EP1825516A2 - Gatter aus organischen feldeffekttransistoren - Google Patents

Gatter aus organischen feldeffekttransistoren

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EP1825516A2
EP1825516A2 EP05850139A EP05850139A EP1825516A2 EP 1825516 A2 EP1825516 A2 EP 1825516A2 EP 05850139 A EP05850139 A EP 05850139A EP 05850139 A EP05850139 A EP 05850139A EP 1825516 A2 EP1825516 A2 EP 1825516A2
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EP
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EP05850139A
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Robert Blache
Walter Fix
Jürgen FICKER
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PolyIC GmbH and Co KG
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PolyIC GmbH and Co KG
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Abstract

Es wird ein Elektronikbauteil, insbesondere RFID-Transponder, mit mindestens einem Logik-Gatter (3) beschrieben, bei dem das Logik-Gatter (3) aus mehreren auf einem gemeinsamen Substrat (10) aufgebrachten Schichten gebildet ist, die zumindest zwei Elektrodenschichten, zumindest eine aus einer Flüssigkeit aufgebrachte, insbesondere organische, Halbleiterschicht (13, 23) und eine Isolatorschicht (14, 24) umfassen und die so ausgebildet sind, daß das Logik-Gatter mindestens zwei unterschiedlich aufgebaute Feldeffekttransistoren (1 , 2) umfaßt. Die Feldeffekttransistoren (1 , 2) sind aus mehreren funktionalen Schichten ausgebildet, die auf ein Trägersubstrat (10) durch Drucken oder Rakeln aufbringbar sind.

Description

Gatter aus organischen Feldeffekttransistoren
Die Erfindung betrifft ein Elektronikbauteil, insbesondere RFID-Transponder, mit mindestens einem aus organischen Feldeffekttransistoren gebildeten Logik-Gatter.
Das einfachste Logik-Gatter ist der Inverter, aus dem durch Kombination mit weiteren Invertem und/oder weiteren elektronischen Bauelementen alle komplexen Logik-Gatter, wie beispielsweise ANDs, NANDs, NORs und dergleichen gebildet sein können. Organische Logik-Gatter mit nur einer Art Halbleiter - typischerweise handelt es sich um p-Halbleiter - als aktive Schicht sind anfällig gegen Parameterschwankungen der einzelnen Bauteile. Das kann bedeuten, daß diese Schaltungen unzuverlässig oder überhaupt nicht arbeiten, sobald einzelne Bauteile, wie Transistoren, die vom Schaltungsdesign ermittelten Spezifikationen aufgrund von Abweichungen im Herstellungsprozeß nicht ausreichend erfüllen können. Zudem fließt in diesen nur auf einer Halbleiterart basierenden Schaltungen je nach verwendetem Schaltungskonzept zumindest während der Hälfte der Betriebszeit ein dissipativer Strom, d.h. ein Strom, der nicht aus der Funktion der Schaltung begründet ist. Dadurch ist der Leistungsverbrauch deutlich höher als eigentlich notwendig.
Solche Logik-Gatter sind beispielsweise für RFID-Transponder (RFlD = Radio Frequency Identification) ungeeignet, denn die RFID-Transponder beziehen ihre Versorgungsspannung aus einem mit einer kleinen Antenne empfangenen und sodann gleichgerichteten Hochfrequenzsignal. RFID-Transponder finden zunehmend Anwendung, um Waren oder Sicherheitsdokumente mit elektronisch auslesbaren Informationen zu versehen. Sie finden so beispielsweise Anwendung als elektronischer Strichcode für Konsumgüter, als Kofferanhänger zur Identifikation von Gepäck oder als in den Einband eines Reisepasses eingearbeitetes Sicherheitselement, das Authentifizierungsinformationen speichert.
In dem Dokument KLAUK, H. et al.: Pentacene Thin Film Transistors and Inverter Circuits. In: IEDM Tech. Dig., Dez. 1997, S. 539-542 ist ein Inverter mit gleichartigen organischen Feldeffekttransistoren beschrieben, der aus einem Lade-Feldeffekttransistor und einem Schalt-Feldeffekttransistor, die in Reihe geschaltet sind, ausgebildet ist. Die Herstellung der Feldeffekttransistoren ist durch thermische Abscheidung des organischen Halbleitermaterials vorgesehen.
Es sind auch Kombinationen von verschiedenen Halbleitern für Logik-Gatter bekannt, doch wurden bisher nur organische mit anorganischen Halbleitern, beispielsweise beschrieben in dem Dokument BONSE, M. et al.: Integrated a- Si:H/Pentacene Inorganic/Organic Complementary Circuits. In: IEEE IEDM 98, 1998, S. 249-252, oder organische mit metall-organischen Halbleitern verknüpft, wie das Dokument CRONE, B. K. et al, : Design and fabrication of organic complementary circuits. In: J. Appl. Phys.. Vol. 89 Mai 2001 , S. 5125-5132 berichtet. Als Herstellungsmethode für die Feldeffekt-Transistoren ist in beiden Dokumenten ebenfalls thermische Abscheidung des organischen Halbleiters vorgesehen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein verbessertes Elektronikbauteil unter Verwendung von Feldeffekttransistoren anzugeben.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst, indem ein Elektronikbauteil mit mindestens einem Logik-Gatter ausgebildet ist, wobei das Logik-Gatter aus mehreren auf einem gemeinsamen Substrat aufgebrachten Schichten gebildet ist, die zumindest zwei Elektrodenschichten, zumindest eine aus einer Flüssigkeit aufgebrachte, insbesondere organische, Halbleiterschicht und eine Isolatorschicht umfassen und die so ausgebildet sind, daß das Logik-Gatter mindestens zwei unterschiedlich aufgebaute Feldeffekttransistoren umfaßt.
Der Begriff Flüssigkeit umfaßt dabei beispielsweise Suspensionen, Emulsionen, sonstige Dispersionen oder auch Lösungen. Solche Flüssigkeiten können beispielsweise durch Druckverfahren aufgebracht werden, wobei Parameter wie Viskosität, Konzentration, Siedetemperatur und Oberflächenspannung das Druckverhalten der Flüssigkeit bestimmen. Unter Feldeffekttransistoren werden im folgenden Feldeffekttransistoren verstanden, deren Halbleiterschichten im wesentlichen aus den genannten Flüssigkeiten aufgebracht worden sind.
Durch die Ausbildung von zwei sich in ihrem Aufbau unterscheidenden, insbesondere organischen Feldeffekttransistoren auf einem gemeinsamen Träger mit zumindest einer aus Flüssigkeit aufgebrachten Halbleiterschicht lassen sich Logik-Gatter mit Eigenschaften ausbilden, die ansonsten nicht erzielbar sind.
