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Patentes

  1. Búsqueda avanzada de patentes
Número de publicaciónUSD569969 S1
Tipo de publicaciónConcesión
Número de solicitudUS 29/270,290
Fecha de publicación27 May 2008
Fecha de presentación20 Dic 2006
Fecha de prioridad20 Dic 2006
Número de publicación270290, 29270290, US D569969 S1, US D569969S1, US-S1-D569969, USD569969 S1, USD569969S1
InventoresJing-Jyr Lin
Cesionario originalJing-Jyr Lin
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Enlaces externos: USPTO, Cesión de USPTO, Espacenet
Mask
US D569969 S1
Imágenes(8)
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Reclamaciones(1)
  1. The ornamental design for a mask, as shown.
Descripción

FIG. 1 is a perspective view of the mask;

FIG. 2 is a front view of the mask;

FIG. 3 is a back view of the mask;

FIG. 4 is a left side view of the mask;

FIG. 5 is a right side view of the mask;

FIG. 6 is a top view of the mask; and,

FIG. 7 is a bottom view of the mask.

Clasificaciones
Clasificación de EE.UU.D24/110.1, D24/110.4