WO2006025263A1 - 光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ - Google Patents

光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ Download PDF

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Takuhiro Ushino
Naoki Sugiyama
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Abstract

　〔課題〕 　製造に際して透過光の位相差を幅広く制御することができ、液晶ディスプレイに使用したときに、黒表示時の光漏れや色抜け（着色）を防止し、全方位で高いコントラストが得られるなど良好な視野角補償効果を奏する液晶ディスプレイ用光学フィルムを提供すること。 　〔解決手段〕 　本発明に係る光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａ層と、ポリイミド系樹脂またはポリエーテルイミド系樹脂からなるフィルムｂ層とを有することを特徴とし、下記式（１）および（２）を満たすことが好ましい。 （１）２００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１，０００ｎｍ （２）０≦Ｒ５５０≦２００ｎｍ （上記式中、ＲｔｈおよびＲ５５０は、それぞれ波長５５０ｎｍにおけるフィルム厚み方向の位相差およびフィルム面内の位相差を示す。）                                                                                       

Description

明 細 書
光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ
技術分野
[0001] 本発明は、光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイに関する。より詳しくは、 環状ォレフィン系榭脂フィルムと、ポリイミド系もしくはポリエーテルイミド系榭脂フィル ムとを有する液晶ディスプレイ用光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、およ び、該光学フィルムまたは偏光板を有する液晶ディスプレイに関する。
背景技術
[0002] 液晶ディスプレイは、非常に薄くコンパクトで低消費電力といった利点を有すること から、携帯電話、ノートパソコン、カーナビゲーシヨン、液晶テレビなど種々の製品に 利用されている。中でも、透過型液晶ディスプレイ（特に VA (vertically aligned)モー ド）を用いた液晶テレビは、今後さらなる需要が見込まれるとともに、ディスプレイの大 型化に伴 、、広視野角で高輝度と 、つた高精細な表示および低コスト化がこれまで 以上に要求されている。
[0003] 二枚の偏光板をクロスニコル状態 (偏光板の透過軸が互いに直交して 、る状態)で 使用する透過型液晶ディスプレイにおいては、ディスプレイを観察する位置を、ディ スプレイ正面力 斜め方向に変化させると、見かけ上二枚の偏光板の透過軸が 90度 力 ずれるため、黒表示時の光漏れや色抜け (着色)といった問題が生じる。このよう な問題を解消するため、液晶セルと各偏光板との間に種々の位相差フィルムを介在 させて、偏光板の視野角依存の補償を行っている。
[0004] 上記のような位相差フィルムとしては、たとえば熱可塑性ノルボルネン系榭脂を含 む光学フィルムなどが知られている（例えば、特許文献 1〜3参照)。このようなノルボ ルネン系榭脂からなる光学フィルムは、透明性が高ぐ透過光の位相差が低ぐ透過 光に対して均一で安定した位相差を与えるなど光学特性に優れている。
し力しながら、液晶テレビなどにおいては、光漏れを防止し、高いコントラスト比を得 るために、厚み方向位相差値が高い位相差フィルムが要求されている力 上記のよう な従来の位相差フィルムでは、このような要求を充分に満足することが難し力つた。 [0005] また、液晶セルの性質に応じた光学特性を有する位相差フィルムを得るために、幅 広い光学特性の制御を可能にする構成やカ卩ェ方法などの開発が求められている。 さらに、従来の液晶ディスプレイにおいては、液晶セルと二枚の偏光板との間のそ れぞれに位相差フィルムを介在させて視野角補償を行っているため、少なくとも二枚 の位相差フィルムを用いて 、るが、液晶ディスプレイのさらなる薄型化や低コストィ匕を 図るために、一枚の位相差フィルムで視野角補償を行うことができる位相差フィルム の開発が求められている。
[0006] また、従来の偏光板では、光源や使用環境からの紫外線による液晶セル部分の液 晶の劣化等を防ぐ目的で、偏光板の保護フィルム、たとえばトリァセチルセルロース（ TAC)力もなるフィルム部分に紫外線吸収剤 (UVA)を添加して使用して 、る。しか しながら、紫外線吸収剤添カ卩によるコストアップや、特に位相差付与を兼ねた保護フ イルムとする場合には位相差の耐久安定性面にぉ 、て充分ではな ヽと 、う問題があ つた o
特許文献 1：特開平 5— 2108号公報
特許文献 2 :特開平 7— 287122号公報
特許文献 3 :特開平 7— 287123号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明の課題は、製造に際して透過光の位相差を幅広く制御することができ、液晶 ディスプレイに使用したときに、長期にわたって安定して黒表示時の光漏れや色抜け (着色)を防止し、全方位で高!、コントラスト比が得られるなど良好な視野角補償効果 を奏する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、および、該光学フィルムまた は偏光板を有する液晶ディスプレイを提供することにある。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した。その結果、特定の環状ォレ フィン系榭脂フィルム上に、ポリイミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂からなる フィルム層を有する光学フィルムによって、上記課題を解決することができることを見 出し、本発明を完成するに至った。 すなわち、本発明に係る光学フィルムは、環状ォレフィン系榭脂からなるフィルム a 層と、ポリイミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂からなるフィルム b層とを有する ことを特徴とし、下記式（1)および（2)を満たすことが好ま 、。
(1) 200nm≤Rth≤l, OOOnm
(2) 0≤R550≤200nm
[上記式中、 Rthは、波長 550nmにおけるフィルム厚み方向の位相差を示し、 Rth= [ (nx+ny) Z2—nz] X dで表され、 R550は、波長 550nmにおけるフィルム面内の 位相差を示し、 R550= (nx— ny) X dで表される。ここで、 nxはフィルム面内での最 大屈折率、 nyはフィルム面内で nxに直交する方向の屈折率、 nzは nxおよび nyに対 して直交するフィルム厚み方向の屈折率、 dはフィルムの厚み (nm)を表す。 ] 前記フィルム a層は、下記一般式 (I)で表される構成単位 30〜： LOOmol%と、必要 に応じて下記一般式 (II)で表される構成単位 70〜0mol%とを有する環状ォレフィン 系榭脂からなり、該フィルム a層の厚みが 10, 000 (nm)〜200, OOO (nm)であり、下 記式（3)〜（6)を満たす一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム層であ ることが好ましい。
[0009] [化 1]
Figure imgf000004_0001
[0010] [式 (I)中、 mは 1以上の整数であり、 pは 0または 1以上の整数であり、 Dは、独立に — CH=CH—または—CH CH一で表される基であり、 Ri〜R4は、各々独立に水
2 2
素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケィ素原子を含む連 結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数 1〜30の炭化水素基;または 極性基を表し、 R1と R2および Zまたは R3と R4は一体ィ匕して 2価の炭化水素基を形成 してもよく、 R1または R2と、 R3または R4とは相互に結合して炭素環または複素環を形 成してもよぐ該炭素環および複素環は単環構造でも多環構造でもよい。 ]
[化 2]
Figure imgf000005_0001
[0012] [式（II)中、 Eは、独立に— CH = CH—または—CH CH一で表される基であり、 R
2 2
5〜R8は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしく はケィ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数 1〜3 0の炭化水素基；または極性基を表し、 R5と R6および/または R7と R8は一体ィ匕して 2 価の炭化水素基を形成してもよぐ R5または R6と、 R7または R8とは相互に結合して炭 素環または複素環を形成してもよぐ該炭素環および複素環は単環構造でも多環構 造でちょい。 ]
(3) 20nm≤R th≤ 500nm
a
(4) 0≤R 550≤200nm
a
(5) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
a a
(6) 0. 70≤R 650/R 550≤1. 00
a a
上記式（3)〜（6)中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム a厚み方向の位相差を a
示し、 R th=[(nx +ny ) /2— nz ] X dで表され、 R 450、 R 550、 R 650は、それ ぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィルム a面内の位相差 Rを示し、該 R a
は、 R = (nx -ny ) X dで表される。ここで、 nxはフィルム a面内での最大屈折率、 nyはフィルム a面内で nxに直交する方向の屈折率、 nzは nxおよび nyに対して直 交するフィルム a厚み方向の屈折率、 dはフィルム aの厚み（nm)を表す。
a
[0013] 前記フィルム b層を構成するポリイミド系榭脂としては、好ましくは脂環構造を有する ポリイミド系榭脂、より好ましくは下記式 (III)で表される構成単位を有するポリイミド榭 脂が挙げられる。
[0014] [化 3] ■N
Figure imgf000006_0001
[0015] [式 (III)中、 Xは脂環構造を有する 4価の有機基であり、 Yは 2価の有機基である。 ] また、前記フィルム b層を構成するポリエーテルイミド系榭脂としては、下記一般式 (I V)で表される構成単位を有するポリエーテルイミド系榭脂が挙げられる。
[0016] [化 4]
Figure imgf000006_0002
[0017] [式 (IV)中、 X'および Y'は、それぞれ同一でも異なっていてもよぐ飽和または不飽 和炭化水素を表す。 ]
また、前記フィルム b層は、下記式（7)〜（ 10)を満たすことが望ましい。
(7) 100nm≤R th≤l, OOOnm
b
(8) 0≤R 550≤200nm
b
(9) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
b b
(10) 0. 7≤R 650/R 550≤1. 00
b b
上記式（7)〜（10)中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム b厚み方向の位相差
b
を示し、 R th= [ (nx +ny ) /2-nz ] X dで表され、 R 450、 R 550、 R 650は、
b b b b b b b b
それぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィルム b面内の位相差 Rを示し
b
、該 Rは、 R = (nx -ny ) X dで表される。ただし、前記 R thと R thとの和は 1, 00 b b b b a b
Onm以下であり、前記 R 550と R 550との和は 200nm以下である。ここで、 nxはフ
a b b イルム b面内での最大屈折率、 nyはフィルム b面内で nxに直交する方向の屈折率、
b b
nzは nxおよび nyに対して直交するフィルム b厚み方向の屈折率、 dはフィルム の b b b b
厚み (nm)を表す。 [0018] 本発明の光学フィルムは、前記フィルム a層とフィルム b層との間に、アクリル系およ び Zまたはウレタン系プライマー c層を有していてもよい。このようなアクリル系および Zまたはウレタン系プライマー c層を有する光学フィルムは、一軸延伸またはニ軸延 伸処理して得られたフィルム a上に、前記プライマー c層をコ一ティングにより形成し、 該プライマー c層上に前記フィルム b層をコーティングにより形成することにより得るこ とができる。また、環状ォレフィン系榭脂からなる未延伸フィルム上に、前記プライマ 一 c層をコ一ティングにより形成し、該プライマー c層上に前記フィルム b層をコ一ティ ングにより形成した後に、一軸延伸または二軸延伸することにより得ることもできる。
[0019] 本発明の偏光板は、上記のような本発明の光学フィルムを有することを特徴とする。
本発明の液晶ディスプレイは、上記のような本発明の光学フィルムまたは偏光板を 有することを特徴とする。
発明の効果
[0020] 本発明の光学用フィルムは、従来の環状ォレフィン系榭脂フィルムの特長である、 高透明性、低位相差、および、延伸配向した場合の均一で安定した位相差などの光 学特性を維持するとともに、耐熱性、他材料との密着性や接着性などが良好で吸水 変形が小さい上に、製造に際して透過光の位相差を制御することができる。さらに、 位相差を容易に発現してコントロールすることができるため、液晶ディスプレイに使用 したときに、良好な視野角補償効果を安定して得ることができる。
[0021] また、本発明の光学フィルム (位相差フィルム）を用いれば、従来のように二枚の光 学フィルム (位相差フィルム）を用いなくても、一枚の光学フィルムでも充分な視野角 補償効果を得ることができる。さらに、使用環境の変化に左右されずに安定した特性 を長期的に発現することができる。
発明を実施するための最良の形態
[0022] 以下、本発明に係る光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイにつ 、て、詳細 に説明する。
[光学フィルム]
<構成および光学特性 >
本発明に係る光学フィルムは、環状ォレフィン系榭脂からなるフィルム a層と、ポリイ ミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂からなるフィルム b層とを有するフィルムで あり、下記式（1)および（2)を満たすことが好ま 、。
(1) 200nm≤Rth≤l, OOOnm
(2) 0≤R550≤200nm
上記式（1)および（2)中、 Rthは、波長 550nmにおけるフィルム厚み方向の位相 差を示し、 Rth= [ (nx+ny) Z2— nz] X dで表され、 R550は、波長 550nmにおけ るフィルム面内の位相差を示し、 R550= (nx— ny) X dで表される。ここで、 nxはフィ ルム面内での最大屈折率、 nyはフィルム面内で nxに直交する方向の屈折率、 nzは nxおよび nyに対して直交するフィルム厚み方向の屈折率、 dはフィルムの厚み (nm) である。
[0023] 上記式（1)〖こ示すように、本発明の光学フィルムの Rthが 200〜1, OOOnm,好ま しくは 200〜400nm、より好ましくは 250〜300nmの範囲にあり、また、上記式（2) に示すように、本発明の光学フィルムの R550カ^〜 200nm、好ましくは 10〜150n m、より好ましくは 30〜： LOOnmの範囲にあることにより、特に斜め方向から観察したと きの液晶ディスプレイの光漏れを防止し、高コントラスト比を得ることができる。
[0024] <フイノレム a>
本発明の光学フィルムを構成するフィルム a層は、環状ォレフィン系榭脂からなり、 下記式（3)〜（6)を満たすことが好ま 、。
(3) 20nm≤R th≤ 500nm
a
(4) 0≤R 550≤200nm
a
(5) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
a a
(6) 0. 70≤R 650/R 550≤1. 00
a a
上記式（3)〜（6)中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム a厚み方向の位相差を
a
示し、 R th= [ (nx +ny ) /2— nz ] X dで表され、 R 450、 R 550、 R 650は、それ ぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィルム a面内の位相差 Rを示し、該 R
a
は、 R = (nx -ny ) X dで表される。ここで、 nxはフィルム a面内での最大屈折率、 nyはフィルム a面内で nxに直交する方向の屈折率、 nzは nxおよび nyに対して直 交するフィルム a厚み方向の屈折率、 dはフィルム aの厚み（nm)を表す。
a [0025] フィルム a層の R thは、上記式（3)に示すように、 20〜500nm、好ましくは 20〜20
a
Onm、より好ましくは 50〜150nmである。
フイノレム a層の R 550ίま、上記式（4)【こ示すよう【こ、 0〜200nm、好ましく ίま 5〜： LOO
a
nm、より好ましくは 20〜70nmである。
フイノレム &層【ま、上記式（5)に示すように、 R 450/R 550の値力 S1. 00〜： L 30、
a a
好ましくは 1. 00〜： L 20、より好ましくは 1. 00〜： L 10の範囲であり、かつ、上記式（ 6)に示すように、 R 650/R 550の値力 0. 70〜： L 00、好ましく ίま 0. 80〜： L 00、
a a
より好ましくは 0. 90〜： L 00の範囲であることにより、短波長側では位相差値が高ぐ 長波長側では位相差値が低いという、いわゆる正の波長分散性を示すとともに、位相 差値の波長依存性が低 、フィルム層となる。
[0026] 上記のようなフィルム a層の厚みは、液晶ディスプレイの薄型化の観点から、 10, 00 0nm〜200, 000nm、好ましくは 30, 000nm〜100, 000nm、特に好ましくは 40, 000nm〜70, OOOnmであること力 ^望まし!/ヽ。
上記フィルム a層を構成する環状ォレフィン系榭脂としては、高透明性、低位相差、 延伸配向した場合の均一で安定した位相差などの光学特性が得られるとともに、耐 熱性、他材料との密着性や接着性などに優れ、吸水変形が小さいことから、下記一 般式 (I)で表される構成単位 (以下、構成単位 (I)ともいう。） 30〜： L00mol%と、必要 に応じて下記一般式 (Π)で表される構成単位 (以下、構成単位 (Π)ともいう。） 70〜0 mol%とを有するノルボルネン系榭脂が好ましい。
[0027] [化 5]
Figure imgf000009_0001
[0028] [ィ匕 6]
Figure imgf000010_0001
[0029] 上記式 (I)中、 mは 1以上の整数であり、 pは 0または 1以上の整数である。
また、上記式（I)および（II)中、 Dおよび Eは、それぞれ独立に CH = CH また は CH CH一で表される基である。
2 2
Ri〜R8は、それぞれ独立に、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハ ロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケィ素原子を含む連結基を有し てもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数 1〜30の炭化水素基;または極性基を 表す。
[0030] 上記炭素原子数 1〜30の炭化水素基としては、たとえば、メチル基、ェチル基、プ 口ピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロへキシル基等のシクロアルキル 基;ビュル基、ァリル基、プロぺニル基等のァルケ-ル基などが挙げられる。また、上 記炭化水素基は直接環構造に結合していてもよぐまた連結基 (linkage)を介して結 合していてもよい。
[0031] このような連結基としては、炭素原子数 1〜： LOの 2価の炭化水素基 (たとえば、 (C H )一（1は 1〜10の整数)で表されるアルキレン基）；酸素、窒素、ィォゥまたはケィ素
2 1
を含む連結基 (たとえば、カルボニル基 (—CO— )、ォキシカルボ-ル基 (一 O(CO)— ),スルホン基 (—SO―)、エーテル結合 (一 O— )、チォエーテル結合 (一 S―)、ィミノ
2
基 (― NH—）、アミド結合 (― NHCO—，— CONH—)、シロキサン結合 (― OSi(R )—
2
(Rはメチル、ェチル等のアルキル基))などが挙げられ、これらの複数を含む連結基 であってもよい。
[0032] また、 R1と R2および Zまたは R3と R4は一体ィ匕して 2価の炭化水素基を形成してもよく 、 R1または R2と、 R3または R4とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよ ぐ該炭素環および複素環は単環構造でも多環構造でもよい。 R5〜R8についても同 様である。