Auf diese Weise lassen sich schnellere Logik-Gatter realisieren als durch die bisherige Ausbildung mit nur einer Halbleiter. So ist es bis heute gängige Praxis, Schaltungen basierend auf nur einer Sorte von Halbleitern auf einem Träger aufzubauen, d.h. auf Silizium basierende IC weisen nur auf Silizium basierende Transistoren auf. Durch die Erfindung wird ermöglicht, das Schaltungsdesign zu vereinfachen, die Schaltgeschwindigkeit zu erhöhen, die Leistungsaufnahme zu verringern und/oder die Zuverlässigkeit zu erhöhen. Gleichzeitig ist damit gewährleistet, daß sich diese Sorte von Logik-Gatter mit schnellen und kontinuierlichen Herstellungsverfahren produzieren lassen, beispielsweise in einem Rolle-zu-Rolle-Druckverfahren. Weiter zeichnen sich die erfindungsgemäßen Logik-Gatter durch größere Unempfindlichkeit gegenüber Hersteilungstoleranzen aus. Weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Logik-Gatter ist ihr geringerer Leistungsverbrauch gegenüber herkömmlichen insbesondere organischen Logik-Gattern.
Die Entwicklung des Schaltungslayouts muß also nicht mehr unter Einrechnung von Reserven erfolgen, wie beispielsweise durch Überdimensionierung der einzelnen Bauteile oder durch Einfügen redundanter Bauelemente.
Bei dem organischen Feldeffekttransistor, im weiteren als OFET bezeichnet, handelt es sich um einen Feldeffekttransistor mit mindestens drei Elektroden und einer Isolierschicht. Der OFET ist auf einem Trägersubstrat angeordnet, das als festes Substrat oder als Folie, beispielsweise als Polymer-Folie ausgebildet sein kann. Eine Schicht aus einem organischen Halbleiter bildet einen leitfähigen Kanal, dessen Endabschnitte durch eine Source-Elektrode und eine Drain- Elektrode gebildet sind. Die Schicht aus einem organischen Halbleiter wird aus einer Flüssigkeit aufgebracht. Die organischen Halbleiter können Polymere sein, die in der Flüssigkeit gelöst sind. Die die Polymere enthaltende Flüssigkeit kann auch eine Suspension, Emulsion oder sonstige Dispersion sein.
Der Begriff des Polymers schließt hier ausdrücklich polymeres Material und/oder oligomeres Material und/oder Material aus „small moleculs" und/oder Material aus „Nano-Partikel" ein. Schichten aus Nano-Partikel können beispielsweise mittels einer Polymersuspension aufbracht werden. Es kann sich also bei dem Polymer auch um einen hybriden Werkstoff handeln, beispielsweise um einen n-leitenden polymeren Halbleiter auszubilden. Es handelt sich um alle Arten von Stoffen mit Ausnahme der klassischen Halbleiter (kristallines Silizium oder Germanium) und der typischen metallischen Leiter. Eine Beschränkung im dogmatischen Sinne auf organisches Material im Sinne der Kohlenstoff-Chemie ist demnach nicht vorgesehen. Vielmehr sind auch beispielsweise Silicone eingeschlossen. Weiterhin soll der Begriff nicht im Hinblick auf die Molekülgröße beschränkt sein, sondern wie weiter oben ausgeführt, „small moleculs" oder „Nano Partikel" einschließen. Nanopartikel bestehen aus metallorganischen halbleiterorganischen Verbindungen, die beispielsweise Zinkoxid als nicht organischen Bestandteil enthalten. Es kann vorgesehen sein, daß die Halbleiterschichten mit unterschiedlichem organischen Material ausgebildet sind.
Der leitfähige Kanal ist mit einer Isolationsschicht abgedeckt, auf der eine Gate- Elektrode angeordnet ist. Durch Anlegen einer Gate-Source-Spannung UGs zwischen Gate-Elektrode und Source-Elektrode kann die Leitfähigkeit des Kanals verändert werden. Die Halbleiterschicht kann als p-Leiter oder als n-Leiter ausgebildet sein. Die Stromleitung in einem p-Leiter erfolgt fast ausschließlich durch Defektelektronen, die Stromleitung in einem n-Leiter fast ausschließlich durch Elektronen. Die jeweils vorherrschend vorhandenen Ladungsträger werden als Majoritätsträger bezeichnet. Wenngleich die p-Dotierung für organische Halbleiter typisch ist, ist es doch möglich, das Material mit n-Dotierung auszubilden. Als p-leitende Halbleiter können Pentacen, Polyalkylthiophen etc. vorgesehen sein, als n-leitende Halbleiter z. B. lösliche Fulleren-Derivate.
Die Majoritätsträger werden durch die Ausbildung eines elektrischen Feldes in der Isolationsschicht verdichtet, wenn eine Gate-Source-Spannung UQS geeigneter Polarität angelegt wird, d.h. bei p-Leitem eine negative Spannung bzw. bei n- Leitern eine positive Spannung. Infolgedessen sinkt der elektrische Widerstand zwischen der Drain-Elektrode und der Source-Elektrode. Es kann sich nun bei Anlegen einer Drain-Source-Spannung UDS ein größerer Stromfluß zwischen der Source- und der Drain-Elektrode ausbilden, als bei einer offenen Gate-Elektrode. Es handelt sich bei einem Feldeffekttransistor also um einen gesteuerten Widerstand. Das erfindungsgemäße Logik-Gatter vermeidet nun durch Kombination zweier unterschiedlich ausgebildeter Feldeffekttransistoren, insbesondere OFETs, den Nachteil von Kombinationen gleichartiger Feldeffekttransistoren, insbesondere OFETs, einen dissipativen Strom auszubilden, d.h. einen Stromfluß zu zeigen, wenn sie nicht angesteuert sind.
Vorteilhafte Ausbildungen der Erfindung werden in den Unteransprüchen bezeichnet.
Es ist vorgesehen, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren sich in ihrer Dicke unterscheidende Halbleiterschichten aufweisen. Die Ausbildung der unterschiedlichen Dicke kann durch löslich ausgebildete Halbleiter vorteilhafterweise in einem Druckprozeß vorgesehen sein. Dazu kann bei organischen Halbleitern vorgesehen sein, die
Polymerkonzentration des Halbleiters zu variieren. Auf diese Weise bildet sich nach dem Abdampfen des Lösungsmittels eine von der Polymerkonzentration abhängige Schichtdicke des organischen Halbleiters aus.
