WO1989004507A1

WO1989004507A1 - Pattern forming material and method for forming pattern

Info

Publication number: WO1989004507A1
Application number: PCT/JP1988/001127
Authority: WO
Inventors: Naohiro Muramoto; Katsutoshi Mine
Original assignee: Toray Silicone Co., Ltd.
Priority date: 1987-11-09
Filing date: 1988-11-09
Publication date: 1989-05-18
Also published as: DE3854714D1; JPH01123229A; EP0315954B1; AU611220B2; JP2608429B2; KR890702081A; EP0315954A3; CA1335542C; US4985342A; EP0315954A2; DE3854714T2; AU2490088A

Description

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< 実施例 1 >

参考例 1 〜 1 6 で得られたボリマーを酢酸イソァミル（以下「 I 」という）、メチルイソブチルケトン（以下「 M 」という）または、 n —

へブタン（以下 Γ H 」という）に 1 0 重量％濃度で溶解し、孔径 0 . 2 / mのテフロン系フィルタ一を用いてろ過した。そのろ液をシリコンウエノ、一上にスピンコート法により約 0 . 4 w mの厚さに塗布し、 8 0 °C でプリべーク後、力 ϋ 速電圧 2 0 k V の電子線照射を行なつた。照射後、ゥ I ノ\ 一を n — へフ' タンまたはエタノール（以下「 E 」という）で現像し感度の目安となる初期膜厚の 5 0 % が残る電子線照射量 D ^{£ &} 5 ₀ ( Z C Z c m ) を求めた。その結果を解像できた最小ラインノスベース（ L ノ S ) と共に表 1 に示した。

参考例 No.

ポリマー

1 2 3 4 5 6 7 8 9 1 0 1 1 1 2 1 3 1 1 5 1 m 像液 E E E I I E H H E E H E E E E H

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ポリマー

3 6 7 8 9 1 6 增感剤 B B B A A

5 現像液 E E E H H E H

D ^{E X} 50

350 300 240 250 200 ！ 220 ' 210

(inj/ctn²)

最小 L / S

0.6！ 0.5 0.6 ！ 0.5 1.0 ！ 0.8 ！ 1.0

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く実施例 7 〉実施例 6 で形成されたポリイミド樹脂層上のパターンを、実施例 2 と同様の操作で酸素イオンェツチングを行うことにより、ボリォルガノシロキ / S サン系の上層ノ、' ターン層は殆ど膜べりすることなく転写され、膜厚約 2 . 2 mのサフ" ミクロンゾヽ' ターンを形成することができた。く実施例 8 > 参考例 6'、 7、 8、 9、 1 1 もしくは 1 6' の才； O リマー 1 0 重量％と、增感剤（ B ) もしくはミヒ、

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Claims

請求の範囲

用す房 -一一斉 6青己

载る 5と

料の

式 S i 0 2 で表わざれるシロキサン単位と少な量午ヽ。

囲

くとも一種のオルガノシロキサン単位とから構含

成ざれ、分子中に少なくとも一つの高工ネルギ

t le項- 一線感応基を含み、囲て軟化温度が常溫以上であり、溶剤可溶性であるボリオルガノシロキサンを主る 1-ま

項料料。ノポリオルカ' ノシロキサン分子中ノ徵のに S i 0 4 ₂単位範と

が 1 0 9 0 モル％含まれていることを特徴とるする特許請求の範囲第 1 項記載のパターン形成寺用材料 _c 成項材キポリオルガノシロキサン分子中に S i が 1 0

軟化塭度が 1 0 0 て以上であることを特徴と ± ^ Ά m M Έί ^ 2) ^ 2 m oz — / ⑦ 爵 ^ ¾ ~ a a.

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