上記極性基としては、水酸基、炭素原子数 1〜10のアルコキシ基 (たとえば、メトキ シ基、エトキシ基等）、アルコキシカルボニル基 (たとえば、メトキシカルボニル基、エト キシカルボ-ル基等）、ァリーロキシカルボ-ル基（たとえば、フエノキシカルボ-ル基 、ナフチルォキシカルボ-ル基、フルォレ -ルォキシカルボ-ル基、ビフエ-リルォキ シカルボニル基等）、シァノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基 (たと えば、トリメチルシロキシ基、トリェチルシロキシ基等）、トリオルガノシリル基 (たとえば
、トリメチルシリル基、トリェチルシリル基等）、アミノ基 (たとえば、第 1級ァミノ基等）、 ァシル基、アルコキシシリル基 (たとえば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等) 、スルホ-ル含有基およびカルボキシル基などが挙げられる。
[0033] 本発明で用いられる上記ノルボルネン系榭脂の好ま U、態様としては、
•上記構成単位 (I) 100mol%からなる榭脂、
•上記構成単位（I) 50〜95mol%と、上記構成単位（II) 50〜5mol%と力 なり、上 記式 (I)中の R1および R2が水素原子、 R3がメチル基、 R4力メトキシカルボ-ル基で、 m= l、 p = 0であり、上記式 (II)中の R5〜R8が水素原子または炭化水素基である榭 脂、
•上記構成単位（I) 50〜95mol%と、上記構成単位（II) 50〜5mol%と力 なり、上 記式 (I)中の R1および R2が水素原子、 R3がメチル基、 R4力メトキシカルボ-ル基で、 m= l、 p = 0であり、上記式 (II)中の R5または R6、および R7または R8が水素原子であ り、かつ、 R5〜R8の残余の基が相互に結合して炭素数 3の 2価の直鎖状炭化水素基 を形成している榭脂
などが挙げられる。
[0034] 上記構成単位 (I)となりうる単量体は、下記一般式 (Γ)で表される。
[0035] [化 7]
Figure imgf000011_0001
… （1， )
[0036] 上記式（Γ)中、 m、 p、 Ri〜R4は上記式（I)中の m、 p、！^〜 と同義である。このよ うな単量体 (以下、単量体 (Γ)ともいう。）の具体例を以下に示すが、本発明はこれら 具体例に限定されるものではない。また、下記単量体 (Γ )は単独で用いても、 2種以 上を組み合わせて用いてもょ 、。
テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
ペンタシクロ [6. 5. 1. I3'6 . O2'7 . 09'13]— 4 ペンタデセン、
ペンタシクロ [7. 4. 0. I2'5 . I9'12. 08'13]— 3 ペンタデセン、
8—メトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 1"°]— 3 ドデセン、
8 エトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8— n—プロポキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8—イソプロポキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8— η—ブトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8 フエノキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8—メチル 8—メトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8—メチル 8 エトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'1Q]— 3 ドデセン
8—メチル 8— n—プロポキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ド デセン、
8—メチル 8—イソプロポキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ド デセン、
8—メチル 8— n—ブトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデ セン、
8—メチル 8 フエノキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセ ン、
ペンタシクロ [8. 4. 0. I2'5 . I9'12. 08'13]— 3 へキサデセン、
ヘプタシクロ [8. 7. 0. I3'6 . I10'17 . I12'15 . O2'7 . 011'16 ]—4 エイコセン、 ヘプタシクロ [8. 8. 0. I4'7 . I11'18 . I13'16 . O3'8 . 012'17 ]—5—ヘンエイコセン、
8 ェチリデンテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 フエ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8—メチル 8 フエ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、 8 フルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 フルォロメチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 ジフルォロメチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 トリフルォロメチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 ペンタフルォロェチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8, 8 ジフルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8, 9ージフルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8, 8 ビス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8, 9 ビス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ドデセン、
8—メチル 8 トリフルォロメチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'1Q]— 3 ドデセン、
8, 8, 9 トリフルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8, 8, 9 トリス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . l7'10]— 3 ドデセン、
8, 8, 9, 9ーテトラフルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 1"。]一 3 ドデセン、
8, 8, 9, 9—テトラキス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3 ド デセン、
8, 8 ジフルオロー 9, 9 ビス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10] —3—ドデセン、
8, 9 ジフルオロー 8, 9 ビス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 1"°] —3—ドデセン、
8, 8, 9 トリフルォロ一 9 トリフルォロメチルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ードデセン、
8, 8, 9 トリフルォロ一 9 トリフルォロメトキシテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ードデセン、
8, 8, 9 トリフルオロー 9 ペンタフルォロプロポキシテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17,κ ]一 3—ドデセン、
8 フルォロ 8—ペンタフルォロェチル 9, 9 ビス（トリフルォロメチル）テトラシク 口 [4. 4. 0. I2'5 . 17。]— 3 ドデセン、
8, 9—ジフルォロ 8—ヘプタフルォロ iso プロピル 9 トリフルォロメチルテトラ シクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3 ドデセン、
8 クロ口一 8, 9, 9 トリフルォロテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17 。]— 3 ドデセン、 8, 9 ジクロロ一 8, 9 ビス（トリフルォロメチル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10] - 3—ドデセン、
8- (2, 2, 2 トリフルォロエトキシカルボ-ル)テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17,10] - 3 ードデセン、
8—メチル 8— (2, 2, 2 トリフルォロエトキシカルボ-ル）テトラシクロ [4. 4. 0. I2'
5 . I7'10]— 3—ドデセン
などを挙げることができる。
[0037] 上記具体例の中では、 8—メチルー 8—メトキシカルボ-ルテトラシクロ〔4. 4. 0. I2'
5 . I7'10]—3—ドデセンが、得られる共重合体のガラス転移温度を高め、吸水による 変形等の悪影響を殆ど受けず、かつ、他材料との密着性や接着性が良好となる程度 の吸水性を維持できることから好まし 、。
上記構成単位 (Π)となりうる単量体は、下記一般式 (Π' )で表される。
[0038] [化 8]
Figure imgf000014_0001
[0039] 上記式 (ΙΓ )中、 R5〜R8は上記式 (II)中の R5〜R8と同義である。このような単量体（ 以下、単量体 (ΙΓ )ともいう。）の具体例を以下に示すが、本発明はこれら具体例に限 定されるものではない。また、下記単量体 (ΙΓ )は単独で用いても、 2種以上を組み合 わせて用いてもよい。
ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2—ェン、
トリシクロ [4. 3. 0. I2'5]— 3 デセン、
トリシクロ [4. 3. 0. I2'5]—デカー 3, 7 ジェン
トリシクロ [4. 4. 0. I2'5]— 3 ゥンデセン、
5—メチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、 ェチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
—メトキシカルボ-ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5—メチルー 5—メトキシカルボ二ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 フエノキシカルボ-ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5—メチル 5 フエノキシカルボ-ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 シァノビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 ェチリデンビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 フエ二ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5—ナフチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2—ェン（a , j8の両タイプとも可）、
5 フルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 フルォロメチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 トリフルォロメチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5 ペンタフルォロェチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5， 5 ジフルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 6 ジフルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 5 ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 6 ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5—メチル 5 トリフルォロメチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 5， 6 トリフルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 5, 6 トリス（フルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 5, 6， 6—テ卜ラフルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプ卜— 2 ェン、
5, 5, 6, 6—テトラキス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
5, 5 ジフルオロー 6, 6 ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェ ン、
5, 6 ジフルオロー 5, 6 ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェ ン、
5, 5， 6 トリフルオロー 5 トリフルォロメチルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、 5 -フルォロ 5—ペンタフルォロェチル 6, 6 -ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [ 2. 2. 1]ヘプトー 2—ェン、
5, 6-ジフルォロ 5—ヘプタフルォロ iso プロピル 6—トリフルォロメチルビシ クロ [2. 2. 1]ヘプトー 2—ェン、
5 クロ口一 5, 6, 6 トリフルォロビシクロ [2. 2. 1]ヘプト一 2 ェン、
5, 6 ジクロロ一 5, 6 ビス（トリフルォロメチル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン
5, 5, 6 トリフルォロ一 6 トリフルォロメトキシビシクロ [2. 2. 1]ヘプト一 2 ェン、 5, 5, 6 トリフルオロー 6 ヘプタフルォロプロポキシビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2— ェン、
5— (4 フエ-ルフエ-ル）ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、
4— (ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 5 ェン— 2—ィル）フエ-ルスルホ-ルベンゼン などを挙げることができる。
[0040] これらのうち、一般式（11，）の R5〜R8について、全てが水素原子である単量体、何れ 力 1つが炭素原子数 1〜30の炭化水素基であり他が水素原子である単量体、または 、何れ力 2つが炭素数 3〜5のアルキレン基で連結されている単量体は、得られる光 学用フィルムの靭性を向上させる効果が大きい点で好ましい。特に、 R5〜R8につい て、全てが水素原子である単量体、何れ力 1つ力メチル基、ェチル基またはフエ-ル 基であり他が全て水素原子である単量体、または、 R5もしくは R6および R7もしくは R8 が水素原子であり、かつ、 R5〜R8の残余の基が相互に結合して炭素数 3〜5の 2価の 直鎖状炭化水素基を形成している単量体は、耐熱性の観点からも好ましい。さらに、 ビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン、 5 フエ-ルビシクロ [2. 2. 1]ヘプトー 2 ェン 、トリシクロ [4. 3. 0. I2'5]— 3 デセン、トリシクロ [4. 3. 0. I2'5] -デカー 3, 7 ジ ェンは、その合成が容易である点で好ましい。
[0041] 上記ノルボルネン系榭脂は、公知の方法 (たとえば、特開 2003— 14901号公報に 記載の方法）により、上記単量体 (Γ)と、必要に応じて単量体 (ΙΓ)とを開環 (共)重合 させることにより得られる。また、上記単量体 (Γ)および (ΙΓ)以外の単量体、たとえば 、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオタテン等のシクロォレフイン などを共重合させてもよい。さらに、得られた開環 (共)重合体の水素添加物を用いて ちょい。
[0042] 上記ノルボルネン系榭脂のクロ口ホルム中（30°C)で測定した対数粘度は、 0. 2〜 5dL/g、好ましくは 0. 3〜4dLZg、特に好ましくは 0. 5〜3dL/gである。上記範 囲を超えると、溶液粘度が高くなりすぎ、加工性が悪ィ匕することがあり、上記範囲より も低いと、フィルム強度が低下することがある。
上記ノルボルネン系榭脂の分子量としては、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ 一（GPC)で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Mn)力 通常、 8, 000〜 1, 000, 000、好まし <は 10, 000〜500, 000、特に好まし <は 20, 000〜100, 0 00であり、また、重量平均分子量（Mw)力 通常、 20, 000〜3, 000, 000、好まし <は 30, 000〜100, 0000、特に好まし <は 40, 000〜500, 000の範囲である。ま た、分子量分布は、上記の MwZMnが、通常、 1. 5〜10、好ましくは 2〜8、特に好 ましくは 2. 5〜5である。
[0043] 上記ノルボルネン系榭脂の 23°Cにおける飽和吸水率は、通常、 1重量％以下、好 ましくは 0. 05〜1重量％、さらに好ましくは 0. 1〜0. 7重量％、特に好ましくは 0. 1 〜0. 5重量％である。飽和吸水率力この範囲内であると、各種光学特性、たとえば、 透明性、位相差、位相差の均一性および寸防精度が、高温多湿のような条件下でも 維持されるとともに、他材料との密着性や接着性に優れることから、使用途中で剥離 などが発生せず、また、酸ィ匕防止剤等の添加物との相溶性も良好であることから、添 加の自由度が大きくなる。なお、上記飽和吸水率は ASTMD570に準拠し、 23°C水 中で 1週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる値である。
[0044] 上記ノルボルネン系榭脂の SP値 (溶解度パラメーター）は、好ましくは 10〜30 (M Pa1/2)、さらに好ましくは 12〜25 (MPa1/2)、特に好ましくは 15〜20 (MPa1/2)である 。 SP値が上記範囲にあることにより、ノルボルネン系榭脂を汎用の溶剤に良好に溶 解でき、安定したフィルムの製造ができるとともに、得られるフィルムの特性が均一と なり、接着性および基板との密着性を良好なものとすることができ、さらに吸水率を適 度にコントロールすることが可能となる。
[0045] 上記ノルボルネン系榭脂のガラス転移温度 (Tg)は、ノルボルネン系榭脂の構成単 位 (I)および構成単位 (Π)の種類、組成比、添加剤等の有無により異なるが、通常、 8 0〜350°C、好ましくは 100〜250°C、さらに好ましくは 120〜200°Cである。 Tgが上 記範囲よりも低いと、熱変形温度が低くなり、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、ま た、得られる光学フィルムの温度による光学特性の変化が大きくなることがある。また 、 Tgが上記範囲よりも高いと、延伸加工等に Tg近辺まで加熱して加工する場合に榭 脂が熱劣化する可能性が高くなる。
[0046] 上記ノルボルネン系榭脂には、透明性 ·耐熱性を損なわな！/ヽ範囲で公知の熱可塑 性榭脂、熱可塑性エラストマ一、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子、酸化防 止剤、紫外線吸収剤、離型剤、難燃剤、抗菌剤、木粉、カップリング剤、石油樹脂、 可塑剤、着色剤、滑剤、帯電防止剤、シリコーンオイル、発泡剤などを配合しても良 い。
<フイノレム b >
本発明の光学フィルムを構成するフィルム b層はポリイミド系榭脂またはポリエーテ ルイミド系榭脂からなり、下記式 (7)〜（10)を満たすことが好ま 、。
(7) 100nm≤R th≤l, OOOnm
b
(8) 0≤R 550≤200nm
b
(9) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
b b
(10) 0. 70≤R 650/R 550≤1. 00
b b
上記式（7)〜（10)中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム b厚み方向の位相差
b
を示し、 R th= [ (nx +ny ) /2-nz ] X dで表され、 R 450、 R 550、 R 650は、
b b b b b b b b
それぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィルム b面内の位相差 Rを示し
b
