WO2000068971A2 - Anlage zur bearbeitung von wafern - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anlage zur Bearbeitung von Wafern in wenigstens einem Reinraum (3) mit einer Anordnung von Fertigungseinheiten (1) zur Durchführung einzelner Fertigungsschritte und Meßeinheiten (8, 9) zur Kontrolle der Fertigungsschritte, welche zur Zufuhr und zum Abtransport der Wafer über ein Transportsystem verbunden sind. Wenigstens eine Meßeinheit (8, 9) bildet mit einer Entladestation zur Ausgabe von Wafern an das Transportsystem eine Meßstation (2), wobei aus der Meßstation (2) fehlerfrei bearbeitete Wafer getrennt von den übrigen Wafern ausführbar sind.

Description

Beschreibung

Anlage zur Bearbeitung von Wafern

Die Erfindung betrifft eine Anlage zur Bearbeitung von Wafern gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.

Derartige Anlagen umfassen eine Vielzahl von Fertigungseinheiten, mit welchen unterschiedliche Fertigungsschritte zur Bearbeitung der Wafer durchgeführt werden. Bei diesen Fertigungsschritten handelt es sich insbesondere um Ätzprozesse, Naßchemieverfahren, Diffusionsprozesse sowie diverse Reinigungsverfahren wie zum Beispiel C P-Verfahren (Chemical Me- chanical Polishing) . Für jeden der entsprechenden Fertigungs - schritte sind eine oder mehrere Fertigungseinheiten vorgesehen. Zudem sind Meßeinheiten vorgesehen, in welchen die Güte der Bearbeitung der Wafer kontrolliert werden kann. Zweckmäßigerweise werden mit derartigen Meßeinheiten sämtliche Fertigungsschritte, welche in den Fertigungseinheiten durchge- führt werden, kontrolliert.

Der gesamte Fertigungsprozeß unterliegt strengen Reinheitsanforderungen, so daß die Fertigungseinheiten und Meßeinheiten in einem Reinraum oder in einem System von Reinräumen ange- ordnet sind.

Die Wafer werden in vorbestimmten Losgrößen über ein Transportsystem den einzelnen Fertigungs- und Meßeinheiten zugeführt. Hierzu werden die Wafer in Transportbehältern, welche beispielsweise in Form von Kassetten ausgebildet sind, transportiert, wobei die Transportbehälter jeweils die gleiche Anzahl von Wafern aufnehmen. Auch der Abtransport nach der Bearbeitung der Wafer in den Fertigungs- und Meßeinheiten erfolgt über das Transportsystem, wobei die Wafer dabei in den- selben Transportbehältern gelagert sind. Das Transportsystem weist ein Fördersystem auf, welches beispielsweise in Form von Rollenförderern ausgebildet ist. Zudem weist das Transportsystem ein Speichersystem mit mehreren Speichern zur Lagerung von Transportbehältern mit Wafern auf . Zweckmäßigerweise sind die Speicher als Stocker ausgebildet. Derartige Stocker sind Speichersysteme, in welchen Wafer unter Reinraumbedingngen gelagert werden.

Bei bekannten Anlagen zur Bearbeitung von Wafern wird ein in einem Transportbehälter zusammengefaßtes Los mit Wafern über das Transportsystem durch sämtliche Fertigungs- und Meßeinheiten der Anlage geführt. Dabei verbleibt die Bindung des Loses an den jeweiligen Transportbehälter. Dies bedeutet, daß Wafer von verschiedenen Losen nicht durchmischt werden.

Dabei wird zur Bearbeitung der Wafer jeweils ein Transportbehälter mit einem Los einer Fertigungseinheit über eine Be- und Entladestation zugeführt. Nach Bearbeitung der Wafer in der Fertigungseinheit wird das Los in denselben Transportbe- hälter wieder über die Be- und Entladestation an das Transportsystem ausgegeben.

Zur Kontrolle des in der Fertigungseinheit durchgeführten Fertigungsschrittes wird danach der Transportbehälter einer entsprechenden Meßeinheit zugeführt, welche ebenfalls eine Be- und Entladestation aufweist.

In der Meßeinheit wird geprüft, ob die einzelnen Wafer des Loses korrekt bearbeitet wurden. Dabei erfolgt üblicherweise eine Klassifizierung in fehlerfreie Wafer, Ausschuß-Wafer, welche nicht behebbare Mängel aufweisen sowie nachzuarbeitende Wafer, welche durch Nachbearbeitungen wieder die geforderte Qualität erfüllen.

