabsorber, der im Donatorsubstrat 602 und/oder in der Transferschicht 610 angeordnet ist, um Lichtenergie in Wärmeenergie umzuwandeln. Alternativ kann das Thermotransferelement 600 ohne einen Strahlungsabsorber aufgebaut sein. Zum Thermotransfer der Transferschicht 610 kontaktiert ein Heizelement, z. B. ein Widerstandsheizelement, das Thermotransferelement, um das Thermotransferelement selektiv zu erwärmen und die Transferschicht in einem Muster zu transferieren. Ein Thermotransferelement 600 ohne Strahlungsabsorber kann optional eine Trennschicht, eine Zwischenschicht und/oder andere Schichten (z. B. eine Beschichtung, um Festkleben des Widerstandsheizelements zu verhindern) aufweisen.
  • Noch ein weiteres Beispiel für ein Thermotransferelement 700 verfügt über ein Donatorsubstrat 702, eine optionale Grundierungsschicht 704, eine Farbänderungsschicht 712, eine LWU-Schicht 706, eine optionale Zwischenschicht 708 und eine Thermotransferschicht 710 gemäß 7A. Als Alternative verfügt ein Thermotransferelement 700' über eine Farbänderungsschicht 712', ein Donatorsubstrat 702', eine optionale Grundierungsschicht 704', eine LWU-Schicht 706', eine optionale Zwischenschicht 708' und eine Thermotransferschicht 710' gemäß 7B. Die Farbänderungsschicht 712 ist so konfiguriert, daß ein beleuchteter Abschnitt der Farbänderungsschicht 712 die Farbe ändert, um Wärmeschäden an einer transferierten Schicht zu reduzieren oder zu verhindern, wenn die Position ein zweites Mal beleuchtet wird. Zum Beispiel können Reihen und Spalten einer Schwarzmatrix einzeln ausgebildet werden. Schnittpunkte zwischen den Reihen und Spalten werden zweimal belichtet. Nach einmaligem Belichten oder bei Erwärmung, während die LWU-Schicht Licht erstmalig absorbiert, wechselt die Farbänderungsschicht zu einer Farbe, die Licht reflektiert oder absorbiert, um das Erwärmen der LWU-Schicht bei der zweiten Beleuchtung zu verhindern oder zu verringern. Damit können Schäden (z. B. zunehmende Oberseiten- oder Kantenrauheit) am transferierten Abschnitt der Transferschicht reduziert oder verhindert werden. Verständlich ist, daß eine Farbänderungsschicht mit jedem der anderen hier beschriebenen Thermotransferelemente verwendet werden kann.
  • Für den Thermotransfer unter Verwendung von Strahlung (z. B. Licht) können vielfältige strahlungsemittierende Quellen zum Einsatz kommen. Für analoge Techniken (z. B. Belichtung durch eine Maske) sind Hochleistungslichtquellen (z. B. Xenonblitzlampen und Laser) nützlich. Für digitale Abbildungstechniken sind Laser im infraroten, sichtbaren und ultravioletten Bereich von besonderem Nutzen. Zu geeigneten Lasern zählen z. B. mit hoher Leistung (≥100 mW) arbeitende Monomoden-Laserdioden, fasergekoppelte Laserdioden und diodengepumpte Festkörperlaser (z. B. Nd:YAG und Nd:YLF). Laserbelichtungszeiten können z. B. im Bereich von 0,1 bis 5 Mikrosekunden liegen, und Laserfluenzen können z. B. im Bereich von 0,01 bis 1 J/cm2 liegen.
  • Ist eine hohe Punktplazierungsgenauigkeit (z. B. für Vollfarben-Anzeigeanwendungen mit hohem Informationsgehalt) über große Substratflächen erforderlich, ist ein Laser als Strahlungsquelle besonders nützlich. Laserquellen sind auch mit sowohl großen starren Substraten, z. B. 1 m × 1 m × 1,1 mm Glas, als auch kontinuierlichen oder Bahnfilmsubstraten, z. B. 100 μm dicken Polyimidbahnen, kompatibel.
  • Widerstandsthermodruckköpfe oder -anordnungen lassen sich z. B. mit vereinfachten Donatorfilmaufbauten verwenden, denen eine LWU-Schicht und ein Strahlungsabsorber fehlt. Besonders nützlich kann dies mit kleineren Substratgrößen (z. B. unter etwa 30 cm in jeder Richtung) oder für größere Muster sein, z. B. solche, die für alphanumerische Segmentanzeigen erforderlich sind.
  • Donatorsubstrat und optionale Grundierungsschicht
  • Das Donatorsubstrat kann ein Polymerfilm sein. Eine geeignete Art von Polymerfilm ist ein Polyesterfilm, z. B. Polyethylenterephthalat- oder Polyethylennaphthalatfilme. Indes können andere Filme mit ausreichenden optischen Eigenschaften (falls Licht zum Erwärmen und Transfer verwendet wird), u. a. hoher Lichtdurchlässigkeit bei einer speziellen Wellenlänge, sowie ausreichender mechanischer und thermischer Stabilität für die spezielle Anwendung verwendet werden. Das Donatorsubstrat ist zumindest in einigen Fällen flach, so daß gleichmäßige Beschichtungen gebildet werden können. Außerdem ist das Donatorsubstrat normalerweise aus Materialien ausgewählt, die trotz Erwärmung der LWU-Schicht stabil bleiben. Die typische Dicke des Donatorsubstrats liegt im Bereich von 0,025 bis 0,15 mm, vorzugsweise 0,05 bis 0,1 mm, obwohl dickere oder dünnere Donatorsubstrate verwendet werden können.
  • Normalerweise sind die zur Bildung des Donatorsubstrats und der LWU-Schicht verwendeten Materialien so ausgewählt, daß die Haftung zwischen der LWU-Schicht und dem Donatorsubstrat verbessert ist. Eine optionale Grundierungsschicht kann dazu dienen, die Gleichmäßigkeit beim Auftragen anschließender Schichten zu erhöhen und auch die Zwischenschicht-Haftfestigkeit zwischen der LWU-Schicht und dem Donatorsubstrat zu steigern. Ein Beispiel für ein geeignetes Substrat mit Grundierungsschicht ist von Teijin Ltd. zu beziehen (Produkt-Nr. HPE100, Osaka, Japan).
  • Licht-Wärme-Umwandlungs- (LWU) Schicht
  • Zum strahlungsinduzierten Thermotransfer ist normalerweise eine Licht-Wärme-Umwandlungs- (LWU) Schicht im Thermotransferelement eingebaut, um die Energie von Licht, das von einer lichtemittierenden Quelle abgestrahlt wird, in das Thermotransferelement einzukoppeln. Die LWU-Schicht weist vorzugsweise einen Strahlungsabsorber auf, der einfallende Strahlung (z. B. Laserlicht) absorbiert und mindestens einen Teil der einfallenden Strahlung in Wärme umwandelt, um den Transfer der Transferschicht vom Thermotransferelement auf den Rezeptor zu ermöglichen. In einigen Ausführungsformen ist keine gesonderte LWU-Schicht vorhanden, und statt dessen ist der Strahlungsabsorber in einer weiteren Schicht des Thermotransferelements angeordnet, z. B. im Donatorsubstrat oder in der Transferschicht. In anderen Ausführungsformen weist das Thermotransferelement eine LWU-Schicht auf und verfügt auch über einen oder mehrere Strahlungsabsorber, die in einer oder mehreren der anderen Schichten des Thermotransferelements angeordnet sind, z. B. im Donatorsubstrat oder in der Transferschicht. In noch anderen Ausführungsformen weist das Thermotransferelement keine LWU-Schicht oder keinen Strahlungsabsorber auf, und die Transferschicht wird unter Verwendung eines Heizelements transferiert, das das Thermotransferelement kontaktiert.
  • Normalerweise absorbiert der Strahlungsabsorber in der LWU-Schicht (oder in anderen Schichten) Licht im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Bereich des elektromagnetischen Spektrums und wandelt die absorbierte Strahlung in Wärme um. Üblicherweise ist der Strahlungsabsorber für die ausgewählte Abbildungsstrahlung stark absorbierend und verleiht der LWU-Schicht eine optische Dichte bei der Wellenlänge der Abbildungsstrahlung im Bereich von 0,2 bis 3 oder von 0,5 bis 2,5 für Weißlicht. (Für Licht mit einer Wellenlänge von 1064 nm liegt die optische Dichte normalerweise im Bereich von 0,1 bis 2 oder von 0,3 bis 1,8.) Die optische Dichte ist der Logarithmus des Verhältnisses a) der Stärke von Licht, das auf die Schicht fällt, und b) der Stärke von Licht, das durch die Schicht durchgelassen wird. Da in zumindest einigen Fällen Schwarzmatrix-Transferschichten eine re lativ hohe optische Dichte haben, liegt die optische Dichte der LWU-Schicht im Bereich von 1,6 bis 2,2 für Weißlicht (von 1,1 bis 1,5 für Licht mit einer Wellenlänge von 1064 nm). Dickere Beschichtungen haben allgemein höhere optische Dichten, können aber, zumindest in einigen Fällen, einen weniger effizienten Wärmetransfer haben. LWU-Schichten mit höherer optischer Dichte können für verbesserte Oberseitenrauheit der transferierten Schicht sorgen, können aber auch zu erhöhter Kantenrauheit der transferierten Schicht führen.