、 R = (nx -ny ) X dで表される。ただし、前記 R thと R thとの和は 1, OOOnm以下 b b b b a b
であり、前記 R 550と R 550との和は 200nm以下である。ここで、 nxはフィルム b面
a b b
内での最大屈折率、 nyはフィルム b面内で nxに直交する方向の屈折率、 nzは nx
b b b b および nvに対して直交するフィルム b厚み方向の屈折率、 dはフィルム bの厚み（nm
b b
)を表す。
[0047] 上記式（7)に示すように、フィルム b層の R thは、 100〜1, OOOnm,好ましくは 10
b
0〜300nm、より好ましく ίま 100〜200nmである。また、上記式（8)【こ示すよう【こ、フ イルム b層の R 550は、 0〜200 、好ましくは 5〜： L00nm、より好ましくは 10〜30n mである。
フイノレム bjiiま、上記式（9)に示すように、 R 450/R 550の値力 S1. 30〜： L 00、 b b
好ましくは 1. 20〜： L 00、より好ましくは 1. 10〜： L 00の範囲であり、かつ、上記式（ 10)に示すように、 R 650/R 550の値力 0. 70〜： L 00、好ましく ίま 0. 80〜： L 00
b b
、より好ましくは 0. 90〜： L 00の範囲であることにより、短波長側では位相差値が高く 、長波長側では位相差値が低いという、いわゆる正の波長分散性を示すとともに、位 相差値の波長依存性が低 、フィルム層である。
[0048] 上記のようなフィルム b層の厚みは、液晶ディスプレイの薄型化の観点から、 1, 000 nm〜20, 000nm、好ましくは 2, 000nm〜15, 000nm、特に好ましくは 3, 000η m〜10, OOOnmであることが望ましい。
また、上記フィルム b層は、波長 360nmにおける光線透過率が 10%以下、好ましく は 5%以下、より好ましくは 1%以下であることが望ましい。波長 360nmにおける光線 透過率が上記範囲にあることにより、液晶部材の耐久安定性を向上することができる
[0049] (ポリイミド系榭脂）
上記フィルム b層を構成するポリイミド系榭脂としては、脂環構造を有するポリイミド 系榭脂、好ましくは下記式 (III)で表される構成単位を有するポリイミドが、上記フィル ム a層との密着性に優れるとともに、位相差特性および光線透過率に優れた光学フィ ルムを得ることができることから好ましい。また、このようなポリイミド系榭脂は、ビフエ- ル骨格を少なくとも一部有することが、薄膜で所望の位相差を発現できることからより 好ましい。
[0050] [化 9]
Figure imgf000019_0001
[0051] 式 (III)中、 Xは脂環構造を有する 4価の有機基であり、 Yは 2価の有機基である。 上記ポリイミド系榭脂は、テトラカルボン酸二無水物とジァミンとを反応させてポリア ミック酸を合成し、該ポリアミック酸をイミド化処理することにより得られる。また、上述し た脂環構造を有するポリイミド系榭脂は、通常、脂環構造を有するテトラカルボン酸 二無水物を用いることにより得られ、ビフエニル骨格を有するポリイミド系榭脂は、ビフ ェニル骨格を有するジァミンを用いることにより得られる。特に好ましいポリイミド系榭 脂は、脂環構造を有するテトラカルボン酸二無水物とビフエニル骨格を有するジアミ ンとを用いて得られるポリイミドである。
[0052] 上記脂環構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、たとえば、 1,2,3,4 シ クロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2—ジメチルー 1,2,3,4 シクロブタンテトラ カルボン酸二無水物、 1,3 -ジメチル - 1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無 水物、 1,3 ジクロロー 1,2,3,4 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2,3,4— テトラメチルー 1,2,3,4 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2,3,4 シクロべ ンタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2,4,5 シクロへキサンテトラカルボン酸二無水 物、 3, 3',4,4' ジシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物、 2,3, 5 トリカルボキシ シクロペンチル酢酸二無水物、 3, 5, 6 トリカルボキシノルボルナン 2 酢酸二無 水物、 2,3,4,5—テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、 l,3,3a,4,5,9b—へキ サヒドロ一 5 (テトラヒドロ一 2,5 ジォキソ一 3 フラ -ル）一ナフト [1,2— c]—フラン — 1,3 ジオン、 5 - (2,5 ジォキソテトラヒドロフラル） 3—メチル 3 シクロへキ セン 1,2 ジカルボン酸二無水物、ビシクロ [2,2,2]—オタトー 7 ェン 2,3, 5, 6 ーテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。
[0053] 本発明で用いられるポリイミド系榭脂は、上記脂環構造を有するテトラカルボン酸二 無水物以外のテトラカルボン酸二無水物を重合成分として用いてもょ 、。このような テトラカルボン酸二無水物としては、たとえば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロ メリット酸二無水物、 3, 3',4,4'—べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4' ービフエ-ルスルホンテトラカルボン酸二無水物、 1,4,5,8 ナフタレンテトラカルボ ン酸ニ無水物、 2,3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4' ビフエ -ルエーテルテトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'—ジメチルジフエ-ルシランテト ラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'—テトラフエ-ルシランテトラカルボン酸二無水物、 1,2,3,4 フランテトラカルボン酸二無水物、 4,4 '—ビス（3 ,4 ジカルボキシフエノキ シ）ジフエ-ルスルフイド二無水物、 4,4'—ビス（3,4—ジカルボキシフエノキシ）ジフエ ニルスルホン二無水物、 4,4' ビス（3,4—ジカルボキシフエノキシ）ジフエ-ルプロパ ンニ無水物、 3, 3',4,4'—パーフルォロイソプロピリデンジフタル酸ニ無水物、 3,3',4, 4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フエニルホスフィンォキサ イド二無水物、 p—フエ-レン ビス（トリフエ-ルフタル酸）二無水物、 m—フエ-レン ビス（トリフエ-ルフタル酸）二無水物、ビス（トリフエ-ルフタル酸） 4,4'ージフエ -ルエーテル二無水物、ビス（トリフエ-ルフタル酸） 4,4'ージフエ-ルメタン二無 水物、エチレングリコール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール一ビス (アンヒドロトリメリテート）、 1,4 ブタンジオール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、 1,6 —へキサンジオール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、 1,8—オクタンジオール一ビス（ アンヒドロトリメリテート）、 2,2 ビス（4 ヒドロキシフエ二ノレ）プロパン一ビス（アンヒド 口トリメリテート）などが挙げられる。
[0054] 上記テトラカルボン酸二無水物は、一種単独で用いても、 2種以上を組み合わせて 用いてもよい。また、全テトラカルボン酸二無水物のうち、脂環構造を有するテトラ力 ルボン酸二無水物を、好ましくは 50mol%以上、より好ましくは 70mol%以上、さらに 好ましくは 90mol%以上、最も好ましくは 100mol%使用することにより、上記フィル ム b層と上記フィルム a層との密着性が優れるとともに、位相差特性および光線透過 率に優れた光学フィルムを得ることができることから好ましい。
[0055] 上記ビフエ-ル骨格を有するジァミンとしては、たとえば、 3,3' ジメチルー 4,4' ジアミノビフエ-ル、 2, 2' ジメチルー 4,4'ージアミノビフエ-ル、 4,4 '—ビス（4 アミ ノフエノキシ）ビフエ-ルなどが挙げられる。
また、ビフエ-ル骨格を有するジァミン以外のジァミンとしては、たとえば、 p フエ二レンジァミン、 m フエ二レンジァミン、 4,4'ージアミノジフエ二ノレメタン、 4,4 'ージアミノジフエニルェタン、 4,4'ージアミノジフエニルスルフイド、 4,4'ージアミノジフ ェニルスルホン、 4,4'ージァミノベンズァ-リド、 4,4'ージアミノジフエ-ルエーテル、 1 , 5 -ジァミノナフタレン、 5 -ァミノ 1— (4' ァミノフエ-ル） 1,3,3 トリメチルイ ンダン、 6 ァミノ一 1—(4'—ァミノフエ-ル）一 1,3,3 トリメチルインダン、 3,4' ジ アミノジフエニルエーテル、 3,3'—ジァミノべンゾフエノン、 3,4'—ジァミノべンゾフエノ ン、 4,4' ジァミノべンゾフエノン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]プ 口パン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]へキサフルォロプロパン、 2,2 —ビス（4 ァミノフエ-ル）へキサフルォロプロパン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノ キシ）フエ二ノレ]スノレホン、 1,4 ビス（4 アミノフエノキシ）ベンゼン、 1,3 ビス（4— アミノフエノキシ）ベンゼン、 1,3 ビス（3 アミノフエノキシ）ベンゼン、 9, 9 ビス（4 —ァミノフエ-ル）一 10 ヒドロアントラセン、 2,7 ジァミノフルオレン、 9,9 ビス（4 —ァミノフエ-ル）フルオレン、 4,4'—メチレン一ビス（2 クロロア-リン）、 2,2', 5, 5' ーテトラクロロー 4,4'ージアミノビフエニル、 2,2'—ジクロロー 4,4'ージアミノー 5,5'— ジメトキシビフエニル、 3,3'—ジメトキシー 4,4'ージアミノビフエニル、 4,4'一（p—フエ 二リン、 2,2' ビス [4— (4 アミノー 2 トリフルォロメチルフエノキシ）フエ-ル]へキ サフルォロプロパン、 4,4'ージアミノー 2,2 '—ビス（トリフルォロメチル）ビフエ-ル、 4, 4' -ビス [ (4 -ァミノ 2 トリフルォロメチル）フエノキシ] -ォクタフルォロビフエ-ル などの芳香族ジァミン；
1,1 メタキシリレンジァミン、 1,3 プロパンジァミン、テトラメチレンジァミン、ペンタ メチレンジァミン、へキサメチレンジァミン、ヘプタメチレンジァミン、オタタメチレンジァ ミン、ノナメチレンジァミン、 4,4ージァミノヘプタメチレンジァミン、 1,4ーシクロへキサ ンジァミン、イソホロンジァミン、テトラヒドロジシクロペンタジェ二レンジァミン、へキサ ヒドロ一 4,7—メタノインダニレンジメチレンジァミン、トリシクロ [6.2.1.02'7] ゥンデシ レンジメチルジァミン、 4,4'—メチレンビス（シクロへキシルァミン）などの脂肪族およ び脂環式ジァミン；
2,3 ジァミノピリジン、 2,6 ジァミノピリジン、 3,4—ジァミノピリジン、 2,4 ジァミノ ピリミジン、 5,6 ジアミノー 2,3 ジシァノビラジン、 5, 6 ジアミノー 2,4 ジヒドロキ シピリミジン、 2,4 ジアミノー 6 ジメチノレアミノー 1,3, 5 トリアジン、 1,4 ビス（3— ァミノプロピル）ピぺラジン、 2,4 ジァミノ一 6—イソプロポキシ 1,3, 5 トリァジン、 2,4 ジアミノー 6—メトキシー 1,3, 5 トリアジン、 2,4 ジアミノー 6 フエニノレー 1,3 ,5 トリァジン、 2,4 ジァミノ一 6—メチル s トリァジン、 2,4 ジァミノ一 1,3,5— トリアジン、 4,6 ジァミノ一 2 ビニル s トリァジン、 2,4 ジァミノ一 5 フエニル チアゾール、 2,6 ジァミノプリン、 5,6—ジァミノ一 1,3 ジメチルゥラシル、 3,5—ジ ァミノ一 1,2,4 トリァゾール、 6,9 ジァミノ一 2 エトキシアタリジンラタテート、 3,8 —ジァミノ一 6 フエニルフエナントリジン、 1,4 ジアミノビペラジン、 3,6 ジアミノア クリジン、ビス (4ーァミノフエ-ル)フエ-ルァミンおよび下記一般式 (i)もしくは (ii)で 表される化合物などの、分子内に 2つの 1級ァミノ基および該 1級ァミノ基以外の窒素 原子を有するジァミン；
[0056] [化 10]
H2N
Figure imgf000023_0001
. . . ）
[0057] (式 (i)中、 R9は、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピぺリジンおよびピぺラジン力も選 ばれる窒素原子を含む環構造を有する 1価の有機基を示し、 Zは 2価の有機基を示 す。）
[0058] [化 11]
Figure imgf000023_0002
[0059] (式 (ii)中、 R1Qは、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピぺリジンおよびピぺラジン力も選 ばれる窒素原子を含む環構造を有する 2価の有機基を示し、 Zは 2価の有機基を示 し、複数存在する Xは、同一でも異なっていてもよい。 )
下記式 (iii)で表されるモノ置換フエ-レンジアミン類；
[0060] [化 12]
Figure imgf000023_0003
(式（iii)中、 R11は、ー0-、 一 COO -、 一 OCO -、 一 NHCO -、 一 CONH -およ び—CO 力 選ばれる 2価の有機基を示し、 R12は、ステロイド骨格を有する 1価の 有機基、トリフルォロメチル基もしくはフルォロ基を有する 1価の有機基、または炭素 数 6〜30のアルキル基を示す。 )
下記式 (iv)で表されるジァミノオルガノシロキサン；
[化 13]
Figure imgf000024_0001
[0063] (式 (iv)中、 R13は、それぞれ独立に炭素数 1〜12の炭化水素基を示し、 qは 1〜20 の整数であり、 rは 1〜3の整数である。 )
下記式 (V)〜 (ix)で表される化合物などを挙げることができる。
[0064] [化 14]
Figure imgf000024_0002
[0065] [化 15]
Figure imgf000024_0003
[0066] [化 16]
Figure imgf000025_0001
[0067] [化 17]
Figure imgf000025_0002
[0069] (上記式中、 tは 2〜12の整数であり、 uは 1〜5の整数である。 )
上記ジァミンィ匕合物は、単独でまたは 2種以上組み合わせて用いることができる。こ れらのうち、上述したビフエ-ル骨格を有するジァミン、 p—フエ-レンジァミン、 4,4， —ジアミノジフエ-ルメタン、 4,4'—ジアミノジフエ-ルスルフイド、 1,5 ジァミノナフタ レン、 2, 7 ジァミノフルオレン、 4,4'ージアミノジフエ-ルエーテル、 2, 2 ビス [4一 ( 4 -アミノフエノキシ）フエ-ル]プロパン、 9,9—ビス（4 -ァミノフエ-ル）フルオレン 、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]へキサフルォロプロパン、 2,2 ビス (4—ァミノフエ-ル）へキサフルォロプロパン、 4,4'— (p フエ-レンジイソプロピリデ ン）ビスァニリン、 4,4'一（m フエ二レンジイソプロピリデン）ビスァニリン、 1,4ーシク 口へキサンジァミン、 4,4'ーメチレンビス（シクロへキシルァミン）、 1,4 ビス（4 アミ ノフエノキシ)ベンゼン、上記式 (v)〜（ix)で表される化合物、 2,6 ジァミノピリジン、 3,4—ジァミノピリジン、 2,4 ジァミノピリミジン、 3,6—ジアミノアクリジン、上記式（i) で表される化合物のうち下記式 (i 1)で表される化合物、上記式 (ii)で表される化合 物のうち下記式 (ii 1)で表される化合物および上記式 (iii)で表される化合物のうち 下記式 (iii 1)〜 (m— 6)で表される化合物が好ま U、。
[化 19]
)
Figure imgf000026_0001
[化 23]
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0002
Figure imgf000027_0003
Figure imgf000027_0004
テトラカルボン酸二無水物とジァミンとの反応は、テトラカルボン酸二無水物とジアミ ンとを、ジァミンに含まれるアミノ基 1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物に含ま れる酸無水物基が 0. 2〜2当量、より好ましくは 0. 3〜1. 4当量となる割合で用いて 、有機溶媒中において、通常 0〜150°C、好ましくは 0〜100°Cの温度条件下で行わ れる。このような条件で反応させることにより、得られるポリアミック酸の分子量が充分 に大きいものとなる。
[0079] 上記有機溶媒としては、反応原料であるテトラカルボン酸二無水物およびジァミン、 さらに生成する重合体であるポリアミック酸を溶解し得るものであれば特に制限はな い。具体的には、 Ί—ブチ口ラタトン， N—メチル—2—ピロリドン、 N, N—ジメチルホ ルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、へ キサメチルホスホトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒； m—クレゾール、キシレノー ル、フエノール、ハロゲン化フエノールなどのフエノール系溶媒などを用いることがで きる。
[0080] 上記有機溶媒の使用量は、反応原料であるテトラカルボン酸二無水物とジァミンと の総量が、反応溶液の全量に対して 0. 1〜30重量％になるような割合であることが 好ましい。また、上記有機溶媒には、生成するポリアミック酸に対して貧溶媒であるァ ルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲンィ匕炭化水素類、炭化水素 類などを、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用してもよい。
[0081] 上記のようにして得られたポリアミック酸を、加熱によるイミドィ匕処理、または、脱水 剤およびイミドィ匕触媒の存在下でイミド化処理して脱水閉環させることにより、上記ポ リイミドが得られる。加熱によるイミドィ匕処理における温度は、通常、 60〜250°C、好 ましくは 100〜170°Cである。このような温度範囲でイミド化処理することにより、得ら れるイミド系重合体の分子量は充分に大きいものとなる。
[0082] 上記脱水剤としては、たとえば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルォロ酢 酸などを用いることができる。この脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位 1 モルに対して 1. 6〜20モルとするのが好ましい。
上記イミドィ匕触媒としては、たとえば、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリェチルァミン などの 3級ァミンを用いることができる力 これらに限定されるものではない。このイミド 化触媒の使用割合は、使用する脱水剤 1モルに対し、 0. 5〜10モルとするのが好ま しい。なお、このイミドィ匕処理に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に 用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。そして、このイミドィ匕処 理における温度は、通常 0〜180°C、好ましくは 60〜150°Cである。 [0083] また、本発明で用いられるポリイミド系榭脂は、ポリアミック酸が 100%イミドィ匕されて いない部分イミド化重合体であってもよいが、イミド化率は好ましくは 50%以上、より 好ましくは 80%以上、特に好ましくは 90%以上、最も好ましくは 95%以上である。ィ ミドィ匕率を上記範囲とすることで、コーティング性やフィルム b層としたときの位相差の コントロール性が良好となり好ましい。
[0084] 上記のようにして得られたポリイミドの対数粘度の値は、通常、 0. 05〜10dL/g、 好ましくは 0. 05〜5dL/gである。なお、対数粘度の値は、 N—メチル—2—ピロリド ンを溶媒として用い、重合体の濃度が 0. 5gZlOOミリリットルである溶液について 30 °Cで測定した値である。
(ポリエーテルイミド系榭脂）
上記フィルム b層を構成するポリエーテルイミド系榭脂としては、上記フィルム a層と の密着性に優れるとともに、位相差特性ならびに光線透過率に優れた光学フィルム が得られることから、下記一般式 (IV)で表される構成単位を有するポリエーテルイミド 系榭脂（以下「ポリエーテルイミド (IV)」とも ヽぅ。）が好まし ヽ。
[0085]
Figure imgf000029_0001
[0086] 上記式 (IV)中、 X 'および Y'は、それぞれ同一でも異なっていてもよぐ飽和または 不飽和炭化水素を表す。
また、上記ポリエーテルイミド (IV)としては、下記一般式 (V)で表される構成単位を 有するポリエーテルイミド系榭脂が、特に良好な特性が得られることから好ま 、。
[0087]
Figure imgf000029_0002