Die nicht mehr verwendbaren Ausschuß-Wafer werden aus dem

Produktionsprozeß ausgegliedert, während die nachzuarbeiten- den Wafer und die fehlerfreien Wafer wieder in den Transportbehälter gefüllt und über die Entladestation ausgegeben wer den. Da einige Wafer dieses Loses als Ausschuss aussortiert werden, verbleiben Lücken im Transportbehälter.

Nachteilig hierbei ist, dass bei derartigen Anlagen nur teilweise mit Wafern befüllte Transportbehälter im Umlauf sind. Dies bedeutet nicht nur eine mangelhafte Auslastung der Transportkapazitäten. Vielmehr ist damit auch eine große Durchlaufzeit der Wafer durch die Anlage verbunden. Dabei ist insbesondere nachteilig, dass bei nachfolgenden Fertigungs - prozessen, bei welchen mehrere Lose zusammengefasst werden, keine optimale Auslastung erzielt wird. Hierzu gehören insbesondere Oxidationsprozesse, welche in Öfen durchgeführt wer- den. Bei diesen Prozessen werden, um Lücken in einem

Transportlos zu vermeiden diese mit sogenannten Dummy-Wafern befüllt, bis die Anzahl der Wafer der ursprünglichen Losgröße entspricht. Derartige Dummy-Wafer haben außer der Platzhalterfunktion im Transportlos, welche eine homogene Temperatur- Verteilung innerhalb des Ofens gewährleistet, keine weitere Funktion und sind insbesondere für den weiteren Fertigungs - prozess in der Anlage unbrauchbar.

Dies macht eine Zwischenlagerung derartiger Transportbehälter in separaten Speichersystemen notwendig, um sie später zu einem geeigneten Zeitpunkt Fertigungseinheiten zuzuführen, in welchen die Nachbearbeitung der nachzuarbeitenden Wafer erfolgen kann. Die ebenfalls im Transportbehälter angeordneten fehlerfreien Wafer werden dabei im Los des Transportbehälters mitgeführt. Dies bedeutet erhebliche Wartezeiten für die fehlerfreien Wafer.

Aus der DE 37 35 449 AI ist ein Fertigungssystem für Wafer bekannt, welches aus mehreren austauschbaren Transportmodu- len, Prozessmodulen und Kontrollmodulen zusammengesetzt ist. Jedes Prozessmodul weist jeweils wenigstens eine Prozessstation, eine Ablage und ein Handhabungsgerät auf. Die Wafer werden in einer ersten Kassette über das Transport - modul angeliefert. Das Handhabungsgerät entnimmt die Wafer aus der ersten Kassette und führt sie den Prozessstationen und Ablagen zu. Im Kontrollmodul werden unbrauchbare Wafer erfasst und gegebenenfalls in einer zweiten Kassette gesammelt. Die zweite Kassette kann zur Zwischenlagerung der unbrauchbaren Wafer dienen. Alternativ werden die unbrauchbaren Wafer aus dem Kontrollmodul ausgeschleust. Die fehlerfreien Wafer werden in Kassetten gesammelt und wieder auf dem Trans- portmodul ausgegeben.

Die DE 195 14 037 AI betrifft eine Transportvorrichtung zur Beförderung von Substraten. Die Transportvorrichtung ist als Drehtisch ausgebildet, der in einer gleichbleibenden Taktfre- quenz angetrieben wird. Das Substrat kann mittels eines drehbar gelagerten Substratgreifers einer außerhalb des Drehtisches vorgesehenen Prozessstation zugeführt werden.

Aus der DE 195 23 969 AI ist ein IC-Transportsystem bekannt, welches in Verbindung mit einem tablettartigen Magazin oder einem stabförmigen Magazin betrieben werden kann. Durch ein Verfahren zum wiederholten Testen von Bausteinen in einer IC- Prüfungshandhabungseinrichtung werden im Magazin gespeicherte Bausteine ohne das Eingreifen durch eine Bedienungsperson wiederholt geprüft und die Bausteine gemäß den Testergebnissen sortiert und im Magazin gespeichert .