  • Zu geeigneten strahlungsabsorbierenden Materialien können beispielsweise Farbstoffe (z. B. sichtbare Farbstoffe, ultraviolette Farbstoffe, infrarote Farbstoffe, Fluoreszenzfarbstoffe und strahlungspolarisierende Farbstoffe), Pigmente, Metalle, Metallverbindungen, Metallfilme und andere geeignete absorbierende Materialien gehören. Zu Beispielen für geeignete Strahlungsabsorber zählen Kohleschwarz, Metalloxide und Metallsulfide. Ein Beispiel für eine geeignete LWU-Schicht kann ein Pigment, z. B. Kohleschwarz, und ein Bindemittel, z. B. ein organisches Polymer, aufweisen. Die Menge von Kohleschwarz kann z. B. im Bereich von 5 bis 15 Gew.-% oder 7 bis 11 Gew.-% liegen. Hohe Kohleschwarzzusätze können die Empfindlichkeit und Kantenrauheit der transferierten Schicht verbessern, können aber auch die Oberseitenrauheit erhöhen. Niedrige Kohlezusätze können Schäden an Punkten (z. B. Kreuzungspunkten einer Schwarzmatrix) verhindern oder reduzieren, die doppelt beleuchtet werden.
  • Eine weitere geeignete LWU-Schicht weist Metall oder Metall/Metalloxid auf, das als Dünnfilm ausgebildet ist, z. B. schwarzes Aluminium (d. h. teilweise oxidiertes Aluminium mit einem schwarzen Aussehen). Metallische und Metallverbindungsfilme können durch solche Techniken wie z. B. Sputtern oder Verdampfungsabscheidung gebildet werden. Spezielle Beschichtungen können mit Hilfe eines Bindemittels und beliebiger Trocken- oder Naßbeschichtungstechniken gebildet werden.
  • Geeignete Farbstoffe zur Verwendung als Strahlungsabsorber in einer LWU-Schicht können in Teilchenform, in einem Bindemittelmaterial aufgelöst oder in einem Bindemittelmaterial mindestens teilweise dispergiert vorliegen. Bei Verwen dung dispergierter teilchenartiger Strahlungsabsorber kann die Teilchengröße zumindest in einigen Fällen höchstens 10 μm betragen und kann höchstens 1 μm betragen. Zu geeigneten Farbstoffen gehören jene Farbstoffe, die im IR-Bereich des Spektrums absorbieren. Beispiele für solche Farbstoffe lassen sich finden in Matsuoka, M., "Infrared Absorbing Materials", Plenum Press, New York, 1990; Matsuoka, M., Absorption Spectra of Dves for Diode Lasers, Bunshin Publishing Co., Tokio, 1990; US-A-4722583; 4833124; 4912083; 4942141; 4948776; 4948778; 4950639; 4940640; 4952552; 5023229; 5024990; 5156938; 5286604; 5340699; 5351617; 5360694 und 5401607; EP-A-321923 und 568993; sowie Beilo, K. A. et al., J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1993, 452–454 (1993). Zum Einsatz können auch IR-Absorber kommen, die von Glendale Protective Technologies, Inc., Lakeland, Fla. unter der Bezeichnung CYASORB IR-99, IR-126 und IR-165 vertrieben werden. Ein spezifischer Farbstoff kann auf der Grundlage solcher Faktoren wie Löslichkeit in einem spezifischen Bindemittel und/oder einer spezifischen Beschichtungslösung und Verträglichkeit damit sowie des Absorptionswellenlängenbereichs ausgewählt sein.
  • Als Strahlungsabsorber in der LWU-Schicht können auch Pigmentmaterialien verwendet werden. Zu Beispielen für geeignete Pigmente gehören Kohleschwarz und Graphit sowie Phthalocyanine, Nickeldithiolene und andere Pigmente, die in den US-A-5166024 und 5351617 beschrieben sind. Zudem können schwarze Azopigmente auf der Basis von Kupfer- oder Chromkomplexen, z. B. aus Pyrazolongelb, Dianisidinrot und Nickelazogelb, nützlich sein. Auch anorganische Pigmente können verwendet werden, u. a. beispielsweise Oxide und Sulfide von Metallen, z. B. Aluminium, Bismut, Zinn, Indium, Zink, Titan, Chrom, Molybdän, Wolfram, Cobalt, Iridium, Nickel, Palladium, Platin, Kupfer, Silber, Gold, Zircon, Eisen, Blei und Tellur. Metallboride, -carbide, -nitride, -carbonitride, bronzestrukturierte Oxide und strukturell mit der Bronzefamilie verwandte Oxide (z. B. WO2,9) können auch zum Einsatz kommen.
  • Metallstrahlungsabsorber können in Form von Teilchen z. B. gemäß der Beschreibung der US-A-4252671 oder als Film gemäß der Offenbarung der US-A-5256506 verwendet werden. Zu geeigneten Metallen zählen z. B. Aluminium, Bismut, Zinn, Indium, Tellur und Zink.
  • Wie erwähnt, kann ein teilchenartiger Strahlungsabsorber in einem Bindemittel dispergiert sein. Der Gewichtsprozentsatz des Strahlungsabsorbers in der Beschichtung mit Ausnahme des Lösungsmittels bei der Gewichtsprozentberechnung beträgt allgemein 1 Gew.-% bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 3 Gew.-% bis 20 Gew.-% und am stärksten bevorzugt 5 Gew.-% bis 15 Gew.-%, was zumindest teilweise von dem oder den in der LWU-Schicht verwendeten speziellen Strahlungsabsorbern und Bindemitteln abhängt.
  • Zu geeigneten Bindemitteln zum Gebrauch in der LWU-Schicht zählen filmbildende Polymere, beispielsweise Phenolharze (z. B. Novolak- und Resolharze), Polyvinylbutyralharze, Polyvinylacetate, Polyvinylacetale, Polyvinylchloride, Polyacrylate, Celluloseether und -ester, Nitrocellulosen und Polycarbonate. Geeignete Bindemittel können Monomere, Oligomere oder Polymere aufweisen, die polymerisiert oder vernetzt wurden oder dazu fähig sind. In einigen Ausführungsformen ist das Bindemittel primär unter Verwendung einer Beschichtung aus vernetzbaren Monomeren und/oder Oligomeren mit optionalem Polymer gebildet. Bei Gebrauch eines Polymers im Bindemittel weist das Bindemittel 1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 45 Gew.-% Polymer auf (mit Ausnahme des Lösungsmittels bei der Gewichtsprozentberechnung).
  • Nach Auftragen auf das Donatorsubstrat werden die Monomere, Oligomere und Polymere vernetzt, um die LWU-Schicht zu bilden. Ist in einigen Fällen die Vernetzung der LWU-Schicht zu gering, kann die LWU-Schicht durch die Wärme geschädigt werden und/oder den Transfer eines Abschnitts der LWU-Schicht auf den Rezeptor mit der Transferschicht ermöglichen.
  • Der Einbau eines thermoplastischen Harzes (z. B. Polymer) kann zumindest in einigen Fällen die Leistung (z. B. Transfereigenschaften und/oder Beschichtungsvermögen) der LWU-Schicht verbessern. Man geht davon aus, daß ein thermoplastisches Harz die Haftung der LWU-Schicht am Donatorsubstrat verbessern kann. In einer Ausführungsform weist das Bindemittel 25 bis 50 Gew.-% (mit Ausnahme des Lösungsmittels bei der Gewichtsprozentberechnung) thermoplastisches Harz und vorzugsweise 30 bis 45 Gew.-% thermoplastisches Harz auf, wenngleich geringere Mengen von thermoplastischem Harz verwendet werden können (z. B. 1 bis 15 Gew.-%). Normalerweise ist das thermoplastische Harz so gewählt, daß es mit den anderen Materialien des Bindemittels kompatibel ist (d. h. eine Einphasenkombination bildet). Als Hinweis auf die Kompatibilität kann ein Löslichkeitsparameter gemäß Polymer Handbook, J. Brandrup, Hrsg., Seiten VII 519–557 (1989) dienen. In mindestens einigen Ausführungsformen ist ein thermoplastisches Harz für das Bindemittel ausgewählt, das einen Löslichkeitsparameter im Bereich von 9 bis 13 (cal/cm3)1/2, vorzugsweise 9,5 bis 12 (cal/cm3)1/2 hat. Zu Beispielen für geeignete thermoplastische Harze gehören Polyacrylharze, Styrol-Acryl-Polymere und -Harze und Polyvinylbutyral.
  • Herkömmliche Beschichtungshilfsmittel, z. B. oberflächenaktive Stoffe und Dispergiermittel, können zugegeben sein, um das Beschichtungsverfahren zu erleichtern. Die LWU-Schicht kann mit vielfältigen technisch bekannten Beschichtungsverfahren auf das Donatorsubstrat aufgetragen werden. Zumindest in einigen Fällen wird eine polymerische oder organische LWU-Schicht in einer Dicke von 0,05 μm bis 20 μm, vorzugsweise 0,5 μm bis 10 μm und stärker bevorzugt 1 μm bis 7 μm aufgetragen. Eine anorganische LWU-Schicht wird zumindest in einigen Fällen in einer Dicke im Bereich von 0,001 bis 10 μm und vorzugsweise 0,002 bis 1 μm aufgetragen.
