WO2002099908A1 - Verfahren zur erzeugung von leitfähigen strukturen mittels drucktechnik sowie daraus hergestellte aktive bauelemente für integrierte schaltungen - Google Patents

Verfahren zur erzeugung von leitfähigen strukturen mittels drucktechnik sowie daraus hergestellte aktive bauelemente für integrierte schaltungen Download PDF

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Wolfgang Clemens
Walter Fix
Alexander Friedrich Knobloch
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    • H10K85/113Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
    • H10K85/1135Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof

Definitions

  • the invention relates to a method for producing conductive structures and active components made therefrom, in particular organic field effect transistors (OFETs), organic light-emitting diodes (OLEDs) and integrated circuits comprising them.
  • OFETs organic field effect transistors
  • OLEDs organic light-emitting diodes
  • conductive and finely structured electrodes or electrode tracks are required, which can be made from conductive materials such as metals, organic conductive polymers or particle-filled polymers.
  • Organic layers can be photochemically (cf. C.J. Drury et al., Appl. Phys. Lett. 73 (1) (1998) 108 and G.H. Gelink et al., Appl. Phys. Lett. 77 (10) (2000)
  • Applicant's DE 10047171.4 which has not yet been published, describes a method for producing an electrode and / or conductor track from organic material by contacting it with a chemical compound.
  • the organic See materials have the disadvantage that they are not as stable as corresponding inorganic materials.
  • the present invention accordingly relates to a method for producing conductive layers, which is characterized in that printed conductors or electrodes are produced in a conductive layer by means of a printing technique.
  • the method according to the invention is advantageously suitable for producing both organic and inorganic conductive structures or conductor tracks or electrodes.
  • a conductive organic layer is advantageously, for example, doped polyaniline, in which by printing with a basic printing medium by deprotonation a non-conductive matrix is generated. It is also possible to produce a conductive structure in a non-conductive matrix by printing on undoped polyaniline with an acidic printing medium by protonation. This matrix can then be removed and, if necessary, filled with a semiconductor layer.
  • an inorganic conductive material advantageously gold, aluminum, copper or indium tin oxide (ITO ) to select.
  • the metallic conductive layer which can be, for example, 1 to 100 nm thick, is first applied to a substrate or a lower layer, for example by vapor deposition. Then a suitable one is made using the gravure offset printing technique
  • Etching paste printed negative in the negative to the producing conductor track or electrode whereby the conductive layer in the printed areas is etched away with formation of the conductor track or electrode.
  • an etching resist can also be printed positively, which is removed again after the etching step.
  • this paste can have a basic or acid character.
  • the method according to the invention is advantageously designed to be continuous, which ensures mass production.
  • the invention also relates to an organic field-effect transistor in which source, drain and / or gate electrodes are produced by the method according to the invention.
  • the invention also relates to organic light-emitting diodes in which the conductive structures are formed by a method according to the invention.
  • the invention also relates to organic diodes, in particular rectifier diodes.
  • the invention also relates to integrated circuits comprising at least one OFET or another active component which is produced by the method according to the invention.
  • step A the highly viscous printing paste 2 is removed from the printing template (cliché) 3 by means of a printing stamp 1.
  • the pressure stamp 1 is advantageously made of a material that is resistant to the reactive printing paste 2.
  • the swell-resistant, acid-resistant silicone is suitable for the formation of inorganic conductor tracks or electrodes.
  • the printing template 3 contains the printing paste as a negative cliché of the conductor tracks or electrodes to be produced.
  • steps B and C the printing paste 2 is transferred to the substrate 5 coated with a conductive layer 4 by means of the printing stamp 1.
  • the printing paste 2 adheres to the printing stamp 1 in the form of discrete structures, which enables the conductive layer 4 to be treated in order to structure it.
  • the conductive layer 4 consists of a 1 to 100 m thick, conductive metal layer, such as a layer made of gold, aluminum, copper or ITO, which has been vapor-deposited.
  • the printing paste 2 has caustic properties and has an iron (III) chloride content for the copper application, iodine / potassium iodide for the gold application, hydrogen halide for the ITO application and aluminum for the application on hydrochloric acid or sodium hydroxide solution.
  • the substrate is freely selectable and can be a silicon substrate or a thin glass layer.
  • the conductive layer is formed.
  • further processing steps can follow as described above.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von leitfähigen Strukturen, das sich dadurch auszeichnet, dass man in einer leitfähigen Schicht, Leiterbahnen oder Elektroden direkt oder indirekt mittels einer Drucktechnik erzeugt. Das Verfahren ist besonders geeignet in einfacher, schneller und kostengünstiger Weise Elektroden und Leiterbahnen in optoelektronischen Bauelementen zu erzeugen.