Die JP 08268512 A betrifft eine Speichereinheit zur Speicherung von Substraten. Die Speichereinheit umfasst eine Sor- tiereinheit, mittels derer die Substrate selbsttätig sortiert und in Kassetten in der Speichereinheit eingelagert oder ausgelagert werden. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Anlage der eingangs genannten Art so auszubilden, dass ein möglichst effizienter Materialfluss der Wafer durch die Anlage gewährleistet ist.

Zur Lösung dieser Aufgabe sind die Merkmale des Anspruchs 1 vorgesehen. Vorteilhafte Ausführungsformen und zweckmäßige Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.

Erfindungsgemäß sind in der Anlage zur Bearbeitung von Wafern

Messstationen vorgesehen, welche jeweils eine oder mehrere

Messeinheiten sowie wenigstens eine Entladestation zur Ausgabe der Wafer an das Transportsystem aufweisen.

In der Messstation werden erste Transportbehälter mit fehlerfreien Wafern befüllt, welche die Kontrolle in der oder in den Messeinheiten der Messstation erfolgreich durchlaufen haben. Die übrigen, nicht fehlerfreien Wafer werden in andere, zweite Transportbehälter gefüllt. Zweckmäßigerweise werden dabei nachzuarbeitende Wafer in zweite Transportbehälter gefüllt. Dritte Transportbehälter werden schließlich mit Aus- schuss-Wafern befüllt, welche nicht mehr nacharbeitbar sind.

Über die Entladestation der Messstation werden die unterschiedlichen Transportbehälter separat voneinander an das Transportsystem ausgegeben. Dabei sind die ersten, zweiten und gegebenenfalls dritten Transportbehälter unterschiedlich, vorzugsweise in unterschiedlichen Farben gekennzeichnet und werden über verschiedene Entladeports der Entladestation, welche vorzugsweise in entsprechender Weise gekennzeichnet sind, ausgegeben.

Der wesentliche Vorteil der erfindungsgemäßen Anlage besteht darin, dass über die Messstation erste Transportbehälter ausgegeben werden, welche komplett mit fehlerfreien Wafern befüllt sind. Nur diese Wafer bleiben im Fertigungsprozess in der Anlage, so dass ein optimaler Auslastungsgrad der Transportbehälter erzielt wird, was auch zu einer erheblichen Verkürzung der Durchlaufzeit der Wafer durch die Anlage führt. Die Ausschuss-Wafer können am Ausgang der Messstation kom- plett aus dem Fertigungsprozess ausgeschleust werden. Die mit nachzuarbeitenden Wafern befüllten zweiten Transportbehälter werden, gegebenenfalls nach einer Zwischenlagerung, Fertigungseinheiten zur Durchführung der Nacharbeitungsprozesse zugeführt. Besonders vorteilhaft dabei ist, daß diese zweiten Transportbehälter keine fehlerfreien Wafer mehr enthalten, so daß für die fehlerfreien Wafer keine unnötige Wartezeiten entstehen. Auch die Nacharbeitungsprozesse selbst werden dadurch effizienter, da den entsprechenden Fertigungseinheiten nur noch zweite Transportbehälter zugeführt werden, in wel- chen sich allein nachzuarbeitende Wafer befinden. Entsprechende Sortiervorgänge entfallen somit.

Schließlich ist vorteilhaft, daß durch die unterschiedliche Kennzeichnung der ersten, zweiten und dritten Transportbehäl- ter eine fehlersichere und einfache Zuordnung der unterschiedlichen Transportbehälter zu den jeweiligen Fertigungsund Meßeinheiten ermöglicht wird.

Die Erfindung wird im nachstehenden anhand der Zeichnungen erläutert. Es zeigen:

Figur 1: Schematische Darstellung einer Anlage zur Bearbeitung von Wafern mit mehreren Fertigungseinheiten und Meßstationen.

Figur 2: Schematische Darstellung einer Meßstation gemäß Figur 1.

Figur 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Anlage zur Bear- beitung von Wafern. Die Anlage umfaßt eine Vielzahl von Fertigungseinheiten 1 zur Durchführung von für die Bearbeitung der Wafer notwendigen Fertigungsschritten. Derartige Ferti- gungsschritte umfassen Bearbeitungsvorgänge bei Ätzprozessen, Naßchemieverfahren, Diffusionsprozessen sowie Reinigungsverfahren. Für diese Fertigungsschritte können jeweils eine oder mehrere Fertigungseinheiten 1 vorgesehen sein.

Zudem umfaßt die Anlage eine Vielzahl von Meßstationen 2, in welchen die Resultate der einzelnen Fertigungsschritte überprüft werden.

Die Fertigungseinheiten 1 und die Meßstationen 2 sind in einem Reinraum 3 angeordnet Alternativ kann die Anlage über ein System von Reinräumen 3 verteilt sein.

Die Fertigungseinheiten 1 und die Meßstationen 2 sind über ein Transportsystem miteinander verbunden. Das Transportsystem weist ein Fördersystem 4 und ein Speichersystem auf . Das Fördersystem 4 kann beispielsweise von einem System von Rol- lenfδrderern 12 gebildet sein. Die Speicher 5 des Speichersystems sind vorzugsweise als Stocker ausgebildet.

Über das Fördersystem 4 werden die Wafer in Transportbehältern 6a, 6b, 6c transportiert. Die Transportbehälter 6a, 6b, 6c können in Form von Kassetten oder dergleichen ausgebildet sein.

Die Fertigungseinheiten 1, die Meßstationen 2 sowie die Speicher 5 weisen für die Zufuhr und den Abtransport jeweils wenigstens eine Be- und Entladestation 7 auf.

Zweckmäßigerweise werden den einzelnen Fertigungseinheiten 1 Wafer in bestimmten Losgrößen in jeweils einem Transportbehälter 6a zugeführt. Nach der Bearbeitung der Wafer in der Fertigungseinheit 1 werden die Wafer in demselben Transportbehälter 6a an das Transportsystem ausgegeben und über dieses einer Meßstation 2 zur Überprüfung der Qualität der Bearbeitung in der Fertigungseinheit 1 zugeführt. Der Aufbau einer derartigen Meßstation 2 ist in Figur 2 beispielhaft dargestellt. Die Meßstation 2 weist zwei Meßeinheiten 8, 9 auf, in welchen unterschiedliche Kontrollfunktionen realisiert werden können. Beispielsweise kann die Meßstation 2 zur Kontrolle von Fertigungsschritten eines in mehreren Fertigungseinheiten 1 durchgeführten Lithographie-Prozesses vorgesehen sein. Die eine Meßeinheit 8 kann dann typischerweise als Kontrollsystem ausgebildet sein, welches abprüft, ob Mehrfachstrukturen, welche Wafer im Inneren aufweisen, korrekt übereinanderliegend angeordnet sind. Die zweite Meßeinheit 9 kann als optische Kontrollvorrichtung zum Erkennen von Verwerfungen auf den Wafern ausgebildet sein.

Die Meßstation 2 weist eine Be- und Entladestation 7 auf, ü- ber welche Transportbehälter 6a, 6b, 6c mit Wafern angeliefert und von der Meßstation 2 an das Transportsystem ausgegeben werden. Die Be- und Entladestation 7 besteht aus einer Beladestation und einer Entladestation, welche räumlich getrennt voneinander angeordnet sind. Im vorliegenden Ausfüh- rungsbeispiel sind als Beladestation zwei Beladeports 10 vorgesehen. Die Entladestation weist mehrere Entladeports 11a, 11b, 11c auf. Von den Beladeports 10 und den Entladeports 11a, 11b, 11c führen Rollenförderer 12 zu den Meßeinheiten 8, 9. An den Rollenförderern 12 ist im Bereich der Meßeinheiten 8, 9 ein Handhabungsgerät 13 angeordnet, welches von einem

Roboter oder dergleichen gebildet sein kann. Zweckmäßigerweise werden die Wafer unmittelbar nach Eingang in die Meßstation 2 vereinzelt. Dies kann durch das Bedienpersonal oder mittels nicht dargestellter Greifer erfolgen. Dabei werden die einzelnen Wafer aus den Transportbehältern 6a entnommen und über die Rollenförderer 12 den Meßeinheiten 8, 9 zugeführt. Über das Handhabungsgerät 13 werden die Wafer einzeln den Meßeinheiten 8, 9 zugeführt und einzeln aus den Meßeinheiten 8, 9 entnommen. Somit erfolgt in der gesamten Meßstation 2 eine Einzelwaferbearbeitung losgelöst von den durch die Kapazitäten der Transportbehälter 6a, 6b, 6c vorgegebenen Losgrößen. Damit eine Identifizierung der einzelnen Wafer gewährleistet ist, ist auf jedem Wafer eine Markierung angebracht, welche mittels nicht dargestellter Erfassungssysteme lesbar ist. Beispielsweise können auf den Wafern an Stellen, welche am Schluß des Fertigungsprozesses von der Nutzfläche der Wafer als Abfall abgetrennt werden, Barcodes aufgebracht sein, die Erfassungssysteme sind dann von Barcodelesegeräten gebildet.

Erfindungsgemäß werden die einzelnen Wafer nach der Überprü- fung in den Meßeinheiten 8, 9 entsprechend der jeweiligen Bearbeitungsqualität in unterschiedliche Transportbehälter 6a, 6b, 6c gefüllt. Diese Befüllung kann durch das Handhabungsgerät 13 erfolgen. Alternativ kann diese Befüllung durch das Bedienpersonal oder mittels nicht dargestellter Greifer am Ausgang der Meßstation 2 erfolgen. Fehlerfreie Wafer, welche die Kontrolle in den Meßeinheiten 8, 9 erfolgreich durchlaufen haben, werden in erste Transportbehälter 6a gefüllt. Nachzuarbeitende Wafer, welche geringe Mängel aufweisen, die durch geeignete Nachbearbeitungsprozesse behebbar sind, wer- den in zweite Transportbehälter 6b gefüllt. Schließlich werden Ausschuß-Wafer, welche gravierende, nicht mehr behebbare Mängel aufweisen, in dritte Transportbehälter 6c gefüllt.

Bei der Meßstation 2 gemäß Figur 2 handelt es sich um Meßein- heiten 8, 9 zur Kontrolle von Lithographie-Prozessen. Bei diesen Prozessen fallen üblicherweise nachzuarbeitende Wafer an. Bei anderen Fertigungsprozessen, wie zum Beispiel Oxida- tionsprozessen fallen üblicherweise nur fehlerfreie Wafer o- der Ausschuß-Wafer an, da im Falle einer fehlerhaften Bear- beitung die Mängel an den Wafern derart gravierend sind, daß eine Nacharbeit nicht mehr möglich ist. In diesem Fall werden in der Meßstation 2 nur zwei Sorten von Transportbehältern 6a, 6c benötigt.

Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2 werden die ersten, zweiten und dritten Transportbehälter 6a, 6b ,6c getrennt ü- ber unterschiedliche Entladeports 11a, 11b, 11c aus der Meßstation 2 ausgegeben.

Um Verwechslungen zu vermeiden sind die ersten, zweiten und dritten Transportbehälter 6a, 6b, 6c unterschiedlich gekennzeichnet. Die ersten Transportbehälter 6a, mit den fehlerfreien Wafern sind mit grüner Farbe gekennzeichnet. Die zweiten Transportbehälter 6b mit den nachzuarbeitenden Wafern sind mit gelber Farbe gekennzeichnet. Schließlich sind die dritten Transportbehälter 6c mit den Ausschuß-Wafern mit roter Farbe gekennzeichnet,

Die Entladeports 11a, 11b, 11c, über welche die unterschiedlichen Transportbehälter 6a, 6b, 6c ausgegeben werden, sind in den entsprechenden Farben gekennzeichnet. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind zwei mit grüner Farbe gekennzeichnete Entladeports 11a zur Ausgabe der grün gekennzeichneten ersten Transportbehälter 6a vorgesehen. Zudem ist jeweils ein gelb und rot gekennzeichneter Entladeport 11b, 11c zur Ausga- be der gelb und rot gekennzeichneten Transportbehälter 6b, 6c vorgesehen.

Die grün gekennzeichneten Transportbehälter 6a sind komplett mit fehlerfreien Wafern befüllt und werden nach Ausgabe aus der Meßstation 2 den weiteren Fertigungseinheiten 1 und Meßstationen 2 zur Bearbeitung zugeführt.

Vorteilhafterweise sind damit nur fehlerfreie Wafer in den mit grüner Farbe gekennzeichneten Transportbehältern 6a in der Anlage zur Bearbeitung im Umlauf.