  • Zwischenschicht
  • Eine optionale Zwischenschicht kann dazu dienen, Beschädigung und Verunreinigung des transferierten Abschnitts der Transferschicht zu minimieren und kann zudem Verzerrung im transferierten Abschnitt der Transferschicht reduzieren. Außerdem kann die Zwischenschicht die Haftung der Transferschicht am Rest des Thermotransferelements beeinflussen. Gewöhnlich hat die Zwischenschicht hohe Wärmebeständigkeit. Vorzugsweise kommt es unter den Abbildungsbedingungen nicht zum Verzerren oder chemischen Abbau der Zwischenschicht, besonders in einem Maß, das das transferierte Bild nicht mehr wirken läßt. Normalerweise bleibt die Zwischenschicht während des Transferverfahrens mit der LWU-Schicht in Kontakt und wird im wesentlichen nicht mit der Transferschicht transferiert.
  • Zu geeigneten Zwischenschichten gehören beispielsweise Polymerfilme, Metallschichten (z. B. aufgedampfte Metallschichten), anorganische Schichten (z. B. abgeschiedene Sol-Gel-Schichten und aufgedampfte Schichten aus anorganischen Oxiden (z. B. Siliciumoxid, Titanoxid und andere Metalloxide)) sowie organische/anorganische Verbundschichten. Zu organischen Materialien, die als Zwischenschichtmaterialien geeignet sind, zählen sowohl duroplastische als auch thermoplastische Materialien. Zu geeigneten duroplastischen Materialien gehören Harze, die durch Wärme, Strahlung oder chemische Behandlung vernetzt werden können, u. a., aber nicht nur, vernetzte oder vernetzbare Polyacrylate, Polymethacrylate, Polyester, Epoxidharze und Polyurethane. Die duroplastischen Materialien können auf die LWU-Schicht z. B. als thermoplastische Vorläufer aufgetragen und anschließend vernetzt werden, um eine vernetzte Zwischenschicht zu bilden.
  • Zu geeigneten thermoplastischen Materialien gehören z. B. Polyacrylate, Polymethacrylate, Polystyrole, Polyurethane, Polysulfone, Polyester und Polyimide. Diese thermoplastischen organischen Materialien lassen sich mit herkömmlichen Beschichtungstechniken auftragen (z. B. Lösungsmittelbeschichtung, Spritzbeschichtung oder Extrusionsbeschichtung). Normalerweise beträgt die Glasübergangstemperatur (Tg) thermoplastischer Materialien, die zum Gebrauch in der Zwischenschicht geeignet sind, mindestens 25°C, vorzugsweise mindestens 50°C, stärker bevorzugt mindestens 100°C und am stärksten bevorzugt mindestens 150°C. In einigen Ausführungsformen weist die Zwischenschicht ein thermoplastisches Material auf, das eine Tg hat, die größer als jede Temperatur ist, die in der Transferschicht bei der Abbildung erreicht wird. Die Zwischenschicht kann bei der Abbildungsstrahlungswellenlänge durchlässig, absorbierend, reflektierend oder eine Kombination daraus sein.
  • Zu anorganischen Materialien, die als Zwischenschichtmaterialien geeignet sind, gehören z. B. Metalle, Metalloxide, Metallsulfide und anorganische Kohlenstoffbeschichtungen, u. a. jene Materialien, die bei der Abbildungslichtwellenlänge stark durchlässig oder reflektierend sind. Diese Materialien können auf die Licht-Wärme-Umwandlungsschicht mit herkömmlichen Techniken aufgetragen sein (z. B. Vakuumsputtern, Vakuumaufdampfen oder Plasmastrahlabscheidung).
  • Die Zwischenschicht kann eine Reihe von Nutzeffekten haben. Die Zwischenschicht kann eine Sperre gegen den Materialtransfer aus der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht sein. Zudem kann sie die in der Transferschicht erreichte Temperatur modulieren, so daß thermisch instabile Materialien transferiert werden können. Zum Beispiel kann die Zwischenschicht als Wärmediffusor wirken, um die Temperatur an der Grenzfläche zwischen der Zwischenschicht und der Transferschicht relativ zur Temperatur zu steuern, die in der LWU-Schicht erreicht wird. Dies kann die Qualität (d. h. Oberflächenrauheit, Kantenrauheit) der transferierten Schicht verbessern. Außerdem kann das Vorhandensein einer Zwischenschicht zu verbessertem plastischem Gedächtnis im transferierten Material führen.
  • Die Zwischenschicht kann Zusatzstoffe aufweisen, u. a. beispielsweise Photoinitiatoren, oberflächenaktive Stoffe, Pigmente, Weichmacher und Beschichtungshilfsmittel. Die Dicke der Zwischenschicht kann von solchen Faktoren wie z. B. dem Material der Zwischenschicht, dem Material der LWU-Schicht, dem Material der Transferschicht, der Wellenlänge der Abbildungsstrahlung und der Einwirkungsdauer von Abbildungsstrahlung auf das Thermotransferelement abhängen. Für Polymerzwischenschichten liegt die Dicke der Zwischenschicht normalerweise im Bereich von 0,05 μm bis 10 μm, vorzugsweise 0,1 μm bis 4 μm, stärker bevorzugt 0,5 bis 3 μm und am stärksten bevorzugt 0,8 bis 2 μm. Für anorganische Zwischenschichten (z. B. Metall- oder Metallverbindungszwischenschichten) liegt die Dicke der Zwischenschicht normalerweise im Bereich von 0,005 μm bis 10 μm, vorzugsweise 0,01 μm bis 3 μm und stärker bevorzugt 0,02 bis 1 μm.
  • Farbänderungsschicht
  • Optional kann das Thermotransferelement eine Farbänderungsschicht aufweisen, um Beschädigung an einem transferier ten Abschnitt der Transferschicht zu reduzieren oder zu verhindern, wenn derselbe Abschnitt des Thermotransferelements zweimal oder öfter beleuchtet oder erwärmt wird. Zum Beispiel kann dies geschehen, wenn sowohl Reihenlinien als auch Spaltenlinien einer Schwarzmatrix ohne Wechsel des Thermotransferelements separat transferiert werden. Die Positionen, an denen sich die Reihen und Spalten schneiden (d. h. die Kreuzungspunkte) werden mindestens zweimal beleuchtet oder erwärmt. Die Farbänderungsschicht weist ein Material auf, das bei Belichtung mit der Beleuchtungswellenlänge oder bei Wärmeeinwirkung die Farbe ändert. Vorzugsweise ändert dieses Material die Farbe nicht wesentlich vor der Ersteinwirkung von Licht und/oder Wärme.
  • In mindestens einigen Ausführungsformen ist die Farbänderungsschicht für zumindest die Wellenlänge von Licht im wesentlichen transparent, das zum Erwärmen der LWU-Schicht dient. Bei Einwirken des Beleuchtungslichts oder der durch die LWU-Schicht erzeugten Wärme ändert die Farbänderungsschicht die Farbe, um mindestens einen Teil und vorzugsweise das gesamte Licht zu reflektieren und/oder zu absorbieren, das zur Beleuchtung der LWU-Schicht dient. Dadurch erwärmt sich bei der zweiten Beleuchtung die LWU-Schicht nicht oder wird nur in einem geringeren Grad erwärmt, was Schäden am bereits transferierten Abschnitt der Transferschicht reduziert oder verhindert.
  • Die Farbänderungsschicht kann z. B. zwischen dem Donatorsubstrat und der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht oder auf einer Seite des Donatorsubstrats entgegengesetzt zu der Seite angeordnet sein, auf der die Licht-Wärme-Umwandlungsschicht angeordnet ist. Zu geeigneten Beschichtungen zählen z. B. Leukofarbstoffe, die auf das Donatorsubstrat aufgetragen sein können. Der Leukofarbstoff kann beim Auftragen farblos sein, aber bei Wärmeeinwirkung schwarz werden. Ein geeignetes Beispiel ist eine Kombination aus Pergascript Black I-R und HRJ 11842 Zinc-Modified Resin (beide von Schenectady International, Schenectady, NY zu beziehen).
  • Schwarzmatrix-Thermotransferschicht
  • Gewöhnlich ist die Schwarzmatrix-Thermotransferschicht mit Hilfe von Materialien hergestellt, die beim Transferieren eine dünne Beschichtung mit hoher optischer Dichte auf einem Rezeptorsubstrat bilden können. In mindestens einigen Fällen, besonders wenn die Schwarzmatrixbeschichtung elektrisch leitende Elemente auf dem Rezeptorsubstrat trennt, ist die Schwarzmatrix-Transferschicht unter Verwendung eines Materials gebildet, das beim Transferieren einen relativ hohen spezifischen elektrischen Widerstand hat, um Nebensprechen zwischen benachbarten elektrisch leitenden Elementen zu verhindern.
  • Normalerweise weist die Schwarzmatrix-Thermotransferschicht ein Pigment oder einen Farbstoff in einem Bindemittel auf. Ein geeignetes Pigment ist Kohleschwarz. Obwohl Kohleschwarz ein Leiter ist, wurde überraschend festgestellt, daß dünne Schwarzmatrixbeschichtungen mit hoher optischer Dichte und einer Dicke zwischen 0,5 und 1,5 μm gebildet werden können, die einen spezifischen Widerstand von 1 × 1010 Ohm-cm oder 1 × 1013 Ohm-cm oder darüber haben. Für einige Anwendungen, z. B. eine TFT-Schwarzmatrix, muß der spezifische Widerstand der Schwarzmatrix 1 × 1010 Ohm-cm oder sogar 1 × 1013 Ohm-cm betragen, um benachbarte elektrisch leitende Bauelemente zu trennen, z. B. Dünnfilmtransistoren oder Leitungen, die die Transistoren mit einer Steuerung verbinden.