Description

Beschreibung
Verfahren zur Erzeugung von leitfähigen Strukturen mittels Drucktechnik sowie daraus hergestellte aktive Bauelemente für integrierte Schaltungen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von leitfähigen Strukturen sowie daraus hergestellte aktive Bauelemente, insbesondere organische Feldeffekt-Transistoren (OFETs), organische Leuchtdioden (OLEDs) bzw. diese umfassende integrierte Schaltungen.
Zur Realisierung von organischen und anorganischen optoelektronischen Bauelementen werden leitfähige und feinstruk- turierte Elektroden bzw. Elektrodenbahnen benötigt, die aus leitfähigen Materialien, wie Metallen, organischen leitenden Polymeren oder partikelgefüllten Polymeren hergestellt werden können. Organische Schichten lassen sich dabei photochemisch (vgl. C.J. Drury et al . , Appl . Phys . Lett . 73 (1) (1998) 108 und G.H. Gelink et al . , Appl. Phys. Lett. 77 (10) (2000)
1487) oder auf lithographischem Wege (Synth. Met 101 (1999) 705) strukturieren. Ähnliche Methoden sind auch für die Strukturierung von anorganischen leitfähigen Schichten möglich.
Diese Verfahren zur Strukturierung leitfähiger Schichten bzw. zur Erzeugung von Leiterbahnen bzw. Elektroden sind arbeitstechnisch sehr aufwendig und damit zeit- und kostenintensiv. Insbesondere für die Erzeugung von hochaufgelösten leitenden Strukturen in opto-elektronischen Bauelementen, wie OFETs, OLEDs und dergleichen sind diese Schritte daher zu umfangreich.
In der noch nicht veröffentlichten DE 10047171.4 der Anmelde- rin wird ein Verfahren zur Herstellung eine Elektrode und/oder Leiterbahn aus organischem Material durch Kontaktieren mit einer chemischen Verbindung beschrieben. Die organi- sehen Materialien haben den Nachteil, dass sie nicht so stabil wie entsprechende anorganische Materialien sind.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfah- ren anzugeben, mit welchem in einfacher und kostengünstiger Weise mit möglichst wenigen Arbeitsschritten hochaufgelöste leitfähige Strukturen, möglichst aus anorganischem Material, erzeugt werden können.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist demnach ein Verfahren zur Erzeugung von leitfähigen Schichten, das sich dadurch auszeichnet, dass man in einer leitfähigen Schicht, Leiterbahnen bzw. Elektroden mittels einer Drucktechnik erzeugt.
Durch eine druckbare Strukturierung wird das Verfahren wesentlich vereinfacht, billiger und schneller. Es fallen ebenfalls sämtliche beispielsweise für die Lithographie nötigen Schritte, wie Aufbringen eines Photolackes, Belichtung, Entwicklung und gegebenenfalls anschließende Reinigung weg.
Prinzipiell eignen sich alle Druckverfahren, wie Tiefdruck, Hochdruck, Flachdruck, Durchdruck (Siebdruck) . In einer besonders bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden jedoch die Leiterbahnen bzw. Elektroden im sogenannten Gravur-Offset-Druck erzeugt. Man spricht hier auch vom Tampon-Druck. Der Vorteil dieses Druckverfahrens besteht darin, dass man die zu erzeugende Struktur positiv oder negativ in Form eines Klischees, das die Druckpaste enthält, anlegen kann.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich in vorteilhafterweise zur Erzeugung sowohl organischer als auch anorganischer leitfähiger Strukturen bzw. Leiterbahnen oder Elektroden.
Eine leitfähige organische Schicht ist vorteilhafterweise beispielsweise dotiertes Polyanilin, in welcher durch Bedrucken mit einem basischen Druckmedium durch Deprotonierung eine nichtleitende Matrix erzeugt wird. Auch kann durch Bedrucken von nicht-dotiertem Polyanilin mit einem sauren Druckmedium durch Protonierung eine leitfähige Struktur in einer nichtleitenden Matrix erzeugt werden. Diese Matrix kann dann entfernt werden und gegebenenfalls mit einer Halbleiterschicht ausgefüllt werden. Aus Gründen der Stabilität des opto-elektronischen Bauelementes, das eine gemäß der vorliegenden Erfindung erzeugte leitfähige strukturierte Schicht enthält, ist es von Vorteil, diese aus einem anorganischen leit- fähigen Material, vorteilhafterweise Gold, Aluminium, Kupfer oder Indium-Zinn-Oxid (ITO) auszuwählen. Hier wird auf einem Substrat oder einer unteren Schicht zunächst die metallische leitfähige Schicht, welche beispielsweise 1 bis 100 nm dick sein kann, beispielsweise durch Aufdampfen aufgetragen. Dann wird mittels der Gravur-Offset-Drucktechnik eine geeignete
Ätzpaste im Negativ zu der erzeugenden Leiterbahn bzw. Elektrode aufgedruckt, wodurch die leitfähige Schicht in den bedruckten Bereichen unter Ausbildung der Leiterbahn bzw. Elektrode weggeätzt wird. Auch kann umgekehrt positiv ein Ätzresist gedruckt werden, der nach dem Ätzschritt wieder entfernt wird.