… (V) [0088] 上記ポリエーテルイミド (IV)は、下記一般式 (VI)で表されるエーテル結合を有する テトラカルボン酸二無水物（以下「化合物 (VI)」とも 、う。）と、ジァミン化合物とを反応 させてポリアミック酸を合成し、該ポリアミック酸をイミド化処理することにより得られる。
[0089] [化 29]
Figure imgf000030_0001
[0090] 式 (VI)中、 X'は上記式（IV)中の X'と同義であり、たとえば、 CH C H—
2 2 4 および下記に示す基などが挙げられる。
[0091] [化 30]
Figure imgf000030_0002
[0092] 上記化合物 (VI)は、酸二無水物として、 1種単独で用いても 2種以上を組み合わせ て用いてもよい。
また、上記ポリエーテルイミド (IV)は、上記化合物 (VI)以外の酸二無水物を重合成 分として用いてもよい。全酸二無水物の使用量の合計を 100mol%とした場合、上記 化合物 (VI)は、 50mol%以上、好ましくは 70mol%以上、より好ましくは 90mol%以 上、特に好ましくは 100mol%の割合で用いられる。化合物 (VI)の使用割合が上記 範囲にあることにより、上記フィルム a層との密着性に優れるとともに、位相差特性なら びに光線透過率に優れた光学フィルムを得ることができる。
上記化合物 (VI)以外の酸二無水物としては、たとえば、ブタンテトラカルボン酸二 無水物、 1,2,3,4 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2—ジメチルー 1,2,3, 4 -シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、 1,3 ジメチル - 1,2,3,4-シクロブタン テトラカルボン酸二無水物、 1,3 ジクロロー 1,2,3,4 シクロブタンテトラカルボン酸 二無水物、 1,2,3,4—テトラメチルー 1,2,3,4 シクロブタンテトラカルボン酸二無水 物、 1,2,3,4 シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、 1,2,4,5 シクロへキサン テトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'—ジシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物 、 2,3,5 トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、 3,5,6—トリカルボキシノルボ ルナン 2 酢酸二無水物、 2,3,4,5—テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、 l,3,3a,4,5,9b-へキサヒドロ 5 (テトラヒドロ 2, 5 ジォキソ 3 フラ -ル） ナ フト [1,2— c]—フラン一 1,3 ジオン、 5— (2,5 ジォキソテトラヒドロフラル）一 3—メ チル 3 シクロへキセン—1,2 ジカルボン酸二無水物、ビシクロ [ 2, 2, 2] ォクト 7 ェン 2,3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、 3,3',4, 4'一べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'—ビフエニルスルホンテトラ カルボン酸二無水物、 1,4,5,8 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 2,3, 6, 7 ナ フタレンテトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'—ビフエ-ルエーテルテトラカルボン 酸二無水物、 3, 3',4,4'—パーフルォロイソプロピリデンジフタル酸ニ無水物、 3,3',4 ,4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フエ-ルホスフィンォキサ イド二無水物、 p—フエ-レン ビス（トリフエ-ルフタル酸）二無水物、 m—フエ-レン ビス（トリフエ-ルフタル酸）二無水物、ビス（トリフエ-ルフタル酸） 4,4'ージフエ -ルメタン二無水物、エチレングリコール ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレン グリコール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、 1,4 ブタンジオール一ビス（アンヒドロトリ メリテート）、 1,6 へキサンジオール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、 1,8—オクタン ジオール一ビス（アンヒドロトリメリテート）、 2,2 ビス（4 ヒドロキシフエ-ル）プロパン ビス（アンヒドロトリメリテート）などが挙げられる。
上記ポリエーテルイミド (IV)の合成に用いられるジァミンィ匕合物としては、特に限定 されないが、たとえば、
p フエ二レンジァミン、 m フエ二レンジァミン、 4,4'ージアミノジフエ二ノレメタン、 4,4 'ージアミノジフエニルェタン、 4,4'ージアミノジフエニルスルフイド、 4,4'ージアミノジフ ェニルスルホン、 3,3'—ジメチルー 4,4'ージアミノビフエニル、 2,2'—ジメチルー 4,4' —ジアミノビフエ-ル、 4,4'—ビス（4—アミノフエノキシ）ビフエ-ル、 4,4'—ジァミノべ ンズァ二リド、 4,4'ージアミノジフエニルエーテル、 1,5 ジァミノナフタレン、 5 ァミノ — 1— (4，一ァミノフエ-ル）一 1,3,3 トリメチルインダン、 6 -ァミノ一 1— (4，一ァミノ フエ-ル）一 1,3,3 トリメチルインダン、 3,4'—ジァミノジフエ-ルエーテル、 3,3'— ジァミノべンゾフエノン、 3,4'—ジァミノべンゾフエノン、 4,4'ージァミノべンゾフエノン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]プロパン、 2,2 ビス [4— (4 ァミノ フエノキシ）フエ-ル]へキサフルォロプロパン、 2,2 ビス（4 -ァミノフエ-ル）へキサ フルォロプロパン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]スルホン、 1,4 ビ ス（4 アミノフエノキシ）ベンゼン、 1,3 ビス（4 アミノフエノキシ）ベンゼン、 1,3— ビス（3 アミノフエノキシ）ベンゼン、 9,9 ビス（4 ァミノフエ-ノレ）一 10 ヒドロアン トラセン、 2,7 ジァミノフルオレン、 9,9 ビス（4 ァミノフエ-ル）フルオレン、 4,4' ーメチレン ビス（2 クロロア-リン）、 2,2', 5, 5'—テトラクロロー 4,4'ージアミノビフエ ニル、 2,2'—ジクロロ一 4,4'—ジァミノ一 5,5'—ジメトキシビフエニル、 3,3'—ジメトキ シ 4,4'ージアミノビフエニル、 4,4'一（p—フエ二レンイソプロピリデン）ビスァニリン、 4,4'— (m—フエ-レンイソプロピリデン）ビスァ-リン、 2,2' ビス [4— (4 ァミノ一 2 -トリフルォロメチルフエノキシ）フエニル]へキサフルォロプロパン、 4,4'—ジァミノ 2,2' ビス（トリフルォロメチル）ビフエ-ル、 4,4，一ビス [ (4 ァミノ一 2 トリフルォロ メチル）フエノキシ]ーォクタフルォロビフエ-ルなどの芳香族ジァミン；
1, 1 メタキシリレンジァミン、 1,3 プロパンジァミン、テトラメチレンジァミン、ペンタメ チレンジァミン、へキサメチレンジァミン、ヘプタメチレンジァミン、オタタメチレンジアミ ン、ノナメチレンジァミン、 4,4ージァミノヘプタメチレンジァミン、 1,4ーシクロへキサン ジァミン、イソホロンジァミン、テトラヒドロジシクロペンタジェ二レンジァミン、へキサヒド 口一 4,7—メタノインダニレンジメチレンジァミン、トリシクロ [6.2.1.02'7] ゥンデシレン ジメチルジァミン、 4,4'—メチレンビス（シクロへキシルァミン）などの脂肪族および脂 環式ジァミン；
2.3 ジァミノピリジン、 2,6 ジァミノピリジン、 3,4 ジァミノピリジン、 2,4 ジァミノ ピリミジン、 5,6 ジアミノー 2,3 ジシァノビラジン、 5, 6 ジアミノー 2,4 ジヒドロキ シピリミジン、 2,4 ジアミノー 6 ジメチノレアミノー 1,3, 5 トリアジン、 1,4 ビス（3— ァミノプロピル）ピぺラジン、 2,4 ジァミノ一 6—イソプロポキシ 1,3, 5 トリァジン、
2.4 ジアミノー 6—メトキシー 1,3, 5 トリアジン、 2,4 ジアミノー 6 フエニノレー 1,3 ,5 トリァジン、 2,4 ジァミノ一 6—メチル s トリァジン、 2,4 ジァミノ一 1,3,5— トリアジン、 4,6 ジァミノ一 2 ビニル s トリァジン、 2,4 ジァミノ一 5 フエニル チアゾール、 2,6 ジァミノプリン、 5,6—ジァミノ一 1,3 ジメチルゥラシル、 3,5—ジ ァミノ一 1,2,4 トリァゾール、 6,9 ジァミノ一 2 エトキシアタリジンラタテート、 3,8 —ジァミノ一 6 フエニルフエナントリジン、 1,4 ジアミノビペラジン、 3,6 ジアミノア クリジン、ビス（4—ァミノフエ-ル）フエ-ルァミンおよび上記式 (i)もしくは（ii)で表さ れる化合物などの、分子内に 2つの 1級ァミノ基および該 1級ァミノ基以外の窒素原 子を有するジァミン；
上記式 (iii)で表されるモノ置換フエ-レンジアミン類；
上記式 (iv)で表されるジァミノオルガノシロキサン；および
上記式 (V)〜 (ix)で表される化合物などを挙げることができる。
上記ジァミンィ匕合物は、単独でまたは 2種以上を組み合わせて用いることができる。 これらのうち、 p—フエ二レンジァミン、 4,4'ージアミノジフエニルメタン、 4,4'ージァミノ ジフエニルスルフイド、 1,5 ジァミノナフタレン、 2,7 ジァミノフルオレン、 4,4'ージ アミノジフエ-ルエーテル、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]プロパン、 9,9 ビス（4 ァミノフエ-ル）フルオレン、 2,2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエ -ル]へキサフノレオ口プロパン、 2, 2 ビス（4 ァミノフエ-ル）へキサフノレオ口プロパ ン、 4,4'一（p—フエ二レンジイソプロピリデン）ビスァニリン、 4,4'一（m—フエ二レンジ イソプロピリデン）ビスァニリン、 1,4ーシクロへキサンジァミン、 4,4'ーメチレンビス（シ クロへキシルァミン）、 1,4 ビス（4 アミノフエノキシ）ベンゼン、 2,2' ジメチル一 4, 4' -ジアミノビフエ-ル、 4,4'—ビス（4 -アミノフエノキシ）ビフエ-ル、上記式 (V)〜（i X)で表される化合物、 2,6 ジァミノピリジン、 3,4—ジァミノピリジン、 2,4 ジアミノビ リミジン、 3,6 ジアミノアクリジン、上記式 (i)で表される化合物のうち上記式 (i 1)で 表される化合物、上記式 (ii)で表される化合物のうち上記式 (ii 1)で表される化合 物および上記式 (iii)で表される化合物のうち上記式 (m— 1)〜（iii 6)で表される化 合物が好ましい。
[0096] 上記ポリエーテルイミド (IV)の合成は、たとえば、上記化合物 (VI)とジァミンとを、ジ ァミンに含まれるアミノ基 1当量に対して、化合物 (VI)に含まれる酸無水物基が 0. 4 〜2. 3当量、好ましくは 0. 5〜1. 9当量、より好ましくは 0. 7〜1. 5当量となる割合 で用いて、有機溶媒中において、通常 0〜150°C、好ましくは 0〜100°Cの温度条件 下で、反応させることにより行われる。このような条件で反応させることにより、得られる ポリアミック酸の分子量が充分に大き 、ものとなる。
[0097] 上記有機溶媒としては、反応原料である化合物 (VI)およびジァミン、ならびに、生 成する重合体であるポリアミック酸を溶解し得るものであれば特に制限はな 、。具体 的には、 γ—ブチ口ラタトン， Ν—メチル—2—ピロリドン、 Ν, Ν ジメチルホルムアミ ド、 Ν, Ν ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、へキサメチ ルホスホトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒； m—クレゾール、キシレノール、フエノ ール、ハロゲン化フエノールなどのフエノール系溶媒などを用いることができる。
[0098] 上記有機溶媒の使用量は、反応原料である化合物 (VI)とジァミンとの総量力 反 応溶液の全量に対して 0. 1〜30重量％になるような割合であることが好ましい。また 、上記有機溶媒には、生成するポリアミック酸に対して貧溶媒であるアルコール類、 ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲンィ匕炭化水素類、炭化水素類などを、生 成するポリアミック酸が析出しな 、範囲で併用してもよ 、。
[0099] 上記のようにして得られたポリアミック酸を、加熱によるイミドィ匕処理、または、脱水 剤およびイミドィ匕触媒の存在下でイミド化処理して脱水閉環させることにより、上記ポ リエーテルイミド (IV)が得られる。加熱によるイミドィ匕処理における温度は、通常、 60 〜250°C、好ましくは 100〜170°Cである。このような温度範囲でイミド化処理するこ とにより、得られるポリエーテルイミド (IV)の分子量は充分に大きいものとなる。
[0100] また、上記ポリエーテルイミド（IV)は、ポリアミック酸が 100%イミドィ匕されて ヽな 、、 部分イミドィ匕重合体であってもよいが、イミドィ匕率は好ましくは 50%以上、さらに好ま しくは 80%以上、特に好ましくは 90%以上、最も好ましくは 95%以上である。イミドィ匕 率を上記範囲とすることで、コーティング性やフィルム b層としたときの位相差のコント ロール性が良好となり好まし!/、。
[0101] 上記脱水剤としては、たとえば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルォロ酢 酸などを用いることができる。この脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位 1 モルに対して 1. 6〜20モルとするのが好ましい。
上記イミドィ匕触媒としては、たとえば、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリェチルァミン などの 3級ァミンを用いることができる力 これらに限定されるものではない。このイミド 化触媒の使用割合は、使用する脱水剤 1モルに対し、 0. 5〜10モルとするのが好ま しい。なお、このイミドィ匕処理に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に 用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。そして、このイミドィ匕処 理における温度は、通常 0〜180°C、好ましくは 60〜150°Cである。
[0102] 上記のようにして得られたポリエーテルイミド (IV)の対数粘度の値は、通常、 0. 05 〜10dL/g、好ましくは 0. 05〜5dL/gである。なお、対数粘度の値は、 N—メチル —2—ピロリドンを溶媒として用い、重合体の濃度が 0. 5gZlOOmLである溶液につ V、て 30°Cで測定した値である。
<光学フィルムの製造方法 >
本発明の光学フィルムは、上記環状ォレフィン系榭脂からなり、特定の光学特性を 有するように一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム a上に、上記ポリイミ ド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂からなるなるフィルム b層をコーティングによ り形成すること〖こより製造することができる。
[0103] また、本発明の光学フィルムは、上記環状ォレフィン系榭脂からなる未延伸榭脂フ イルム上に、上記ポリイミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂をコーティングして 榭脂フィルム b層を形成して積層フィルムとした後、該積層フィルムを一軸延伸または ニ軸延 f申すること〖こより製造することもできる。 (プライマー c層）
本発明の光学フィルムは、上記フィルム a層とフィルム b層との間に、少なくとも 1層の アクリル系および Zまたはウレタン系プライマー c層を有していてもよい。
[0104] 上記プライマー c層の厚みは、特に限定されないが、好ましくは 0. 01-10 m、よ り好ましくは 0. 1〜3 /ζ πιの範囲である。厚みが上記範囲より薄い場合には、フィルム a層とフィルム b層の間の密着性が低下する場合がある。また、上記範囲より厚い場合 には、製膜性が低下する場合がある。
(i)アクリル系プライマー層
上記アクリル系プライマー層を構成するアクリル系ポリマーとしては、分子内に少な くとも一つの (メタ)アタリロイル基を有するアタリレートイ匕合物をモノマー単位として有 するポリマーであれば特に制限されるものではない。このようなアタリレートイ匕合物とし ては、たとえば、単官能 (メタ)アタリレート化合物および多官能 (メタ）アタリレート化合 物が挙げられる。これらのうち、位相差膜形成用組成物の反応性を向上させることが できることから、多官能 (メタ)アタリレートイ匕合物が好まし 、。
[0105] 上記単官能 (メタ）アタリレート化合物の具体例としては、
メチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、プロピル (メタ）アタリレート、イソプ 口ピル (メタ）アタリレート、ブチル (メタ）アタリレート、イソブチル (メタ）アタリレート、 ter t—ブチル (メタ）アタリレート、ペンチル (メタ）アタリレート、ァミル (メタ）アタリレート、ィ ソァミル (メタ）アタリレート、へキシル (メタ）アタリレート、ヘプチル (メタ）アタリレート、 ォクチル (メタ）アタリレート、イソオタチル (メタ）アタリレート、 2—ェチルへキシル (メタ )アタリレート、ノ-ル (メタ）アタリレート、デシル (メタ）アタリレート、イソデシル (メタ）ァ タリレート、ゥンデシル (メタ）アタリレート、ドデシル (メタ）アタリレート、ラウリル (メタ）ァ タリレート、ステアリル (メタ）アタリレート、イソステアリル (メタ）アタリレート等のアルキ ル (メタ）アタリレート類；
ヒドロキシェチル (メタ）アタリレート、ヒドロキシプロピル (メタ）アタリレート、ヒドロキシブ チル (メタ）アタリレート等のヒドロキシアルキル (メタ）アタリレート類； リレート等のフエノキシアルキル (メタ）アタリレート類； メトキシェチル (メタ）アタリレート、エトキシェチル (メタ）アタリレート、プロポキシェチ ル (メタ）アタリレート、ブトキシェチル (メタ）アタリレート、メトキシブチル (メタ）アタリレ ート等のアルコキシアルキル (メタ）アタリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アタリレート、エトキシジエチレングリコール (メタ）ァ タリレート、メトキシポリエチレングリコール (メタ）アタリレート、フエノキシポリエチレング リコール (メタ）アタリレート、ノ-ルフエノキシポリエチレングリコール (メタ）アタリレート 等のポリエチレングリコール (メタ）アタリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アタリレート、メトキシポリプロピレングリコール (メタ )アタリレート、エトキシポリプロピレングリコール (メタ）アタリレート、ノ-ルフエノキシポ リプロピレングリコール (メタ）アタリレート等のポリプロピレングリコール (メタ）アタリレー 卜類）
シクロへキシル (メタ）アタリレート、 4ーブチルシクロへキシル (メタ）アタリレート、ジシ クロペンタ-ル (メタ）アタリレート、ジシクロペンテ-ル (メタ）アタリレート、ジシクロペン タジェ-ル (メタ）アタリレート、ボル-ル (メタ）アタリレート、イソボル-ル (メタ）アタリレ ート、トリシクロデ力-ル (メタ)アタリレート等のシクロアルキル (メタ)アタリレート類； ベンジル (メタ）アタリレート、テトラヒドロフルフリル (メタ）アタリレートなどが挙げられる 。これらの単官能 (メタ)アタリレートイ匕合物は、 1種単独で用いても、 2種以上を組み 合わせて用いてもよい。
上記多官能 (メタ）アタリレート化合物の具体例としては、
エチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、テ トラエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコールジ (メタ）アタリレー ト、 1, 4 ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、 1, 6 へキサンジオールジ (メタ）ァク リレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート等のアルキレングリコールジ (メ タ）アタリレート類； ルトリ（メタ）アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ (メタ）アタリレート、ペンタエリ スリトールトリ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタ エリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコール ジ (メタ）アタリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アタリレート類；
イソシァヌレートトリ（メタ）アタリレート、トリス（2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレートジ（ メタ）アタリレート、トリス（2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレートトリ（メタ）アタリレート等 のイソシァヌレートのポリ（メタ）アタリレート類；