  • Die Dicke der Schwarzmatrix-Transferschicht kann so gewählt sein, daß eine relativ ebene Oberfläche mit anderen Komponenten der Vorrichtung (z. B. einer Anzeigevorrichtung) gebildet ist. Zum Beispiel kann eine TFT-Schwarzmatrix eine solche Dicke haben, daß die Schwarzmatrix relativ eben mit mindestens einem Abschnitt des Dünnfilmtransistors (TFT) ist. Eine Farbfilter-Schwarzmatrix kann eine Dicke haben, die so gewählt ist, daß die Schwarzmatrix relativ eben mit dem Farbfilter ist. Beispiele geeigneter Bereiche der Dicke sind 0,5 bis 1,5 μm oder 0,7 bis 1,1 μm. Indes können dickere und dünnere Schwarzmatrizen gebildet sein, wenngleich dünnere Schwarzmatrizen normalerweise eine geringere optische Dichte bei gleichem Kohleschwarzzusatz haben.
  • Eine geeignete Schwarzmatrix-Transferschicht weist (außer Lösungsmittel) 40 bis 55 Gew.-%, vorzugsweise 45 bis 50 Gew.-% Kohleschwarz, 2 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 8 Gew.-% Dispergiermittel und 35 bis 58 Gew.-% Bindemittel auf. Das Bindemittel kann z. B. ein beliebiges von vielfältigen Polymerzusammensetzungen sein, u. a. ein oder mehrere filmbildende Polymere, beispielsweise Phenolharze (z. B. Novolak- und Resolharze), Polyvinylbutyralharze, Polyvinylacetate, Polyvinylacetale, Polyvinylidenchloride, Polyacrylate, Celluloseether und -ester, Nitrocellulosen, Epoxidharze und Polycarbonate. Geeignete Bindemittel können Monomere, Oligomere oder Polymere aufweisen, die polymerisiert oder vernetzt wurden oder dazu fähig sind.
  • Das Dispergiermittel hilft dem Kohleschwarz, sich im gesamten Bindemittel zu dispergieren. Gute Dispersion sorgt für gleichmäßige Eigenschaften und kann die Bildung von Bereichen mit geringerem als erwartetem spezifischem Widerstand verringern oder verhindern. Außerdem führt gute Dispersion allgemein zu höherer optischer Dichte für einen bestimmten Kohleschwarzzusatz. Zu Beispielen für geeignete Dispergiermittel zählen Disperbyk 182, Disperbyk 163, Disperbyk 160, Disperbyk 164 (Byk-Chemie, Wallingford, CT) u. ä. Die Schwarzmatrix-Transferschicht kann z. B. 2 bis 10 Gew.-% oder 3 bis 8 Gew.-% Dispergiermittel aufweisen. Das spezielle Dispergiermittel kann durch die Art von Kohleschwarz bestimmt sein, das zum Einsatz kommt. Das Kohleschwarz und das Dispergiermittel können unter Verwendung einer geeigneten Lösungsmittel- und Dispergierausrüstung gemischt sein, z. B. einer Kugelmühle oder Eiger-Mühle. Andere herkömmliche Beschichtungshilfsmittel, z. B. oberflächenaktive Stoffe, können zur Erleichterung des Beschichtungsverfahrens zugegeben sein.
  • Verwendet werden können vielfältige unterschiedliche Arten von Kohleschwarz. Kohleschwarz läßt sich in vielfältigen Größen erhalten, die z. B. von 8 nm bis 200 nm oder mehr reichen. Außerdem aggregieren Kohleschwarzteilchen. Während Kohleschwarzteilchen jeder Größe verwendet werden können, hat bevorzugtes Kohleschwarz eine mittlere Teilchengröße im Bereich von etwa 20 bis 35 nm und stärker bevorzugt 22 bis 30 nm. Weiterhin hat das bevorzugte Kohleschwarz normalerweise mehr als 2 Gew.-% flüchtige Stoffe und vorzugsweise zwischen 2 und 6 Gew.-% in der Messung nach DIN 53552. Ferner hat das bevorzugte Kohleschwarz eine Dibutylphthalat- (DBP) Absorption von 45 bis 70 ml DPB je 100 Gramm Kohleschwarz in der Messung nach DIN 53601, obwohl auch Werte von sogar 120 ml oder höher akzeptabel sein können. Zu Beispielen für Kohleschwarzmaterialien mit diesen Eigenschaften gehören Special Black 550, 350, 4 und 4A (Degussa Corp., Dublin, OH) und Mogul L (Cabot Corp., Tuscola, IL).
  • Die optische Dichte der Schwarzmatrix-Transferschicht ist normalerweise relativ hoch, so daß die Schwarzmatrix mindestens einen Teil des Umlichts absorbieren und für ausreichenden Kontrast sorgen kann, der vom menschlichen Auge wahrnehmbar ist. Die optische Dichte hängt von vielfältigen Faktoren ab, z. B. dem Zusatz von Pigment oder Farbstoff (z. B. Kohleschwarz), den anderen Komponenten der Schwarzmatrix-Transferschicht und der Dicke der Schicht. Die optische Dichte der Schwarzmatrix-Transferschicht ist so ausgewählt, daß sie mindestens 3,0 oder mindestens 3,2 für Weißlicht beträgt.
  • Rezeptor
  • Das Rezeptorsubstrat kann jeder Gegenstand sein, der für eine spezielle Anwendung geeignet ist, u. a., aber nicht nur, Glas, transparente Filme, Metalle, Halbleiter, verschiedene Papiere und Kunststoffe. Normalerweise ist das Rezeptorsubstrat jede Art von Substrat, die für Anzeigeanwendungen geeignet ist. Zu Rezeptorsubstraten, die zur Verwendung in Flüssigkristallanzeigen geeignet sind, zählen starre oder flexible Substrate, die für sichtbares Licht im wesentlichen durchlässig sind. Besonders geeignete sind nicht doppelbrechende Substrate. Zu Beispielen für starre Substrate gehören Glas, Indium-Zinn-Oxid-beschichtetes Glas, Tieftemperatur-Polysilicium (LTPS) und starrer Kunststoff. Zu geeigneten flexiblen Substraten gehören im wesentlichen klare und durchlässige Polymerfilme. Zu geeigneten Polymersubstraten zählen Polyesterbasis (z. B. Polyethylenterephthalat, Polyethylennaphthalat), Polycarbonatharze, Polyolefinharze, Polyvinylharze (z. B. Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvi nylacetale usw.), Celluloseesterbasen (z. B. Cellulosetriacetat, Celluloseacetat) und andere herkömmliche Polymerfilme, die als Träger in verschiedenen Abbildungstechniken verwendet werden. Bevorzugt ist transparente Polymerfilmbasis mit 2 bis 100 Milli-Inch (d. h. 0,05 bis 2,54 mm).
  • Für Glassubstrate beträgt eine typische Dicke 0,2 bis 2,0 mm. Oft ist erwünscht, Glassubstrate zu verwenden, die höchstens 1,0 mm dick oder sogar höchstens 0,7 mm dick sind. Dünnere Substrate ergeben dünnere und leichtere Anzeigen. Bestimmte Verarbeitungs-, Handhabungs- und Montagebedingungen können aber darauf verweisen, dickere Substrate zu verwenden. Zum Beispiel können einige Montagebedingungen ein Zusammendrücken der Anzeigeanordnung erfordern, um die Positionen von Abstandshaltern zu fixieren, die zwischen den Substraten angeordnet sind. Die widersprüchlichen Aspekte dünner Substrate für leichtere Anzeige und dicker Substrate zur zuverlässigen Handhabung und Verarbeitung lassen sich ausgleichen, um einen bevorzugten Aufbau für spezielle Anzeigemaße zu erreichen.
  • Ist das Substrat ein Polymerfilm, so ist bevorzugt, daß der Film nicht doppelbrechend ist, um Störungen des Betriebs der Anzeige im wesentlichen zu verhindern, in die er zu integrieren ist. Exemplarische nicht doppelbrechende Substrate sind Polyester, die lösungsmittelgegossen sind. Typische Beispiele dafür sind jene die von Polymeren abgeleitet sind, die aus sich wiederholenden, mischpolymerisierten Einheiten bestehen oder im wesentlichen bestehen, die von 9,9-bis-(4-Hydroxyphenyl)-fluoren und Isophthalsäure, Terephthalsäure und deren Mischungen abgeleitet sind, wobei das Polymer einen ausreichend geringen Oligomergehalt (d. h. chemische Spezies mit Molekulargewichten von höchstens 8000) hat, um die Bildung eines gleichmäßigen Films zu ermöglichen. Dieses Polymer wurde als eine Komponente in einem Thermotransfer-Aufnahmeelement in der US-A-5318938 offenbart. Eine weitere Klasse nicht doppelbrechender Substrate sind amorphe Polyolefine (z. B. die unter der Handelsbezeichnung ZeonexTM von Nippon Zeon Co., Ltd. vertriebenen).