Je nach Art der zu strukturierenden leitfähigen Schicht kann diese Paste basischen oder sauren Charakter besitzen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist in vorteilhafterweise kontinuierlich ausgestaltet, wodurch eine Massenproduktion gewährleistet ist.
Die Erfindung betrifft auch einen organischen Feldeffekt- Transistor, bei dem Source-, Drain- und/oder Gate-Elektroden nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt sind.
Die Erfindung betrifft auch organische Leuchtdioden, bei wel- chen die leitenden Strukturen nach einem erfindungsgemäßen Verfahren ausgebildet sind. Die Erfindung betrifft auch organische Dioden, insbesondere Gleichrichterdioden.
Die Erfindung betrifft auch integrierte Schaltungen, umfassend wenigstens ein OFET oder ein anderes aktives Bauelement, das nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbei- spieles und der anliegenden Fig. 1 näher erläutert.
In Schritt A wird mittels eines Druckstempels 1 die hochviskose Druckpaste 2 von der Druckvorlage (Klischee) 3 abgenommen. Der Druckstempel 1 ist vorteilhaft aus einem gegenüber der reaktiven Druckpaste 2 resistenten Material. Für die Aus- bildung anorganischer Leiterbahnen bzw. Elektroden ist das in geeigneter Weise quellbeständiges, säureresistentes Silikon. Die Druckvorlage 3 enthält die Druckpaste als Negativ- Klischee der zu erzeugenden Leiterbahnen bzw. Elektroden. In Schritt B und C wird die Druckpaste 2 mittels des Druckstem- pels 1 auf das mit einer leitfähigen Schicht 4 beschichtete Substrat 5 übertragen. Die Druckpaste 2 haftet an dem Druckstempel 1 in Form diskreter Strukturen, welche eine Behandlung der leitfähigen Schicht 4 zu deren Strukturierung ermöglicht. Die leitfähige Schicht 4 besteht bei der angege- benen Ausführungsform aus einer 1 bis 100 m dicken, leitenden Metallschicht, wie beispielsweise einer Schicht aus Gold, Aluminium, Kupfer oder ITO, welche aufgedampft wurde. Die Druckpaste 2 hat ätzende Eigenschaften und weist für den Anwendungsfall Kupfer einen Gehalt an Eisen (III) Chlorid, für den Anwendungsfall Gold einen Gehalt an Jod/Kaliu jodid, für den Anwendungsfall ITO einen Gehalt an Halogenwasserstoff auf und für den Anwendungs all Aluminium einen Gehalt an Salzsäure oder Natronlauge auf.
Das Substrat ist prinzipiell frei wählbar und kann so ein Siliziumträger oder eine dünne Glasschicht sein. Bevorzugt wird man jedoch dünnste, flexible Kunststofffolien, beispielsweise CO ) M ) P> P1
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der leitfähigen Schicht ausgebildet ist. Auch hier können weitere Bearbeitungsschritte wie oben beschrieben folgen.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zu Erzeugung von leitfähigen Strukturen, dadurch gekennzeichnet, dass man in einer leitfähigen Schicht (4), Leiterbahnen und/oder Elektroden direkt oder indirekt mittels einer Drucktechnik erzeugt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich- net, dass man die Leiterbahnen und/oder Elektroden im
Gravur-Offset-Druck durch Auftragen einer reaktiven Druckpaste (3) erzeugt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn- zeichnet, dass eine organische leitfähige Schicht erzeugt und mittels Gravur-Offset-Druck strukturiert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich- net, dass die leitfähige organische Schicht dotiertes
Polyanilin ist, in welcher durch Bedrucken mit einem basischen Medium durch Deprotonierung eine nichtleitende Matrix erzeugt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die leitfähige organische Schicht nichtdotiertes Polyanilin ist, in welcher durch Bedrucken mit einem sauren Medium durch Protonierung eine nichtleitende Matrix erzeugt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine anorganische leitfähige Schicht erzeugt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die anorganische leitfähige Schicht aus
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass man den Druckprozess kontinuierlich führt.
9. Organischer Feldeffekt-Transistor, bei dem die Source-, Drain- und/oder Gate-Elektroden nach einem Verfahren gemäß den Ansprüchen 1 bis 8 ausgebildet sind.
10. Organische Leuchtdiode, bei welcher die leitenden Strukturen nach einem Verfahren gemäß den Ansprüchen 1 bis 8 ausgebildet sind.
11. Organische (Gleichrichter) Diode, bei welcher die leiten- den Strukturen nach einem Verfahren gemäß den Ansprüchen
1 bis 8 ausgebildet sind.
12. Integrierte Schaltung, umfassend wenigstens ein aktives Bauelement nach einem der Ansprüche 9 bis 11.
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