Es kann auch vorgesehen sein, daß die Halbleiterschichten der
Feldeffekttransistoren mit unterschiedlicher Leitfähigkeit ausgebildet sind. Die Leitfähigkeit der insbesondere organischen Halbleiterschicht kann beispielsweise durch eine Hydrazin-Behandlung und/oder durch gezielte Oxidation erniedrigt oder erhöht werden. Damit kann der mit einem solchen Halbleitermaterial ausgebildete Feldeffekttransistor so eingestellt sein, daß seine Off-Ströme nur um etwa eine Größenordnung unter den On-Strömen liegen. Der Off-Strom ist der Strom, der im Feldeffekttransistor zwischen Source-Elektrode und Drain-Elektrode fließt, wenn kein elektrisches Potential an der Gate-Elektrode anliegt. Der On-Strom ist der Strom, der im Feldeffekttransistor zwischen Source-Elektrode und Drain-Elektrode fließt, wenn ein elektrisches Potential an der Gate-Elektrode anliegt, beispielsweise ein negatives Potential, wenn es sich um einen Feldeffekttransistor mit p-Leitung handelt.
Weiter ist es vorteilhaft unterschiedliche Sorten von Halbleitern zu verwenden oder eine unterschiedliche Kombination von Halbleitern zur Ausbildung einer elektronischen Funktionsschicht nebeneinander anzuordnen, und so Eigenschaften wie Ladungsbeweglichkeit, Schaltgeschwindigkeit und Leistungsoder Schaltverhalten gezielt zu beeinflussen.
Es kann auch vorgesehen sein, daß die Feldeffekttransistoren sich in der Ausbildung der Isolatorschicht unterscheiden. Sie können Isolatorschichten unterschiedlicher Dicke und/oder unterschiedlichen Materials aufweisen. Die Isolatorschichten der mindestens zwei unterschiedlich ausgebildeten Feldeffekttransistoren können sich aber auch in ihrer Permeabilität unterscheiden und so die ausbildbare Ladungsträgerdichte in den Halbleiterschichten beeinflussen oder als Dielektrikum zur kapazitiven Kopplung von Elektroden ausgebildet sein, beispielsweise zur Kopplung der Gate-Elektrode mit der Source- oder Drain-Elektrode des gleichen Feldeffekttransistors.
Besonders kostengünstig ist die unterschiedliche flächige Strukturierung der Schichten möglich. Das ist bei einem Druckverfahren besonders einfach möglich, so daß hierbei das Verhalten der Feldeffekttransistoren nach der Trial-and-Error- Methode optimiert werden kann, ohne die funktionellen Abhängigkeiten im einzelnen zu kennen. Die beiden unterschiedlichen Feldeffekttransistoren können beispielsweise mit unterschiedlichen Kanalbreiten und/oder Kanallängen ausgebildet sein. Vorzugsweise können streifenförmige Strukturen vorgesehen sein. Es können aber auch beliebig konturierte Strukturen vorgesehen sein, beispielsweise zur Ausbildung der Elektroden der Feldeffekttransistoren, wie der Gate-Elektrode. Bei den geometrischen Abmessungen handelt es sich um Abmessungen im μm-Bereich, beispielsweise um Kanalbreiten von 30 μm bis 50 μm mit der Tendenz zu noch kleineren Abmessungen, um hohe Schaltgeschwindigkeiten und geringe Kapazitäten zwischen den Elektroden zu erhalten. Aus der herkömmlichen Silizium-Technologie ist bekannt, daß Bauelemente-Kapazitäten hohe Verlustleistungen hervorrufen und deshalb entscheidenden Einfluß auf die Minimierung des Leistungsbedarfs der Schaltung haben.
Auf diese Weise können auch Feldeffekttransistoren mit unterschiedlicher Schaltkapazität ausgebildet werden, beispielsweise zur Ausbildung unterschiedlichen Schaltverhaltens.
Es kann vorgesehen sein, die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren nebeneinander oder übereinander anzuordnen. Auf diese Weise können Schaltungsentwürfe besonders einfach in Layouts übertragen werden und beispielsweise Durchkontaktierungen, sog. Vias, in ihrer Anzahl minimiert werden. Die Anordnung der Feldeffekttransistoren kann aber auch aus funktionellen Gründen vorgesehen sein, beispielsweise um zwei Feldeffekttransistoren mit gemeinsamer Gate-Elektrode auszubilden, wobei eine Anordnung der beiden Feldeffekttransistoren übereinander besonders vorteilhaft sein kann.
Die Feldeffekttransistoren können mit gleicher oder mit unterschiedlicher Orientierung angeordnet sein. Es ist vorgesehen, daß die mindestens zwei unterschiedlich ausgebildeten Feldeffekttransistoren mit Bottom-Gate- oder Top- Gate-Orientierung angeordnet sein können.
Es kann vorgesehen sein, die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren so zu variieren, daß sie mit einer unterschiedlichen Widerstandskennlinie und/oder einem unterschiedlichen Schaltverhalten ausgebildet sind. Die Widerstandskennlinie kann beispielsweise durch Änderung der Dicke der Halbleiterschicht verändert werden, wobei durch Ausbildung besonders dünner Schichten - vorzugsweise bei Schichten im Bereich von 5 nm bis 30 nm -zusätzliche Effekte einstellbar sind, die bei dickeren Schichten in der Größenordnung von 200 nm nicht zu beobachten sind.
Die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren können in einer Parallel- und/oder Reihenschaltung miteinander verbunden sein. Es kann beispielsweise vorgesehen sein, daß zwei unterschiedlich ausgebildete Feldeffekttransistoren, insbesondere zwei OFETs, in Reihenschaltung den Last- OFET und den Schalt-OFET bilden. Es kann aber beispielsweise auch vorgesehen sein, daß Last-OFET und/oder Schalt-OFET durch Parallel- oder Reihenschaltung zweier oder mehrerer unterschiedlicher OFET ausgebildet sind. Auf diese Weise kann ein als Inverter ausgebildetes Logik-Gatter beispielsweise aus vier - vorzugsweise unterschiedlichen - Feldeffekttransistoren ausgebildet sein. Solche Logik-Gatter können zu einem Ringoszillator verbunden sein, der insbesondere in RFID-Transpondern als Logikschaltung bzw. Schwingungserzeuger einsetzbar ist.
Die erfindungsgemäße Lösung ist nicht auf die galvanische Kopplung der Feldeffekttransistoren beschränkt. Vielmehr kann vorgesehen sein, die Feldeffekttransistoren kapazitiv miteinander zu koppeln, beispielsweise indem eine Gate-Elektrode und eine weitere Elektrode so vergrößert werden, daß sie zusammen mit der Isolationsschicht einen Kondensator mit ausreichender Kapazität bilden. Wegen der möglichen sehr geringen Schichtdicke der Isolationsschicht und ggf. weiterer zwischen den kapazitiv gekoppelten Elektroden angeordneten Schichten sind trotz kleiner Elektrodenflächen vergleichsweise hohe Kapazitätswerte ausbildbar.