  • Betrieb
  • Während der Abbildung wird das Thermotransferelement normalerweise in innigen Kontakt mit einem Rezeptor gebracht. In zumindest einigen Fällen dienen Druck oder Vakuum dazu, das Thermotransferelement in innigem Kontakt mit dem Rezeptor zu halten. Danach dient eine Strahlungsquelle zum Erwärmen der LWU-Schicht (und/oder einer oder mehrerer Schichten, die Strahlungsabsorber enthalten) auf bildweise Art (z. B. digital oder durch analoge Belichtung über eine Maske), um den bildweisen Transfer der Transferschicht vom Thermotransferelement zum Rezeptor gemäß einem Muster durchzuführen.
  • Normalerweise wird bei Verwendung einer LWU-Schicht das Licht durch das Donatorsubstrat gerichtet, um die LWU-Schicht zu erwärmen. In manchen Fällen wird aber keine LWU-Schicht verwendet, und das Licht wird durch das Rezeptorsubstrat gerichtet, um die Schwarzmatrix-Transferschicht zu erwärmen, die Kohleschwarz und/oder einen weiteren Strahlungsabsorber aufweist. Dies kann zu verbesserter Oberseiten- und/oder Seitenrauheit führen. Außerdem erfordert das Thermotransferelement weniger Schichten, da keine gesonderte LWU-Schicht zum Einsatz kommt. Weiterhin kann die Lichtenergiemenge (d. h. Wärme), die zum Transfer nötig ist, kleiner als für Thermotransferelemente mit einer LWU-Schicht sein.
  • Alternativ kann ein Heizelement, z. B. ein Widerstandsheizelement, verwendet werden, um die Mehrkomponententransfereinheit zu transferieren. Das Thermotransferelement wird mit dem Heizelement selektiv in Kontakt gebracht, um den Thermotransfer eines Abschnitts der Transferschicht in einem Muster zu bewirken. In einer weiteren Ausführungsform kann das Thermotransferelement eine Schicht aufweisen, die einen an der Schicht angelegten elektrischen Strom in Wärme umwandelt.
  • Normalerweise wird die Transferschicht auf den Rezeptor transferiert, ohne daß eine der anderen Schichten des Thermotransferelements transferiert wird, z. B. die optionale Zwischenschicht und die LWU-Schicht. Das Vorhandensein der optionalen Zwischenschicht kann den Transfer der LWU-Schicht auf den Rezeptor ausschließen oder reduzieren und/oder Verzerrungen im transferierten Abschnitt der Transferschicht reduzie ren. Vorzugsweise ist unter Abbildungsbedingungen die Haftung der Zwischenschicht an der LWU-Schicht größer als die Haftung der Zwischenschicht an der Transferschicht. In einigen Fällen kann eine reflektierende Zwischenschicht verwendet werden, um den Pegel von Abbildungsstrahlung zu dämpfen, die durch die Zwischenschicht durchgelassen wird, und etwaige Schäden am transferierten Abschnitt der Transferschicht zu reduzieren, die sich aus der Wechselwirkung der durchgelassenen Strahlung mit der Transferschicht und/oder dem Rezeptor ergeben können. Besonders nützlich ist dies beim Reduzieren von Wärmeschäden, die auftreten können, wenn der Rezeptor für die Abbildungsstrahlung stark absorbierend ist.
  • Während der Laserbelichtung kann es erwünscht sein, die Bildung von Interferenzmustern infolge von Mehrfachreflexionen vom abgebildeten Material zu minimieren. Erreichen läßt sich dies durch verschiedene Verfahren. Das am weitesten verbreitete Verfahren besteht darin, die Oberfläche des Thermotransferelements im Maßstab der einfallenden Strahlung effektiv aufzurauhen, was in der US-A-5089372 beschrieben ist. Dies hat den Effekt einer Störung der räumlichen Kohärenz der einfallenden Strahlung, was Eigeninterferenz minimiert. Ein alternatives Verfahren ist der Gebrauch einer Antireflexionsbeschichtung innerhalb des Thermotransferelements. Die Verwendung von Antireflexionsbeschichtungen ist bekannt und kann aus Viertelwellendicken einer Beschichtung, z. B. Magnesiumfluorid, gemäß der US-A-5171650 bestehen.
  • Zum Einsatz können große Thermotransferelemente kommen, u. a. Thermotransferelemente, die Längen- und Breitenmaße von einem Meter oder mehr haben. Im Betrieb kann ein Laser rasterartig oder anderweitig über das große Thermotransferelement bewegt werden, wobei der Laser selektiv betrieben wird, um Abschnitte des Thermotransferelements gemäß einem erwünschten Muster zu beleuchten. Alternativ kann der Laser feststehend sein und das Thermotransferelement und/oder Rezeptorsubstrat unter dem Laser bewegt werden.
  • In einigen Fällen kann es notwendig, erwünscht und/oder zweckmäßig sein, zwei oder mehr unterschiedliche Thermotransferelemente nacheinander zu verwenden, um eine Vorrichtung herzustellen, z. B. eine optische Anzeige. Zum Beispiel kann eine Schwarzmatrix gebildet werden, gefolgt vom Thermotransfer eines Farbfilters in den Fenstern der Schwarzmatrix. Als weiteres Beispiel kann eine Schwarzmatrix gebildet werden, gefolgt vom Thermotransfer einer oder mehrerer Schichten eines Dünnfilmtransistors. Vielfältige andere Kombinationen aus zwei oder mehr Thermotransferelementen können zur Bildung einer Vorrichtung verwendet werden, wobei jedes Thermotransferelement einen oder mehrere Abschnitte der Vorrichtung bildet. Verständlich ist, daß die Schwarzmatrix thermotransferiert werden kann, bevor und/oder nachdem andere Komponenten der Vorrichtung auf dem Substrat angeordnet werden. Außerdem ist verständlich, daß einige, alle oder keine dieser anderen Komponenten durch Thermotransfer gebildet werden können.
  • Beispiele
  • Sofern nicht anders angegeben, wurden Chemikalien von Aldrich Chemical Company (Milwaukee, WI) erhalten. Das Lasertransfersystem verfügte über einen kontinuierlichen Nd:YAG-Laser, einen akusto-optischen Modulator, eine Kollimationsund Strahlaufweitungsoptik, einen optischen Isolator, ein Lineargalvanometer und eine f-Theta-Abtastlinse. Der Nd:YAG-Laser arbeitete im TEM-00-Modus und erzeugte eine Gesamtleistung von 7,5 Watt. Das Abtasten wurde mit einem Präzisions-Lineargalvanometer erreicht (Cambridge Technology Inc., Cambridge, MA). Der Laser wurde auf einen Gauß-Punkt mit einem gemessenen Durchmesser von 140 μm beim 1/e2-Stärkepegel fokussiert. Unter Nutzung einer f-Theta-Abtastlinse wurde der Punkt über die Abtastbreite konstant gehalten. Der Laserpunkt wurde mit einer Geschwindigkeit von 5,6 Metern pro Sekunde über die Bildoberfläche geführt. Die f-Theta-Abtastlinse hielt die Abtastgeschwindigkeit bis auf 0,1% gleichmäßig und die Punktgröße konstant innerhalb von ±3 μm (Mikrometer).
  • Beispiel 1
  • Herstellung eines Elements aus Substrat/LWU-Schicht/Zwischenschicht
  • Es erfolgte die Herstellung einer Kohleschwarz-LWU-Schicht durch Bilden einer LWU-Beschichtung gemäß Tabelle 1, aufgelöst in einem Lösungsmittel, das 70 Gew.-% Propylengly colmethyletheracetat und 30 Gew.-% Methylethylketon enthielt. Diese Lösung wurde auf ein 0,1 mm dickes PET-Substrat mit einer Beschichtungsmaschine Yasui Seiki Lab Coater, Modell CAG-150 (Yasui Seiki Co., Bloomington, IN) aufgetragen, wobei eine Mikrogravurwalze mit 318 Spiralzellen je laufendem Zentimeter (150 Spiralzellen je laufendem Inch) verwendet wurde.
  • Tabelle 1 LWU-Beschichtung
    Figure 00270001
  • Die Beschichtung wurde in der Fertigungslinie bei 40°C getrocknet und mit 6,1 m/min UV-gehärtet, wobei ein UV-Härtungssystem Fusion Systems Modell I600 (400 W/Inch) verwendet wurde, das mit H-Lampen ausgestattet war. Die getrocknete Beschichtung hatte eine Dicke von 3 μm. Die resultierende LWU-Schicht hatte eine optische Dichte von 1,8.
  • Auf die Kohleschwarzbeschichtung der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht wurde mittels Tiefdruck eine Zwischenschicht-Beschichtungslösung gemäß Tabelle 2 aufgetragen, wobei die Beschichtungsmaschine Yasui Seiki Lab Coater, Modell CAG-150 (Yasui Seiki Co., Bloomington, IN) verwendet wurde. Diese Beschichtung wurde in der Fertigungslinie getrocknet (40°C) und mit 6,1 m/min UV-gehärtet, wobei ein Gerät Fusion Systems Modell I600 (600 W/Inch) verwendet wurde, das mit H-Lampen ausgestattet war. Die Dicke der resultierenden Zwischenschichtbeschichtung betrug 1,7 μm (Mikrometer).