In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung werden in der Meßstation nicht sämtliche Wafer geprüft. Vielmehr findet nur eine Prüfung eines vorgegebenen Teils des Wa- fer statt. In diesem Fall ist nur ein Teil der Wafer in den grünen Transportbehältern auf Fehlerfreiheit geprüft. Die Ausschuß-Wafer in den rot gekennzeichneten Transportbehältern 6c werden zweckmäßigerweise am Ausgang der jeweiligen Meßstation 2 sofort aussortiert. Dieser Prozeß kann vorteilhafterweise manuell erfolgen.

Die nachzuarbeitenden Wafer in den gelb gekennzeichneten Transportbehältern 6b werden zweckmäßigerweise in Speichern 5 zwischengespeichert um dann zu geeigneten Zeitpunkten Fertigungseinheiten 1 zur Nacharbeitung zugeführt zu werden.

Diese Auslagerungs- und Zuführungsprozesse können insbesondere manuell erfolgen, wodurch die nachzuarbeitenden Wafer vom Umlauf der fehlerfreien Wafer auf dem Fördersystem 4 getrennt sind.

Claims

Patentansprüche

1. Anlage zur Bearbeitung von Wafern in wenigstens einem Reinraum mit einer Anordnung von Fertigungseinheiten zur Durchführung einzelner Fertigungsschritte und Messeinheiten zur Kontrolle der Fertigungsschritte welche zur Zufuhr und zum Abtransport der Wafer über ein Transportsystem verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Messeinheit (8) mit einer Entladestation zur Ausgabe von Wa- fern an das Transportsystem eine Messstation (2) bildet, wobei in der Messstation (2) erste Transportbehälter (6a) mit fehlerfreien Wafern befüllt werden, welche die Kontrolle in der Messeinheit (8) erfolgreich durchlaufen haben, und wobei wenigstens zweite Transportbehälter (6b) mit den übrigen Wa- fern befüllt werden, dass die ersten und zweiten Transportbehälter unterschiedlich gekennzeichnet sind, und dass die ersten und zweiten Transportbehälter (6a, 6b) getrennt voneinander über die Entladestation aus der Messstation (2) ausführbar sind.

2. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Wafer, welche die Kontrolle in der Meßeinheit (8) nicht erfolgreich durchlaufen, in nachzuarbeitende Wafer und in Ausschuß-Wafer unterteilt sind, und daß mit nachzuarbeitenden Wafern befüllte zweite Transportbehälter (6b) und mit Ausschuß-Wafern befüllte dritte Transportbehälter (6c) getrennt voneinander über die Entladestation aus der Meßstation (2) ausführbar sind .

3. Anlage nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten, zweiten und dritten Transportbehälter (6a, 6b, 6c) über separate Entladeports (11a, 11b, 11c) der Entladestation ausführbar sind.

4. Anlage nach einem der Ansprüche 1 - 3, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten, zweiten und dritten Trans- portbehälter (6a, 6b, 6c) mit unterschiedlichen Farben gekennzeichnet sind.

5. Anlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Transportbehälter (6a) mit grüner Farbe, die zweiten Transportbehälter (6b) mit gelber Farbe und die dritten Transportbehälter (6c) mit roter Farbe gekennzeichnet sind.

6. Anlage nach einem der Ansprüche 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Entladeports (11a, 11b, 11c) mit den Farben der diesen Entladeports (11a, 11b, 11c) zugeordneten Transportbehältern (6a, 6b, 6c) gekennzeichnet sind.

7. Anlage nach einem der Ansprüche 2 - 6, dadurch ge- kennzeichnet, daß diese ein Speichersystem zur Zwischenlagerung der zweiten und / oder dritten Transportbehälter (6b, 6c) aufweist.

8. Anlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten und dritten Transportbehälter (6b, 6c) in separaten Speichern (5) des Speichersystems zwischengelagert sind.

9. Anlage nach einem der Ansprüche 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die nachzuarbeitenden Wafer in den zweiten Transportbehältern (6b) und / oder die Ausschuß-Wafer in den dritten Transportbehältern (6c) an den Entladeports (11b, 11c) der Entladestationen manuell ausgelagert werden.

10. Anlage nach einem der Ansprüche 1 - 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Wafer Markierungen zu deren Identifikation aufweisen.

11. Anlage nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß in vorgegebenen Losgrößen an eine Meßstation (2) angelieferte Wafer in der Meßstation (2) vereinzelt werden.

12. Anlage nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß in einer mehrere Meßeinheiten (8, 9) aufweisenden Meßstation (2) die Wafer einzeln bearbeitet werden.