Es kann auch vorgesehen sein, die unterschiedlichen Feldeffekttransistoren mit Halbleiterschichten unterschiedlichen Leitungstyps auszubilden, also mit p- leitender und n-leitender Halbleiterschicht. Wenngleich noch p-leitende Halbleiterschichten zur Ausbildung von OFETs bevorzugt sind, so ist doch das Aufbringen einer n-leitenden Schicht nicht schwieriger als das Aufbringen einer p- leitenden Schicht. Auf diese Weise können zwischen den beiden aneinander grenzenden Schichten auch p-n-Übergänge ausgebildet sein. Das erfindungsgemäße Logik-Gatter ist so ausgebildet, daß es im wesentlichen durch Drucken (z.B. durch Tiefdruck, Siebdruck, Tampondruck) und/oder Rakeln herstellbar ist. Der gesamte Aufbau ist also darauf gerichtet, Schichten auszubilden, die in ihrem Zusammenwirken das Logik-Gatter bilden und die durch die beiden genannten Verfahren strukturierbar sind. Dazu stehen erprobte Ausrüstungen bereit, wie sie beispielsweise zur Produktion von optischen Sicherheitselementen vorgesehen sind. Die erfindungsgemäßen Gatter sind also auf den gleichen Anlagen herstellbar.
Die unterschiedliche Ausbildung der Feldeffekttransistoren ist besonders gut zu erreichen, wenn die Schichten der mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren, insbesondere der OFETs als druckbare halbleitende Polymere und/oder druckbare isolierende Polymere und/oder leitfähige Druckfarben und/oder metallische Schichten ausgebildet sind.
Die Dicke der löslichen polymeren Schicht ist besonders einfach durch ihren Lösungsmittelanteil einstellbar. Es kann aber auch vorgesehen sein, daß die Dicke der löslichen organischen Schicht durch ihre Auftragsmenge einstellbar ist, beispielsweise wenn das Aufbringen der Schicht durch Tampondruck oder durch Rakeln vorgesehen ist. Auf diese Weise lassen sich vorzugsweise dickere
Schichten ausbilden. Alternativ dazu kann der schichtweise Aufbau einer Schicht vorgesehen sein. Wenn beispielsweise die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren eine Halbleiterschicht gleichen Materials mit unterschiedlicher Dicke aufweisen, kann in einem ersten Durchlauf die dünne Schicht des einen Feldeffekttransistors aufgebracht werden und in einem oder mehreren weiteren Durchläufen diese Grundschicht für den anderen Feldeffekttransistor verstärkt werden. Dazu kann vorgesehen sein, die Schichten mit unterschiedlichem Lösungsmittelanteil aufzubringen, d.h. die Grundschicht mit einem hohen Lösungsmittelanteil und die weitere Schicht bzw. die weiteren Schichten mit einem geringen Lösungsmittelanteil.
Vorzugsweise kann vorgesehen sein, daß das auf die vorstehend beschriebene Weise erzeugte Elektronikbauteil von einem mehrschichtigen flexiblen Folienkörper gebildet ist. Die Flexibilität des Elektronikbauteils kann es besonders widerstandsfähig machen, insbesondere, wenn es auf einen flexiblen Untergrund aufgebracht ist. Im übrigen sind die erfindungsgemäß als mehrschichtige flexible Folienkörper ausgebildeten organischen Elektronikbauteile völlig unempfindlich gegen Stoßbelastungen und sind im Gegensatz zu auf starren Substraten aufgebrachten Bauteilen einsetzbar in Applikationen, bei denen Leiterplatten vorgesehen sind, die sich der Kontur des elektronischen Gerätes anschmiegen. Diese sind mit wachsender Tendenz für Geräte mit unregelmäßig ausgebildeten Konturen, wie Handys und elektronische Kameras, vorgesehen.
Es kann vorgesehen sein, Sicherheitselemente, Warenetiketten oder Tickets mit einem oder mehreren erfindungsgemäßen Logik-Gattern auszubilden.
Die Erfindung wird nun anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 und 2 schematische Schnittdarstellungen eines ersten
Ausführungsbeispiels;
Fig. 3a und 3b Grundschaltbilder der ersten Ausführungsbeispiele in Fig. 1 und 2;
Fig. 4 eine schematische Schnittdarstellung eines zweiten
Ausführungsbeispiels;
Fig. 5 eine schematische Schnittdarstellung eines dritten
Ausführungsbeispiels;
Fig. 6 eine schematische Schnittdarstellung eines vierten
Ausführungsbeispiels;
Fig. 7 ein Grundschaltbild der Ausführungsbeispiele in Fig. 5 und 6; Fig. 8 ein schematisches Strom-Spannungs-Diagramm eines Logik-
Gatters;
Fig. 9a ein erstes schematisches Ausgangskennlien-Diagramm eines Logik-Gatters mit unterschiedlich ausgebildeten organischen
Feldeffekttransistoren;
Fig. 9b ein zweites schematisches Ausgangskennlien-Diagramm eines Logik-Gatters mit unterschiedlich ausgebildeten organischen Feldeffekttransistoren.
Fig. 1 und 2 zeigen jeweils in einer schematischen Schnittdarstellung ein Logik- Gatter 3, gebildet aus zwei unterschiedlich ausgebildeten organischen Feldeffekttransistoren 1 , 2, im folgenden als OFET bezeichnet, die auf einem Substrat 10 angeordnet sind. Es kann sich dabei aber auch um
Feldeffekttransistoren handeln, die nicht oder nicht vollständig aus organischem Halbleitermaterial ausgebildet sind. Bei dem Substrat kann es sich beispielsweise um ein plättchenförmiges Substrat oder um eine Folie handeln. Bei der Folie handelt es sich vorzugsweise um eine Kunststoff-Folie mit einer Stärke von 6 μm bis 200 μm, vorzugsweise mit einer Stärke von 19 μm bis 100 μm, vorzugsweise als Polyester-Folie ausgebildet.
Der erste OFET 1 ist gebildet aus einer ersten Halbleiterschicht 13 mit einer Source-Elektrode 11 und einer Drain-Elektrode 12. Auf der Halbleiterschicht 13 ist eine Isolatorschicht 14 angeordnet mit einer auf dieser Schicht angeordneten Gate-Elektrode 15.
Diese Schichten können beispielsweise durch ein Druckverfahren bereits partiell oder musterförmig strukturiert aufgebracht werden. Dazu ist vorgesehen, insbesondere die Halbleiterschicht aus einer Flüssigkeit heraus aufzubringen. Der Begriff Flüssigkeit umfaßt dabei beispielsweise Suspensionen, Emulsionen, sonstige Dispersionen oder auch Lösungen. Für die Herstellung von Lösungen sind die für die Schichten vorgesehenen organischen Materialien als lösbare Polymere ausgebildet, wobei der Begriff des Polymers hierbei, wie weiter oben bereits beschrieben, auch Oligomere und „small moleculs" sowie Nano-Partikel einschließt. Bei dem organischen Halbleiter kann es sich beispielsweise um Pentacen handeln. Es können mehrere Parameter der Flüssigkeit variiert werden: - die Viskosität der Flüssigkeit, sie bestimmt das Druckverhalten;
- die Polymerkonzentration der druckfertigen Mischung, sie bestimmt die Schichtdicke;
- die Siedetemperatur der Flüssigkeit, sie bestimmt, welches Druckverfahren einsetzbar ist; - die Oberflächenspannung der druckfertigen Mischung, sie bestimmt die Benetzungsfähigkeit des Trägersubstrats oder anderer Schichten.
Es kann auch vorgesehen sein, wie weiter vorstehend ausführlich beschrieben, die Schichten durch mehrmalig aufeinanderfolgendes Drucken mit variabler Schichtdicke auszubilden.
Es kann auch vorgesehen sein, auf das Substrat 10 einen härtbaren Lack aufzubringen und diesen vor dem Härten so zu strukturieren, daß Vertiefungen ausgebildet sind, in die beispielsweise Halbleiterschichten durch Rakeln eingebracht werden. Solche Verfahrensschritte können vorgesehen sein, um beispielsweise optische Sicherheitselemente, die unter Verwendung aushärtbarer Lackschichten hergestellt werden, mit den erfindungsgemäßen Logik-Gattern zu kombinieren.
Die Elektroden 11 , 12 und 15 bestehen vorzugsweise aus einer leitfähigen Metallisierung, vorzugsweise aus Gold oder Silber. Es kann jedoch auch vorgesehen sein, die Elektroden 11 , 12 und 15 aus einem anorganischen elektrisch leitfähigen Material auszubilden, beispielsweise aus Indium-Zinn-Oxid, oder aus einem leitfähigen Polymer, beispielsweise Polyanilin oder Polypyrol.
Die Elektroden 11 , 12 und 15 können hierbei beispielsweise durch ein Druckverfahren (Tiefdruck, Siebdruck, Tampondruck) oder durch ein Beschichtungsverfahren bereits partiell und musterförmig strukturiert auf das Substrat 10 bzw. auf die organische Isolatorschicht 14 oder eine andere im Herstellungsverfahren vorgesehene Schicht aufgebracht werden. Es ist jedoch auch möglich, die Elektrodenschicht auf das Substrat 10 oder eine andere im Herstellungsverfahren vorgesehene Schicht vollflächig oder teilflächig aufzubringen und sodann durch ein Belichtungs- und Ätzverfahren oder durch Ablation, beispielsweise mittels eines gepulsten Lasers, partiell wieder zu entfernen und so zu strukturieren.
Bei den Elektroden 11 , 12 und 15 handelt es sich um Strukturen im μm-Bereich. Die Gate-Elektrode 15 beispielsweise kann eine Breite von 50 μm bis 1000 μm und eine Länge von 50 μm bis 1000 μm haben. Die Dicke einer solchen Elektrode kann 0,2 μm und weniger sein.
Der zweite OFET 2 ist gebildet aus einer ersten organischen Halbleiterschicht 23 mit einer Source-Elektrode 21 und einer Drain-Elektrode 22. Auf der organischen Halbleiterschicht 23 ist eine organische Isolatorschicht 24 angeordnet mit einer auf dieser Schicht angeordneten Gate-Elektrode 25.
In Fig. 1 ist die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 mit der Source-Elektrode 21 des zweiten OFET 2 und mit der Gate-Elektrode 25 des zweiten OFET 2 mittels der elektrisch leitenden Verbindungsschichten 20 verbunden.
Weiter ist es auch möglich, dass die Gate-Elektrode 25 anstatt mit der Source- Elektrode 21 mit der Drain-Elektrode 22 verbunden ist.
In Fig. 2 sind die Gate-Elektrode 15 des ersten OFET 1 und die Gate-Elektrode 25 des zweiten OFET 2 sowie die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 und die Drain-Elektrode 22 des zweiten OFET 2 mit elektrisch leitenden Verbindungsschichten 20 verbunden.
In diesen Ausführungsbeispielen gemäß Fig. 1 und 2 liegen beide OFET 1 , 2 mit gleicher Orientierung nebeneinander, d.h. beispielsweise die Gate-Elektroden 15, 25 sind in einer Ebene angeordnet. Im dargestellten Fall ist für beide OFET die Top-Gate-Orientierung gewählt, die beiden Gate-Elektroden 15, 25 sind also als oberste Schicht ausgebildet. Es kann aber auch vorgesehen sein, daß für beide OFET die Bottom-Gate-Orientierung gewählt ist, bei der die beiden Gate- Elektroden 15, 25 unmittelbar auf dem Substrat 10 angeordnet sind.
Wie in Fig. 1 und Fig. 2 zu erkennen, können die die elektrischen Eigenschaften der beiden OFET 1, 2 bestimmenden organischen Halbleiterschichten 13, 23 und/oder die organischen Isolatorschichten 14, 24 mit unterschiedlicher Schichtdicke ausgebildet sein, wobei in dem dargestellten Ausführungsbeispiel beide OFET 1 , 2 mit gleicher Gesamtschichtdicke ausgebildet sind. Es kann vorzugsweise vorgesehen sein, daß die organischen Halbleiterschichten 13, 23 in Streifen aufgebracht sind. Zur Ausbildung unterschiedlichen elektrischen Verhaltens beider OFET 1 , 2 kann vorgesehen sein, die Dicke und/oder die Kanallänge, d.h. den Abstand zwischen der Source-Elektrode 11 , 21 und der Drain-Elektrode 12, 22, und/oder das Material der organischen Halbleiterschichten 13, 23 beider OFET 1 , 2 unterschiedlich auszubilden. Das Material der organischen Halbleiterschichten 13, 23 kann beispielsweise gleich oder unterschiedlich stark dotiert sein. Die Halbleiterschichten 13, 23 können als p- Leiter oder als n-Leiter ausgebildet sein. Die Stromleitung in einem p-Leiter erfolgt fast ausschließlich durch Defektelektronen, die Stromleitung in einem n-Leiter erfolgt fast ausschließlich durch Elektronen. Die jeweils vorherrschend vorhandenen Ladungsträger werden als Majoritätsträger bezeichnet. Wenngleich die p-Dotierung für organische Halbleiter typisch ist, ist es doch möglich, das Material mit n-Dotierung auszubilden. So kann beispielsweise der p-leitende Halbleiter aus Pentacen, Polythiophen ausgebildet sein, der n-leitende Halbleiter beispielsweise aus Poly-Phenylen-Vinylen-Derivaten oder Fulleren-Derivaten,
Wenn beide organischen Halbleiterschichten 13, 23 unterschiedliche Majoritätsladungsträger besitzen, ist ein Logik-Gatter 3 mit Halbleiterschichten 13, 23 komplementärer Leitfähigkeit ausgebildet. Ein solches Gatter ist beispielsweise in Fig. 2 dargestellt und zeichnet sich dadurch aus, dass jeweils einer der beiden Feldeffekttransistoren keinen Stromfluss zwischen Source und Drain zulässt, solange sich die Eingangsspannung des Logik-Gatters nicht verändert, d.h. das Gatter einen seiner beiden Schaltzustände einnimmt. Ein dissipativer Querstrom durch das Gatter fließt nur während des Schaltvorgangs. Infolgedessen weisen Logikschaltungen mit den erfindungsgemäßen Logik-Gattern eine deutlich geringere Stromaufnahme auf als Logikschaltungen, die aus identischen OFETs gebildet sind. Das ist besonders vorteilhaft, wenn nur gering belastbare Stromquellen zur Verfügung stehen, wie das beispielsweise bei RFID- Transpondern der Fall ist, die ihre Energie aus einem gleichgerichteten Antennensignal erhalten, das in einem Kondensator gespeichert wird.
Die Fig. 3a und 3b zeigen die beiden Grundschaltungen, die mit dem ersten Ausführungsbeispiel in Fig. 1 und 2 darstellbar sind. Zur besseren Veranschaulichung sind die Positionen in Fig. 1 und 2 beibehalten worden.
Fig. 3a zeigt ein Logik-Gatter 3, gebildet aus zwei unterschiedlichen OFET 1 und 2 mit Halbleiterschichten vom gleichen Leitungstyp. Die beiden OFET 1 , 2 sind in Reihe geschaltet, wobei die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 mit der Source-Elektrode 21 des zweiten OFET 2 verbunden ist. Die Gate-Elektrode 15 des OFET 1 bildet den Eingang des Logik-Gatters, die Gate-Elektrode 25 des OFET 2 ist mit der Source-Elektrode 21 des OFET 2 verbunden. Bei dem Logik- Gatter kann es sich um einen Inverter mit Last-OFET 2 und Schalt-OFET 1 handeln.
Fig. 3b zeigt ein Logik-Gatter 3, gebildet aus zwei unterschiedlichen OFET 1 und 2 von unterschiedlichem Dotierungstyp. Ein solches Logik-Gatter ist, wie weiter oben beschrieben, mit geringerem Leistungsverbrauch ausgebildet als ein OFET- Logik-Gatter nach dem Stand der Technik. Die beiden OFET 1, 2 sind in Reihe geschaltet, wobei die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 mit der Drain- Elektrode 22 des zweiten OFET 2 verbunden ist. Die Gate-Elektroden 15 und 25 der beiden OFET sind miteinander verbunden und stellen den Eingang des Logik- Gatters dar.
Fig. 4 zeigt nun ein zweites Ausführungsbeispiel, bei dem die beiden OFET 1 , 2 nebeneinander mit unterschiedlicher Orientierung auf dem Substrat 10 angeordnet sind. Dabei ist der erste OFET 1 so angeordnet, daß die Source-Elektrode 11 und die Drain-Elektrode 12 unmittelbar auf dem Substrat 10 angeordnet sind und auf diesen nacheinander folgend die Halbleiterschicht 13, die Isolatorschicht 14, die zweite, sich von der ersten unterscheidende Halbleiterschicht 23 und die Gate- Elektrode 15. Eine solche Orientierung des OFET ist als Top-Gate-Orientierung bezeichnet. Der zweite OFET 2 ist nun so angeordnet, daß die Gate-Elektrode 25 auf dem Substrat 10 angeordnet ist und die Source-Elektrode 21 und die Drain- Elektrode 22 auf dem OFET 2 oben aufliegend angeordnet sind. Eine solche Orientierung ist als Bottom-Gate-Orientierung bezeichnet. Die Gate-Elektrode 25 des OFET 2 ist mit dem Source-Kontakt 21 von OFET 2 und dem Drain-Kontakt 12 von OFET 1 mittels der elektrisch leitenden Verbindungsschicht 20 verbunden, die in diesem Ausführungsbeispiel abschnittsweise als zum Substrat 10 senkrecht verlaufende Durchkontaktierung ausgebildet ist.
Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel kann vorzugsweise vorgesehen sein, daß die jeweils in einer Ebene angeordneten Elektroden aus gleichem Material ausgebildet sind, beispielsweise aus einer leitfähigen Druckfarbe oder aus einer aufgesputterten, galvanisierten oder aufgedampften Metallschicht. Es kann aber auch vorgesehen sein, daß sie aus jeweils unterschiedlichen Materialien ausgebildet sind, vorzugsweise, wenn damit ein vorteilhafter funktioneller Effekt verbunden ist.
In dem in Fig. 4 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Halbleiterschichten 13 und 23 und die Isolatorschicht 14 als beiden OFET 1 , 2 gemeinsame Schichten ausgebildet. Dabei stellt für OFET 1 ausschließlich die Halbleiterschicht 13 die Verbindung zwischen Source 11 und Drain 12 her. Der für die Funktion des OFET 1 notwendige leitfähige Kanal bildet sich in dieser Halbleiterschicht 13 an der Grenzfläche zur Isolatorschicht 14 aus. Für OFET 2 stellt dagegen ausschließlich die Halbleiterschicht 23 die Verbindung zwischen Source 21 und Drain 22 her. Wie in Fig. 4 gut zu erkennen ist, sind die OFET 1 , 2 mit unterschiedlicher Geometrie ausgebildet, hier insbesondere mit unterschiedlicher Kanallänge. Es kann aber auch vorgesehen sein, daß beide OFET 1 , 2 mit unterschiedlichen Halbleiterschichten und/oder Isolatorschichten ausgebildet sind.
Die mit dem in Fig. 4 dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel ausbildbaren Grundschaltungen entsprechen den in Fig. 2a und 2b dargestellten Grundschaltungen. Es kann vorgesehen sein, daß die beiden OFET 1 , 2 durch weitere, in den Fig. 2a, 2b nicht dargestellte Verbindungsleitungen so miteinander verbunden sind, daß sie untereinander oder mit anderen Bauelementen in Parallel- oder Reihenschaltung verbunden sind.
Das Grundschaltbild des in Fig. 4 dargestellten Ausführungsbeispiels, bei dem die beiden OFET 1 , 2 mit gemeinsamen Halbleiterschichten ausgebildet sind, die als p-Leiter oder als n-Leiter ausgebildet sein können, zeigt Fig. 2a.
Fig. 2b zeigt das Grundschaltbild eines gegenüber Fig. 4 abgewandelten Ausführungsbeispiels, bei dem die beiden Halbleiterschichten der OFET 1 , 2 unterschiedlich und mit komplementärem Leitungstyp ausgebildet sind. Dieser Fall ergibt sich aus der Zeichnung in Fig. 4, indem die eingezeichnete Verbindung 20 ausschließlich die beiden Gate-Kontakte 15 und 25 verbindet, während zusätzlich eine der Verbindung 20 gleichartige Verbindung zwischen Drain-Kontakt 22 von OFET 2 und Drain 12 von OFET 1 gelegt wird.
Fig. 5 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel, bei dem die beiden OFET 1 , 2 übereinanderliegend auf dem Substrat 10 angeordnet sind und mit einer gemeinsamen Gate-Elektrode 15 ausgebildet sind. Die Source-Elektrode 11 und die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 sind also unmittelbar auf dem Substrat 10 aufliegend angeordnet, die Source-Elektrode 21 und die Drain-Elektrode 22 sind als oberste Schicht der aufeinanderliegenden OFET 1 , 2 ausgebildet. Das aus den beiden OFET 1 , 2 gebildete Logik-Gatter ist also aus insgesamt 7 Schichten aufgebaut. Dabei können Schichten mit gleicher Funktion gleich oder unterschiedlich aufgebaut sein, wobei vorgesehen ist, daß mindestens eine der Schichten eines Schichtenpaares unterschiedlich ausgebildet ist. Beispielsweise kann vorgesehen sein, daß die Halbleiterschichten 13, 23 mit unterschiedlichem Leitungstyp (p-Leitung, n-Leitung) und/oder unterschiedlicher Geometrie ausgebildet sind.
Die beiden Drain-Elektroden 12, 22 sind mit der als Durchkontaktierung ausgebildeten elektrischen Leiterbahn 20 verbunden. Fig. 6 zeigt nun ein viertes Ausführungsbeispiel, bei dem die beiden OFET 1 , 2 übereinanderliegend auf dem Substrat 10 angeordnet sind und mit einer gemeinsamen Gate-Elektrode 15 ausgebildet sind, wobei jedoch beide OFET 1 , 2 mit gleicher Orientierung auf dem Substrat angeordnet sind. Die gemeinsame Gate-Elektrode 15 ist dabei als oberste Schicht des Logik-Gatters ausgebildet, das wie das in Fig. 5 dargestellte Logik-Gatter mit 7 Schichten ausgebildet ist.
Die Source-Elektrode 11 und die Drain-Elektrode 12 des ersten OFET 1 sind in dem dargestellten Beispiel als erste Schicht unmittelbar auf dem Substrat 10 angeordnet und von der Halbleiterschicht 13 überdeckt. Auf der Halbleiterschicht 13 ist die Isolatorschicht 14 angeordnet. Der zweite OFET 2 ist nun mit der gleichen Orientierung und der gleichen Schichtenfolge auf dem OFET 1 angeordnet, d.h. die Source-Elektrode 21 und die Drain-Elektrode 22 sind auf der Isolatorschicht 14 aufgebracht und mit der Halbleiterschicht 23 überdeckt, auf der die Isolatorschicht 24 des OFET 2 aufgebracht wird. Darauf ist die gemeinsame Gate-Elektrode 15 als abschließende Schicht angeordnet.
Die beiden Drain-Elektroden 12, 22 sind mit der elektrisch leitenden Verbindungsschicht 20 verbunden, die als Durchkontaktierung ausgebildet ist.
Es kann aber auch vorgesehen sein, daß die vorstehend beschriebene Anordnung so ausgebildet ist, daß die gemeinsame Gate-Elektrode 15 als unterste, unmittelbar auf dem Substrat 10 aufliegende Schicht ausgebildet ist.
Wegen der vorstehend beschriebenen Möglichkeit, die Anordnung der das Logik- Gatter bildenden Schichten um 180° zu drehen, kann eine besonders vorteilhafte Topologie miteinander verschalteter Logik-Gatter oder anderer Bauelemente ausgebildet sein und auf diese Weise beispielsweise Durchkontaktierungen zur Verbindung der Logik-Gatter bzw. Bauelemente vermieden bzw. in ihrer Anzahl minimiert sein.
Die Fig. 7 zeigt nun die mit den in Fig. 5 und 6 dargestellten Ausführungsbeispielen mögliche Grundschaltung. Die beiden OFET 1 , 2 bilden jeweils ein Logik-Gatter mit gemeinsamer Gate- Elektrode 15 und miteinander leitend verbundenen Drain-Elektroden 12, 22. Die beiden Source-Elektroden 11 und 21 bilden weitere Anschlüsse des Logik- Gatters für Versorgungsspannung und Masse. Das in der Fig. 7 dargestellte Logik- Gatter kann bezüglich des Leitungstyps der Halbleiterschichten unterschiedlich ausgebildet sein. Es kann sich dabei um Halbleiterschichten gleichen Leitungstyps handeln oder um Halbleiterschichten, die mit komplementärem Leitungstyp ausgebildet sind.
Fig. 8 zeigt nun ein Beispiel eines Strom-Spannungs-Diagramms eines als Inverter ausgebildeten Logik-Gatters mit OFET. Ein Logik-Gatter mit einem OFET kann einen Inverter bilden, bei dem die Source-Elektrode mit der Schaltungs-Masse verbunden ist, die Gate-Elektrode den Eingang des Inverters bildet und die Drain- Elektrode den Ausgang des Inverters bildet und über einen Lastwiderstand mit der Versorgungsspannung verbunden ist. Sobald nun die Gate-Elektrode mit einer Eingangsspannung verbunden ist, bildet sich ein Stromfluß zwischen Source- Elektrode und Drain-Elektrode aus, wodurch der Kanalwiderstand des OFET soweit verringert wird, daß die Drain-Elektrode annähernd Nullpotential aufweist. Sobald nun die Eingangsspannung an der Gate-Elektrode Null ist, steigt der Kanalwiderstand des OFET so stark an, daß die Drain-Elektrode annähernd das Potential der Versorgungsspannung aufweist. Auf diese Weise wird also die Eingangsspannung in eine invertierte Ausgangsspannung transformiert, d.h. das Eingangssignal des Inverters wird invertiert. In der Praxis ist der Lastwiderstand des Inverters ebenfalls als OFET ausgebildet. Zur besseren Unterscheidung wird dieser OFET als Last-OFET bezeichnet und der schaltende OFET als Schalt- OFET.
Das Strom-Spannungs-Diagramm in Fig. 8 zeigt die Abhängigkeit zwischen dem Durchgangsstrom I0 durch Schalt-OFET bzw. Last-Widerstand und der Ausgangsspannung Uaus. Dabei bezeichnet 8Oe die Ein-Kennlinie und 80a die Aus-Kennlinie des Schalt-OFETs sowie 8Ow die Widerstandskennlinie des Last- Widerstands. Die Schnittpunkte 82e und 82a der Widerstandskennlinie 8Ow mit der Ein-Kennlinie 8Oe bzw. der Aus-Kennlinie 80a bezeichnen die Schaltpunkte des Inverters, die um einen Spannungshub 82h der Ausgangsspannung Uaus voneinander beabstandet sind. Bei jedem Umschaltvorgang des Inverters fließt ein Umladestrom, dessen Betrag durch die schraffierten Flächen 84e bzw. 84a symbolisiert ist. Schnelle und gleichzeitig gut und sicher schaltbare Logik-Gatter zeichnen sich durch die in Fig. 8 schematisch dargestellten Eigenschaften des großen Spannungshubs 82h und der annähernd betragsmäßig gleichen Umladeströme 84e und 84a aus.
In Fig. 9a ist ein erster Verlauf der Ausgangsspannung Uaus des Inverters in Abhängigkeit der Eingangsspannung Uejn qualitativ dargestellt. Dem Inverter aus Fig. 8 ist dabei die Kurve 82k zuzuordnen. Die Lage des Aus-Niveaus 82e ist direkt von der Lage der Kurven 8Oe und 8Ow in Fig. 8 abhängig. Durch die erfindungsgemäße Ausbildung der Logik-Gatter mit mindestens zwei unterschiedlichen OFETs 1 , 2, wie beispielsweise in Fig. 2b dargestellt, kann die in Fig. 9a dargestellte vorteilhafte Kennlinie 86k ausgebildet werden, indem beispielsweise die beiden OFET mit Halbleiterschichten 13, 23 mit unterschiedlichen Dicken ausgebildet sind. Der Vorteil liegt in dem daraus resultierenden größeren Spannungshub 86h im Vergleich zu 82h.
Die Fig. 9b zeigt einen zweiten Verlauf der Ausgangsspannung UaUs des Inverters in Abhängigkeit der Eingangsspannung Uejn in qualitativer Darstellung. Nunmehr ist der Spannungshub 86h nochmals vergrößert, weil die Kennlinie 86h die Ausgangsspannung UaUs = 0 einschließt. Ein solcher Inverter ist mit besonders kleiner Verlustleistung ausgebildet.
Durch die Ausbildung der erfindungsgemäßen Logik-Gatter mit unterschiedlichen Feldeffekttransistoren, die durch schichtweises Drucken und/oder Rakeln herstellbar sind, ist die kostengünstige Massenproduktion der erfindungsgemäßen Logik-Gatter ermöglicht. Die Druckverfahren haben einen solchen Stand erreicht, daß feinste Strukturen in den einzelnen Schichten ausbildbar sind, die mit anderen Verfahren nur mit hohem Aufwand ausbildbar sind.

Claims

Ansprüche
1. Elektronikbauteil, insbesondere RFID-Transponder, mit mindestens einem Logik-Gatter, dadurch gekennzeichnet, daß das Logik-Gatter aus mehreren auf einem gemeinsamen Substrat (10) aufgebrachten Schichten gebildet ist, die zumindest zwei Elektrodenschichten, zumindest eine aus einer Flüssigkeit aufgebrachte, insbesondere organische, Halbleiterschicht (13, 23) und eine Isolatorschicht
(14, 24) umfassen und die so ausgebildet sind, daß das Logik-Gatter mindestens zwei unterschiedlich aufgebaute Feldeffekttransistoren (1 , 2) umfaßt.
2. Elektronikbauteil nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) sich in ihrer Dicke unterscheidende aus einer Flüssigkeit aufgebrachte
Halbleiterschichten (13, 23) aufweisen.
3. Elektronikbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) sich in ihrem Halbleitermaterial unterscheidende aus einer Flüssigkeit aufgebrachte Halbleiterschichten (13, 23) aufweisen.
4. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) sich in ihrer Leitfähigkeit unterscheidende aus einer Flüssigkeit aufgebrachte Halbleiterschichten (13, 23) aufweisen.
5. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) sich in ihrer Dicke unterscheidende Isolatorschichten (14, 24) aufweisen.
6. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) sich in ihrem Isolatormaterial unterscheidende Isolatorschichten (14, 24) aufweisen.
7. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) sich in ihrer Permeabilität unterscheidende Isolatorschichten (14, 24) aufweisen.
8. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) mit unterschiedlich flächig strukturierten Schichten ausgebildet sind.
9. Elektronikbauteil nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten streifenförmig ausgebildet sind mit unterschiedlicher Länge und/oder unterschiedlicher Breite.
10. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) nebeneinander angeordnet sind.
11. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) übereinander angeordnet sind.
12. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) mit gleicher Orientierung angeordnet sind.
13. Elektronikbauteil nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) mit der Orientierung Bottom-Gate oder Top-Gate angeordnet sind.
14. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 10 oder 11 , dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) mit unterschiedlicher Orientierung angeordnet sind.
15. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) einen unterschiedlichen Verlauf des Innenwiderstandes und/oder ein unterschiedliches Schaltverhalten aufweisen.
16. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei Feldeffekttransistoren (1 , 2) in einer Parallelschaltung und/oder Reihenschaltung miteinander verbunden sind.
17. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung zwischen den mindestens zwei Feldeffekttransistoren (1 , 2) durch galvanische und/oder kapazitive Kopplung zwischen Elektroden (11 ,
12, 15, 21, 22, 25) der Feldeffekttransistoren (1,2) ausgebildet ist.
18. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) mit einer gemeinsamen Gate-Elektrode (15) ausgebildet sind.
19. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) mit Halbleitermaterial komplementären Leitungstyps ausgebildet sind, wobei der erste Feldeffekttransistor (1) mit einer p-leitenden Halbleiterschicht (13) und der zweite Feldeffekttransistor (2) mit einer n-leitenden Halbleiterschicht (23) ausgebildet ist oder umgekehrt.
20. Elektronikbauteil nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die unmittelbar aneinandergrenzenden Halbleiterschichten (13, 23) der mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) eine Zone mit p/n-Übergang bilden oder umgekehrt.
21. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1 , 2) auf einem Substrat (10) räumlich so angeordnet sind, daß das Elektronikbauteil im wesentlichen durch schichtweises Drucken und/oder Rakeln herstellbar ist.
22. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten der mindestens zwei unterschiedlichen Feldeffekttransistoren (1, 2) als druckbare halbleitende Polymere und/oder druckbare isolierende Polymere und/oder leitfähige Druckfarben und/oder metallische Schichten ausgebildet sind.
23. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die das Elektronikbauteil bildenden Schichten lösliche organische
Schichten, einschließlich Schichten aus polymeren Material und/oder oligomerem Material und/oder Material aus „small moleculs" und/oder Material aus Nano-Partikeln, aufweisen.
24. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der löslichen organischen Schicht durch ihren
Lösungsmittelanteil einstellbar ist.
25. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der löslichen organischen Schicht durch ihre Auftragsmenge einstellbar ist.
26. Elektronikbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronikbauteil von einem mehrschichtigen flexiblen Folienkörper gebildet ist.
27. Elektronikbauteil nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronikbauteil als flexible, sich der Gerätekontur anpassende elektronische Schaltung ausgebildet ist.
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