  • Tabelle 2 Beschichtungslösung der Zwischenschicht
    Figure 00280001
  • Beispiel 2
  • Bildung des Schwarzmatrix-Transferelements
  • Hergestellt wurde eine Schwarzmatrix-Thermotransferelementbeschichtung durch in einem Lösungsmittel aus 28 Gew.-% Propylenglycolmethyletheracetat und 82 Gew.-% Methylethylketon erfolgendes Kombinieren von Feststoffen mit 30 Gew.-% GCryl 6005 (Acrylharz von Henkel Corp, Cincinnati, OH), 18,8 Gew.-% Epon SU-8 (Epoxidharz von Shell Chemical Co., Houston, TX), 45 Gew.-% Mogul L (Kohleschwarz von Cabot Corp., Tuscola, IL) und 6,2 Gew.-% Disperbyk 182 (Byk Chemie, Wallingford, CT). Das Kohleschwarz, DysperbykTM, GCrylTM und Propylenglycolmethyletheracetat wurden zunächst 90 Minuten in einer Eiger-Mühle gemischt, wonach der Rest der Materialien zugegeben wurde.
  • Die Schwarzmatrix-Thermotransferelementbeschichtung wurde in einer Dicke von 0,94 μm auf die Zwischenschicht des Elements aus Substrat/LWU-Schicht/Zwischenschicht von Beispiel 1 mit einer Beschichtungsmaschine Yasui Seiki Lab Coater, Modell CAG-150 (Yasui Seiki Co., Bloomington, IN) aufgetragen. Die optische Dichte der Schwarzmatrix-Thermotransferelementbeschichtung betrug 3,2.
  • Beispiele 3 bis 8
  • Bildung von Schwarzmatrixschichten
  • Sechs Schwarzmatrix-Thermotransferelemente wurden gemäß den Beispielen 1 und 2 hergestellt, aber mit unterschiedlichen Mengen von Kohleschwarz in der Schwarzmatrix-Transferschicht und unterschiedlichen Dicken der Schwarzmatrix-Transferschicht gemäß Tabelle 3. Zum Beispiel wurde das Verhältnis von Dispergiermittel (d. h. DisperbykTM 182) zu Kohleschwarz konstant gehalten, und die Menge der beiden Harze wurde mit steigender Kohleschwarzmenge proportional verringert. Jede Schwarzmatrix-Transferschicht hatte eine optische Dichte von 3,2. In jedem Fall wurde eine Schwarzmatrix auf einen Glasrezeptor mit einer linearen Abtastgeschwindigkeit von 5,3 m/s abgebildet. Das Ergebnis war ein gleichmäßiger Transfer der Schwarzmatrix-Transferschicht als 100 μm (Mikrometer) breite Linien mit ausgezeichneter Kantengleichmäßigkeit und einer flachen Oberseite. Unter Verwendung eines Lasers mit einer kleineren Punktgröße wurden außerdem Linien hergestellt, die 15 bis 20 μm (Mikrometer) breit waren. Der spezifische Volumenwiderstand jeder der Schichten ist in Tabelle 3 in der Messung nach ASTM D257 aufgeführt.
  • Tabelle 3 Zusammensetzung und Ergebnisse mit Schwarzmatrix-Transferelementen
    Figure 00290001

Claims (17)

  1. Optische Anzeige mit: einem Substrat; mehreren Pixelelementen, die auf dem Substrat angeordnet sind, wobei jedes Pixelelement ein elektrisch leitendes Element aufweist, um das Pixelelement zu betreiben; und einer thermotransferierten, Ruß enthaltenden schwarzen Matrix, die zwischen den Pixelelementen und in Kontakt mit elektrisch leitenden Elementen mindestens zweier Pixelelemente angeordnet ist, wobei die thermotransferierte, Ruß enthaltende schwarze Matrix eine optische Dichte von mindestens 3 für Weißlicht, eine Dicke von höchstens 1,5 μm und einen mittleren Widerstand von mindestens 1 × 1010 Ohm-cm hat.
  2. Verfahren zur Bildung einer Anzeigevorrichtung mit mehreren Pixelelementen, wobei jedes Pixelelement ein elektrisch leitendes Element aufweist, um das Pixelelement zu betreiben, mit den folgenden Schritten: Bildung einer Licht-Wärme-Umwandlungsschicht über einem Donatorsubstrat; Bildung einer Ruß enthaltenden schwarzen Matrix-Transferschicht über der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht; In-Kontakt-bringen eines Substrats der Anzeigevorrichtung mit der Ruß enthaltenden schwarzen Matrix-Transferschicht; gemäß einem Muster erfolgendes selektives Bestrahlen der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht mit Licht, das mindestens eine Wellenlänge hat, die die Licht-Wärme-Umwandlungsschicht in Wärmeenergie umwandeln kann; gemäß dem Muster erfolgendes Thermotransferieren eines Abschnitts der schwarzen Matrix-Transferschicht auf das Substrat der Anzeigevorrichtung, um eine Ruß enthaltende schwarze Matrix zu bilden, die mehrere Pixelelemente definiert, wobei die Ruß enthaltende schwarze Matrix eine optische Dichte von mindestens 3 für Weißlicht, eine Dicke von höchstens 1,5 μm und einen mittleren Widerstand von mindestens 1 × 1010 Ohm-cm hat; und für jedes Pixelelement erfolgendes Bilden eines elektrisch leitenden Elements auf dem Substrat der Anzeigevorrichtung, wobei die Ruß enthaltende schwarze Matrix benachbarte elektrisch leitende Elemente trennt und kontaktiert.
  3. Thermotransferelement zum Transferieren eines schwarzen Matrixmusters auf einen Rezeptor mit: einem Substrat; einer Licht-Wärme-Umwandlungsschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist; und einer Transferschicht, die Ruß aufweist und eine optische Dichte von mindestens 3 für Weißlicht und eine Dicke von höchstens 1,5 μm hat, wobei das Thermotransferelement so konfiguriert und angeordnet ist, daß es beim Transfer eines Abschnitts der Transferschicht auf einen Rezeptor ein schwarzes Matrixmuster mit einem mittleren Widerstand von mindestens 1 × 1010 Ohm-cm bildet.
  4. Optische Anzeige nach Anspruch 1 oder Verfahren nach Anspruch 2, wobei die schwarze Matrix 40 bis 55 Gew.-% Ruß aufweist.
  5. Optische Anzeige nach Anspruch 1 oder Verfahren nach Anspruch 2, wobei die schwarze Matrix einen mittleren Widerstand von mindestens 1 × 1013 Ohm-cm hat.
  6. Optische Anzeige nach Anspruch 1 oder Verfahren nach Anspruch 2, wobei das elektrisch leitende Element jedes Pixels einen Transistor aufweist.
  7. Optische Anzeige nach Anspruch 1, wobei jedes Pixelelement ferner ein Farbfilter aufweist und wobei die optische Anzeige ferner eine zweite schwarze Matrix aufweist, die benachbarte Farbfilter trennt.
  8. Optische Anzeige nach Anspruch 1, wobei die schwarze Matrix durch selektiven Thermotransfer mindestens eines Abschnitts einer schwarzen Matrix-Transferschicht gebildet ist, die auf einem Thermotransferelement angeordnet ist.
  9. Optische Anzeige nach Anspruch 1 oder Verfahren nach Anspruch 2, wobei die schwarze Matrix eine Dicke von höchstens 1,1 μm hat.
  10. Thermotransferelement nach Anspruch 3, wobei die Transferschicht 40 bis 55 Gew.-% Ruß aufweist.
  11. Thermotransferelement nach Anspruch 3, ferner mit einer Farbänderungsbeschichtung, die auf einer Oberfläche des Substrats entgegengesetzt zur Licht-Wärme-Umwandlungsschicht angeordnet ist, wobei die Farbänderungsbeschichtung die Farbe bei Einwirkung von Wärme ändert.
  12. Thermotransferelement nach Anspruch 3, ferner mit einer Farbänderungsbeschichtung, die zwischen der Licht-Wärme-Umwandlungsschicht und dem Substrat angeordnet ist, wobei die Farbänderungsbeschichtung die Farbe bei Einwirkung von Wärme ändert.
  13. Thermotransferelement nach Anspruch 3, wobei beim Transfer auf einen Rezeptor die Transferschicht so konfiguriert und angeordnet ist, daß sie eine schwarze Matrix mit einem mittleren Widerstand von mindestens 1 × 1013 Ohm-cm bildet.
  14. Thermotransferelement nach Anspruch 3, wobei die Transferschicht eine Dicke von höchstens 1,1 μm hat.
  15. Thermotransferelement nach Anspruch 3, wobei die Transferschicht höchstens 47 Gew.-% Ruß aufweist.
  16. Verfahren nach Anspruch 2, wobei der Schritt des Bildens mehrerer elektrisch leitender Elemente folgenden Schritt aufweist: Bilden mehrerer elektrisch leitender Elemente auf dem optischen Anzeigesubstrat nach Thermotransferieren eines Abschnitts der schwarzen Matrix-Transferschicht auf das optische Anzeigesubstrat.
  17. Optische Anzeige nach Anspruch 1 oder Verfahren nach Anspruch 2, wobei die schwarze Matrix höchstens 47 Gew.-% Ruß aufweist.