トリシクロデカンジィルジメチルジ (メタ）アタリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）ァ タリレート類；
ビスフエノール Aのエチレンオキサイド付カ卩体のジ (メタ）アタリレート、ビスフエノール Aのプロピレンオキサイド付カ卩体のジ (メタ）アタリレート、ビスフエノール Aのアルキレ ンオキサイド付カ卩体のジ (メタ）アタリレート、水添ビスフエノール Aのエチレンォキサイ ド付加体のジ (メタ）アタリレート、水添ビスフエノール Aのプロピレンオキサイド付カロ体 のジ (メタ）アタリレート、水添ビスフエノール Aのアルキレンオキサイド付カ卩体のジ (メタ )アタリレート、ビスフエノール Aジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られ る (メタ)アタリレート等のビスフエノール Aの (メタ）アタリレート誘導体類；
3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6—ォクタフルォロオクタンジ (メタ）アタリレート、 3— (2—ノ ー フルォ口へキシル）エトキシ一 1, 2—ジ（メタ）アタリロイルプロパン、 N— n—プロピル —N— 2, 3—ジ（メタ）アタリロイルプロピルパーフルォロォクチルスルホンアミド等の 含フッ素 (メタ)アタリレート類が挙げられる。これらの多官能 (メタ)アタリレートイ匕合物 は、 1種単独で用いても、 2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[0107] これらの多官能 (メタ）アタリレートイ匕合物のうち、ジペンタエリスリトールへキサアタリ レート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、トリ メチロールプロパントリアタリレートなど、 1分子内に含まれるアタリロイル基の数が多く
、架橋密度の向上が図れ、優れた膜強度を与える多官能 (メタ)アタリレート化合物が 特に好ましい。
[0108] 本発明では、アタリレートイ匕合物を硬化させる際に熱ラジカル発生剤または光ラジ カル発生剤を用いることができる力 保存安定性および生産性の観点より光ラジカル 発生剤を用いることが好まし 、。
上記光ラジカル発生剤の具体例としては、 1ーヒドロキシシクロへキシルフエ-ルケト ン、 2, 2，一ジメトキシ一 2—フエ-ルァセトフエノン、キサントン、フルオレン、フルォレ ノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフエ-ルァミン、カルバゾール、 3—メチル ァセトフエノン、 4 クロ口べンゾフエノン、 4, 4'ージメトキシベンゾフエノン、 4, 4' ジァミノべンゾフエノン、ミヒラーケトン、ベンゾィルプロピルエーテル、ベンゾインェチ ルエーテル、ベンジルジメチルケタール、 1— (4—イソプロピルフエ-ル） 2 ヒドロ キシ 2—メチルプロパン 1 オン、 2—ヒドロキシ 2—メチル 1 フエニルプロ パン 1 オン、チォキサントン、ジェチルチオキサントン、 2—イソプロピルチオキサ ントン、 2 クロ口チォキサントン、 2—メチルー 1 [4 （メチルチオ）フエ-ル ] 2— モルホリノプロパン 1 オン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエニルホスフィンォ キサイド、 2 ベンジル一 2 ジメチルァミノ一 1— (4 モルホリノフエ-ル）ブタン一 1 —オン、 1— [4— (2 ヒドロキシエトキシ）一フエ-ル]— 2 ヒドロキシ一 2—メチルプ 口パン一 1—オンなどが挙げられる。これらの光ラジカル発生剤は、 1種単独で用いて も、 2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[0109] これらの光ラジカル発生剤のうち、 2—メチルー 1 [4 （メチルチオ）フエ-ル] 2 モルホリノプロパン 1 オン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエニルホスフィン オキサイド、 1 -ヒドロキシシクロへキシルフエ-ルケトンが好まし!/、。
また、このような光ラジカル発生剤は、市販品を用いることができる。たとえば、 2—メ チルー 1 [4 （メチルチオ）フエ-ル ] 2 モルホリノプロパン 1 オンは、 「ィル ガキュア 907」（チノくスペシャルティケミカルズ (株)製）として、また、 1—ヒドロキシシク 口へキシルフエ-ルケトンは、 「ィルガキュア 184」（チバスペシャルティケミカルズ (株） 製）として入手することができる。
[0110] 上記光ラジカル発生剤の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に 制限されないが、アタリレートイ匕合物 100重量部に対して、通常 0. 1〜20重量部、好 ましくは 0. 5〜： L0重量部であることが望ましい。光ラジカル発生剤の添加量が上記 範囲よりも少ないとアタリレート化合物の硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を 有するプライマー c層が得られないことがある。また、光ラジカル発生剤の添加量が上 記範囲を超えると、プライマー c層の保存安定性が低下することがある。
[0111] 上記 (メタ)アタリレートは、溶剤を添加して用いることが製膜性の観点力も好ま ヽ 。その場合、上記 (メタ)アタリレートを溶解または分散するものであれば特に制限は ない。また、溶剤が添加された (メタ)アタリレート組成物は有機溶剤系であってもよく 、ェマルジヨン、コロイド分散液、水溶液等の水系であってもよい。
有機溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、 n— ブチルアルコール、アセトン、トルエン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、 酢酸ェチルなどが用いられる。特に、基材との密着性や製膜性に優れるといった観 点から、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、メチルェ チルケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類の単独または 2種以上の混合による 使用が好ましい。また、上記有機溶剤は水を含んでいてもよい。
[0112] (ii)ウレタン系プライマー層
上記ウレタン系プライマー層は、ノルボルネン系榭脂フィルム表面に、ポリウレタン 組成物を塗布することにより形成される。このようなポリウレタン組成物には、ポリウレ タン榭脂および溶剤が含有される。
上記ポリウレタン榭脂としては、複数のウレタン結合を有する榭脂であれば特に限 定されず、たとえば、ポリオ一ルイ匕合物とポリイソシァネートとを反応させて得られるポ リウレタン榭脂などが挙げられる。本発明で用いられるポリウレタン榭脂の数平均分 子量は、通常、 1, 000〜200, 000、好まし <は 30, 000〜100, 000程度である。
[0113] 上記ポリウレタン榭脂を安定的に有機溶剤および Zまたは水に溶解または分散さ せ、さらに、接着剤の塗工性、および、基材と接着剤の接着性を向上させるために、 重合成分として、ポリオ一ルイ匕合物とポリイソシァネートに加えて、親水基含有化合 物を添加することも好まし 、。
上記ポリオ一ルイ匕合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、 ポリアクリルポリオール等が挙げられる。これらのうち、ポリエーテルポリオールが特に 好ましい。このようなポリエーテルポリオールとしては、たとえば、多価アルコールにィ オン重合性環状ィ匕合物を開環共重合させて得られるポリエーテルポリオールが挙げ られる。
[0114] 上記多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリへキサメ チレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、グリセリ ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ビスフエノーノレ A、ビスフエノール F 、水添ビスフエノール A、水添ビスフエノール F、ハイドロキノン、ナフトハイドロキノン、 アントラハイドロキノン、 1, 4ーシクロへキサンジオール、トリシクロデカンジオール、ト リシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジオール、ペンタシクロペンタ デカンジメタノールなどが挙げられる。これらは単独でまたは二種以上を組み合わせ て用いることができる。
[0115] 上記イオン重合性環状化合物としては、たとえば、エチレンォキシド、プロピレンォ キシド、 1, 2 ブチレンォキシド、ブテン— 1ーォキシド、イソブテンォキシド、 3, 3— ビスクロロメチルォキセタン、テトラヒドロフラン、 2—メチルテトラヒドロフラン、 3—メチ ルテトラヒドロフラン、ジォキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロへキセンォキシ ド、スチレンォキシド、ェピクロルヒドリン、グリシジルメタタリレート、ァリルグリシジルェ 一テル、ァリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノォキシド、イソプレンモノォキ シド、ビュルォキセタン、ビュルテトラヒドロフラン、ビュルシクロへキセンォキシド、フ ェニルダリシジルエーテル、ブチルダリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステ ルなどの環状エーテル類が挙げられる。これらは単独でまたは二種以上を組み合わ せて用いることができる。
[0116] また、上記イオン重合性環状ィ匕合物と、エチレンィミン等の環状イミン類、 /3—プロ ピオラタトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラタトン酸またはジメチルシクロポリシロキ サン類とを開環共重合させたポリエーテルポリオールを使用することもできる。これら のイオン重合性環状ィ匕合物の開環共重合体はランダムに結合して 、てもよ 、し、ブ ロック状の結合をしていてもよい。このようなポリエーテルポリオールとしては、ポリテト ラメチレングリコール、ポリへキサメチレングリコールが好ましい。
[0117] 上記ポリイソシァネートとしては、ポリウレタンの製造に一般的に用いられるポリイソ シァネートを特に制限なく使用できる。たとえば、 2, 4 トリレンジイソシァネート、 2, 6 トリレンジイソシァネート、 1, 3 キシリレンジイソシァネート、 1, 4 キシリレンジ イソシァネート、 1, 5 ナフタレンジイソシァネート、 m フエ二レンジイソシァネート、 p—フエ-レンジイソシァネート、 3, 3，ージメチノレー 4, 4，ージフエ-ルメタンジィソシ ァネート、 4, 4'ージフエ-ルメタンジイソシァネート、 3, 3，ージメチルフエ-レンジィ ソシァネート、 4, 4，ービフエ-レンジイソシァネート、 1, 6 へキサンジイソシァネー ト、イソホロンジイソシァネート、メチレンビス（4 シクロへキシノレイソシァネート）、 2, 2 , 4 トリメチルへキサメチレンジイソシァネート、ビス（2—イソシァネートェチル）フマ レート、 6—イソプロピル一 1, 3 フエ-ルジイソシァネート、 4 ジフエ-ルプロパン ジイソシァネート、リジンジイソシァネート、水添ジフエニルメタンジイソシァネート、水 添キシリレンジイソシァネート、テトラメチルキシリレンジイソシァネート、 2, 5 (または 6 )—ビス (イソシァネートメチル）一ビシクロ [2. 2. 1]ヘプタンなどが挙げられる。これ らのポリイソシァネートは、単独であるいは二種類以上を組み合わせて用いることが できる。これらの中では、イソホロンジイソシァネートが好ましい。
[0118] 上記親水基含有化合物としては、分子中に少なくとも 1個以上の活性水素原子を 有し、かつ、カルボン酸基および Zまたはスルホン酸基を含有するイオン性化合物が 挙げられる。このような親水性基含有化合物としては、たとえば、 2—ォキシエタンス ルホン酸、フエノールスルホン酸、スルホ安息香酸、スルホ琥珀酸、 5—スルホイソフ タル酸、スルファ-ル酸、 1, 3 フエ-レンジァミン— 4, 6 ジスルホン酸、 2, 4 ジ ァミノトルエン 5—スルホン酸等のスルホン酸化合物およびこれらの誘導体、または 、 2, 2—ジメチロールプロピオン酸、 2, 2—ジメチロール酪酸、 2, 2—ジメチロール 吉草酸、ジォキシマレイン酸、 2, 6 ジォキシ安息香酸、 3, 4 ジァミノ安息香酸等 のカルボン酸含有化合物およびこれらの誘導体が挙げられる。
[0119] これらの化合物の反応においては、通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフ テン酸亜鉛、ラウリル酸ジ n—ブチルスズ、トリェチルァミン、 1, 4ージァザビシクロ〔2 . 2. 2〕オクタン、 2, 6, 7 トリメチル 1, 4 ジァザビシクロ〔2. 2. 2〕オクタンなど のウレタンィ匕触媒を、反応物の総量 100重量部に対して 0. 01〜1重量部用いること が好ましい。また、反応温度は、通常 10〜90°C、好ましくは 30〜80°Cである。
[0120] ポリウレタン組成物に用いられる溶剤は、上記ポリウレタン榭脂を溶解または分散す るものであれば特に制限はない。また、ポリウレタン組成物は有機溶剤系であっても よいし、ェマルジヨン、コロイド分散液、水溶液等の水系であってもよい。
有機溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、 n— ブチルアルコール、アセトン、トルエン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、 酢酸ェチル等が用いられる。また、水系の場合にも、たとえば、上記アルコール類や ケトン類を配合することもできる。さらに、水系の場合は、分散剤を用いたり、ポリウレ タン樹脂にカルボキシル基、スルホ-ル基、アンモ-ゥム基等の官能基を導入したり してちよい。
[0121] 上記溶剤の組合せの中では、基材の位相差の変化が少なぐかつ、良好な塗工性 を得られるという観点から、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、 n—ブチ ルアルコール、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび水から選ばれる溶 剤の単独もしくは 2種以上の混合による使用が好ましい。
上記ポリウレタン組成物の固形分濃度は、通常、 1〜60重量％、好ましくは 1〜30 重量％、さらに好ましくは 1〜10重量％である。固形分濃度が上記範囲よりも低いと、 ポリウレタン層を所望の厚みに形成することが難しくなり、一方、上記範囲を超えると 、均一なポリウレタン層を形成することが難しくなる傾向にある。
[0122] 上記ポリウレタン組成物には、さらに架橋剤、粘着付与剤、酸化防止剤、着色剤、 紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、熱重合禁止剤、レべリング剤、界面 活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、塗面改 良剤などを配合してもよ ヽ。特にポリウレタン組成物中に親水基含有化合物として力 ルポキシル基を導入した場合には、エポキシ系の架橋剤を用いることが好ま 、。
[0123] このようなエポキシ架橋剤としては、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有して いるものであれば特に制限されず、たとえば、ビスフエノール型エポキシィ匕合物、ノボ ラック型エポキシィ匕合物、脂環式エポキシィ匕合物、脂肪族エポキシィ匕合物、芳香族 エポキシィ匕合物、グリシジルァミン型エポキシィ匕合物、ハロゲンィ匕エポキシィ匕合物な どが挙げられる。
[0124] より具体的には、ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、ビスフエノール Fジグリシ ジルエーテル、ビスフエノール Sジグリシジルエーテルなどのビスフエノール型ェポキ シ化合物；
フエノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾ一ルノボラック型エポキシ化合物など のノボラック型エポキシ化合物；
3, 4 エポキシシクロへキシノレメチノレー 3' , 4'—エポキシシクロへキサン力ノレボキシ レート、 2- (3, 4 エポキシシクロへキシルー 5, 5—スピロ 3, 4 エポキシ）シクロ へキサン メタ ジォキサン、ビス（3, 4—エポキシシクロへキシルメチル）アジペート 、ビュルシクロへキセンオキサイド、 4—ビュルエポキシシクロへキサン、ビス（3, 4— エポキシ 6—メチノレシクロへキシノレメチノレ）アジペート、 3, 4 エポキシ 6—メチ ルシクロへキシルー 3' , 4' エポキシ 6'—メチルシクロへキサンカルボキシレート 、メチレンビス（3, 4—エポキシシクロへキサン）、ジシクロペンタジェンジェポキサイド 、エチレングリコールのジ（3, 4—エポキシシクロへキシルメチル）エーテル、エチレン ビス（3, 4—エポキシシクロへキサンカルボキシレート）、エポキシ化テトラベンジルァ ルコール、ラタトン変性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチル 3' , 4'—エポキシシク 口へキサンカルボキシレート、ラタトン変性エポキシ化テトラヒドロべンジルアルコール 、シクロへキセンオキサイド、水添ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、水添ビスフ ェノール Fジグリシジルエーテル、水添ビスフエノール ADジグリシジルエーテルなど の脂環式エポキシ化合物類；
1, 4 ブタンジオールジグリシジルエーテル、 1, 6 へキサンジオールジグリシジル エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー テルなどの脂肪族エポキシィ匕合物；
臭素化ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、臭素化ビスフエノール Fジグリシジル エーテル、臭素化ビスフエノール Sジグリシジルエーテルなどのハロゲン化エポキシ 化合物；
テトラグリシジルァミノフエニルメタンなどのグリシジルァミン型エポキシィ匕合物が挙げ られる。
また、上記化合物以外に、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピ レングリコールジグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールジグリシジルェ 一テル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価ァ ルコールに 1種または 2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られる ポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリ シジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フエノール、 クレゾール、ブチルフエノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付カ卩して得られ るポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエス テル類；エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸プチル、エポキシステアリン酸オタ チル、エポキシ化アマ-油などが挙げられる。
[0126] また、これらの化合物の 1種また 2種以上を予め適宜好適な範囲で重合したェポキ シ榭脂を使用することもできる。
さらに、本発明に用いることのできるエポキシィ匕合物として、共役ジェン系モノマー の重合体、共役ジェン系モノマーとエチレン性不飽和結合基を有する化合物との共 重合体、ジェン系モノマーとエチレン性不飽和結合性基を有する化合物との共重合 体、天然ゴム等の（共)重合体をエポキシィ匕したィ匕合物も挙げられる。
[0127] 上記ポリウレタン組成物の巿販品としては、たとえば、「ハイドラン WLS— 201」、「 WLS— 202」、「WLS— 210」、「WLS— 213」、「WLS— 220」（大日本インキイ匕学 工業 (株)製)などが挙げられる。
(m)超微粒子
上記アクリル系および Zまたはウレタン系ポリマーの架橋密度や製膜性を制御する ために、アクリル系および Zまたはウレタン系ポリマーにカ卩えて、超微粒子を添加す ることも好ましい。具体的には、シリカ、ジルコユア、チタ-ァまたは酸化スズなどの無 機超微粒子、あるいはアクリル系重合体力 なる有機超微粒子を用いることが好まし い。
[0128] (プライマー c層の形成方法）
上記アクリル系および Zまたはウレタン系プライマー c層の形成方法としては特に限 定されないが、たとえばスピンコート、ワイヤーコート、バーコート、ロールコート、ブレ ードコート、カーテンコート、スクリーン印刷等の各種方法を用いることができる。 また、プライマー組成物の乾燥温度としては、特に限定されないが、たとえば、 60 〜150°Cである。プライマー c層中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよぐ通常 3重量％以下、好ましくは 1重量％以下、さらに好ましくは 0. 5重量％以下である。
[0129] 上記アクリル系および Zまたはウレタン系プライマー c層は、全光線透過率が通常 8 0%以上、好ましくは 90%以上であることが望ましい。
このようにしてフィルム a層とフィルム b層との間にプライマー c層を形成することにより 、フィルム a層とフィルム b層とを貼り合わせる際に、接着剤の塗布性が向上し、長期 に渡って安定的な密着性を得ることができる。
[0130] (プライマー c層を有する光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムが上記プライマー c層を有する場合、該光学フィルムは、一 軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム a上に、上記プライマー c層をコー ティングにより形成し、該プライマー c層上に上記フィルム b層をコーティングにより形 成すること〖こより製造することができる。
[0131] また、プライマー c層を有する光学フィルムは、上記環状ォレフィン系榭脂からなる 未延伸榭脂フィルム上に、前記プライマー c層をコーティングにより形成し、該プライ マー c層上に上記フィルム b層をコーティングにより形成した後に、得られた積層フィ ルムを一軸延伸または二軸延伸することにより製造することもできる。
このようにしてフィルム a層とフィルム b層との間にプライマー c層を形成することにより 、接着剤を使用する場合にはその塗布性が向上し、また、密着性の向上によりフィル ム加工時または光学フィルム使用時の製造'性能安定性が得られる。
[0132] (未延伸榭脂フィルム）
上記環状ォレフィン系榭脂からなる未延伸榭脂フィルムは、溶融成形法や溶液流 延法 (溶液キャスト法)などの公知の製膜法により得ることができる。なお、膜厚の均 一性および表面平滑性が良好になる点から、溶液キャスト法が好ましい。また、生産 性やコストの面力 溶融成形法も好まし 、。
[0133] 溶液キャスト法としては、たとえば、環状ォレフィン系榭脂を適当な溶媒に溶解また は分散させて適度の濃度の液体にし、これを適当な基材上に注ぐ力または塗布して 乾燥した後、得られる榭脂膜を基材力 剥離させる方法が挙げられる。
溶液キャスト法に用いられる基材としては、たとえば、金属ドラム、スチールベルト、 ポリエチレンテレフタレート（PET)やポリエチレンナフタレート（PEN)等のポリエステ ルフィルム、ポリテトラフルォロエチレン製ベルトなどが挙げられる。なお、上述したよ うに、上記ポリイミド系榭脂からなるフィルム b層は、上記環状ォレフィン系榭脂からな るフィルム a (未延伸フィルムも含む。）を基材として用いて、溶液キャスト法により形成 することができる。 [0134] 上記基材としてポリエステルフィルムを用いる場合には、表面処理されたフィルムを 使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法 、たとえば、アクリル系榭脂ゃスルホン酸塩基含有榭脂をコーティングやラミネートに より積層する方法、あるいは、プラズマ処理やコロナ放電処理等によりフィルム表面の 親水性を向上させる方法などが挙げられる。
[0135] 榭脂溶液中における榭脂成分の濃度は、通常、 0. 1〜90重量％、好ましくは 1〜5 0重量％、さらに好ましくは 5〜35重量％である。榭脂成分の濃度が上記範囲よりも 低い場合には、十分な厚みを有する榭脂フィルムが得られないことがあり、また、溶 媒の蒸発に伴って生ずる発泡等によって、良好な表面平滑性を有する榭脂フィルム が得られないことがある。一方、榭脂成分の濃度が上記範囲を超える場合には、榭 脂溶液の粘度が高くなりすぎ、厚みや表面状態が均一な榭脂フィルムが得られな 、 ことがある。
[0136] また、榭脂溶液は、室温における粘度力 通常、 1〜1, 000, 000mPa - s,好ましく は 10〜： LOO, 000mPa - s,さらに好ましくは 100〜50, 000mPa - s,特に好ましくは 1, 000〜40, 000mPa，sである。
榭脂溶液の調製に用いられる溶媒としては、環状ォレフィン系榭脂の場合には、た とえば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルセ口ソルブ、ェチル セロソルブ、 1ーメトキシー2—プロパノール等のセロソルブ系溶媒；ジアセトンアルコ ール、アセトン、シクロへキサノン、メチルェチルケトン、 4ーメチルー 2 ペンタノン、 シクロへキサノン、ェチルシクロへキサノン、 1, 2—ジメチルシクロへキサノン等のケト ン系溶媒;乳酸メチル、乳酸ェチル等のエステル系溶媒； 2, 2, 3, 3—テトラフルォロ 1 プロパノール、塩化メチレン、クロ口ホルム等のハロゲン含有溶媒;テトラヒドロ フラン、ジォキサン等のエーテル系溶媒； 1 ペンタノール、 1ーブタノール等のアル コール系溶媒などが挙げられる。
[0137] ポリイミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂の場合には、たとえば、 N メチル —2—ピロリドン、 γ—ブチ口ラタトン、 Ν, Ν ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν ジメチル ァセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、へキサメチルホスホトリアミドな どの非プロトン系極性溶媒； m クレゾール、キシレノール、フエノール、ハロゲン化フ ヱノールなどのフ ノール系溶媒などが挙げられる。
[0138] 上記溶媒は単独で用いても、 2種以上を組み合わせて用いてもよい。
基材に榭脂溶液を塗布する方法としては、ダイス、コーター、ハケなどを用いる方法 、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法、デイツビング法、グラビア法などを用い ることができる。また、所望の厚みの光学用フィルムを得るために、榭脂溶液の塗布を 繰り返し行ってもよい。
[0139] 基材に塗布された榭脂溶液から溶媒を蒸発させる方法としては、特に限定されず、 一般的に用いられる方法、たとえば、多数のローラーによって乾燥炉中を通過させる 方法などを利用することができる。なお、溶媒の蒸発に伴って気泡が発生すると、得 られる光学用フィルムの特性が著しく低下することがある。したがって、気泡の発生を 回避するために、溶媒の蒸発処理を複数の工程によって行うとともに、各工程におけ る温度および風量を制御することが好ま 、。
[0140] 榭脂フィルム中に残留する溶媒の量は、通常は 20重量％以下、好ましくは 5重量 %以下、さらに好ましくは 1重量％以下、特に好ましくは 0. 5重量％以下である。残 留溶媒量が上記範囲を超える場合には、当該榭脂フィルムを実際に使用したときに 、経時的な寸法変化が大きくなることがあり、また、残留する溶媒によってガラス転移 温度が低くなつて耐熱性が低下することがある。
[0141] また、後述する延伸工程を好適に行うためには、榭脂フィルム中に残留する溶媒の 量を上記範囲内で適宜調節することが必要となることがある。具体的には、延伸処理 による位相差を安定して均一に発現させるために、残留する溶媒の量を、通常 20〜 0. 1重量％、好ましくは 5〜0. 1重量％、さらに好ましくは 1〜0. 1重量％とすること がある。このような範囲に溶媒の量を制御することにより、容易に延伸処理を行うこと ができ、また、位相差の制御を容易に行うことができる。
[0142] 榭脂フィルム中に残留する溶媒の量を上述した範囲でコントロールして延伸工程を 経た後に、位相差等の光学特性を安定にするため、さらに乾燥工程で残留溶媒量を 低減させてもよい。この場合、残留溶媒量は好ましくは 5〜0. 1重量％、さらに好まし くは 1〜0. 1重量％とする。
このようにして得られる榭脂フィルムの厚みは、通常 0. 1〜3, OOO /z m、好ましくは 0. 1〜1, 000 μ m、さらに好ましくは 1〜500 μ m、特に好ましくは 5〜300 μ mであ る。この厚みが上記範囲よりも小さい場合には、当該榭脂フィルムのハンドリングが実 際上困難となる。一方、この厚みが上記範囲を超える場合には、当該榭脂フィルムを ロール状に巻き取ることが困難になる。
[0143] 上記榭脂フィルムにおける厚み分布は、平均値に対して通常 ± 20%以内、好まし くは ± 10%以内、さらに好ましくは ± 5%以内、特に好ましくは ± 3%以内である。ま た、 1cmあたりの厚みの変動率は、通常は 10%以下、好ましくは 5%以下、さらに好 ましくは 1%以下、特に好ましくは 0. 5%以下であることが好ましい。このような厚み条 件で榭脂フィルムを形成することにより、当該榭脂フィルムを延伸処理したときには、 透過光の位相差ムラの発生を防止することができる。
[0144] (延伸処理）
上記のようにして得られた未延伸榭脂フィルムを、上述した光学特性を得るために 延伸処理する方法としては、公知の自由端一軸延伸、幅拘束一軸延伸または二軸 延伸する方法が用いられる。
一軸延伸処理の場合、延伸速度は、通常 1〜5, 000%Z分であり、好ましくは 50 〜1, 000%Z分であり、より好ましくは 100〜1, 000%Z分である。
[0145] 二軸延伸処理法の場合、同時に二方向に延伸処理を行う方法、一軸延伸処理し た後に当該延伸処理における延伸方向と異なる方向に延伸処理する方法を利用す ることができる。このとき、 2つの延伸軸の交わり角度は、目的とする光学フィルムに要 求される特性に応じて決定され、特に限定されないが、通常、 120〜60度の範囲で ある。また、延伸速度は、各延伸方向で同じであってもよぐ異なっていてもよぐ通常 は 1〜5, 000%Z分であり、好ましくは 50〜： L, 000%Z分であり、さらに好ましくは 1 00-1, 000%Z分であり、特に好ましくは 100〜500%Z分である。
[0146] 延伸処理温度は、特に限定されるものではな 、が、榭脂のガラス転移温度 Tgを基 準として、 Tg± 30°C、好ましくは Tg± 15°C、さらに好ましくは Tg— 5°C〜Tg+ 15°C の範囲である。延伸処理温度を上記範囲内に設定することにより、得られる延伸フィ ルムに位相差ムラが発生することを抑制することができ、また、各成分の屈折率の制 御が容易となることから好ましい。 [0147] 延伸倍率は、目的とする光学フィルムに要求される特性に応じて決定され、特に限 定されないが、通常は 1. 01〜10倍、好ましくは 1. 03〜5倍、さらに好ましくは 1. 03 〜3倍である。延伸倍率が上記範囲を超えると、得られる延伸フィルムの位相差の制 御が困難になることがある。延伸処理されたフィルムは、そのまま冷却してもよいが、 榭脂フィルムの Tg— 20°C〜Tgの温度雰囲気下に少なくとも 10秒間以上、好ましく は 30秒間〜 60分間、さらに好ましくは 1〜60分間保持した後に冷却することが好ま しい。これにより、透過光の位相差の経時変化が少なくて安定した位相差フィルムが 得られる。
[0148] 上記のようにして延伸処理が施されたフィルムは、延伸処理により分子が配向する 結果、透過光に位相差を与えるようになるが、この位相差は、延伸倍率、延伸温度ま たはフィルムの厚さなどにより制御することができる。
<用途 >
本発明の光学フィルムは、上述した光学特性を有し、視野角補償効果に優れてい ることから、液晶ディスプレイ、特に VAタイプの大型液晶テレビに用いられる視野角 補償フィルムとして好適である。また、これ以外にも、たとえば、携帯電話、ディジタル 情報端末、ポケットベル、ナビゲーシヨン、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、 調光パネル、 OA機器用ディスプレイ、 AV機器用ディスプレイなどの各種液晶表示 素子、エレクト口ルミネッセンス表示素子またはタツチパネルなどに用いることができる 。また、 CD、 CD-R, MD、 MO、 DVD等の光ディスクの記録 '再生装置に使用され る波長板としても有用である。
[0149] [偏光板]
本発明に係る偏光板は、偏光子 (偏光フィルム)の片面もしくは両面に、上記本発 明の光学フィルムを積層したものである。積層方法としては、偏光子と光学フィルムと を、適当な接着剤または粘着剤を介して直接貼り合わせてもよぐ保護フィルムが積 層された偏光子に光学フィルムを貼り合わせてもよい。コスト等を考慮すれば、偏光 子に本発明の光学フィルムを直接積層することが好ましい。
[0150] 上記偏光子 (偏光フィルム）としては特に限定されな 、が、たとえば、ポリビニルアル コール（PVA)、ポリビュルホルマール、ポリビュルァセタールなどのポリビュルアルコ 一ル系榭脂からなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料等の偏光成分を含有させて延 伸することにより得られるフィルムを用いることができる。
上記保護フィルムとしては特に限定されないが、たとえば、トリァセチルセルロース（
TAC)等のセルロース系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィル ム、ポリエーテルスルホン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリイミド系フィルム、ポリ ォレフィン系フィルムなどの透明性、機械的強度、熱安定性などに優れるポリマーフィ ルムを用いることができる。
[0151] 上記偏光子に保護フィルムを積層させる際に用いられる接着剤または粘着剤として は、特に限定されないが、たとえば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマ 一からなる接着剤または粘着剤を用いることができる。特に、偏光子として PVAから なるフィルムを用いた場合、接着性の観点から PVA系接着剤を用いることが好ま ヽ 上記偏光子に光学フィルムを直接積層させる場合に用いられる接着剤または粘着 剤としては、特に限定されないが、たとえば、アクリル酸エステル系ポリマーの水系分 散体力もなる水系粘着剤などを用いることができる。このような水系粘着剤を用いるこ とにより、密着性をより向上させて耐久安定性に優れたものとなる点で好ましい。また 、保護フィルムが積層された偏光子に光学フィルムを積層させる場合に用いられる接 着剤または粘着剤としては、特に限定されず、上述したような接着剤または粘着剤な どを適宜用いることができる。
[0152] 本発明の偏光板は、視野角補償効果に優れていることから、液晶ディスプレイにお ける液晶セルの片面もしくは両面に該偏光板を配置させることにより、黒表示時の光 漏れや色抜け (着色)を防止することができるとともに、高 ヽコントラスト比を得ることが できる。また、本発明の偏光板は、高温条件下で長時間使用しても特性の変化が小 さ！、ことから、幅広 、用途に利用することができる。
[0153] [実施例]
以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、その要旨を 超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下において、「部」 及び「％」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量％」を意味する。 本発明における各種測定値の測定方法を以下に示す。
[0154] (1)ガラス転移温度 (Tg)
セイコーインスツルメンッ社製の示差走査熱量計 (DSC)を用いて、窒素雰囲気下
、昇温速度： 20°CZ分の条件で測定した。
(2)飽和吸水率
ASTM D570に準拠し、 23°Cの水中に 1週間サンプルを浸漬し、浸漬前後の重 量変化を測定して求めた。
[0155] (3)全光線透過率、ヘイズ
スガ試験機社製ヘイズメーター (HGM— 2DP型)を使用して測定した。 (4)透過光の位相差
王子計測機器 (株）製「KOBRA— 21ADHJを用い、波長 480、 550、 590、 630、 750nmで測定し、当該波長以外の部分にっ 、ては前記波長での位相差値を用い てコーシ一（Cauchy)の分散式を用いて算出した。
[0156] (5)輝点測定
サンプルをクロス-コル状態の偏光板の間に挟んで観察したときに肉眼で認められ る部分的な光りの漏れを、 lOOOcdZm2の光源上にサンプルを置いて、 10 /z m以上 の大きさのものを計測した。
(6)輝度、視野角およびコントラスト比測定
ミノルタ株式会社製の輝度計「LS— 110」を用い、液晶パネルの輝度、視野角およ びコントラスト比を暗室にて測定した。
[0157] (7)残留溶媒量
サンプルを使用溶媒以外の良溶媒に溶解し、得られた溶液をガスクロマトグラフィ 一 (島津製作所製「GC― 7AJ )を用 、て分析した。
(8)対数粘度
ウベローデ型粘度計を用いて、クロ口ホルム、シクロへキサンまたは N—メチルー 2 —ピロリドン中（試料濃度 : 0. 5g/dL)、 30°Cで測定した。
[0158] <合成例 1 >
8—メチル 8—メトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5. 1"°]— 3 ドデセン (特定単量体) 250部と、 1—へキセン (分子量調節剤） 18部と、トルエン (開環重合 反応用溶媒） 750部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を 60°Cに加熱し た。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリェチルアルミニウム（1. 5mol ZL)のトルエン溶液 0. 62部と、 tーブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タ ングステン（t ブタノール：メタノール：タングステン =0. 35mol: 0. 3mol : lmol)の トルエン溶液 (濃度 0. 05mol/L) 3. 7部とを添カ卩した。この系を 80°Cで 3時間加熱 攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応にお ける重合転ィ匕率は 97%であり、得られた開環重合体について、 30°Cのクロ口ホルム 中で測定した対数粘度は 0. 75dLZgであった。
[0159] このようにして得られた開環重合体溶液 1, 000部をオートクレーブに仕込み、この 開環重合体溶液に、 RuHCl(CO) [P(C H ) ]を 0. 12部添カ卩し、水素ガス圧 100kg
6 5 3 3
反応温度 165°Cの条件下で、 3時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。 得られた反応溶液 (水素添加重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧した。この 反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水 素添加重合体 (以下「榭脂 Al」という。）を得た。
[0160] このようにして得られた榭脂 A1につ!/、て、
一 NMRを用いて測定した水素添加率は 99. 9%、
DSC法により測定したガラス転移温度 (Tg)は 165°C、
GPC法 (溶媒:テトラヒドロフラン）により測定した、ポリスチレン換算の数平均分子量 ( Mn)は 32, 000、重量平均分子量（Mw)は 137, 000、分子量分布（MwZMn)は 4. 29、
23°Cにおける飽和吸水率は 0. 3%、
SP値は 19 (MPa1/2)、
30°Cのクロ口ホルム中における対数粘度は 0. 78dL/g、
であった。
[0161] <合成例 2 >
8—メチル 8—メトキシカルボ-ルテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5. 1"°]— 3 ドデセン 215部と、ビシクロ [2. 2. 1]ヘプト— 2 ェン 35部とを使用し、 1—へキセン（分子量 調節剤）の添加量を 18部としたこと以外は、合成例 1と同様にして水素添加重合体（ 以下「榭脂 A2」という。）を得た。
[0162] 得られた榭脂 A2について、
水素添加率は 99. 9%、
DSC法により測定したガラス転移温度 (Tg)は 125°C、
GPC法 (溶媒:テトラヒドロフラン）により測定した、ポリスチレン換算の Mnは 46, 000 、 Mwは 190, 000、分子量分布（MwZMn)は 4. 15、
23°Cにおける飽和吸水率は 0. 18%、
SP値は 19 (MPa1/2)、
30°Cのクロ口ホルム中における対数粘度は 0. 69dL/g、
ゲル含有量は 0. 2%
であった。
[0163] <合成例 3 >
テトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . 17'ω]— 3—ドデセン 53部と、 8—ェチリデンテトラシクロ [4. 4. 0. I2'5 . I7'10]— 3—ドデセン 46部と、トリシクロ [4. 3. 0. I2'5]—デカ一 3, 7 —ジェン 66部とを使用し、 1—へキセン (分子量調節剤）の添加量を 18部とし、開環 重合反応用溶媒としてトルエンの代わりにシクロへキサンを使用したこと以外は、合 成例 1と同様にして水素添加重合体 (以下「榭脂 A3」という。）を得た。
[0164] 得られた榭脂 A3について、
水素添加率は 99. 9%、
DSC法により測定したガラス転移温度 (Tg)は 137°C、
GPC法 (溶媒:シクロへキサン）により測定した、ポリスチレン換算の Mnは 39, 000、 Mwは 158, 000、分子量分布（MwZMn)は 4. 05、
23°Cにおける飽和吸水率は 0. 01%、
SP値は 17 (MPa1/2)、
30°Cのクロ口ホルム中における対数粘度は 0. 70dL/g、
ゲル含有量は 0. 2%
であった。 [0165] <合成例 4>
2,3, 5 トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物 18. 9141gと、 4, 4，—ビス（4 —アミノフエノキシ）ビフエ-ル 31. 0859gとを、 N—メチル 2 ピロリドン 200gに溶 解させ、室温で 3時間反応させた。得られた反応生成液を大過剰のメチルアルコー ル中に注いでポリアミック酸を沈殿させ、その後メチルアルコールで洗浄し、減圧下 において 40°Cで 15時間乾燥させることにより、 N—メチル 2 ピロリドン中で測定し た対数粘度が 2. 45dLZgの重合体 48. 2gを得た。この重合体 30. Ogを γ—ブチ 口ラタトン 270gに溶解し、この溶液にピリジン 20. Ogおよび無水酢酸 15. Ogを添加 して 120°Cで 3時間イミドィ匕処理を行った。得られた反応液を大過剰のメチルアルコ ール中に注いで重合体を沈殿させることにより、対数粘度 2. 39dLZgのポリイミド（ 以下「榭脂 Bl」という。）を得た。
[0166] <合成例 5>
4, 4 '—ビス（4 アミノフエノキシ）ビフエ-ルの代わりに 2, 2' ジメチルー 4, 4' ジアミノビフエニルを使用したこと以外は、合成例 4と同様にしてポリイミド (以下「榭脂 B2」という。）を合成した。得られた榭脂 B2の N—メチル 2—ピロリドン中で測定した 対数粘度は 2. lOdLZgであった。
[0167] <合成例 6>
4, 4 '—ビス（4 アミノフエノキシ）ビフエ-ルの代わりに 4, 4'ージアミノジフエ-ル メタンを使用したこと以外は、合成例 4と同様にしてポリイミド (以下「榭脂 B3」という。 ) を合成した。得られた榭脂 B3の N—メチル 2 ピロリドン中で測定した対数粘度は 0. 86dLZgであった。
[0168] <合成例 7>
下記化学式 (VII)に示すエーテル結合を有するテトラカルボン酸二無水物 43. 93 02gと、 1, 3 フエ二レンジァミン 9. 1270gとを、 N—メチノレー 2 ピロリドン 200gに 溶解させ、室温で 3時間反応させた。得られた反応液を大過剰のメチルアルコール 中に注いでポリアミック酸を沈殿させ、その後メチルアルコールで洗浄し、減圧下に お 、て 40°Cで 15時間乾燥させることにより、 N—メチル 2 ピロリドン中で測定した 対数粘度が 2. 38dLZgの重合体 48. 2gを得た。この重合体 30. Ogを N—メチルー 2—ピロリドン 270gに再度溶解し、この溶液にピリジン 20. Ogおよび無水酢酸 15. 0 gを添加して 120°Cで 3. 5時間イミドィ匕処理を行った。得られた反応液を大過剰のメ チルアルコール中に注いで重合体を沈殿させることにより、対数粘度 2. 35dLZgの ポリエーテルイミド (以下「榭脂 B4」 t 、う。）を得た。
[化 31]
Figure imgf000056_0001
[0170] <製造例 1 > 榭脂フィルム (al)
上記榭脂 A1をトルエンに 30%濃度（室温での溶液粘度は 30, 000mPa- s)になる ように溶解し、酸ィ匕防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス [3— (3, 5—ジ一 t—ブ チルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]を重合体 100重量部に対して 0. 1重 量部を添加した溶液を、 日本ポール製の孔径 5 μ mの金属繊維焼結フィルターを用 い、差圧が 0. 4MPa以内に収まるように溶液の流速をコントロールしながら濾過した 。得られた溶液を、クラス 1000のクリーンルーム内に設置した井上金属工業製「INV EXラボコーター」を用い、アクリル酸系で表面を親水化 (易接着性化)処理した厚さ 1 00 μ mの基材の PETフィルム（東レ（株）製「ルミラー U94」）上に、乾燥後のフィルム 厚みが 100 mになるように塗布し、これを 50°Cで一次乾燥の後、 90°Cで二次乾燥 を行った。 PETフィルムより剥がした榭脂フィルムを（al)とした。得られたフィルムの 残留溶媒量は 0. 5%であり、全光線透過率は 93%であった。
[0171] <製造例 2> 榭脂フィルム (a2)
榭脂 Alの代わりに榭脂 A2を使用したこと以外は製造例 1と同様の方法により、厚 さ 100 /z mの榭脂フィルム（a2)を得た。得られたフィルムの残留溶媒量は 0. 5%で あり、全光線透過率は 93%であった。
<製造例 3 > 榭脂フィルム (a3)
榭脂 Alの代わりに榭脂 A3を使用し、トルエンの代わりにシクロへキサンを用いたこ と以外は製造例 1と同様の方法により、厚さ 150 mの榭脂フィルム（a3)を得た。得 られたフィルムの残留溶媒量は 0. 5%であり、全光線透過率は 92%であった。
[0172] く製造例 4 > 榭脂フィルム (a4)
上記榭脂フィルム（al)を 180°Cで一方向に 1. 44倍、前記方向と直交方向に 1. 7 2倍同時二軸延伸処理することにより、膜厚 36 μ mの榭脂フィルム (a4)を得た。得ら れた榭脂フィルム（a4)の R550は 45nm、 Rthは 135nmであった。
<製造例 5 > 榭脂フィルム (a5)
上記榭脂フィルム (a2)を 122°Cで一方向に 1. 49倍、前記方向と直交方向に 1. 7 5倍同時二軸延伸処理することにより、膜厚 34 mの榭脂フィルム (a5)を得た。得ら れた榭脂フィルム（a5)の R550は 67nm、 Rthは 238nmであった。
[0173] <製造例 6 > 榭脂フィルム (a6)
上記榭脂フィルム (a3)を 145°Cで一方向に 1. 69倍、前記方向と直交方向に 1. 9 5倍同時二軸延伸処理することにより、膜厚 39 μ mの榭脂フィルム (a6)を得た。得ら れた榭脂フィルム（a6)の R550は 48nm、 Rthは 142nmであった。
<製造例 7> 榭脂フィルム (a7)
上記榭脂フィルム (a4)に、紫外線硬化性榭脂である「デソライト Z7524」 CiSR (株） 製)をメチルェチルケトンおよびイソプロピルアルコールの混合溶剤で希釈した組成 物（固形分濃度： 10重量％)を、ギャップ 24ミクロンのワイヤーバーで塗工し、 80°Cで 5分間の加熱をおこない溶剤を揮発させた。その後、塗工面側にメタルハライドランプ を用いて 250mWZcm2、 lj/cm2の紫外線照射し、プライマー層を有する榭脂フィ ルム（a7)を得た。
[0174] <製造例 8 > 榭脂フィルム (a8)
榭脂フィルム（a5)に、ポリエーテルポリウレタン材料である「ハイドラン WLS— 201」 (大日本インキ化学工業 (株)製)をメチルェチルケトンで希釈した組成物（固形分濃 度： 3重量％)を、ギャップ 12ミクロンのワイヤーバーを用いて塗布し、 80°Cで 5分間 加熱乾燥させることにより、プライマー層を有する榭脂フィルム (a8)を得た。
[0175] <製造例 9 > 榭脂フィルム (a9)
榭脂フィルム (a5)の代わりに、榭脂フィルム（a6)を用いたこと以外は製造例 8と同 様に行 ヽ、プライマー層を有する榭脂フィルム (a9)を得た。 く製造例 10 > 榭脂フィルム (alO)
榭脂フィルム (a4)の代わりに、榭脂フィルム (al)を用いたこと以外は製造例 7と同 様にして、プライマー層を有する榭脂フィルム (alO)を得た。
[0176] 〔実施例 1〕
榭脂 B1の 10% γ—プチ口ラタトン溶液を使用し、基材 PETフィルムの代わりに製 造例 4で得た榭脂フィルム（a4)を使用し、基材カもフィルムを剥離しな 、こと以外は 製造例 1と同様の方法により、榭脂フィルム (a4)と榭脂 B1からなるポリイミドフィルム（ bl)とが一体になつた積層タイプの光学フィルム（1)を得た。得られた光学フィルム（1 )は、ポリイミドフィルム (bl)層の厚みが 3 m、全光線透過率が 92%であった。
[0177] 〔実施例 2〕
榭脂 B1の代わりに榭脂 B2を使用したこと以外は実施例 1と同様の方法により、榭 脂フィルム (a4)と榭脂 B2からなるポリイミドフィルム (b2)とが一体になつた積層タイプ の光学フィルム（2)を得た。得られた光学フィルム（2)は、ポリイミドフィルム（b2)層の 厚みが 3 μ m、全光線透過率が 92%であった。
[0178] 〔実施例 3〕
榭脂 B1の代わりに榭脂 B3を使用したこと以外は実施例 1と同様の方法により、榭 脂フィルム (a4)と榭脂 B3からなるポリイミドフィルム (b3)とが一体になつた積層タイプ の光学フィルム（3)を得た。得られた光学フィルム（3)は、ポリイミドフィルム（b3)層の 厚みが 3 μ m、全光線透過率が 92%であった。
[0179] 〔実施例 4〕
榭脂フィルム (a4)の代わりに榭脂フィルム (a5)を基材として使用したこと以外は実 施例 1と同様の方法により、榭脂フィルム (a5)と榭脂 Blからなるポリイミドフィルム (b4 )とが一体になつた積層タイプの光学フィルム (4)を得た。得られた光学フィルム (4) は、ポリイミド層の厚みが 3 /ζ πι、全光線透過率が 92%であった。
[0180] 〔実施例 5〕
榭脂フィルム (a4)の代わりに榭脂フィルム (al)を基材として使用したこと以外は実 施例 1と同様の方法により、榭脂フィルム (al)と榭脂 Blからなるポリイミドフィルム (b5 )とが一体になつた積層タイプの榭脂フィルムを得た。得られた積層フィルムは、ポリイ ミド層の厚みが 3 m、全光線透過率が 92%であった。次いで、積層フィルムを 180 °Cで一方向に 1. 40倍、前記方向と直交方向に 1. 70倍同時二軸延伸することにより 、榭脂フィルム (al)が延伸されてなる榭脂フィルム (al， )と、ポリイミドフィルム (b5)が 延伸されてなるポリイミドフィルム (b5，）とからなる積層タイプの光学フィルム（5)を得 た。
[0181] 実施例 1〜5で得られた光学フィルムの光学特性および膜厚を表 1に示す。
[0182] [表 1]
環状ォレフィン系 ポリイミド系
光学フィルム 樹脂フィルム層 樹脂フィルム層
フィルム種 (a 4) (b 1) (1) 膜厚 （ m) 36 3 39
Rth (nm) 135 137 272 実施例 1
R550 (nm) 45 5 50
R 450/ 550 1. 02 1. 07 ―
R 650/ R 550 0. 99 0. 97 _ フィルム種 (a 4) (b2) (2) 膜厚 m) 36 3 3 g
Rth (nm) 135 100 235 実施例 2
R550 (nm) 45 3 48
R 50/ R 550 1. 02 1. 06 ―
R 650/ 550 0. 99 0. 97 一 フィルム種 Ca4) . (b3) (3) 膜厚 (jUm) 36 3 39
Rth (nm) 135 55 190 実施例 3
R550 (nm) 45 5 50
R450/R550 1. 02 1. 06 —
R650/R550 0. 99 0. 97 一 フィルム種 Ca 5) (b4) (4) 膜厚 （jum) 34 3 37 th (nm) 238 137 375 実施例 4
R550 (nm) 67 5 67
R450/R550 1. 01 1. 07 一
R65O/ 550 1. 00 0. 97 一 フィルム種 d '— )___._ (b 5' ) (5) 膜厚 （ m) 35 2 37
Rth (nm) 130 362 492
¾!¾例 5
R550 (nm) 40 60 100
R450/R550 1. 02 1. 07 —
R 650/ R 550 0. 99 0. 97 一 上記結果力も本発明の環状ォレフィン系榭脂フィルムとポリイミド層とからなる積層 タイプの光学フィルムは各層の構造および加工方法の選択により幅広い光学特性の コントロールが可能であることが明らカとなった。 <水系粘着剤の調製例 >
反応容器に蒸留水 250部を仕込み、当該反応容器にアクリル酸ブチル 90部と、 2 ーヒドロキシェチルメタタリレート 8部と、ジビュルベンゼン 2部と、ォレイン酸カリウム 0 . 1部とを添加し、これをテフロン (登録商標)製の撹拌羽根により撹拌して分散処理 した。当該反応容器内を窒素置換した後、この系を 50°Cまで昇温し、過硫酸カリウム 0. 2部を添加して重合を開始した。 2時間経過後、過硫酸カリウム 0. 1部をさらに添 加し、この系を 80°Cまで昇温し、 1時間にわたり重合反応を継続させて重合体分散 液を得た。次いで、エバポレータを用いて、固形分濃度が 70%になるまでこの重合 体分散液を濃縮することにより、アクリル酸エステル系重合体の水系分散体力 なる 水系粘着剤 (極性基を有する粘着剤)を得た。
[0184] このようにして得られた水系粘着剤を構成するアクリル酸エステル系重合体につ!ヽ て、 GPC法 (溶媒:テトラヒドロフラン）によりポリスチレン換算の数平均分子量 (Mn) および重量平均分子量（Mw)を測定したところ、 Mnは 69, 000、 Mwは 135, 000 であり、 30°Cのクロ口ホルム中で測定した対数粘度は 1. 2dLZgであった。
〔実施例 6〕
市販のポリビュルアルコール (PVA)製フィルムを、ヨウ素濃度が 0. 03重量％であ り、ヨウ化カリウム濃度が 0. 5重量％である 30°C水溶液の染色浴にて、延伸倍率 3倍 で前延伸した後、ほう酸濃度が 5重量％であり、ヨウ化カリウム濃度が 8重量％である 水溶液の 55°Cの架橋浴中で、さらに延伸倍率 2倍で後延伸し、乾燥処理して偏光子 を得た。
[0185] 榭脂フィルム（a4)上に、ポリエーテルポリウレタン材料である「ハイドラン WLS— 20 1」（大日本インキ化学工業 (株)製)をメチルェチルケトンで希釈した組成物（固形分 濃度： 3重量0 /0)を、ワイヤーバー No. 2 (K&K社製)を用いて塗布し、 80°Cで 50分 間乾燥させること〖こより、ウレタン系プライマー c層を形成したフィルム (acl)を得た。 得られたフィルム（acl)の残留溶媒量は 0. 5%であり、全光線透過率は 93%であつ た。さらに、このフィルム（acl)のウレタン系プライマー c層上に、榭脂 B1の 10% γ— プチ口ラタトン溶液を塗布してポリイミドフィルム (b6)を形成して積層タイプの光学フィ ルム（6)を得た。得られた光学フィルム（6)におけるポリイミドフィルム (b6)層の厚み は 3 μ m、全光線透過率は 92%であった。光学フィルム（6)の光学特性および膜厚 を表 2に示す。
[表 2]
Figure imgf000062_0001
[0187] 次に、上記偏光子の片面に、上記光学フィルム（6)を、偏光板の透過軸と光学フィ ルム（6)の延伸方向の軸が並行になるように、上記水系接着剤を用いて貼付し、もう 一方の面に、市販のトリァセチルセルロース（TAC)製フィルムを、 PVA系接着剤を 用いて貼付して偏光板（1)を得た。得られた偏光板（1)の透過率および偏光度を調 ベたところ、それぞれ 44. 0%および 99. 9%であった。
[0188] 上記偏光板 (1)の特性を評価するため、まず、 ASV方式低反射ブラック TFT液晶 を採用して 、るシャープ株式会社製液晶テレビ (LC— 13B1— S)の液晶パネルの 観察者側の前面に貼付されて 、る偏光板および位相差フィルムを剥離した。次に、 この剥離した箇所に、上記偏光板（1)を、元々貼付されていた偏光板の透過軸と同 一にして、該偏光板（1)の位相差フィルム (光学フィルム（6) )が液晶セル側になるよ うに貼付した。さらに、液晶パネルの観察者側の後面に貼付されている位相差フィル ムを剥離して、パネル後面には位相差フィルムが無 、状態とした。
[0189] この偏光板（1)を有する液晶テレビの、方位角 45度で極角 60度方向でのコントラ スト比を確認したところ、 70と高い数値であった。また、全方位で視野角（コントラスト 比 10以上の領域)を確認したところ、上下、左右、斜め方向の全てで 170度以上で あることを確認した。
また、耐久試験として、 100°Cの環境下、および、 60°C、 90RH%の環境下にそれ ぞれ 2, 000時間放置した偏光板（1)について同様に評価したところ、耐久試験前後 での上記特性の変化率 [= (変化前一変化後） X 100Z変化前]はいずれも 5%以 内であった。
[0190] 〔比較例 1〕
光学フィルム（6)の代わりに市販の TACフィルムを使用したこと以外は実施例 6と 同様にして偏光板（2)を得た。得られた偏光板（2)の透過率および偏光度を調べた ところ、それぞれ 44. 0%および 99. 9%であった。
得られた偏光板（2)を実施例 6と同様にして液晶テレビに貼付し、方位角 45度で極 角 60度方向でのコントラスト比を確認したところ、 3と低い数値であった。また、全方 位で視野角（コントラスト比 10以上の領域)を確認したところ、上下、左右では 170度 以上であった力 斜め方向ではわず力 80度であった。
[0191] また、耐久試験として、 100°C、および、 60°C、 90RH%の環境下にそれぞれ 2, 0 00時間放置した偏光板（2)について偏光度を確認したところ、変化率はそれぞれ 10 %および 8 %であつた。
〔比較例 2〕
環状ォレフィン系榭脂フィルム（a4)の代わりに、該フィルム（a4)と同じ位相差 (Rth 、 R550)になるように二軸延伸処理した TACフィルムを使用したこと以外は実施例 6 と同様にして偏光板（3)を得た。得られた偏光板（3)の透過率および偏光度を調べ たところ、それぞれ 44. 0%および 99. 9%であった。
[0192] 得られた偏光板（3)を実施例 6と同様にして液晶テレビに貼付し、方位角 45度で極 角 60度方向でのコントラスト比を確認したところ、 40であった。また、全方位で視野角 (コントラスト比 10以上の領域)を確認したところ、上下、左右、斜め方向の全てで 17 0度以上であつたが、耐久試験として 100°C、および、 60°C、 90RH%の環境下にそ れぞれ 2, 000時間放置したところ、偏光度の変化はそれぞれ 10%および 12%であ り、方位角 45度で極角 60度方向でのコントラスト比の変化は 30%と大き力つた。
[0193] 〔実施例 7〕
榭脂 B4の 5%N—メチル - 2-ピロリドン溶液を使用し、基材 PETフィルムの代わり に製造例 7で得た榭脂フィルム (a7)を使用し、基材力 フィルムを剥離しないこと以 外は製造例 1と同様の方法により、榭脂フィルム (a7)と榭脂 B4からなるポリエーテル イミドフィルム (b7)とが一体になつた積層タイプの光学フィルム（7)を得た。なお、榭 脂フィルム（a7)のプライマー処理面側にポリエーテルイミドフィルム (b7)が形成され るよう調整した。得られた光学フィルム（7)は、ポリエーテルイミドフィルム (b7)層の厚 みが 10 /ζ πι、全光線透過率が 91%、波長 360nmにおける光線透過率が 0. 5%で めつに。
[0194] 〔実施例 8〕
榭脂フィルム (a7)の代わりに榭脂フィルム (a8)を使用したこと以外は実施例 1と同 様の方法により、榭脂フィルム（a8)と榭脂 B4からなるポリエーテルイミドフィルム (b8) とが一体になつた積層タイプの光学フィルム（8)を得た。得られた光学フィルム（8)は 、ポリエーテルイミドフィルム（b8)層の厚みが 5 m、全光線透過率が 91%、波長 36 Onmにおける光線透過率が 8. 2%であった。
[0195] 〔実施例 9〕
榭脂フィルム（a7)の代わりに榭脂フィルム（a9)を使用し、 5%N メチル 2 ピロ リドン溶液の代わりに 5%塩化メチレン溶液を使用したこと以外は実施例 1と同様の方 法により、榭脂フィルム (a9)と榭脂 B4からなるポリエーテルイミドフィルム (b9)とが一 体になった積層タイプの光学フィルム（9)を得た。得られた光学フィルム（9)は、ポリ エーテルイミドフィルム（b9)層の厚みが 3 m、全光線透過率が 91%、波長 360nm における光線透過率が 9. 6%であった。
[0196] 〔実施例 10〕
榭脂フィルム (a7)の代わりに榭脂フィルム (alO)を基材として使用したこと以外は 実施例 1と同様の方法により、榭脂フィルム (alO)と榭脂 B4力もなるポリエーテルイミ ドフィルム (blO)とが一体になつた積層タイプの榭脂フィルムを得た。得られた積層フ イルムは、ポリエーテルイミド層の厚みが 10 /ζ πι、全光線透過率が 91%、波長 360η mにおける光線透過率が 0. 6%であった。
[0197] 次いで、得られた積層フィルムを 180°Cで一方向に 1. 40倍、前記方向と直交方向 に 1. 70倍同時二軸延伸することにより、榭脂フィルム (alO)が延伸されてなる榭脂 フィルム（alO，）と、ポリエーテルイミドフィルム（blO)が延伸されてなるポリイミドフィ ルム（blO' )とカゝらなる積層タイプの光学フィルム（10)を得た。 実施例 7〜 10で得られた光学フィルムの光学特性および膜厚を表 3に示す。
[表 3]
Figure imgf000065_0001
上記結果力も本発明の環状ォレフィン系榭脂フィルムとポリエーテルイミド層とから なる積層タイプの光学フィルムは各層の構造および加工方法の選択により幅広い光 学特性のコントロールが可能であることが明ら力となった。
〔実施例 11〕
市販の PVA製フィルムを、ヨウ素濃度が 0. 03重量％であり、ヨウ化カリウム濃度が 0. 5重量％である 30°C水溶液の染色浴にて、延伸倍率 3倍で前延伸した後、ほう酸 濃度が 5重量％であり、ヨウ化カリウム濃度が 8重量％である水溶液の 55°Cの架橋浴 中で、さらに延伸倍率 2倍で後延伸し、乾燥処理して偏光子を得た。
[0200] また、榭脂フィルム (a7)のプライマー処理面と反対側の面に、ポリエーテルポリウレ タン材料である「ハイドラン WLS— 201」（大日本インキ化学工業 (株)製)を、メチル ェチルケトンにて 3重量％になるよう希釈した組成物を、ギャップ 12ミクロンのワイヤ 一バーを用いて塗布して 80°Cで 5分間加熱乾燥させることにより、両面にウレタン系 プライマー c層を有する榭脂フィルム (ac2)を得た。
[0201] 次 、で、榭脂フィルム（a7)の代わりに榭脂フィルム（ac2)を用い、榭脂 B4の 5%N —メチルー 2—ピロリドン溶液の代わりに榭脂 B4の 10% y—ブチ口ラタトン溶液を用 いたこと以外は実施例 1と同様にして、榭脂フィルム (ac2)と榭脂 B4力もなるポリエー テルイミドフィルム (bl 1)とが一体になつた積層タイプの光学フィルム（11)を得た。
[0202] 光学フィルム（11)におけるポリエーテルイミドフィルム（bl l)層の厚みは 3 m、全 光線透過率は 91%であった。また、波長 360nmにおける光線透過率は 9. 0%であ つた。光学フィルム（11)の光学特性および膜厚を表 4に示す。
[0203] [表 4]
Figure imgf000066_0001
[0204] 次に、上記偏光子の片面に、上記光学フィルム（11)を、偏光板の透過軸と光学フ イルム（11)の延伸方向の軸が並行になるように、上記水系接着剤を用いて貼付し、 もう一方の面に、市販の TAC製フィルムを PVA系接着剤を用いて貼付して偏光板 ( 4)を得た。得られた偏光板 (4)の透過率および偏光度を調べたところ、それぞれ 44 . 0%および 99. 9%であった。
[0205] 上記偏光板 (4)の特性を評価するため、まず、 AS V方式低反射ブラック TFT液晶 を採用して 、るシャープ株式会社製液晶テレビ (LC— 13B1— S)の液晶パネルの 観察者側の前面に貼付されて 、る偏光板および位相差フィルムを剥離した。次に、 この剥離した箇所に、上記偏光板 (4)を、元々貼付されていた偏光板の透過軸と同 一にして、偏光板 (4)の位相差フィルム (光学フィルム（11) )が液晶セル側になるよう に貼付した。さらに、液晶パネルの観察者側の後面に貼付されている位相差フィルム を剥離して、パネル後面には位相差フィルムが無 、状態とした。
この偏光板 (4)を有する液晶テレビの、方位角 45度で極角 60度方向でのコントラ スト比を確認したところ、 70と高い数値であった。また、全方位で視野角（コントラスト 比 10以上の領域)を確認したところ、上下、左右、斜め方向の全てで 170度以上で あることを確認した。
また、耐久試験として 100°Cの環境下、および、 60°C、 90RH%の環境下にそれぞ れ 2, 000時間放置した偏光板 (4)について同様に評価したところ、耐久試験前後で の上記特性の変化率 [= (変化前一変化後） X 100Z変化前]はいずれも 5%以内 であった。

Claims

請求の範囲
[1] 環状ォレフィン系榭脂からなるフィルム a層と、
ポリイミド系榭脂またはポリエーテルイミド系榭脂からなるフィルム b層と
を有することを特徴とする光学フィルム。
[2] 下記式（1)および（2)を満たすことを特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
(1) 200nm≤Rth≤l, OOOnm
(2) 0≤R550≤200nm
[上記式中、 Rthは、波長 550nmにおけるフィルム厚み方向の位相差を示し、 Rth= [ (nx+ny) Z2—nz] X dで表され、
R550は、波長 550nmにおけるフィルム面内の位相差を示し、
R550= (nx-ny) X dで表される。
ここで、 nxはフィルム面内での最大屈折率、
nyはフィルム面内で nxに直交する方向の屈折率、
nzは nxおよび nyに対して直交するフィルム厚み方向の屈折率、
dはフィルムの厚み (nm)を表す。 ]
[3] 前記フィルム a層力 下記一般式 (I)で表される構成単位 30〜： LOOmol%と、必要 に応じて下記一般式 (II)で表される構成単位 70〜0mol%とを有する環状ォレフィン 系榭脂からなり、該フィルム a層の厚みが 10, 000〜200, OOOnmであることを特徴 とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[化 1]
Figure imgf000068_0001
[式 (I)中、 mは 1以上の整数であり、 pは 0または 1以上の整数であり、 Dは、独立に CH = CH または—CH CH一で表される基であり、
2 2
Ri〜R4は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子も しくはケィ素原子を含む連結基を有してもょ ヽ、置換もしくは非置換の炭素原子数 1 〜30の炭化水素基；または極性基を表し、
R1と R2および/または R3と R4は一体ィ匕して 2価の炭化水素基を形成してもよぐ R1または R2と、 R3または R4とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく 、該炭素環および複素環は単環構造でも多環構造でもよい。 ]
[化 2]
Figure imgf000069_0001
[式（II)中、 Eは、独立に CH = CH または CH CH一で表される基であり、
2 2
R5〜R8は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;酸素原子、硫黄原子、窒素原子も しくはケィ素原子を含む連結基を有してもょ 、、置換もしくは非置換の炭素原子数 1 〜30の炭化水素基；または極性基を表し、
R5と R6および/または R7と R8は一体ィ匕して 2価の炭化水素基を形成してもよぐ R5または R6と、 R7または R8とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく 、該炭素環および複素環は単環構造でも多環構造でもよい。 ]
[4] 前記フィルム a層が、下記式（3)〜（6)を満たすことを特徴とする請求項 1に記載の 光学フィルム。
(3) 20nm≤R th≤ 500nm
a
(4) 0≤R 550≤200nm
a
(5) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
a a
(6) 0. 70≤R 650/R 550≤1. 00
a a
[上記式中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム a厚み方向の位相差を示し、
a
R th= [ (nx +ny ) /2-nz ] X dで表され、
R 450、 R 550、 R 650は、それぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィノレ ム a面内の位相差 Rを示し、該 Rは、 R = (nx— ny ) X dで表される。 ここで、 nxはフィルム a面内での最大屈折率、
a
nyはフィルム a面内で nxに直交する方向の屈折率、
a a
nzは nxおよび nyに対して直交するフィルム a厚み方向の屈折率、
dはフィルム aの厚み（nm)を表す。 ]
a
[5] 前記フィルム a層が、一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム層であるこ とを特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[6] 前記フィルム b層が、脂環構造を有するポリイミド系榭脂からなることを特徴とする請 求項 1に記載の光学フィルム。
[7] 前記フィルム b層力 下記式 (III)で表される構成単位を有するポリイミド榭脂からな ることを特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[化 3]
Figure imgf000070_0001
[式 (III)中、 Xは脂環構造を有する 4価の有機基であり、 Yは 2価の有機基である。 ]
[8] 前記フィルム b層力 ビフエ二ル骨格を少なくとも一部有するポリイミド系榭脂からな ることを特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[9] 前記フィルム b層力 下記一般式 (IV)で表される構成単位を有するポリエーテルィ ミド系榭脂からなることを特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[化 4]
Figure imgf000070_0002
[式 (IV)中、 X 'および Y'は、それぞれ同一でも異なっていてもよぐ飽和または不飽 和炭化水素を表す。 ]
前記一般式 (IV)で表される構成単位が、下記一般式 (V)で表される構成単位であ ることを特徴とする請求項 9に記載の光学フィルム。
[化 5]
Figure imgf000071_0001
[11] 前記フィルム b層力 下記式（7)〜（ 10)を満たすことを特徴とする請求項 1に記載 の光学フイノレム。
(7) 100nm≤R th≤l, OOOnm
b
(8) 0≤R 550≤200nm
b
(9) 1. 00≤R 450/R 550≤1. 30
b b
(10) 0. 7≤R 650/R 550≤1. 00
b b
[上記式中、 R thは、波長 550nmにおけるフィルム b厚み方向の位相差を示し、
b
R th= [ (nx +ny ) /2-nz ] X dで表され、
b b b b b
R 450、 R 550、 R 650は、それぞれ波長 450nm、 550nm、 650nmにおけるフィ b b b
ルム b面内の位相差 Rを示し、該 Rは、 R = (nx -ny ) X dで表される。
b b b b b b
ただし、前記 R thと R thとの和は 1, OOOnm以下であり、
a b
前記 R 550と R 550との和は 200nm以下である。
a b
ここで、 nxはフィルム b面内での最大屈折率、
b
nyはフィルム b面内で nxに直交する方向の屈折率、
b b
nzは nxおよび nyに対して直交するフィルム b厚み方向の屈折率、
b b b
dはフィルム bの厚み（nm)を表す。 ]
b
[12] 前記フィルム a層とフィルム b層との間に、アクリル系系プライマー c層を有することを 特徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[13] 一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム a上に、前記アクリル系プライマ 一 c層をコ一ティングにより形成し、該プライマー c層上に前記フィルム b層をコ一ティ ングにより形成することにより得られたことを特徴とする請求項 12に記載の光学フィル ム。
[14] 環状ォレフィン系榭脂からなる未延伸フィルム上に、前記アクリル系プライマー層 c をコーティングにより形成し、該プライマー c層上に前記フィルム b層をコーティングに より形成した後に、一軸延伸または二軸延伸することにより得られたことを特徴とする 請求項 12に記載の光学フィルム。
[15] 前記フィルム a層とフィルム b層との間に、ウレタン系プライマー c層を有することを特 徴とする請求項 1に記載の光学フィルム。
[16] 一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルム a上に、前記ウレタン系プライマ 一 c層をコ一ティングにより形成し、該プライマー c層上に前記フィルム b層をコ一ティ ングにより形成することにより得られたことを特徴とする請求項 15に記載の光学フィル ム。
[17] 環状ォレフィン系榭脂からなる未延伸フィルム上に、前記ウレタン系プライマー層 c をコーティングにより形成し、該プライマー c層上に前記フィルム b層をコーティングに より形成した後に、一軸延伸または二軸延伸することにより得られたことを特徴とする 請求項 15に記載の光学フィルム。
[18] 請求項 1〜17のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする偏光板。
[19] 請求項 1〜17のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする液晶ディ スプレイ。
[20] 請求項 18に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶ディスプレイ。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4986071B2 (ja) * 2007-03-30 2012-07-25 国立大学法人東京工業大学 樹脂組成物、硬化物及び光学用部材
JP5285318B2 (ja) * 2008-03-31 2013-09-11 富士フイルム株式会社 Ｖａモード液晶装置用光学補償フィルム、及びｖａモード液晶表示装置
JP5582295B2 (ja) * 2009-06-11 2014-09-03 Ｊｓｒ株式会社 液晶配向剤および液晶表示素子
WO2011068754A1 (en) * 2009-12-04 2011-06-09 3M Innovative Properties Company Nano-porous adhesive tie layer
JP5772529B2 (ja) * 2011-11-15 2015-09-02 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板および液晶表示装置
EP2847250B1 (en) * 2012-05-11 2020-03-18 Akron Polymer Systems, Inc. Thermally stable, flexible substrates for electronic devices
US20140017418A1 (en) * 2012-05-30 2014-01-16 Lg Chem, Ltd. Aqueous composition, optical film including the same, polarizing plate using the same, and liquid crystal display device using the same
JP6064680B2 (ja) * 2013-03-01 2017-01-25 株式会社リコー 中間転写ベルトおよびその製造方法、ならびに画像形成装置
TWI564354B (zh) * 2015-06-02 2017-01-01 奇美實業股份有限公司 光硬化性塗佈組成物、光硬化塗佈膜及觸控面板
JP6711914B2 (ja) * 2016-06-30 2020-06-17 デンカ株式会社 広視野角高コントラスト光学補償フィルム
TW202222933A (zh) 2019-06-28 2022-06-16 南韓商Ｓｋｃ股份有限公司 聚合物薄膜及其製備方法
US11713378B2 (en) 2019-06-28 2023-08-01 Sk Microworks Co., Ltd. Polymer film and preparation method thereof
KR20210001810A (ko) * 2019-06-28 2021-01-06 에스케이씨 주식회사 폴리이미드계 필름 및 이의 제조 방법
KR102147386B1 (ko) * 2019-07-25 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 폴리아미드이미드 필름

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07102087A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高複屈折ポリイミドフィルムの製造方法
JP2003014901A (ja) * 2001-04-27 2003-01-15 Jsr Corp 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
JP2003155342A (ja) * 2001-11-19 2003-05-27 Nippon Steel Chem Co Ltd 脂環構造を有するポリイミド共重合体
WO2003071319A1 (fr) * 2002-02-19 2003-08-28 Nitto Denko Corporation Feuille a couches de dephasage empilees, plaque a couches de polarisation empilees comprenant celle-ci et affichage d'image
JP2004226734A (ja) * 2003-01-23 2004-08-12 Toray Ind Inc 偏光膜用支持体フィルムおよび偏光板

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3968083A (en) * 1975-02-27 1976-07-06 General Electric Company Novel polyetherimides
US4423111A (en) * 1980-04-07 1983-12-27 General Electric Company Polyetherimide resin and electrical conductors insulated therewith
US5534602A (en) * 1990-07-02 1996-07-09 General Electric Company High temperature polyether imide compositions and method for making
JP3273046B2 (ja) * 1991-06-25 2002-04-08 日本ゼオン株式会社 位相板
US5354839A (en) * 1992-04-07 1994-10-11 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Polyimide and preparation process of same
US5516456A (en) * 1994-02-24 1996-05-14 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Liquid crystal display panel
JP3738469B2 (ja) * 1995-07-27 2006-01-25 日立化成工業株式会社 ポリイミド及びこれを用いた光部品
US5830988A (en) * 1997-08-26 1998-11-03 Molecular Optoelectronics Corporation Indane polyetherimides
JP2001013500A (ja) * 1999-06-30 2001-01-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射型液晶表示素子
JP3862941B2 (ja) * 2000-07-21 2006-12-27 リンテック株式会社 高精細防眩性ハードコートフィルム
EP1321487B1 (en) * 2000-07-27 2008-02-27 Mitsui Chemicals, Inc. Polyamic acid, polyimide, process for producing these, and film of the polyimide
TW572937B (en) * 2001-02-20 2004-01-21 Ind Tech Res Inst Cycloaliphatic polyimide and method for producing the same and its use
JP2002267844A (ja) * 2001-03-14 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差フイルムロール及びその製造方法
JP3899511B2 (ja) * 2001-04-27 2007-03-28 Ｊｓｒ株式会社 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
US6498224B1 (en) * 2001-12-05 2002-12-24 General Electric Company Methods for the preparation poly(etherimide)s
JP4178810B2 (ja) * 2001-12-25 2008-11-12 Ｊｓｒ株式会社 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
US20040021815A1 (en) * 2002-08-02 2004-02-05 Eastman Kodak Company Liquid crystal cell with compensator layer and process
JP3783958B2 (ja) * 2003-09-01 2006-06-07 日東電工株式会社 複合複屈折部材
JP2006058540A (ja) * 2004-08-19 2006-03-02 Jsr Corp 光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ
TWI572937B (zh) * 2015-04-17 2017-03-01 台灣東電化股份有限公司 具有磁導軛片之光學影像防震裝置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07102087A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高複屈折ポリイミドフィルムの製造方法
JP2003014901A (ja) * 2001-04-27 2003-01-15 Jsr Corp 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
JP2003155342A (ja) * 2001-11-19 2003-05-27 Nippon Steel Chem Co Ltd 脂環構造を有するポリイミド共重合体
WO2003071319A1 (fr) * 2002-02-19 2003-08-28 Nitto Denko Corporation Feuille a couches de dephasage empilees, plaque a couches de polarisation empilees comprenant celle-ci et affichage d'image
JP2004226734A (ja) * 2003-01-23 2004-08-12 Toray Ind Inc 偏光膜用支持体フィルムおよび偏光板

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1785753A4 *

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Publication number Publication date
KR20070059114A (ko) 2007-06-11
EP1785753A1 (en) 2007-05-16
EP1785753A4 (en) 2013-03-27
US20090231518A1 (en) 2009-09-17
TWI453470B (zh) 2014-09-21
TW200634354A (en) 2006-10-01

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