DE69914956T 1999-05-14 1999-10-04 Thermotransfer einer russ enthaltenden schwarzen matrix Expired - Fee Related DE69914956T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/312,421 US6461775B1 (en) 1999-05-14 1999-05-14 Thermal transfer of a black matrix containing carbon black
US312421 1999-05-14
PCT/US1999/022872 WO2000069649A1 (en) 1999-05-14 1999-10-04 Thermal transfer of a black matrix containing carbon black

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69914956D1 DE69914956D1 (de) 2004-03-25
DE69914956T2 true DE69914956T2 (de) 2004-12-16

Family

ID=23211361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69914956T Expired - Fee Related DE69914956T2 (de) 1999-05-14 1999-10-04 Thermotransfer einer russ enthaltenden schwarzen matrix

Country Status (8)

Country Link
US (3) US6461775B1 (de)
EP (1) EP1189760B1 (de)
JP (1) JP2003502685A (de)
KR (1) KR100674051B1 (de)
CN (1) CN1154869C (de)
AU (1) AU1099200A (de)
DE (1) DE69914956T2 (de)
WO (1) WO2000069649A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7932972B2 (en) 2006-10-02 2011-04-26 Lg Display Co., Ltd. Substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4614400B2 (ja) * 2000-01-17 2011-01-19 日東電工株式会社 有機el発光装置、偏光面光源装置及び液晶表示装置
GB0016660D0 (en) * 2000-07-06 2000-08-23 Cambridge Display Tech Ltd Method of producing an organic light-emitting device
KR100586241B1 (ko) 2000-10-28 2006-06-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이기판 및 제조방법
US8479189B2 (en) 2000-11-17 2013-07-02 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pattern detection preprocessor in an electronic device update generation system
US7409685B2 (en) 2002-04-12 2008-08-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Initialization and update of software and/or firmware in electronic devices
US6683665B1 (en) * 2000-11-20 2004-01-27 Sarnoff Corporation Tiled electronic display structure and method for modular repair thereof
JP2002289357A (ja) * 2001-03-28 2002-10-04 Pioneer Electronic Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
GB2383178B (en) * 2001-06-21 2005-07-27 Esm Ltd Opaque shielding element for liquid crystal display
NO314965B1 (no) * 2001-11-14 2003-06-16 Polydisplay Asa Display med mikrolommer
US6923701B2 (en) 2001-11-14 2005-08-02 Polydisplay Asa Display with micro pockets
US20050012840A1 (en) * 2002-08-27 2005-01-20 Tzu-Chiang Hsieh Camera with MOS or CMOS sensor array
JP2003295169A (ja) * 2002-04-05 2003-10-15 Dainippon Printing Co Ltd 液晶表示装置
US20040004433A1 (en) 2002-06-26 2004-01-08 3M Innovative Properties Company Buffer layers for organic electroluminescent devices and methods of manufacture and use
KR100478524B1 (ko) * 2002-06-28 2005-03-28 삼성에스디아이 주식회사 고분자 및 저분자 발광 재료의 혼합물을 발광 재료로사용하는 유기 전계 발광 소자
US7367027B1 (en) * 2002-08-22 2008-04-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System for generating efficient and compact update packages
JP4647241B2 (ja) * 2003-08-04 2011-03-09 シャープ株式会社 光記録媒体原盤の製造方法、光記録媒体スタンパの製造方法、及び光記録媒体の製造方法
JP2005064143A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Seiko Epson Corp レジストパターンの形成方法、配線パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器
US8555273B1 (en) 2003-09-17 2013-10-08 Palm. Inc. Network for updating electronic devices
KR20050041010A (ko) * 2003-10-29 2005-05-04 삼성전자주식회사 박막 다이오드 표시판 및 그 제조 방법
CN1898996A (zh) * 2003-11-18 2007-01-17 3M创新有限公司 一种制造具有滤色器的电致发光器件的方法
CN1898993A (zh) * 2003-11-18 2007-01-17 3M创新有限公司 电致发光器件以及制造具有色彩转换元件的电致发光器件的方法
JP4402440B2 (ja) * 2003-12-03 2010-01-20 大日本印刷株式会社 カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
KR100617038B1 (ko) * 2003-12-29 2006-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치
US7904895B1 (en) 2004-04-21 2011-03-08 Hewlett-Packard Develpment Company, L.P. Firmware update in electronic devices employing update agent in a flash memory card
US7317577B2 (en) * 2004-05-14 2008-01-08 Eastman Kodak Company Methods for producing a black matrix on a lenticular lens
US8526940B1 (en) 2004-08-17 2013-09-03 Palm, Inc. Centralized rules repository for smart phone customer care
US7259106B2 (en) * 2004-09-10 2007-08-21 Versatilis Llc Method of making a microelectronic and/or optoelectronic circuitry sheet
US20060066803A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Aylward Peter T Substrate free flexible liquid crystal displays
US8569948B2 (en) 2004-12-28 2013-10-29 Samsung Display Co., Ltd. Electroluminescent devices and methods of making electroluminescent devices including an optical spacer
KR101106558B1 (ko) * 2004-12-28 2012-01-19 엘지디스플레이 주식회사 블랙매트릭스와 이를 포함하는 액정표시장치
US20060159843A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Applied Materials, Inc. Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems
TWI243460B (en) * 2005-02-16 2005-11-11 Ind Tech Res Inst Organic semiconductor device with multi-protective layers and the making method
KR100707036B1 (ko) * 2005-10-06 2007-04-12 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치의 제조방법
JP4977391B2 (ja) * 2006-03-27 2012-07-18 日本電気株式会社 レーザ切断方法、表示装置の製造方法、および表示装置
EP2025095A2 (de) 2006-06-08 2009-02-18 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Geräteverwaltung in einem netzwerk
EP2047420A4 (de) 2006-07-27 2009-11-18 Hewlett Packard Development Co Benutzererfahrungs- und abhängigkeitsverwaltung bei einer mobilen vorrichtung
US7670450B2 (en) * 2006-07-31 2010-03-02 3M Innovative Properties Company Patterning and treatment methods for organic light emitting diode devices
JP5139660B2 (ja) * 2006-10-12 2013-02-06 リンテック株式会社 透視性を有する発光シート、発光性装飾材及び発光シートの製造方法
US20080233291A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Chandrasekaran Casey K Method for depositing an inorganic layer to a thermal transfer layer
BRPI0810844B1 (pt) * 2007-04-24 2017-12-12 Cabot Corporation Black matrix and cured coating composition
CN101393344B (zh) * 2007-09-21 2010-10-06 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示面板
KR20090060624A (ko) * 2007-12-10 2009-06-15 삼성전자주식회사 표시 기판 및 표시 장치
US8174548B2 (en) * 2007-12-25 2012-05-08 Seiko Epson Corporation Exposure head and an image forming apparatus
US8219595B2 (en) * 2008-02-14 2012-07-10 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method for efficient remote data access for server management
GB2460457A (en) * 2008-05-30 2009-12-02 Barco Nv Optical light valve device or spatial light modulator
CN103189211B (zh) * 2010-12-27 2017-02-15 第一毛织株式会社 热转印膜
US8822375B2 (en) * 2011-06-24 2014-09-02 The Procter & Gamble Company Method for activating colorant associated with an article
US8941332B2 (en) * 2012-04-11 2015-01-27 Eminvent LLC Systems and apparatuses including alterable characteristics and methods of altering and coordinating such characteristics
EP2687380A3 (de) * 2012-07-20 2017-10-11 Cheil Industries Inc. Wärmetransferfolie und organische elektrolumineszente Vorrichtung
CN103293749A (zh) * 2012-09-26 2013-09-11 上海天马微电子有限公司 内嵌式液晶触控屏的彩膜基板及内嵌式液晶触控屏
CN102935761B (zh) * 2012-11-21 2015-03-11 苏州奥然日用品有限公司 一种自定义印花装置
CN103197445B (zh) * 2013-03-27 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示器和电子设备
CN105655369A (zh) * 2014-08-28 2016-06-08 汤宝林 串行热转印电致发光显示器
CN104570445A (zh) * 2015-01-14 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4252671A (en) 1979-12-04 1981-02-24 Xerox Corporation Preparation of colloidal iron dispersions by the polymer-catalyzed decomposition of iron carbonyl and iron organocarbonyl compounds
GB2170016B (en) 1984-12-19 1989-04-05 Plessey Co Plc Improvements in or relating to modulators
JPS61290096A (ja) * 1985-06-18 1986-12-20 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 熱転写画像記録方法及びそれに使用する記録材料
CA1268808A (en) 1985-07-23 1990-05-08 Alan G. Macdiarmid High capacity polyaniline electrodes
DE3781067T2 (de) 1986-09-01 1993-01-21 Tomoegawa Paper Mfg Co Ltd Uebertragungsaufzeichnungsmittel und ihre verwendung fuer uebertragungsaufzeichnungsverfahren.
US4833124A (en) 1987-12-04 1989-05-23 Eastman Kodak Company Process for increasing the density of images obtained by thermal dye transfer
EP0321923B1 (de) 1987-12-21 1992-07-15 EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) Infrarot absorbierende Cyaninfarbstoffe für Farbstoff-Donorelemente zur Verwendung bei de laserinduzierten thermischen Farbstoffübertragung
GB8824366D0 (en) 1988-10-18 1988-11-23 Kodak Ltd Method of making colour filter array
JPH0792574B2 (ja) * 1988-12-21 1995-10-09 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 液晶表示装置およびその製造方法
US5256506A (en) 1990-10-04 1993-10-26 Graphics Technology International Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5171650A (en) 1990-10-04 1992-12-15 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5156938A (en) 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5318938A (en) 1989-05-05 1994-06-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermographic elements
GB8912488D0 (en) 1989-05-31 1989-07-19 Kodak Ltd Method of making opaque grid lines for thermally-transferred colour filter array element
US4950639A (en) 1989-06-16 1990-08-21 Eastman Kodak Company Infrared absorbing bis(aminoaryl)polymethine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4942141A (en) 1989-06-16 1990-07-17 Eastman Kodak Company Infrared absorbing squarylium dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4948776A (en) 1989-06-16 1990-08-14 Eastman Kodak Company Infrared absorbing chalcogenopyrylo-arylidene dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4948778A (en) 1989-06-20 1990-08-14 Eastman Kodak Company Infrared absorbing oxyindolizine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4952552A (en) 1989-06-20 1990-08-28 Eastman Kodak Company Infrared absorbing quinoid dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4912083A (en) 1989-06-20 1990-03-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing ferrous complexes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US5023229A (en) 1990-10-31 1991-06-11 Eastman Kodak Company Mixture of dyes for magenta dye donor for thermal color proofing
US5024990A (en) 1990-10-31 1991-06-18 Eastman Kodak Company Mixture of dyes for cyan dye donor for thermal color proofing
US5166024A (en) 1990-12-21 1992-11-24 Eastman Kodak Company Photoelectrographic imaging with near-infrared sensitizing pigments
US5401607A (en) 1991-04-17 1995-03-28 Polaroid Corporation Processes and compositions for photogeneration of acid
JPH04324683A (ja) 1991-04-25 1992-11-13 Fujitsu Ltd 薄膜トランジスタ及びその製造方法
US5229232A (en) 1991-08-05 1993-07-20 Eastman Kodak Company Method of making thermally-transferred color filter arrays with incorporated black matrix using electronic light flash
DE69218785T2 (de) 1991-10-11 1997-10-09 Minnesota Mining & Mfg Dünne bildübertragungsschicht
EP0568993B1 (de) 1992-05-06 1998-08-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
US5286604A (en) 1992-11-25 1994-02-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Single layer dry processible photothermal-sensitive element
US5308737A (en) 1993-03-18 1994-05-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Laser propulsion transfer using black metal coated substrates
US5372915A (en) 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
US5360694A (en) 1993-10-18 1994-11-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal dye transfer
JP3232866B2 (ja) 1994-04-06 2001-11-26 株式会社日立製作所 カラー液晶表示装置の製造方法
US5521035A (en) 1994-07-11 1996-05-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Methods for preparing color filter elements using laser induced transfer of colorants with associated liquid crystal display device
US6057067A (en) 1994-07-11 2000-05-02 3M Innovative Properties Company Method for preparing integral black matrix/color filter elements
US5863860A (en) 1995-01-26 1999-01-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer imaging
EP0732221B1 (de) 1995-03-16 1999-01-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Schwarz-Metall wärmebildbare Transparenz-Elemente
JPH09101544A (ja) 1995-10-06 1997-04-15 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置
WO1997015173A1 (en) 1995-10-17 1997-04-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for radiation-induced thermal transfer of resist for flexible printed circuitry
KR970028695A (ko) * 1995-11-02 1997-06-24 김광호 액정 표시 장치의 칼라 필터 및 그 제조 방법
US5645963A (en) 1995-11-20 1997-07-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for making color filter elements using laminable colored photosensitive materials
DE69700632T2 (de) 1996-02-15 2000-05-31 Minnesota Mining & Mfg Laserinduziertes Aufzeichnungsverfahren mit thermischer Übertragung durch Wärme
US5695907A (en) 1996-03-14 1997-12-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Laser addressable thermal transfer imaging element and method
US5725989A (en) 1996-04-15 1998-03-10 Chang; Jeffrey C. Laser addressable thermal transfer imaging element with an interlayer
US5710097A (en) 1996-06-27 1998-01-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process and materials for imagewise placement of uniform spacers in flat panel displays
US6013409A (en) 1996-09-10 2000-01-11 3M Innovative Properties Company Dry peel-apart imaging process
US6143451A (en) * 1996-11-26 2000-11-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer
JP3869517B2 (ja) 1997-03-14 2007-01-17 三菱化学株式会社 ブラックマトリクス用レジスト組成物およびそれを用いてなるブラックマトリクス
KR100271487B1 (ko) * 1997-05-23 2000-11-15 김순택 칼라필터용 도너필름
EP1017570B1 (de) 1997-09-02 2004-08-25 Kodak Polychrome Graphics LLC Laseradressierbare schwarze thermische übertragungsdonorelemente
US6221543B1 (en) 1999-05-14 2001-04-24 3M Innovatives Properties Process for making active substrates for color displays

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7932972B2 (en) 2006-10-02 2011-04-26 Lg Display Co., Ltd. Substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
US8120745B2 (en) 2006-10-02 2012-02-21 Lg Display Co., Ltd. Substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
DE102007023223A8 (de) * 2006-10-02 2015-07-30 Lg Display Co., Ltd. Flüssigkristalldisplay, Substrat für ein solches sowie Verfahren zum Herstellen des Substrats
DE102007023223B4 (de) * 2006-10-02 2016-08-18 Lg Display Co., Ltd. Flüssigkristalldisplay, Substrat für ein solches sowie Verfahren zum Herstellen des Substrats

Also Published As

Publication number Publication date
US6783915B2 (en) 2004-08-31
WO2000069649A1 (en) 2000-11-23
DE69914956D1 (de) 2004-03-25
EP1189760B1 (de) 2004-02-18
KR20020052144A (ko) 2002-07-02
US6461775B1 (en) 2002-10-08
EP1189760A1 (de) 2002-03-27
US20030003389A1 (en) 2003-01-02
CN1359337A (zh) 2002-07-17
AU1099200A (en) 2000-12-05
US6617093B2 (en) 2003-09-09
JP2003502685A (ja) 2003-01-21
CN1154869C (zh) 2004-06-23
KR100674051B1 (ko) 2007-01-25
US20040095457A1 (en) 2004-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69914956T2 (de) Thermotransfer einer russ enthaltenden schwarzen matrix
DE60006291T2 (de) Thermisches massenübertragungselement mit licht-wärme-umwandlungsschicht
DE60004688T2 (de) Thermisches übertragungselement, das einen weichmacher in einer übertragungsschicht enthält , und ein thermisches übertragungsverfahren
DE60011146T2 (de) Thermische übertragung von vernetzten materialien
DE69722396T2 (de) Mit einem laser ansprechbares thermisches übertragungselement zur bildaufzeichnung mit einer zwischenschicht
EP2050150B1 (de) Verfahren zur herstellung mindestens eines mehrschichtkörpers sowie mehrschichtkörper
DE69530393T2 (de) Verfahren zur herstellung von farbfilterelementen mit laserinduzierter übertragung von farbstoffen
DE60005059T2 (de) Thermische übertragung von mikrostrukturierten schichten
EP1851066B1 (de) Herstellverfahren eines mehrschichtkörpers
DE602004011257T2 (de) Elektrolumineszenzbauelemente und verfahren zur herstellung von elektrolumineszenzbauelementen mit einem farbwandlungselement
DE69333000T2 (de) Herstellungverfahren einer Flüssigkristallanzeige
DE60121197T2 (de) Verwendung von elektronisch aktiven grundierschichten zum thermischen herstellen von mustern auf materialien
DE102018123473A1 (de) Dekorfolie, Transferfolie, Verwendung einer Transferfolie, Verfahren zur Herstellung einer Transferfolie, Verfahren zum Dekorieren eines Kunststoffformteils sowie Kunststoffformteil
DE3248804C2 (de) Zusammensetzung f}r Laserstrahlschreib-/Leseeinrichtungen
DE60207452T2 (de) Displayfolie mit einer leitenden verbundschicht und einer schicht aus polymerdispergierten flüssigkeitskristallen
CH700471A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektro-optischen Leiterplatte mit Lichtwellenleiterstrukturen.
JP4739737B2 (ja) 熱画像形成プロセスおよびそれにより作製される製品
EP3823839A1 (de) Sicherheitselement mit linsenrasterbild
DE3002911C2 (de) Optisches Informationsspeichermedium und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19951276A1 (de) Laser-thermisches Medium mit verbessertem Abrieb-Widerstand
DE69724484T2 (de) Verfahren zur Herstellung von schwarzen Trennlinien für eine Farbfilteranordnung
DE60110459T2 (de) Trägerschicht eines donorelements zur einstellung des brennpunktes eines bilderzeugungslasers
DE60109050T2 (de) Farbstoffempfangsblatt für wärmeempfindliche übertragungsaufzeichnung
KR101121800B1 (ko) 수용체 요소상에 컬러 필터 요소를 제조하는 방법
DE102021109967A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers, Mehrschichtkörper, Verwendung eines Mehrschichtkörpers, Verwendung einer ersten Schicht aus einem ersten Metall und einer zweiten Schicht aus einem zweiten Metall in einem Mehrschichtkörper sowie Verwendung einer Wärmebeaufschlagungsvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee