WO2013045215A1 - Electronic assembly, printed circuit board and method - Google Patents

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WO2013045215A1
WO2013045215A1 PCT/EP2012/067128 EP2012067128W WO2013045215A1 WO 2013045215 A1 WO2013045215 A1 WO 2013045215A1 EP 2012067128 W EP2012067128 W EP 2012067128W WO 2013045215 A1 WO2013045215 A1 WO 2013045215A1
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WO
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circuit board
insulating layer
layer
printed circuit
assembly
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Application number
PCT/EP2012/067128
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German (de)
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Inventor
Christina Schindler
Jörg ZAPF
Original Assignee
Siemens Aktiengesellschaft
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0275Security details, e.g. tampering prevention or detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/284Applying non-metallic protective coatings for encapsulating mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09218Conductive traces
    • H05K2201/09263Meander

Definitions

  • the invention relates to an electronic subassembly, a printed circuit board and a method.
  • the electronic module contains a printed circuit board on or in which at least two printed conductors or a plurality of printed conductors are arranged. At least one electronic component or typically a plurality of components form an electronic circuit arranged on the printed circuit board.
  • Electrical circuits may include security-related Informati ⁇ tions and must therefore be protected from external manipulation. Attempts to manipulate the circuit electrically must be taken into account as well as chemical or mechanical manipulations, eg by drilling or
  • the circuit is combined with a control unit, which results in irrevocably deleting security-relevant data in the event of an external manipulation.
  • This protection must be as easy as possible to be integrated into the manufacturing process of the circuit and may not have a lot of space, especially in miniaturized circuits.
  • the protection against manipulation could take place via a housing made of metallically structured circuit carriers. gene, which are also connected to the module to be protected.
  • This variant would be mechanically more stable and would also allow the use of standard manufacturing processes. However, the variant would not be suitable for miniaturized structures and would also be cost-intensive.
  • the assembly should be easy to manufacture.
  • the module may include a circuit arrangement surrounding or covering the circuit arrangement and a monitoring circuit whose inputs are electrically conductively connected to the conductor arrangement.
  • the electrically insulating insulating layer can rest on side surfaces of the component or on side surfaces of the components.
  • the conductor arrangement can be arranged on the insulating layer.
  • the components preferably generate on the circuit board:
  • SMD Surface Mounted Device
  • a method for producing the assembly does not require any additional special foils, in particular without special foils which already contain conductor tracks. Many of the required processes are also common in printed circuit board manufacturing and thus no new machines need to be purchased in this regard. The typical height differences prevent or complicate the use of prefabricated films, because then conductor breaks or conductor cracks may occur.
  • the assembly can be made with high reliability, if the insulating layer and the conductor arrangement are applied separately from ⁇ each other, resulting in the abutment of the insulating layer on the side surfaces of the components, in particular on opposite side surfaces of a component or on the opposite side surfaces of the respective component. In particular, the insulating layer is also applied to all side surfaces of a component or all components.
  • the generated by the components to the PCB Hö ⁇ henunter defencee are preferably less than 1 mm, less than 2 millimeters, or less than 3 millimeters.
  • the assembly contains no compensation films that would have to be punched out specifically for each type of assembly, and would be used separately.
  • a Austiciansfo ⁇ lie would abut in the presence of a certain game, for example, always only on a side surface of a component and not on other side surfaces of the device.
  • the electrically insulating insulating layer can be arranged directly on the components.
  • the iso ⁇ lier Anlagen contains only one layer.
  • the insulating layer ⁇ contains several insulating layers.
  • the conductor arrangement can be arranged directly on the insulating layer.
  • the conductor track arrangement includes apportioni ⁇ gate only one metal layer or two metal layers of different material composition.
  • the insulating layer can also be arranged on the side of the printed circuit board ist ⁇ turned on the component or on the components. This structural feature is the result of ner manufacturing in which the insulating layer is applied separately from the conductor arrangement, in particular by Ver ⁇ casting, dipping or laminating.
  • the insulating layer may be arranged on the components so that at a side facing away from the component of the insulating layer also height differences greater than 50 microns ⁇ meter or greater than 200 microns or greater than 400 microns occur.
  • the conductor track arrangement can be arranged on the insulating layer, wherein differences in height greater than 50 micrometers or greater than 200 micrometers or greater than 400 micrometers also occur at the track arrangement.
  • the insulating layer compensates for the height differences in this variant, or only partially.
  • an insulating layer with a constant thickness can be used ⁇ , as is the case with films.
  • the insulating layer may be a plastic film or ent ⁇ hold.
  • a plastic film can provide ⁇ easily Herge and simply applied to a topography ⁇ to, eg. Using vacuum or pressure and temperature. Because the plastic film contains no tracks, it is particularly adaptable to the topography. Is typical when using a film, that the insulating layer does not distinguish between component and circuit board befin ⁇ det.
  • the insulating layer may also be a cast onto the circuit board layer, which was then cured. It is then typical that the material of the insulating layer also flows between the component and the printed circuit board and is thus arranged there.
  • the differences in height are compensated here by the use of insulating layers applied in the flowable state, so that a surface of the insulating layer, for example, height. has differences that are smaller than 50 microns, or are at least 50 percent smaller than a topography generated by the compo ⁇ ment or by the components.
  • the reduced or leveled topography facilitates the application of the conductor track arrangement, in particular for small structural widths of the conductor tracks of less than 50 micrometers.
  • the insulating layer can be flattened towards its edge, for example by running a casting compound or immersion liquid or by using a specially designed mold.
  • the flattening at the edge facilitates the application of the track arrangement, because there is no step.
  • the printed conductors of the printed conductor arrangement can preferably be arranged in an area which corresponds to the entire area of the printed circuit board or at least 90 percent of the printed circuit board or the area of the printed circuit board to be protected.
  • the interconnects of the interconnect arrangement can be arranged meander-shaped. Meandering here means that the conductors change their direction several times by, for example, 180 degrees. However, instead of meandering, other waveforms may be used, such as helical courses in which a center is orbited with a continuously increasing radius.
  • the area to be protected contains the meander or several rete ⁇ other including gaps that have the same width as the meander or in the range of 0.5 to
  • the meandering or spiral tracks change their ohmic resistance when damaged. was particularly strong, so that an unauthorized intervention can be detected more easily.
  • the insulating layer may be a first insulating layer and the wiring arrangement may be a first wiring arrangement.
  • the wiring arrangement may be a first wiring arrangement.
  • there may be a second insulating layer on or even on the first trace arrangement.
  • a second Porterbahnanord ⁇ voltage may be arranged, which is connected to the monitoring circuit or to a further monitoring circuit.
  • the first insulating layer may contain the same material as the second insulating layer or another material.
  • the layer thicknesses of both layers may be the same or different.
  • the first wiring arrangement may contain the same material as the second wiring arrangement or another material.
  • the layer thicknesses of both interconnects may be the same or different.
  • the conductor tracks of the two conductor path arrangements meander derförmig results in a particularly high degree of protection, especially if the meander of the two conductor path arrangements learning with latera- offset are arranged to each other so that there is at top ⁇ view of the conductor arrangement, no more area in which only intermediate spaces lie, so that there would be an unauthorized access to the circuitry would be facilitated.
  • the interconnects of the track array may have a width in the range of 1 micron to 100 microns, preferably a width in the range of 5 microns to 100 microns. The same dimensions apply to the distances between adjacent sections of printed conductors of the printed conductor arrangement.
  • the printed conductors of the printed conductor arrangement can be more than 1 micrometer thick.
  • the layer thickness can be less than 100 Be micrometer.
  • a sufficient layer thickness of the conductor tracks is achieved that the resistance changes greatly in case of damage to the conductor arrangement.
  • a circuit board having a conductor layer be ⁇ dripped, containing at least one conductor track with MAE anderförmigem or spiral-shaped course in the area of the entire printed circuit board or in a protected area.
  • the underside, ie one side of the printed circuit board that is not populated, can thus be easily protected against unauthorized interference.
  • the protective metal layer can be easily produced in the manufacture of the circuit board.
  • the interconnect layer may be a first layer, wherein the Lei ⁇ terplatte includes a second interconnect layer containing in the region of the entire circuit board at least one further interconnect with meandering or spiral course.
  • the protective effect can be increased in a simple way.
  • the conductor track of the first interconnect layer can be arranged with lateral offset to the second interconnect layer, so that the protective effect is further increased.
  • the printed circuit board offers in particular with the conductor track arrangement of the module an all-round protection against interference from above and from below.
  • a wiring arrangement is arranged separately without simultaneous placement of an insulating layer.
  • the technical effects given above for the assembly also apply to the process.
  • no special films need to be used on which already are arranged.
  • a distance ⁇ film is not required.
  • At least one component or Kings ⁇ nen electronic components can be arranged on the circuit board, wherein an Iso ⁇ lier für is applied to the component or to the components.
  • the electrically conductive layer is structured after application to the insulating ⁇ layer to the wiring arrangement.
  • the insulating layer can be applied over the entire surface.
  • the electrically conductive layer can first be applied over the entire surface and then patterned.
  • At least one conductor track of the conductor track arrangement can be connected to a monitoring circuit arranged on the printed circuit board, which blocks the module against unauthorized access
  • the monitoring circuit cancels preference ⁇ as safety-related data in a memory of the construction ⁇ group, if an unauthorized operation is detected. Deleting in particular, by overwriting with ei ⁇ nem specified date.
  • the insulating layer can be applied as a film. This is a particularly simple process because no liquids need to be used. It can be used self-adhesive film. Alternatively, an additional adhesive may be used, which is applied to the film and / or on the circuit board, shortly before Ver ⁇ bind, for example. Less than 10 minutes before. Many films are already coated with an adhesive layer, which only un ⁇ ter pressure and temperature cures.
  • the film can be applied with overpressure or underpressure and / or with over-temperature.
  • the pressure or the temperature here are based on room pressure or room temperature in a production room and are in particular 1 bar and 20 degrees Celsius.
  • the application of the film can take place, for example, in a so-called autoclave, ie in a chamber whose internal pressure and its temperature are adjustable.
  • the overpressure may, for example, be in the range of 2 bar to 30 bar.
  • the temperature may be, for example, in the range of 80 degrees Celsius to 190 degrees Celsius, in particular in the range of 100 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.
  • the insulating layer can also be cast, spin-coated or applied by immersion. These are also methods that are also easy to perform and that lead to an additional height compensation.
  • the drying of the still liquid or viscous insulating layer may ⁇ SUC gene by means of an additional heat treatment step, which for example takes place at a temperature ranging from 50 degrees Celsius to 200 degrees Celsius. Potting layers can be made harder than films, for example with a Shore hardness in the range of 40 to 90.
  • the insulating layer may be in contact regions ge ⁇ opens by means of laser.
  • the laser beam of the laser penetrates the insulating layer, for example, only at two points or more than two points, but preferably at less than 20 points. This makes lasing very fast.
  • a photolithographic process may be used to penetrate the insulating layer.
  • the wiring arrangement can be easily applied by vapor deposition or sputtering, by electroplating or by both vapor deposition or sputtering and plating.
  • vapor deposition or sputtering a mechanical adhesion-improving layer is verbes ⁇ example.
  • Applied or a base coat which can be used for an electroplating method.
  • Typical materials here are titanium, tungsten and their nitrides. typical see layer thicknesses are in the range of 1 microns to 10 microns.
  • the sputtering can be carried out, for example, with a plasma, wherein the temperature on the circuit board can remain below 150 degrees Cel ⁇ sius or even below 100 degrees Celsius.
  • Particularly suitable for electroplating is copper, which is applied with a mask which covers areas of a base layer which are not to be electroplated for conducting electricity during electroplating.
  • the circuit includes a control unit which, for example, result in the deletion of safety-relevant data, if an increase in the resistance of a conductor track structure ⁇ is detected.
  • the circuit board is on one side, for example on the front, be ⁇ fitted.
  • a meander-shaped structure with the smallest possible structural spacing can be produced on the rear side, and through-connection to the front side is realized.
  • a multilayer metal ⁇ capitalization with staggered meanders is possible to reduce the risk of external manipulation.
  • a meander-shaped conductor track structure is produced on the front as follows.
  • the circuit with a dielectric iso ⁇ lines. This may be a laminated film, a lacquer or a potting material. Depending on the surface topography, the dielectric may vary in thickness, for example in the range from 1 micrometer to several hundred micrometers.
  • the ensuing metalli ⁇ cal interconnect structure with contact to the backside metallization tion can be generated additive, semi-additive or subtractive.
  • the surface of the dielectric is, for example, by means of gas phase senabscheidung, metallized, eg with Cu, and can ⁇ may be galvanically reinforced to several micrometers for Be.
  • the metal layer is structured in a meandering pattern by means of photolithography and etching technology. The traces are so close together that they are damaged by drilling in the interstices and the total resistance increases.
  • a Girla ⁇ giger structure can also be selected on the front side.
  • the first interconnect ⁇ structure is covered with a dielectric.
  • This may again be a laminated film, a lacquer or a potting material.
  • Contact openings to the first metal level are opened again, eg by means of laser ablation.
  • the surface is metalli ⁇ Siert, for example by vapor deposition, and the metal layer is added to the first metal plane meandering struc ⁇ riert.
  • a final encapsulation for the mechanical and chemical protection of the overall structure is possible.
  • the printed circuit board can be equipped on both sides.
  • the metal patterning process is performed on both sides as described above.
  • the encapsulation additionally produces mechanical stability
  • the structure allows protection against optical inspection and chemical or mechanical manipulation.
  • the procedure is as follows: 1. Isolation of the circuit to be protected with a dielectric. Applying the dielectric, for example by means of Vergie ⁇ Shen, dipping or laminating a film.
  • the film can also be photostructurable.
  • Meandering structuring of the metal layer for example by means of ⁇ photolithography and etching technique.
  • the monitoring circuit monitors for example.
  • an electrical signal is generated and optionally output, for example.
  • a deletion of data can be automatically initiated or even a destruction or change of components of the circuit, for example.
  • so-called fuses or fuse fuses With the help of so-called fuses or fuse fuses.
  • the energy for the monitoring circuit is stored, for example, in a storage capacitor, in a rechargeable battery or in a battery, which is located within the protective conductor track arrangement. Should the voltage in one of these energy stores fall below a predetermined value, then an automatic deletion can be initiated.
  • temperature and / or voltages are additionally monitored by the monitoring circuit. When the temperature rises or falls above or below a predetermined temperature value or the voltage above a predetermined voltage value, a deletion is likewise initiated.
  • the security-relevant data are, for example, encryption algorithms, electronic keys for electronic encryption and decryption methods, PIN codes (Personal Identification Number), important program data, important data records, etc.
  • At least two contacts of the circuitry may be routed outwardly through the protective track array as external terminals.
  • the circuit board is also referred to as a printed circuit and consists, for example, of FR4 (epoxy resin and glass fiber fabric) or FR5 material (epoxy resin and glass fiber fabric higher
  • Heat resistance or from other materials such as phenol ⁇ resin, ceramic, etc.
  • the circuit board may be single or multi-layer apart from protection principles for monitoring and mostly with Kup ⁇ ferleitbahnen provided. Furthermore, the layers used for the circuit can be arranged only on one side of the circuit board or on both sides of the circuit board. Typical values for the layer thickness of the printed circuit board are in the range of 100 micrometers to 500 micrometers or even up to 2 millimeters.
  • the printed circuit board can be fixed or rigid and thus not bendable, or not below a bending radius of, for example, 10 centimeters.
  • the printed circuit board can be flexible, ie bendable within certain limits of eg a radius of curvature smaller than 5 cm.
  • the components are active components, such as Transisto ⁇ ren (BT (bipolar transistor), FET (Field Effect Transistor), diodes), or passive components, such as resistors, Kondensa ⁇ motors, coils, etc.
  • the components are usually soldered, for example in SMD technology (Surface Mounted Device) or provided with connection legs, which penetrate the holes in the circuit board.
  • SMD technology Surface Mounted Device
  • connection legs which penetrate the holes in the circuit board.
  • Figure 1 is a plan view of a single-Schutzmetallisie ⁇ tion or protection interconnect arrangement
  • Figure 4 is a plan view of an embodiment
  • FIG. 5 shows a cross section through the assembly with Projectla ⁇ giger protective metallization
  • FIG. 6 shows a first production stage in the production of a protected assembly, wherein an insulating layer has already been applied
  • FIG. 7 shows a second production stage with Kunststofföffnun ⁇ conditions in the insulating layer
  • FIG. 8 shows a third production stage with a first production stage
  • FIG. 10 shows a fifth production stage with structured
  • FIG. 1 shows a plan view of an assembly 10 which contains a single-layer protective metallization or protective conductor track arrangement 12.
  • Assembly 10 also includes:
  • circuit board 14 which can also be as a circuit carrier ⁇ records
  • the conductor track arrangement 12 includes an axis extending in meandering conductor track which covers a part to be protected area of Lei ⁇ terplatte fourteenth Alternatively, the surface of the GESAM ⁇ th printed circuit board 14 is covered by the interconnect arrangement 12th In another embodiment, thenatibahnan ⁇ order 12, for example, a spiral shape.
  • the circuit board 14 in the embodiment has a rectangular ⁇ plan. Alternatively, the circuit board 14 has a square plan or a different floor plan.
  • the electrically insulating insulating layer 16 covers in the figure 1, not shown components of the assembly 10.
  • the ⁇ se components form a useful circuit assembly 10 and ei ⁇ ne monitoring circuit .
  • the useful circuit is for example:
  • a transmission unit for a data transmission method for example a radio transmission method, in particular for digital data, or
  • a receiving unit for a data transmission method for example a radio transmission method, in particular for digital data.
  • the monitoring circuit contains, for example:
  • a control circuit which generates an output signal when exceeding or falling below one or more setpoints, which is used, for example, for deleting data, for influencing the circuit or for delivering an electronic warning signal, and
  • the control circuit is constructed analog or digital, for example by means of a switching network or using a Surveillance processor or a processor used by the payload circuit.
  • a Surveillance processor or a processor used by the payload circuit.
  • Manipulatio ⁇ nen can be suppressed in the presence of an external voltage.
  • the deletion of the data can be carried out in the event of loss of voltage, for example, if the monitoring has not been properly disabled before.
  • FIG. 2 shows a cross section through the assembly 10, which contains the single-layer protective metallization or protective conductor track arrangement 12.
  • the circuit board 12 is provided on its bottom side over the entire surface with a meander-shaped interconnect arrangement 50. Vias 52 and 54 penetrating the printed circuit board 12 connect the trace assembly 50 to the trace assembly 12, or alternatively directly to the monitoring circuitry 56, e.g. a controller based on, for example, microprocessor-based.
  • Components 58, 60 of a circuit 62 to be monitored are shown in the left part of FIG.
  • the component 58 is, for example, a transistor or a diode.
  • the component 60 is, for example, a resistor.
  • the module 62 to be protected also contains an integrated circuit ⁇ circle.
  • the monitoring circuit 56 may be arranged in another embodiment, which moreover resembles the embodiment shown ⁇ example, also below the protective conductor track assembly 12, which further the protection increases, ie the track assembly 12 then covers, for example, the entire circuit board 14th
  • a dummy device 64 is used for connecting the second end of the conductor track arrangement 56. 12 to the monitoring circuit instead of the dummy device 64 is used is a direct contacting of the Lei ⁇ terplatte 12 in an otherwise moving ⁇ chen embodiment.
  • the monitoring circuit is then connected to the feedthrough 20 via a conductor track running on or in the printed circuit board 12.
  • FIG. 2 also shows a height H around which the highest component 64, 58, 60 of the assembly 10 protrudes beyond the printed circuit board 12.
  • This height H is, for example, in the range of 50 micrometers to 500 micrometers. Alternatively, the height H may be larger or smaller.
  • a potting compound 66 contained in the assembly 10 additionally protects the assembly 10 from unauthorized intervention.
  • the protective trace assembly 50 is not connected to the guard trace assembly 12 in another embodiment, but is monitored by the monitoring circuitry 56 independently of the guard trace assembly 12.
  • FIG. 3 shows a cross-section through an assembly 100 with two-sided assembly of a printed circuit board 114 and a single-layer protective metallization or protective conductor arrangement 112.
  • Assembly 100 also includes:
  • a monitoring circuit 156 which corresponds in terms of construction and function to the monitoring circuit 56, Components 158 and 160, which correspond to components 58 and 60 and which are part of a useful circuit 162,
  • a height Hl corresponds to the height H.
  • On the underside of the printed circuit board 114 is at two-sided assembly now another useful circuit 101, which is covered by a further track arrangement 102 with a meandering course and thereby protected.
  • the payload circuits 162 and 101 are also parts of a common payload circuit.
  • the utility circuit 101 includes devices 104, 106 and an optional dummy device 108 that corresponds to the dummy device 164.
  • a potting compound 110 additionally protects the assembly 100 against interference from below.
  • FIG. 4 shows a plan view of an assembly 200 with multilayer protective metallization.
  • the assembly 200 includes:
  • circuit board 214 which can also be as a circuit carrier ⁇ records
  • the guard trace assemblies 212 and 222 are constructed like the guard trace assembly 12.
  • the printed circuit board 214 is constructed like the printed circuit board 14.
  • the insulating layers 216, 226 are constructed like the insulating layer 16.
  • the contact portions 221a and 221b serve to connect the upper protection trace array 222 to the monitor circuit of the assembly 200.
  • the protection afforded by the assembly 200 shown in FIGS. 4 and 5 increases because at least two guard trace assemblies 212 and 222 are to be penetrated Intervened from above. The same applies to interventions from below, as will be explained in more detail with reference to FIG.
  • the assembly 200 includes a monitor circuit, not shown in Figure 4, the resistance changes, or change other characteristic electrical quantities of the protective-conductor arrangements detected 212 and 222 and causes the appropriate steps, if ⁇ nde ⁇ movements are recognized, for example. Deletion of relevant data.
  • FIG. 5 shows a cross section through the assembly 200 with multilayer protective metallization or protective conductor arrangements 212 and 222. According to FIG. 5, the assembly 200 furthermore contains:
  • Components 258 and 260 which correspond to components 58 and 56 and which form part of a useful circuit 262,
  • a first lower protection trace assembly 250 which is the
  • Protective conductor arrangement 50 corresponds and in particular ei ⁇ ne along a meander or a spiral (circular, square or rectangular) running track contains
  • the contact portions 221a and 221b are not in the cross ⁇ section , which is shown in Figure 5, but are also connected via interconnects of the circuit board 214 with the monitoring ⁇ circuit 256.
  • a lateral offset V between the guard traces 212 and 222 prevents gaps therebetween in which no guard traces are disposed when viewed from top of the package 200.
  • the printed circuit boards 14 and 214 are also separately protected, that is, without assembly with components and without the upper protective trace assembly 12 and the protective trace assemblies 212 and 222 are available.
  • separate through ⁇ contacts are also used for the connection of the protective conductor tracks 250 and 255.
  • the guard trace assemblies 250 and 255 may also be monitored by the monitor circuit 256 independently of the guard trace assemblies 212 and 222.
  • both sides are populated and in each case two or more than two protective conductor arrangement are used above and below.
  • the monitoring circuit can be covered by the protective conductor track arrangements in order to increase safety.
  • the monitoring circuit 156 can also be arranged on both sides of the printed circuit board 114.
  • a printed circuit board manufacturer has produced the printed circuit board 14 according to customer requirements, with the protective printed conductor arrangement 50 and the plated-through holes 52 and 54 having already been produced by the conventional methods of printed circuit board technology, for example using photolithographic methods and etching processes,
  • the printed circuit board 14 was equipped with the components of the monitoring circuit 56 as well as with the components 58 and 60 of the useful circuit 62 as well as optionally with the optional dummy component 64,
  • the insulating layer 16 was selectively applied ⁇ , for example. With a lift-off method. Alternatively, the insulating layer 16 is applied over the entire surface and patterned with a photolithographic process, for example. Together with the formation of holes for the contact portions 18 and 20th
  • the insulating layer 16 was, for example. USAGE laminated under ⁇ dung of pressure and temperature for example. In the range from 2 bar to 30 bar or in the range from 80 degrees Celsius to 190 degrees Cel ⁇ SIUS.
  • As the material for the insulating layer polyimide or epoxy is suitable.
  • An optional additional adhesive layer or an adhesive film or a double-sided adhesive to set ⁇ foil facilitates the application. It is possible to use the foils customary in printed circuit board technology.
  • Thickness of the film is, for example, in the range of 20 micrometers to 100 micrometers and in the range of 40 micrometers to 60 micrometers.
  • the insulating layer 16 by casting, spin dryer or applied ⁇ dipping processes, forming no step at the edge of the insulating layer sixteenth Again, as a material for the insulating polyimide or epoxy geeig ⁇ net.
  • the still viscous insulating layer is dried in air or by additional temperature processes, for example. At a temperature in the range of 80 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.
  • FIG. 7 shows a second manufacturing stage, have been introduced in the already be ⁇ contact openings 300, 302 and 304 in the insulating layer 16, for example.
  • ⁇ contact openings 300, 302 and 304 in the insulating layer 16, for example.
  • a photolithographic method or wet etching process with subsequent closing drying.
  • a photosensitive film may be used, which is then selectively exposed and developed and remain of the areas as insulating layer 16 in the ⁇ group 10 ⁇ .
  • the contact hole 300 serves to accommodate the contact portion 18. ⁇ Accordingly, the contact hole is 304 for receiving the contact portion 20.
  • the contact opening 302 receives a portion of the via 52.
  • FIG. 8 shows a third production stage with a first metallization layer 310 of the protective conductor arrangement 12.
  • the metallization layer 310 is applied or sputtered from the gas phase (cathode sputtering) at temperatures at the insulating layer of, for example, only up to 80 degrees Celsius.
  • the metallization layer 310 forms an adhesion-promoting layer and can serve as a base layer for the current supply in a galvanic process, possibly reinforced by a thin vapor-deposited or sputtered copper layer.
  • the material of the metallization layer 310 is approximately ⁇ eg. Suitable titanium, copper, tantalum, tungsten, chromium, a combination of these materials, or their nitrides.
  • the layer thickness of the metal ⁇ ltechniks slaughter 310 is in the range of 5 micrometers to 15 micrometers. Typical values for a vapor deposition are 50 nanometers to 5 micrometers. The thicker the layer becomes, the more expensive it becomes. Theoretically, 15
  • Micrometer thick layers can also be achieved via the vapor deposition. If thicker layers (5 microns to 15 microns) are desired, the thin film process is typically combined with electrodeposition.
  • the contact sections 18 and 20 and an upper part of the through-connection 52 are formed.
  • the through-connection 54 is also contacted by the first one at the edge of the insulating layer 16
  • FIG. 9 shows a fourth production stage with a galvanically produced metallization layer 320, which later forms the upper part of the protective conductor arrangement 12 and thus later amplifies the protective conductor arrangement 12, with regard to the mechanical stability.
  • the metallization layer 320 is, for example, which is then patterned in a photolithographic process, a surface-wide applied Kup ⁇ fer für.
  • a semiadditi ⁇ ves method is employed, in which a photomask is applied to the Me ⁇ tallmaschines harsh 310, after which the metallization layer 320 is already applied struc ⁇ riert out at ⁇ closing, for example.
  • electroplating By electroplating.
  • the layer thickness of the metallization layer 320 is, for example, in the range of 20 micrometers to 50 micrometers.
  • ⁇ 320 In addition to increasing the mechanical stability of the metallization layer approximately ⁇ 320 also leads to a significant reduction of the ohmic resistance of the Sands protection interconnect arrangement 12 which benefits the ease of detecting interruptions contrary. Further electrically conductive protective layers can be applied. Purification steps between the method ⁇ steps have not been described separately, in particular
  • FIG. 10 shows a fifth stage of manufacture with struc tured ⁇ metallization layer 310, 320 whereby the protective conductor arrangement is generated 12th
  • For struc ⁇ Center a wet chemical or dry chemical etching process is then used.
  • the width of the conductor track or the conductor tracks of the protective conductor arrangement 12 is, for example, in the range of 50 micrometers to 100 micrometers, so that the patterning of copper is not a problem.
  • the methods used from the production of printed circuit boards are known and optimized.
  • the casting ⁇ mass 66 includes, for example, an epoxy. Black or dark ⁇ filling materials make it difficult to examine the optical assembly 10.
  • a mold may be used in which the circuit board 14 is placed.
  • a so-called mold process or injection molding process can be used in which the potting ⁇ mass is applied under pressure and temperature using a mold.
  • the assemblies 100 and 200 are produced analogously to the assembly 10, ie in particular using the erläu ⁇ terten methods, materials, layer thicknesses and manufacturing process.
  • the protective measures are combined with other protective measures.

Abstract

An explanation is given of an electronic assembly, containing: - a printed circuit board, on or in which at least two conductor tracks or a multiplicity of conductor tracks are arranged, - at least one electronic component or a multiplicity of components forming an electronic circuit arranged on the printed circuit board, - a conductor track arrangement covering or surrounding the circuit, - and a monitoring circuit, the inputs of which are electrically conductively connected to the conductor track arrangement, - an electrically insulating insulation layer on side surfaces of the component or on side surfaces of the components, and wherein the conductor track arrangement is arranged on the insulation layer.

Description

Beschreibung description
Elektronische Baugruppe, Leiterplatte und Verfahren Die Erfindung betrifft eine elektronische Baugruppe, eine Leiterplatte und ein Verfahren. Die elektronische Baugruppe enthält eine Leiterplatte, an oder in der mindestens zwei Leiterbahnen oder eine Vielzahl von Leiterbahnen angeordnet sind. Mindestens ein elektronisches Bauelement oder typi- scherweise eine Vielzahl von Bauelementen bilden eine auf der Leiterplatte angeordnete elektronische Schaltung. The invention relates to an electronic subassembly, a printed circuit board and a method. The electronic module contains a printed circuit board on or in which at least two printed conductors or a plurality of printed conductors are arranged. At least one electronic component or typically a plurality of components form an electronic circuit arranged on the printed circuit board.
Elektrische Schaltungen können sicherheitsrelevante Informati¬ onen enthalten und müssen deshalb vor externen Manipulationen geschützt werden. Versuche, die Schaltung elektrisch zu manipulieren, müssen ebenso berücksichtigt werden wie chemische oder mechanische Manipulationen, z.B. mittels Bohren oder Electrical circuits may include security-related Informati ¬ tions and must therefore be protected from external manipulation. Attempts to manipulate the circuit electrically must be taken into account as well as chemical or mechanical manipulations, eg by drilling or
Laserablation . Daher wird die Schaltung mit einer Kontrolleinheit kombiniert, die dazu führt, dass sicherheitsrelevante Da- ten unwiderruflich gelöscht werden, falls der Fall einer externen Manipulation eintritt. Dieser Schutz muss möglichst einfach in den Fertigungsprozess der Schaltung integriert werden können und darf besonders bei miniaturisierten Schaltungen keinen hohen Platzbedarf haben. Laser ablation. Therefore, the circuit is combined with a control unit, which results in irrevocably deleting security-relevant data in the event of an external manipulation. This protection must be as easy as possible to be integrated into the manufacturing process of the circuit and may not have a lot of space, especially in miniaturized circuits.
Elektrische Schaltungen könnten mittels Bohrschutzfolien vor externen Manipulationen geschützt. Nach der Herstellung würde die Baugruppe in einer Bohrschutzfolie dreidimensional ver¬ packt werden. Die Folie würde elektrische Strukturen tragen, die mit der Baugruppe verbunden sind und bei Beschädigung zum Löschen sicherheitsrelevanter Daten führen. Nachteile wären die Sensitivität der metallischen Strukturen auf der Bohrschutzfolie und die daher geringe mechanische Stabilität, der Verpackungsprozess, der von Standard-Elektronikfertigungs- prozessen abweicht, und die Größe der Verpackung. Electrical circuits could be protected by means of Bohrschutzfolien from external manipulation. After preparation, the assembly would be ¬ packaged three-dimensionally in a ver Bohrschutzfolie. The foil would carry electrical structures that are connected to the assembly and, if damaged, result in deletion of safety related data. Disadvantages would be the sensitivity of the metallic structures on the anti-drilling foil and therefore the low mechanical stability, the packaging process, which deviates from standard electronic manufacturing processes, and the size of the packaging.
Alternativ könnte der Schutz gegen Manipulation über ein Gehäuse aus metallisch strukturierten Schaltungsträgern erfol- gen, die ebenfalls mit der zu schützenden Baugruppe verbunden sind. Diese Variante wäre mechanisch stabiler und würde auch den Einsatz von Standardherstellungsprozessen erlauben. Die Variante wäre aber für miniaturisierte Aufbauten nicht geeig- net und wäre zudem kostenintensiv. Alternatively, the protection against manipulation could take place via a housing made of metallically structured circuit carriers. gene, which are also connected to the module to be protected. This variant would be mechanically more stable and would also allow the use of standard manufacturing processes. However, the variant would not be suitable for miniaturized structures and would also be cost-intensive.
Somit besteht ein Bedürfnis nach einer weiteren Baugruppe, die gegen unberechtigten Zugriff geschützt ist. Die Baugruppe soll einfach herzustellen sind. Thus, there is a need for a further assembly that is protected against unauthorized access. The assembly should be easy to manufacture.
Diese Aufgabe wird durch eine Baugruppe nach Anspruch 1 ge¬ löst. Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen, der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen angegeben. Die Baugruppe kann eine die Schaltung umgebenden bzw. überdeckende Leiterbahnanordnung und eine Überwachungsschaltung enthalten, deren Eingänge mit der Leiterbahnanordnung elektrisch leitfähig verbunden sind. Die elektrisch isolierende Isolierschicht kann an Seitenflächen des Bauelementes oder an Seitenflächen der Bauelemente anliegen Die Leiterbahnanordnung kann an der Isolierschicht angeordnet werden. This object is achieved by an assembly according to claim 1 ge ¬ . Further developments are specified in the subclaims, the following description and the drawings. The module may include a circuit arrangement surrounding or covering the circuit arrangement and a monitoring circuit whose inputs are electrically conductively connected to the conductor arrangement. The electrically insulating insulating layer can rest on side surfaces of the component or on side surfaces of the components. The conductor arrangement can be arranged on the insulating layer.
Die Bauelemente erzeugen auf der Leiterplatte vorzugsweise:The components preferably generate on the circuit board:
- Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer, z.B. in Flip- Chip-Technik aufgebrachter integrierter Schaltkreis (Ball- height differences greater than 50 microns, e.g. flip-chip integrated circuit (ball
Grid Array o.a.), oder Grid Array or similar), or
- größer als 200 Mikrometer, oder  - greater than 200 microns, or
- größer als 400 Mikrometer, z.B. SMD (Surface Mounted Device) .  greater than 400 microns, e.g. SMD (Surface Mounted Device).
Ein Verfahren zum Herstellen der Baugruppe kommt ohne zusätzliche Spezialfolien aus, insbesondere ohne Spezialfolien, die schon Leiterbahnen enthalten. Viele der erforderlichen Prozesse sind außerdem in der Leiterplattenfertigung üblich und damit müssen diesbezüglich keine neuen Maschinen angeschafft werden . Die typischen Höhenunterschiede verhindern bzw. erschweren den Einsatz von vorgefertigten Folien, weil dann Leiterbahnbrüche bzw. Leiterbahnrisse auftreten können. Die Baugruppe kann aber mit hoher Zuverlässigkeit hergestellt werden, wenn die Isolierschicht und die Leiterbahnanordnung getrennt von¬ einander aufgebracht werden, was zum anliegen der Isolierschicht an den Seitenflächen der Bauelemente führt, insbesondere an einander abgewandten Seitenflächen eines Bauelementes bzw. an den einander abgewandten Seitenflächen des jeweiligen Bauelements. Insbesondere liegt die Isolierschicht auch an allen Seitenflächen eines Bauelements oder aller Bauelemente an. Die durch die Bauelemente zur Leiterplatte erzeugten Hö¬ henunterschiede sind bevorzugt kleiner als 1 Millimeter, kleiner als 2 Millimeter oder kleiner als 3 Millimeter. A method for producing the assembly does not require any additional special foils, in particular without special foils which already contain conductor tracks. Many of the required processes are also common in printed circuit board manufacturing and thus no new machines need to be purchased in this regard. The typical height differences prevent or complicate the use of prefabricated films, because then conductor breaks or conductor cracks may occur. However, the assembly can be made with high reliability, if the insulating layer and the conductor arrangement are applied separately from ¬ each other, resulting in the abutment of the insulating layer on the side surfaces of the components, in particular on opposite side surfaces of a component or on the opposite side surfaces of the respective component. In particular, the insulating layer is also applied to all side surfaces of a component or all components. The generated by the components to the PCB Hö ¬ henunterschiede are preferably less than 1 mm, less than 2 millimeters, or less than 3 millimeters.
Insbesondere enthält die Baugruppe keine Ausgleichsfolien, die speziell für jede Art von Baugruppe ausgestanzt werden müsste, und die separat einzusetzen wäre. Eine Ausgleichsfo¬ lie würde bei Vorhandensein eines gewissen Spiels bspw. immer nur an einer Seitenfläche eines Bauelementes anliegen und nicht an anderen Seitenflächen des Bauelements. Erst recht würde die Abstandsfolie nicht von einander abgewandten Sei¬ tenflächen eines Bauelements liegen, wie es bei der Erfindung der Fall ist. In particular, the assembly contains no compensation films that would have to be punched out specifically for each type of assembly, and would be used separately. A Ausgleichsfo ¬ lie would abut in the presence of a certain game, for example, always only on a side surface of a component and not on other side surfaces of the device. Certainly would not be the spacer film from opposite ¬ Be tenflächen a component, as is the case with the invention.
Die elektrisch isolierende Isolierschicht kann direkt an den Bauelementen angeordnet sein. Vorzugsweise enthält die Iso¬ lierschicht nur eine Schicht. Alternativ enthält die Isolier¬ schicht mehrere isolierende Schichten. The electrically insulating insulating layer can be arranged directly on the components. Preferably, the iso ¬ lierschicht contains only one layer. Alternatively, the insulating layer ¬ contains several insulating layers.
Die Leiterbahnanordnung kann direkt an der Isolierschicht angeordnet werden. Die Leiterbahnanordnung enthält zweckmäßi¬ gerweise nur eine Metallschicht oder nur zwei Metallschichten unterschiedlicher Material Zusammensetzung . The conductor arrangement can be arranged directly on the insulating layer. The conductor track arrangement includes zweckmäßi ¬ gerweise only one metal layer or two metal layers of different material composition.
Die Isolierschicht kann auch an der der Leiterplatte abge¬ wandten Seite an dem Bauelement oder an den Bauelementen angeordnet sein. Dieses strukturelle Merkmal ist die Folge ei- ner Fertigung, bei der die Isolierschicht separat von der Leiterbahnanordnung aufgebracht wird, insbesondere durch Ver¬ gießen, Tauchen oder Laminieren. Die Isolierschicht kann auf den Bauelementen so angeordnet sein, dass an einer dem Bauelement abgewandten Seite der Isolierschicht ebenfalls Höhenunterschiede größer als 50 Mikro¬ meter oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten. Die Leiterbahnanordnung kann an der Iso- lierschicht angeordnet sein, wobei an der Leiterbahnanordnung ebenfalls Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten . Somit gleicht die Isolierschicht die Höhenunterschiede bei dieser Variante nicht oder nur bedingt aus. Andererseits kann ein Isolierschicht mit gleichbleibender Dicke verwendet wer¬ den, wie es bei Folien der Fall ist. Die Isolierschicht kann eine Kunststofffolie sein oder ent¬ halten. Eine Kunststofffolie kann auf einfache Art herge¬ stellt und auch einfach auf eine Topografie aufgebracht wer¬ den, bspw. unter Verwendung von Unterdruck oder Überdruck und Temperatur. Weil die Kunststofffolie keine Leiterbahnen ent- hält, ist sie besonderes anpassungsfähig an die Topografie. Typisch beim Verwenden einer Folie ist, dass sich die Isolierschicht nicht zwischen Bauelement und Leiterplatte befin¬ det . Die Isolierschicht kann aber auch eine auf die Leiterplatte gegossene Schicht sein, die dann ausgehärtet wurde. Typisch ist dann, dass das Material der Isolierschicht auch zwischen Bauelement und Leiterplatte fließt und damit dort angeordnet wird . The insulating layer can also be arranged on the side of the printed circuit board abge ¬ turned on the component or on the components. This structural feature is the result of ner manufacturing in which the insulating layer is applied separately from the conductor arrangement, in particular by Ver ¬ casting, dipping or laminating. The insulating layer may be arranged on the components so that at a side facing away from the component of the insulating layer also height differences greater than 50 microns ¬ meter or greater than 200 microns or greater than 400 microns occur. The conductor track arrangement can be arranged on the insulating layer, wherein differences in height greater than 50 micrometers or greater than 200 micrometers or greater than 400 micrometers also occur at the track arrangement. Thus, the insulating layer compensates for the height differences in this variant, or only partially. On the other hand, an insulating layer with a constant thickness can be used ¬ , as is the case with films. The insulating layer may be a plastic film or ent ¬ hold. A plastic film can provide ¬ easily Herge and simply applied to a topography ¬ to, eg. Using vacuum or pressure and temperature. Because the plastic film contains no tracks, it is particularly adaptable to the topography. Is typical when using a film, that the insulating layer does not distinguish between component and circuit board befin ¬ det. The insulating layer may also be a cast onto the circuit board layer, which was then cured. It is then typical that the material of the insulating layer also flows between the component and the printed circuit board and is thus arranged there.
Die Höhenunterschiede werden hier durch die Verwendung von im fließfähigen Zustand aufgebrachten Isolierschichten ausgeglichen, so dass eine Oberfläche der Isolierschicht bspw. Höhen- unterschiede hat, die kleiner als 50 Mikrometer sind, bzw. um mindesten 50 Prozent kleiner sind als eine durch das Bauele¬ ment bzw. durch die Bauelemente erzeugte Topografie. Die verringerte bzw. eingeebnete Topografie erleichtert das Aufbringen der Leiterbahnanordnung, insbesondere bei kleinen Strukturbreiten der Leiterbahnen von kleiner als 50 Mikrometer. Durch Vergießen oder Tauchen lassen sich größere Höhenunterschiede zwischen Leiterplatte und Bauelementen ausglei- chen, insbesondere Höhenunterschiede größer als 200 Mikrome¬ ter aber kleiner als 3 Millimeter, kleiner als 2 Millimeter oder sogar kleiner als 1 Millimeter. The differences in height are compensated here by the use of insulating layers applied in the flowable state, so that a surface of the insulating layer, for example, height. has differences that are smaller than 50 microns, or are at least 50 percent smaller than a topography generated by the compo ¬ ment or by the components. The reduced or leveled topography facilitates the application of the conductor track arrangement, in particular for small structural widths of the conductor tracks of less than 50 micrometers. By casting or dipping larger differences in height between PCB and components can be compensated, in particular height differences greater than 200 Mikrome ¬ ter but less than 3 millimeters, less than 2 millimeters or even less than 1 millimeter.
Bei dieser Ausgestaltung kann die Isolierschicht zu ihrem Rand hin abgeflacht sein, bspw. durch Verlaufen einer Gussmasse oder Tauchflüssigkeit oder durch Verwenden einer speziell ausgestalteten Gussform. Die Abflachung am Rand erleichtert das Aufbringen der Leiterbahnanordnung, weil keine Stufe vorhanden ist. In this embodiment, the insulating layer can be flattened towards its edge, for example by running a casting compound or immersion liquid or by using a specially designed mold. The flattening at the edge facilitates the application of the track arrangement, because there is no step.
Die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung können vorzugsweise in einem Gebiet angeordnet sein, das dem gesamten Gebiet der Leiterplatte oder mindestens 90 Prozent der Leiterplatte bzw. des zu schützenden Gebietes der Leiterplatte entspricht. Ins¬ besondere können die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung mä- anderförmig angeordnet. Mäanderförmig heißt hier, dass die Leiterbahnen ihre Richtung mehrmals um bspw. 180 Grad ändern. An Stelle von Mäandern können jedoch auch andere Kurvenformen verwendet werden, wie z.B. spiralförmige Verläufe bei denen ein Zentrum mit kontinuierlich größer werdendem Radius umkreist wird. The printed conductors of the printed conductor arrangement can preferably be arranged in an area which corresponds to the entire area of the printed circuit board or at least 90 percent of the printed circuit board or the area of the printed circuit board to be protected. Ins ¬ particular the interconnects of the interconnect arrangement can be arranged meander-shaped. Meandering here means that the conductors change their direction several times by, for example, 180 degrees. However, instead of meandering, other waveforms may be used, such as helical courses in which a center is orbited with a continuously increasing radius.
Das zu schützende Gebiet enthält den Mäander oder mehrere Mä¬ ander einschließlich von Zwischenräumen, die die gleiche Breite wie die Mäander haben bzw. im Bereich von 0,5 bis zuThe area to be protected contains the meander or several mä ¬ other including gaps that have the same width as the meander or in the range of 0.5 to
2,0 dieser Breite liegen. Die mäanderförmigen bzw. spiralförmigen Leiterbahnen ändern bei Beschädigung ihren ohmschen Wi- derstand besonders stark, so dass sich ein unberechtigter Eingriff leichter erfassen lässt. 2.0 of this width are. The meandering or spiral tracks change their ohmic resistance when damaged. was particularly strong, so that an unauthorized intervention can be detected more easily.
Die Isolierschicht kann eine erste Isolierschicht sein und die Leiterbahnanordnung kann eine erste Leiterbahnanordnung sein. Zusätzlich kann es auf oder sogar an der ersten Leiterbahnanordnung eine zweite Isolierschicht geben. Auf oder an der zweiten Isolierschicht kann eine zweite Leiterbahnanord¬ nung angeordnet sein, die mit der Überwachungsschaltung oder mit einer weiteren Überwachungsschaltung verbunden ist. The insulating layer may be a first insulating layer and the wiring arrangement may be a first wiring arrangement. In addition, there may be a second insulating layer on or even on the first trace arrangement. On or at the second insulating layer a second Leiterbahnanord ¬ voltage may be arranged, which is connected to the monitoring circuit or to a further monitoring circuit.
Die erste Isolierschicht kann das gleiche Material wie die zweite Isolierschicht enthalten oder ein anderes Material. Die Schichtdicken beider Schichten können gleich oder vonein- ander verschieden sein. The first insulating layer may contain the same material as the second insulating layer or another material. The layer thicknesses of both layers may be the same or different.
Die erste Leiterbahnanordnung kann das gleiche Material wie die zweite Leiterbahnanordnung enthalten oder ein anderes Material. Die Schichtdicken beider Leiterbahnanordnungen können gleich oder voneinander verschieden sein. The first wiring arrangement may contain the same material as the second wiring arrangement or another material. The layer thicknesses of both interconnects may be the same or different.
Sind die Leiterbahnen der beiden Leiterbahnanordnungen mäan- derförmig ergibt sich ein besonders hoher Schutz, insbesondere wenn die Mäander beider Leiterbahnanordnungen mit latera- lern Versatz zueinander angeordnet sind, so dass es bei Drauf¬ sicht auf die Leiterbahnanordnung kein Gebiet mehr gibt, in dem nur Zwischenräume liegen, so dass dort ein unberechtigtes Vordringen zu der Schaltungsanordnung erleichtert wäre. Die Leitbahnen der Leiterbahnanordnung können eine Breite im Bereich von 1 Mikrometer bis zu 100 Mikrometern haben, vorzugsweise eine Breite im Bereich von 5 Mikrometern bis zu 100 Mikrometern. Die gleichen Abmessungen gelten für die Abstände zwischen benachbarten Abschnitten von Leiterbahnen der Lei- terbahnanordnung . The conductor tracks of the two conductor path arrangements meander derförmig results in a particularly high degree of protection, especially if the meander of the two conductor path arrangements learning with latera- offset are arranged to each other so that there is at top ¬ view of the conductor arrangement, no more area in which only intermediate spaces lie, so that there would be an unauthorized access to the circuitry would be facilitated. The interconnects of the track array may have a width in the range of 1 micron to 100 microns, preferably a width in the range of 5 microns to 100 microns. The same dimensions apply to the distances between adjacent sections of printed conductors of the printed conductor arrangement.
Die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung können mehr als 1 Mikrometer dick sein. Die Schichtdicke kann kleiner als 100 Mikrometer sein. Durch eine ausreichende Schichtdicke der Leiterbahnen wird erreicht, dass sich der Widerstand stark ändert bei Beschädigung der Leiterbahnanordnung. Außerdem ist eine Leiterplatte mit einer Leiterbahnlage be¬ troffen, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine Leiterbahn mit mä- anderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. Die Unterseite, d.h. eine Seite der Leiterplatte, die nicht bestückt wird, kann so auf einfache Art gegen unberechtigte Eingriffe geschützt werden. Die schützende Metalllage kann bei der Herstellung der Leiterplatte auf einfache Art erzeugt werden . The printed conductors of the printed conductor arrangement can be more than 1 micrometer thick. The layer thickness can be less than 100 Be micrometer. By a sufficient layer thickness of the conductor tracks is achieved that the resistance changes greatly in case of damage to the conductor arrangement. In addition, a circuit board having a conductor layer be ¬ dripped, containing at least one conductor track with MAE anderförmigem or spiral-shaped course in the area of the entire printed circuit board or in a protected area. The underside, ie one side of the printed circuit board that is not populated, can thus be easily protected against unauthorized interference. The protective metal layer can be easily produced in the manufacture of the circuit board.
Die Leiterbahnlage kann eine erste Lage sein, wobei die Lei¬ terplatte eine zweite Leiterbahnlage enthält, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte mindestens eine weitere Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. Die Schutzwirkung lässt sich so auf einfache Art erhöhen. The interconnect layer may be a first layer, wherein the Lei ¬ terplatte includes a second interconnect layer containing in the region of the entire circuit board at least one further interconnect with meandering or spiral course. The protective effect can be increased in a simple way.
Die Leiterbahn der ersten Leiterbahnlage kann mit lateralem Versatz zu der zweiten Leiterbahnlage angeordnet sein, so dass sich die Schutzwirkung weiter erhöht. Die Leiterplatte bietet insbesondere mit der Leiterbahnanordnung der Baugruppe einen allseitigen Schutz gegen Eingriffe von oben und von unten . The conductor track of the first interconnect layer can be arranged with lateral offset to the second interconnect layer, so that the protective effect is further increased. The printed circuit board offers in particular with the conductor track arrangement of the module an all-round protection against interference from above and from below.
Betroffen ist außerdem ein Verfahren zum Herstellen einer Baugruppe: Also affected is a method of manufacturing an assembly:
- auf einer bestückten Leiterplatte wird eine Leiterbahnanordnung separat ohne gleichzeitiges Anordnen einer Isolierschicht angeordnet. Somit gelten die oben für die Baugruppe angegebenen technischen Wirkungen auch für das Verfahren. Insbesondere müssen keine Spezialfolien verwendet werden auf denen bereits Lei- terbahnen angeordnet sind. Weiterhin ist bspw. eine Abstands¬ folie nicht erforderlich. - On a populated circuit board, a wiring arrangement is arranged separately without simultaneous placement of an insulating layer. Thus, the technical effects given above for the assembly also apply to the process. In particular, no special films need to be used on which already are arranged. Furthermore, for example. A distance ¬ film is not required.
Auf der Leiterplatte kann mindestens ein Bauelement oder kön¬ nen mehrere elektronische Bauelemente angeordnet werden, wobei auf das Bauelement oder auf die Bauelemente eine Iso¬ lierschicht aufgebracht wird. Auf die Isolierschicht wird ei¬ ne elektrisch leitfähige Schicht aufgebracht. Die elektrisch leitfähige Schicht wird nach dem Aufbringen auf die Isolier¬ schicht strukturiert zu der Leiterbahnanordnung. At least one component or Kings ¬ nen electronic components can be arranged on the circuit board, wherein an Iso ¬ lierschicht is applied to the component or to the components. On the insulating layer ei ¬ ne electrically conductive layer is applied. The electrically conductive layer is structured after application to the insulating ¬ layer to the wiring arrangement.
Auch für dieses Verfahren gelten die oben für die Baugruppe angegebenen technischen Wirkungen. Die Isolierschicht kann ganzflächig aufgebracht werden. Ebenso kann die elektrisch leitfähige Schicht zunächst ganzflächig aufgebracht werden und dann strukturiert werden. Also for this method, the technical effects given above for the assembly apply. The insulating layer can be applied over the entire surface. Likewise, the electrically conductive layer can first be applied over the entire surface and then patterned.
Mindestens eine Leiterbahn der Leiterbahnanordnung kann mit einer auf der Leiterplatte angeordneten Überwachungsschaltung verbunden werden, die die Baugruppe gegen unberechtigte At least one conductor track of the conductor track arrangement can be connected to a monitoring circuit arranged on the printed circuit board, which blocks the module against unauthorized access
Zugriffe schützt. Die Überwachungsschaltung löscht vorzugs¬ weise sicherheitsrelevante Daten in einem Speicher der Bau¬ gruppe, wenn ein unberechtigter Eingriff festgestellt wird. Das Löschen erfolgt insbesondere durch Überschreiben mit ei¬ nem vorgegebenen Datum. Protects access. The monitoring circuit cancels preference ¬ as safety-related data in a memory of the construction ¬ group, if an unauthorized operation is detected. Deleting in particular, by overwriting with ei ¬ nem specified date.
Die Isolierschicht kann als Folie aufgebracht werden. Dabei handelt es sich um ein besonders einfaches Verfahren, weil keine Flüssigkeiten verwendet werden müssen. Es kann selbstklebende Folie verwendet werden. Alternativ kann ein zusätzliches Klebmittel verwendet werden, das auf die Folie und/ oder auf die Leiterplatte aufgebracht wird, kurz vor dem Ver¬ binden, bspw. weniger als 10 Minuten vorher. Viele Folien sind bereits mit einer Klebeschicht beschichtet, die erst un¬ ter Druck und Temperatur aushärtet. The insulating layer can be applied as a film. This is a particularly simple process because no liquids need to be used. It can be used self-adhesive film. Alternatively, an additional adhesive may be used, which is applied to the film and / or on the circuit board, shortly before Ver ¬ bind, for example. Less than 10 minutes before. Many films are already coated with an adhesive layer, which only un ¬ ter pressure and temperature cures.
Die Folie kann mit Überdruck oder Unterdruck und/oder mit Übertemperatur aufgebracht werden. Der Druck bzw. die Tempe- ratur sind hier bezogen auf den Raumdruck oder die Raumtemperatur in einem Fertigungsraum und liegen bei insbesondere 1 Bar bzw. 20 Grad Celsius. Das Aufbringen der Folie kann bspw. in einem sogenannten Autoklaven erfolgen, d.h. in einer Kam- mer deren Innendruck und deren Temperatur einstellbar sind. The film can be applied with overpressure or underpressure and / or with over-temperature. The pressure or the temperature here are based on room pressure or room temperature in a production room and are in particular 1 bar and 20 degrees Celsius. The application of the film can take place, for example, in a so-called autoclave, ie in a chamber whose internal pressure and its temperature are adjustable.
Der Überdruck kann bspw. im Bereich von 2 Bar bis 30 Bar liegen. Die Temperatur kann bspw. im Bereich von 80 Grad Celsius bis 190 Grad Celsius liegen, insbesondere im Bereich von 100 Grad Celsius bis 150 Grad Celsius. The overpressure may, for example, be in the range of 2 bar to 30 bar. The temperature may be, for example, in the range of 80 degrees Celsius to 190 degrees Celsius, in particular in the range of 100 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.
Alternativ kann die Isolierschicht aber auch aufgegossen, aufgeschleudert oder durch Eintauchen aufgebracht werden. Auch dies sind Verfahren, die außerdem einfach auszuführen sind und die zu einem zusätzlichen Höhenausgleich führen. Das Trocknen der noch flüssigen oder zähflüssigen Isolierschicht kann mit Hilfe eines zusätzlichen Temperaturschrittes erfol¬ gen, der z.B. bei einer Temperatur im Bereich von 50 Grad Celsius bis 200 Grad Celsius stattfindet. Vergussschichten können härter als Folien ausgeführt werden, z.B. mit einer Shore-Härte im Bereich von 40 bis 90. Alternatively, however, the insulating layer can also be cast, spin-coated or applied by immersion. These are also methods that are also easy to perform and that lead to an additional height compensation. The drying of the still liquid or viscous insulating layer may ¬ SUC gene by means of an additional heat treatment step, which for example takes place at a temperature ranging from 50 degrees Celsius to 200 degrees Celsius. Potting layers can be made harder than films, for example with a Shore hardness in the range of 40 to 90.
Die Isolierschicht kann mittels Laser in Kontaktbereichen ge¬ öffnet werden. Der Laserstrahl des Lasers durchdringt die Isolierschicht z.B. nur an zwei Stellen oder an mehr als zwei Stellen, vorzugsweise jedoch an weniger als 20 Stellen. Damit lässt sich das Lasern sehr schnell durchführen. Alternativ kann aber auch ein fotolithografisches Verfahren verwendet werden, um die Isolierschicht zu durchdringen. The insulating layer may be in contact regions ge ¬ opens by means of laser. The laser beam of the laser penetrates the insulating layer, for example, only at two points or more than two points, but preferably at less than 20 points. This makes lasing very fast. Alternatively, however, a photolithographic process may be used to penetrate the insulating layer.
Die Leiterbahnanordnung kann durch Gasphasenabscheidung oder Aufsputtern, durch Galvanisieren oder durch sowohl Gasphasenabscheidung oder Aufsputtern als auch Galvanisieren auf einfache Art aufgebracht werden. Durch Gasphasenabscheidung bzw. Aufsputtern wird bspw. eine die mechanische Haftung verbes¬ sernde Schicht aufgebracht oder eine Grundschicht, die für ein Galvanisierungsverfahren genutzt werden kann. Typische Materialien sind hier Titan, Wolfram und deren Nitride. Typi- sehe Schichtdicken liegen im Bereich von 1 Mikrometer bis zu 10 Mikrometern. The wiring arrangement can be easily applied by vapor deposition or sputtering, by electroplating or by both vapor deposition or sputtering and plating. By vapor deposition or sputtering a mechanical adhesion-improving layer is verbes ¬ example. Applied or a base coat, which can be used for an electroplating method. Typical materials here are titanium, tungsten and their nitrides. typical see layer thicknesses are in the range of 1 microns to 10 microns.
Das Sputtern kann bspw. mit einem Plasma durchgeführt werden, wobei die Temperatur an der Leiterplatte unter 150 Grad Cel¬ sius bleiben kann bzw. sogar unter 100 Grad Celsius. Zum Galvanisieren eignet sich insbesondere Kupfer, das mit einer Maske aufgebracht wird, die nicht zu galvanisierende Bereiche einer Grundschicht zur Stromführung beim Galvanisieren ab- deckt. The sputtering can be carried out, for example, with a plasma, wherein the temperature on the circuit board can remain below 150 degrees Cel ¬ sius or even below 100 degrees Celsius. Particularly suitable for electroplating is copper, which is applied with a mask which covers areas of a base layer which are not to be electroplated for conducting electricity during electroplating.
Für die Baugruppe, die Leiterplatte und das Verfahren gilt, dass ein extrem kleiner Aufbau zum Schutz einer elektrischen Schaltung gegen externe Manipulation mit Standard-Elektronikfertigungs- prozessen realisiert werden kann. Eine hohe Integrations¬ dichte wird dadurch ermöglicht. Die Schaltung enthält eine Kontrolleinheit, die bspw. zum Löschen sicherheitsrelevanter Daten führt, falls ein Anstieg des Widerstands einer Leiter¬ bahnstruktur detektiert wird. For the assembly, the circuit board and the method, an extremely small structure for protecting an electrical circuit against external manipulation can be realized with standard electronic manufacturing processes. A high integration density ¬ is made possible thereby. The circuit includes a control unit which, for example, result in the deletion of safety-relevant data, if an increase in the resistance of a conductor track structure ¬ is detected.
Es können zwei Fälle unterschieden werden. Im ersten Fall ist die Leiterplatte einseitig, z.B. auf der Vorderseite, be¬ stückt. In diesem Fall kann bei der Leiterplattenherstellung rückseitig eine mäanderförmige Struktur mit dem kleinst- möglichen Strukturabstand erzeugt werden, und eine Durchkontak- tierung zur Vorderseite wird realisiert. Eine mehrlagige Metal¬ lisierung mit versetzten Mäandern ist möglich, um das Risiko einer externen Manipulation zu verringern. Nach der Bestückung wird vorderseitig eine mäanderförmige Leiterbahnstruktur wie folgt erzeugt. Die Schaltung wird mit einem Dielektrikum iso¬ liert. Dies kann eine laminierte Folie, ein Lack oder ein Vergussmaterial sein. Das Dielektrikum kann je nach Oberflä- chentopografie in der Dicke variieren, z.B. im Bereich von 1 Mikrometer bis zu mehreren hundert Mikrometer. Two cases can be distinguished. In the first case, the circuit board is on one side, for example on the front, be ¬ fitted. In this case, in the production of printed circuit boards, a meander-shaped structure with the smallest possible structural spacing can be produced on the rear side, and through-connection to the front side is realized. A multilayer metal ¬ capitalization with staggered meanders is possible to reduce the risk of external manipulation. After the assembly, a meander-shaped conductor track structure is produced on the front as follows. The circuit with a dielectric iso ¬ lines. This may be a laminated film, a lacquer or a potting material. Depending on the surface topography, the dielectric may vary in thickness, for example in the range from 1 micrometer to several hundred micrometers.
Kontakte zum Rückseitenkontakt und zur Kontrollstruktur werden z.B. mittels Laserablation geöffnet. Die nun folgende metalli¬ sche Leiterbahnstruktur mit Kontakt zur rückseitigen Metallisie- rung kann additiv, semiadditiv oder subtraktiv erzeugt werden. Die Oberfläche des Dielektrikums wird, z.B. mittels Gaspha- senabscheidung, metallisiert, z.B. mit Cu, und kann bei Be¬ darf galvanisch auf mehrere Mikrometer verstärkt werden. Die Metallschicht wird über Photolithographie und Ätztechnik mä- anderförmig strukturiert. Die Leiterbahnzüge liegen dabei so dicht aneinander, dass sie durch Bohrversuche in den Zwischenräumen beschädigt werden und der Gesamtwiderstand dadurch ansteigt . Contacts to the backside contact and to the control structure are opened eg by means of laser ablation. The ensuing metalli ¬ cal interconnect structure with contact to the backside metallization tion can be generated additive, semi-additive or subtractive. The surface of the dielectric is, for example, by means of gas phase senabscheidung, metallized, eg with Cu, and can ¬ may be galvanically reinforced to several micrometers for Be. The metal layer is structured in a meandering pattern by means of photolithography and etching technology. The traces are so close together that they are damaged by drilling in the interstices and the total resistance increases.
Um das Risiko zu minimieren, kann auch vorderseitig ein mehrla¬ giger Aufbau gewählt werden. Dabei wird die erste Leiterbahn¬ struktur mit einem Dielektrikum abgedeckt. Dies kann wieder eine laminierte Folie, ein Lack oder ein Vergussmaterial sein. Kontaktöffnungen zur ersten Metallebene werden erneut, z.B. mittels Laserablation geöffnet. Die Oberfläche wird metalli¬ siert, z.B. mittels Gasphasenabscheidung, und die Metalllage wird versetzt zur ersten Metallebene mäanderförmig struktu¬ riert. Ein abschließender Verguss zum mechanischen und chemi- sehen Schutz des Gesamtaufbaus ist möglich. To minimize the risk, a mehrla ¬ giger structure can also be selected on the front side. In this case, the first interconnect ¬ structure is covered with a dielectric. This may again be a laminated film, a lacquer or a potting material. Contact openings to the first metal level are opened again, eg by means of laser ablation. The surface is metalli ¬ Siert, for example by vapor deposition, and the metal layer is added to the first metal plane meandering struc ¬ riert. A final encapsulation for the mechanical and chemical protection of the overall structure is possible.
Im zweiten Fall kann die Leiterplatte beidseitig bestückt werden. In diesem Fall wird der Prozess zur Metallstruk- turierung, wie oben beschrieben, beidseitig durchgeführt. In the second case, the printed circuit board can be equipped on both sides. In this case, the metal patterning process is performed on both sides as described above.
Es werden die folgenden technischen Wirkungen erreicht: The following technical effects are achieved:
- elektrische Schaltungen können in einem kompakten Aufbau sicher geschützt werden, was eine hohe Integrationsdichte er¬ möglicht, - Electrical circuits can be safely protected in a compact design, which allows a high integration density ¬
- der Herstellungsprozess ist mit Standardherstellungs¬ verfahren möglich, - the manufacturing process is possible with standard manufacturing information model,
- der Verguss erzeugt zusätzlich mechanische Stabilität, the encapsulation additionally produces mechanical stability,
- der Aufbau erlaubt Schutz gegen optische Prüfung und chemische oder mechanische Manipulation. - The structure allows protection against optical inspection and chemical or mechanical manipulation.
Zusammenfassend gilt für das Verfahren: 1. Isolation der zu schützenden Schaltung mit einem Dielektrikum. Aufbringen des Dielektrikums z.B. mittels Vergie¬ ßen, Tauchen oder Laminieren einer Folie. Die Folie kann auch photostrukturierbar sein. In summary, the procedure is as follows: 1. Isolation of the circuit to be protected with a dielectric. Applying the dielectric, for example by means of Vergie ¬ Shen, dipping or laminating a film. The film can also be photostructurable.
2. Öffnung der Kontakte zur Schaltung und zum Controller mittels Fotolithographie und Ätztechnik oder mittels Laserabla- tion . 3. Metallisierung der Oberfläche, z.B. mittels Gasphasen- abscheidung . 2. Opening of the contacts to the circuit and to the controller by means of photolithography and etching or by laser ablation. 3. metallization of the surface, e.g. by means of gas phase separation.
4. Optional: metallische Verstärkung durch Galvanik für bessere mechanische Stabilität. 4. Optional: metallic reinforcement by electroplating for better mechanical stability.
5. Mäanderförmige Strukturierung der Metallschicht, z.B. mit¬ tels Fotolithographie und Ätztechnik. 5. Meandering structuring of the metal layer, for example by means of ¬ photolithography and etching technique.
6. Optional: Verguss zum optischen Schutz und/oder Schutz vor chemischen oder mechanischen Einflüssen. 6. Optional: Potting for optical protection and / or protection against chemical or mechanical influences.
Die Überwachungsschaltung überwacht bspw. den ohmschen Widerstand, die Kapazität oder die Induktivität der Leiterbahn¬ anordnung. Bei Abweichungen von einem Sollwert wird ein elektrisches Signal erzeugt und optional bspw. ausgegeben. Auch kann abhängig von dem elektrischen Signal automatisch ein Löschen von Daten eingeleitet werden oder auch eine Zerstörung oder Veränderung von Bauelementen der Schaltung, bspw. mit Hilfe von sogenannten Fuses bzw. Schmelzsiche- rungen. The monitoring circuit monitors for example. The ohmic resistance, the capacitance or the inductance of the conductor track ¬ arrangement. In case of deviations from a desired value, an electrical signal is generated and optionally output, for example. Also, depending on the electrical signal, a deletion of data can be automatically initiated or even a destruction or change of components of the circuit, for example. With the help of so-called fuses or fuse fuses.
Die Energie für die Überwachungsschaltung wird bspw. in einem Speicherkondensator, in einem wieder aufladbaren Akkumulator oder in einer Batterie gespeichert, die sich innerhalb der Schutzleiterbahnanordnung befindet. Sollte die Spannung in einem dieser Energiespeicher unter einen vorgegebenen Wert fallen, so kann ein automatisches Löschen veranlasst werden. Bei anderen Ausführungsbeispielen werden zusätzlich auch Temperatur und/oder Spannungen von der Überwachungsschaltung überwacht. Beim Ansteigen oder Abfallen der Temperatur über bzw. unter einen vorgegebenen Temperaturwert oder der Span- nung über einen vorgegebenen Spannungswert, wird ebenfalls ein Löschen veranlasst. The energy for the monitoring circuit is stored, for example, in a storage capacitor, in a rechargeable battery or in a battery, which is located within the protective conductor track arrangement. Should the voltage in one of these energy stores fall below a predetermined value, then an automatic deletion can be initiated. In other embodiments, temperature and / or voltages are additionally monitored by the monitoring circuit. When the temperature rises or falls above or below a predetermined temperature value or the voltage above a predetermined voltage value, a deletion is likewise initiated.
Die sicherheitsrelevanten Daten sind bspw. Verschlüsselungsalgorithmen, elektronische Schlüssel für elektronische Ver- bzw. Entschlüsselungsverfahren, PIN-Codes (Personal Identification Number) , wichtige Programmdaten, wichtige Datensätze usw . The security-relevant data are, for example, encryption algorithms, electronic keys for electronic encryption and decryption methods, PIN codes (Personal Identification Number), important program data, important data records, etc.
Mindestens zwei Kontakte der Schaltungsanordnung können nach außen durch die Schutzleitbahnanordnung hindurch geführt werden als äußere Anschlüsse. At least two contacts of the circuitry may be routed outwardly through the protective track array as external terminals.
Die Leiterplatte wird auch als gedruckte Schaltung bezeichnet und besteht bspw. aus FR4- (Epoxidharz und Glasfasergewebe) oder FR5-Material (Epoxidharz und Glasfasergewebe höhererThe circuit board is also referred to as a printed circuit and consists, for example, of FR4 (epoxy resin and glass fiber fabric) or FR5 material (epoxy resin and glass fiber fabric higher
Wärmebeständigkeit) bzw. aus anderen Materialien wie Phenol¬ harz, Keramik usw. Heat resistance) or from other materials such as phenol ¬ resin, ceramic, etc.
Die Leiterplatte kann abgesehen von Schutzlagen für die Über- wachung einlagig oder mehrlagig sein und ist meist mit Kup¬ ferleitbahnen versehen. Weiterhin können die für die Schaltung genutzten Lagen nur auf einer Seite der Leiterplatte oder auf beiden Seiten der Leiterplatte angeordnet sein. Typische Werte für die Schichtdicke der Leiterplatte liegen im Bereich von 100 Mikrometern bis 500 Mikrometern oder sogar bis zu 2 Millimeter. The circuit board may be single or multi-layer apart from protection principles for monitoring and mostly with Kup ¬ ferleitbahnen provided. Furthermore, the layers used for the circuit can be arranged only on one side of the circuit board or on both sides of the circuit board. Typical values for the layer thickness of the printed circuit board are in the range of 100 micrometers to 500 micrometers or even up to 2 millimeters.
Die Leiterplatte kann fest bzw. starr sein und damit nicht biegbar, bzw. nicht unter einen Biegeradius von bspw. 10 Zen- timetern. Alternativ kann die Leiterplatte flexibel sein, d.h. biegbar in gewissen Grenzen von z.B. einem Krümmungsradius kleiner als 5 cm. Die Bauelemente sind aktive Bauelemente, wie z.B. Transisto¬ ren (BT (bipolar Transistor) , FET (Feld Effekt Transistor) , Dioden) , oder passive Bauelemente, wie Widerstände, Kondensa¬ toren, Spulen usw. The printed circuit board can be fixed or rigid and thus not bendable, or not below a bending radius of, for example, 10 centimeters. Alternatively, the printed circuit board can be flexible, ie bendable within certain limits of eg a radius of curvature smaller than 5 cm. The components are active components, such as Transisto ¬ ren (BT (bipolar transistor), FET (Field Effect Transistor), diodes), or passive components, such as resistors, Kondensa ¬ motors, coils, etc.
Die Bauelemente sind üblicherweise aufgelötet, z.B. in SMD Technik (Surface Mounted Device) oder mit Anschlussbeinen versehen, die die Löcher in der Leiterplatte durchdringen. Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise , wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich im Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele. Sofern in dieser Anmeldung der Begriff "kann" ver- wendet wird, handelt es sich sowohl um die technische Mög¬ lichkeit als auch um die tatsächliche technische Umsetzung. The components are usually soldered, for example in SMD technology (Surface Mounted Device) or provided with connection legs, which penetrate the holes in the circuit board. The above-described characteristics, features, and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of the embodiments. Unless this application, the term "may" comparable uses is, it is both the technical Mög ¬ friendliness and the actual technical implementation.
Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung an Hand der beiliegenden Zeichnungen erläutert. Darin zeigen: In the following, embodiments of the invention will be explained with reference to the accompanying drawings. Show:
Figur 1 eine Aufsicht einer einlagigen Schutzmetallisie¬ rung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung, Figure 1 is a plan view of a single-Schutzmetallisie ¬ tion or protection interconnect arrangement,
Figur 2 einen Querschnitt der einlagigen Schutzmetalli¬ sierung bei einseitiger Bestückung, 2 shows a cross-section of the single-layer Schutzmetalli ¬ tion with one-sided assembly,
Figur 3 einen Querschnitt durch ein anderes Ausführungs¬ beispiel mit beidseitiger Bestückung und einlagi¬ ger Schutzmetallisierung, 3 shows a cross sectional view of another execution ¬ example with two-sided mounting and einlagi ¬ ger Schutzmetallisierung,
Figur 4 eine Aufsicht auf ein Ausführungsbeispiel mit Figure 4 is a plan view of an embodiment with
mehrlagiger Schutzmetallisierung,  multilayer protective metallization,
Figur 5 einen Querschnitt durch die Baugruppe mit mehrla¬ giger Schutzmetallisierung, Figur 6 eine erste Herstellungsstufe bei der Herstellung einer geschützten Baugruppe, wobei bereits eine Isolierschicht aufgebracht worden ist, 5 shows a cross section through the assembly with mehrla ¬ giger protective metallization, FIG. 6 shows a first production stage in the production of a protected assembly, wherein an insulating layer has already been applied,
Figur 7 eine zweite Herstellungsstufe mit Kontaktöffnun¬ gen in der Isolierschicht, FIG. 7 shows a second production stage with Kontaktöffnun ¬ conditions in the insulating layer,
Figur 8 eine dritte Herstellungsstufe mit einer ersten FIG. 8 shows a third production stage with a first production stage
Metallisierungsschicht,  metallization
Figur 9 eine vierte Herstellungsstufe mit einer galva¬ nisch verstärkten Metallisierungsschicht, 9 shows a fourth stage of manufacture with a galvanic ¬ cally enhanced metallization,
Figur 10 eine fünfte Herstellungsstufe mit strukturierter FIG. 10 shows a fifth production stage with structured
Metallisierungsschicht, und  Metallization layer, and
Figur 11 eine sechste Herstellungsstufe mit Verguss der 11 shows a sixth production stage with potting the
Baugruppe .  Assembly.
Die Figur 1 zeigt eine Aufsicht einer Baugruppe 10, die eine einlagige Schutzmetallisierung bzw. Schutz- Leiterbahnanordnung 12 enthält. FIG. 1 shows a plan view of an assembly 10 which contains a single-layer protective metallization or protective conductor track arrangement 12.
Die Baugruppe 10 enthält außerdem: Assembly 10 also includes:
- eine Leiterplatte 14, die auch als Schaltungsträger be¬ zeichnet werden kann, - a circuit board 14, which can also be as a circuit carrier ¬ records,
- eine elektrisch isolierende Isolierschicht 16,  an electrically insulating insulating layer 16,
- zwei Kontaktabschnitte 18 und 20, welche die Isolierschicht 16 durchdringen und an den beiden Enden der Leiterbahnanordnung 12 ausgebildet sind.  - Two contact portions 18 and 20, which penetrate the insulating layer 16 and are formed at the two ends of the conductor arrangement 12.
Die Leiterbahnanordnung 12 enthält eine in Mäandern verlaufende Leiterbahn, die ein zu schützendes Teilgebiet der Lei¬ terplatte 14 überdeckt. Alternativ wird die Fläche der gesam¬ ten Leiterplatte 14 von der Leiterbahnanordnung 12 überdeckt. Bei einem anderen Ausführungsbeispiel hat die Leiterbahnan¬ ordnung 12 bspw. einen spiralförmigen Verlauf. Die Leiterplatte 14 hat im Ausführungsbeispiel einen recht¬ eckigen Grundriss. Alternativ hat die Leiterplatte 14 einen quadratischen Grundriss oder einen anderen Grundriss. Die elektrisch isolierende Isolierschicht 16 überdeckt in der Figur 1 nicht dargestellte Bauelemente der Baugruppe 10. Die¬ se Bauelemente bilden eine Nutzschaltung Baugruppe 10 und ei¬ ne Überwachungsschaltung. Die Nutzschaltung ist bspw.: The conductor track arrangement 12 includes an axis extending in meandering conductor track which covers a part to be protected area of Lei ¬ terplatte fourteenth Alternatively, the surface of the GESAM ¬ th printed circuit board 14 is covered by the interconnect arrangement 12th In another embodiment, the Leiterbahnan ¬ order 12, for example, a spiral shape. The circuit board 14 in the embodiment has a rectangular ¬ plan. Alternatively, the circuit board 14 has a square plan or a different floor plan. The electrically insulating insulating layer 16 covers in the figure 1, not shown components of the assembly 10. The ¬ se components form a useful circuit assembly 10 and ei ¬ ne monitoring circuit . The useful circuit is for example:
- eine Schaltung zur Eingabe und optional Anzeige einer PIN, a circuit for input and optionally display of a PIN,
- eine Schaltung die einen Prozessor und einen elektronischen Speicher enthält mit Befehlen und Daten für den Prozessor, insbesondere eine Verschlüsselungsschaltung, a circuit containing a processor and an electronic memory with instructions and data for the processor, in particular an encryption circuit,
- eine Sendeeinheit für ein Datenübertragungsverfahren bspw. ein Funkübertragungsverfahren, insbesondere für digitale Daten, oder a transmission unit for a data transmission method, for example a radio transmission method, in particular for digital data, or
- eine Empfangseinheit für ein Datenübertragungsverfahren bspw. ein Funkübertragungsverfahren, insbesondere für digita- le Daten.  a receiving unit for a data transmission method, for example a radio transmission method, in particular for digital data.
In allen Fällen geht es darum, die Schaltung vor unbefugten Zugriffen zu schützen, um bspw. Manipulationen zu verhindern oder den Aufbau der Schaltung nicht preiszugeben, bspw. Soft- warealgorithmen oder bestimmt Hardwareverschaltungen. In all cases, it is important to protect the circuit from unauthorized access, for example to prevent manipulation or to not disclose the structure of the circuit, for example software algorithms or hardware circuits.
Die Überwachungsschaltung enthält bspw.: The monitoring circuit contains, for example:
- eine Widerstandsüberwachung, deren Eingänge an die Leiterbahnanordnung 14 angeschlossen sind,  a resistance monitor whose inputs are connected to the track arrangement 14,
- eine Steuerschaltung, die beim Überschreiten oder Unterschreiten eines oder mehrerer Sollwerte ein Ausgangssignal erzeugt, das bspw. zum Löschen von Daten, zum Beeinflussen der Schaltung oder zur Abgabe eines elektronischen Warnsignals verwendet wird, und - A control circuit which generates an output signal when exceeding or falling below one or more setpoints, which is used, for example, for deleting data, for influencing the circuit or for delivering an electronic warning signal, and
- einen optionalen Energiespeicher. - an optional energy storage.
Die Steuerschaltung ist analog oder digital aufgebaut, z.B. mit Hilfe eines Schaltnetzwerkes oder unter Verwendung eines Überwachungsprozessors oder eines auch von der Nutzschaltung genutzten Prozessors. Für die Steuerschaltung gelten insbesondere auch die in der Einleitung für die Überwachungs¬ schaltung genannten Ausführungen, z.B. zusätzliche Tempera- tur- und Spannungsüberwachung. The control circuit is constructed analog or digital, for example by means of a switching network or using a Surveillance processor or a processor used by the payload circuit. For the control circuit in particular mentioned in the introduction to the monitoring ¬ circuit designs, eg ture additional temperatures and voltage monitoring apply.
Ohne Energiespeicher in der Baugruppe 10 können Manipulatio¬ nen bei Vorhandensein einer äußeren Spannung unterbunden werden. Optional kann das Löschen der Daten bei Wegfall der Spannung erfolgen, bspw. wenn die Überwachung nicht fachgerecht vorher deaktiviert worden ist. Without energy storage in the assembly 10 Manipulatio ¬ nen can be suppressed in the presence of an external voltage. Optionally, the deletion of the data can be carried out in the event of loss of voltage, for example, if the monitoring has not been properly disabled before.
Mit Energiespeicher in der Baugruppe 10 ist es auch möglich die Schaltungsanordnung ohne Anliegen einer äußeren Spannung zu schützen, bspw. während des Transports oder während einer Betriebspause eines Gerätes. With energy storage in the assembly 10, it is also possible to protect the circuit without concern an external voltage, for example. During transport or during a break in operation of a device.
Die Figur 2 zeigt einen Querschnitt durch die Baugruppe 10, die die einlagige Schutzmetallisierung bzw. Schutz- Leiterbahnanordnung 12 enthält. Die Leiterplatte 12 ist an ihrer Bodenseite ganzflächig mit einer mäanderförmigen Leiterbahnanordnung 50 versehen. Durchkontaktierungen 52 und 54, die die Leiterplatte 12 durchdringen, verbinden die Leiterbahnanordnung 50 mit der Leitbahnanordnung 12 bzw. alternativ direkt mit der Überwachungsschaltung 56, z.B. einem Controller auf bspw. Mikroprozessorbasis. FIG. 2 shows a cross section through the assembly 10, which contains the single-layer protective metallization or protective conductor track arrangement 12. The circuit board 12 is provided on its bottom side over the entire surface with a meander-shaped interconnect arrangement 50. Vias 52 and 54 penetrating the printed circuit board 12 connect the trace assembly 50 to the trace assembly 12, or alternatively directly to the monitoring circuitry 56, e.g. a controller based on, for example, microprocessor-based.
Bauelemente 58, 60 einer zu überwachenden Schaltung 62 sind im linken Teil der Figur 2 gezeigt. Das Bauelement 58 ist bspw. ein Transistor oder eine Diode. Das Bauelement 60 ist bspw. ein Widerstand. Alternativ oder zusätzlich enthält die zu schützende Baugruppe 62 auch einen integrierten Schalt¬ kreis . Die Überwachungsschaltung 56 kann bei einem anderen Ausführungsbeispiel, das im Übrigen dem gezeigten Ausführungs¬ beispiel gleicht, ebenfalls unterhalb der Schutz- Leiterbahnanordnung 12 angeordnet sein, was den Schutz weiter erhöht, d.h. die Leiterbahnanordnung 12 überdeckt dann bspw. die gesamte Leiterplatte 14. Components 58, 60 of a circuit 62 to be monitored are shown in the left part of FIG. The component 58 is, for example, a transistor or a diode. The component 60 is, for example, a resistor. Alternatively or additionally, the module 62 to be protected also contains an integrated circuit ¬ circle. The monitoring circuit 56 may be arranged in another embodiment, which moreover resembles the embodiment shown ¬ example, also below the protective conductor track assembly 12, which further the protection increases, ie the track assembly 12 then covers, for example, the entire circuit board 14th
Ein Dummybauelement 64 dient zum Anschluss des zweiten Endes der Leiterbahnanordnung 12 an die Überwachungsschaltung 56. An Stelle des Dummybauelements 64 wird bei einem sonst glei¬ chen Ausführungsbeispiel eine direkte Kontaktierung der Lei¬ terplatte 12 verwendet. Die Überwachungsschaltung ist dann über eine auf bzw. in der Leiterplatte 12 verlaufende Lei- terbahn an die Durchkontaktierung 20 angeschlossen. A dummy device 64 is used for connecting the second end of the conductor track arrangement 56. 12 to the monitoring circuit instead of the dummy device 64 is used is a direct contacting of the Lei ¬ terplatte 12 in an otherwise moving ¬ chen embodiment. The monitoring circuit is then connected to the feedthrough 20 via a conductor track running on or in the printed circuit board 12.
In der Figur 2 ist außerdem eine Höhe H eingezeichnet, um die das höchste Bauelement 64, 58, 60 der Baugruppe 10 über die Leiterplatte 12 hinausragt. Diese Höhe H liegt bspw. im Be- reich von 50 Mikrometern bis 500 Mikrometern. Alternativ kann die Höhe H auch größer oder kleiner sein. FIG. 2 also shows a height H around which the highest component 64, 58, 60 of the assembly 10 protrudes beyond the printed circuit board 12. This height H is, for example, in the range of 50 micrometers to 500 micrometers. Alternatively, the height H may be larger or smaller.
Eine in der Baugruppe 10 enthaltende Vergussmasse 66 schützt die Baugruppe 10 zusätzlich vor unberechtigten Eingriffen. A potting compound 66 contained in the assembly 10 additionally protects the assembly 10 from unauthorized intervention.
Die Schutz-Leiterbahnanordnung 50 wird bei einem anderen Ausführungsbeispiel nicht an die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 angeschlossen, sondern durch die Überwachungsschaltung 56 unabhängig von der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 überwacht. The protective trace assembly 50 is not connected to the guard trace assembly 12 in another embodiment, but is monitored by the monitoring circuitry 56 independently of the guard trace assembly 12.
Die Figur 3 zeigt einen Querschnitt durch eine Baugruppe 100 mit beidseitiger Bestückung einer Leiterplatte 114 und einlagiger Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung 112. FIG. 3 shows a cross-section through an assembly 100 with two-sided assembly of a printed circuit board 114 and a single-layer protective metallization or protective conductor arrangement 112.
Die Baugruppe 100 enthält außerdem: Assembly 100 also includes:
- eine elektrisch isolierende Isolierschicht 116 auf der Oberseite,  an electrically insulating insulating layer 116 on the upper side,
- zwei Kontaktabschnitte 118 und 120, welche die Isolier- schicht 116 durchdringen und an den beiden Enden der Leiterbahnanordnung 112 ausgebildet sind,  two contact sections 118 and 120, which penetrate the insulating layer 116 and are formed at the two ends of the conductor track arrangement 112,
- eine Überwachungsschaltung 156, die in ihrem Aufbau und in ihrer Funktion der Überwachungsschaltung 56 entspricht, - Bauelemente 158 und 160, die den Bauelementen 58 und 60 entsprechen und die Bestandteil einer Nutzschaltung 162 sind,a monitoring circuit 156 which corresponds in terms of construction and function to the monitoring circuit 56, Components 158 and 160, which correspond to components 58 and 60 and which are part of a useful circuit 162,
- ein optionales Dummybauelement 164, das dem Dummybauelement 64 entspricht, an optional dummy device 164 that corresponds to the dummy device 64,
- eine der Vergussmasse 66 entsprechende Vergussmasse 166. - One of the potting compound 66 corresponding potting compound 166th
Eine Höhe Hl entspricht der Höhe H. An der Unterseite der Leiterplatte 114 befindet sich bei beidseitiger Bestückung nun eine weitere Nutzschaltung 101, die durch eine weitere Leiterbahnanordnung 102 mit mäanderförmigen Verlauf abgedeckt und dadurch auch geschützt ist. Alternativ sind die Nutzschaltungen 162 und 101 auch Teile einer gemeinsamen Nutzschaltung . Die Nutzschaltung 101 enthält Bauelemente 104, 106 und ein optionales Dummybauelement 108, das dem Dummybauelement 164 entspricht. Eine Vergussmasse 110 schützt die Baugruppe 100 zusätzlich gegen Eingriffe von unten. Die Figur 4 zeigt eine Draufsicht auf eine Baugruppe 200 mit mehrlagiger Schutzmetallisierung . A height Hl corresponds to the height H. On the underside of the printed circuit board 114 is at two-sided assembly now another useful circuit 101, which is covered by a further track arrangement 102 with a meandering course and thereby protected. Alternatively, the payload circuits 162 and 101 are also parts of a common payload circuit. The utility circuit 101 includes devices 104, 106 and an optional dummy device 108 that corresponds to the dummy device 164. A potting compound 110 additionally protects the assembly 100 against interference from below. FIG. 4 shows a plan view of an assembly 200 with multilayer protective metallization.
Die Baugruppe 200 enthält: The assembly 200 includes:
- eine erste Schutz-Leiterbahnanordnung 212, die unter einer zweiten Schutz-Leiterbahnanordnung 224 liegt,  a first protection trace arrangement 212 underlying a second protection trace arrangement 224,
- eine Isolierschicht 226, die zwischen den beiden Schutz- Leiterbahnanordnungen 212 und 222 angeordnet ist,  an insulating layer 226 arranged between the two protective conductor tracks 212 and 222,
- eine Leiterplatte 214, die auch als Schaltungsträger be¬ zeichnet werden kann, - a circuit board 214, which can also be as a circuit carrier ¬ records,
- eine in Figur 4 nicht dargestellte elektrisch isolierende Isolierschicht 216, an electrically insulating insulating layer 216, not shown in FIG. 4,
- zwei Kontaktabschnitte 218 und 220, welche die Isolier¬ schicht 216 durchdringen und an den beiden Enden der unteren Schutz-Leiterbahnanordnung 212 ausgebildet sind, und - two contact portions 218 and 220, which the insulating layer ¬ penetrate and 216 are formed at the both ends of the lower protective-conductor track assembly 212, and
- zwei Kontaktabschnitte 221a und 221b an den Enden der obe¬ ren Schutz-Leiterbahnanordnung 222. Die Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 sind wie die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 aufgebaut. Die Leiterplatte 214 ist wie die Leiterplatte 14 aufgebaut. Die Isolierschichten 216, 226 sind wie die Isolierschicht 16 aufgebaut. Für die Kontaktabschnitten 218 und 220 gilt das zu den Kontakt¬ abschnitten 18, 20 Gesagte. Die Kontaktabschnitte 221a und 221b dienen zum Anschluss der oberen Schutz-Leiterbahnanordnung 222 an die Überwachungsschaltung der Baugruppe 200. Durch die in den Figuren 4 und 5 gezeigte Baugruppe 200 wird der Schutz erhöht, weil mindestens zwei Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 zu durchdringen sind bei Eingriffen von oben. Gleiches gilt für Eingriffe von unten, wie an Hand der Figur 5 noch näher erläutert wird. - Two contact portions 221 a and 221 b at the ends of obe ¬ ren protective conductor arrangement 222nd The guard trace assemblies 212 and 222 are constructed like the guard trace assembly 12. The printed circuit board 214 is constructed like the printed circuit board 14. The insulating layers 216, 226 are constructed like the insulating layer 16. For the contact portions 218 and 220 that applies to the contact ¬ portions 18, 20, said. The contact portions 221a and 221b serve to connect the upper protection trace array 222 to the monitor circuit of the assembly 200. The protection afforded by the assembly 200 shown in FIGS. 4 and 5 increases because at least two guard trace assemblies 212 and 222 are to be penetrated Intervened from above. The same applies to interventions from below, as will be explained in more detail with reference to FIG.
Auch die Baugruppe 200 enthält demnach eine in Figur 4 nicht dargestellte Überwachungsschaltung, die Widerstandsveränderungen oder die Veränderung anderer charakteristischer elektrischer Größen der Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 erfasst und entsprechende Schritte veranlasst, wenn Ände¬ rungen erfasst werden, bspw. das Löschen relevanter Daten. Accordingly, the assembly 200 includes a monitor circuit, not shown in Figure 4, the resistance changes, or change other characteristic electrical quantities of the protective-conductor arrangements detected 212 and 222 and causes the appropriate steps, if Ände ¬ movements are recognized, for example. Deletion of relevant data.
Die Figur 5 zeigt einen Querschnitt durch die Baugruppe 200 mit mehrlagiger Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahn- anordnungen 212 und 222. Gemäß Figur 5 enthält die Baugruppe 200 weiterhin: FIG. 5 shows a cross section through the assembly 200 with multilayer protective metallization or protective conductor arrangements 212 and 222. According to FIG. 5, the assembly 200 furthermore contains:
- eine Überwachungsschaltung 256, die der Überwachungs¬ schaltung 56 entspricht, - a monitoring circuit 256 which corresponds to the monitoring ¬ circuit 56,
- Bauelemente 258 und 260, die den Bauelementen 58 und 56 entsprechen und die Bestandteil einer Nutzschaltung 262 sind, Components 258 and 260 which correspond to components 58 and 56 and which form part of a useful circuit 262,
- ein optionales Dummybauelement 264, das dem Dummybauelement 64 entspricht, an optional dummy device 264 that corresponds to the dummy device 64,
- eine Vergussmasse 270, die einen zusätzlichen Schutz gegen Eingriffe von oben bietet,  a potting compound 270, which provides additional protection against interference from above,
- eine erste untere Schutz-Leiterbahnanordnung 250, die dera first lower protection trace assembly 250, which is the
Schutz-Leiterbahnanordnung 50 entspricht und insbesondere ei¬ ne entlang eines Mäanders oder einer Spirale (kreisförmig, quadratisch oder rechteckförmig) verlaufende Leitbahn enthält, Protective conductor arrangement 50 corresponds and in particular ei ¬ ne along a meander or a spiral (circular, square or rectangular) running track contains
- eine zweite untere Schutz-Leiterbahnanordnung 255 an der Unterseite der Leiterplatte 214,  a second lower protection trace arrangement 255 on the underside of the printed circuit board 214,
- Durchkontaktierungen 252 und 254, die den Durchkon- taktierungen 52 und 54 entsprechen und die aber zusätzlich auch die zweite Schutz-Leiterbahnanordnung 255 an die Überwachungsschaltung 256 anschließen. Die Kontaktabschnitte 221a und 221b liegen nicht in dem Quer¬ schnitt, der in der Figur 5 gezeigt ist, sind aber ebenfalls über Leitbahnen der Leiterplatte 214 mit der Überwachungs¬ schaltung 256 verbunden. Ein lateraler Versatz V zwischen den Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 verhindert, dass es Zwischenräume gibt, in denen bei Draufsicht auf die Baugruppe 200 keine Schutz-Leiterbahnen angeordnet sind. Es gibt ebenfalls einen in Figur 5 jedoch nicht dargestellten lateraler Versatz zwi- sehen den Schutz-Leiterbahnanordnungen 250 und 255, der einen Eingriff von unten erheblich erschwert. - Through holes 252 and 254, 52 and 54 corresponding to the Durchkon- clockings and connect the additional but also the second protective trace assembly 255 to the monitoring circuit 256. The contact portions 221a and 221b are not in the cross ¬ section , which is shown in Figure 5, but are also connected via interconnects of the circuit board 214 with the monitoring ¬ circuit 256. A lateral offset V between the guard traces 212 and 222 prevents gaps therebetween in which no guard traces are disposed when viewed from top of the package 200. There is also a lateral offset, not shown in FIG. 5, between the protective conductor track arrangements 250 and 255, which considerably complicates engagement from below.
Die Leiterplatten 14 und 214 werden auch separat geschützt, das heißt ohne Bestückung mit Bauelementen und ohne dass die oberen Schutz-Leiterbahnanordnung 12 bzw. die Schutz- Leiterbahnanordnungen 212 und 222 vorhanden sind. The printed circuit boards 14 and 214 are also separately protected, that is, without assembly with components and without the upper protective trace assembly 12 and the protective trace assemblies 212 and 222 are available.
Bei einem anderen Ausführungsbeispiel werden getrennte Durch¬ kontaktierungen auch für den Anschluss der Schutz- Leiterbahnanordnungen 250 und 255 verwendet. Die Schutz- Leiterbahnanordnung 250 und 255 können auch von der Überwachungsschaltung 256 unabhängig von den Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 überwacht werden. Bei anderen Ausführungsbeispielen wird beidseitig bestückt und es werden jeweils zwei oder mehr als zwei Schutz-Leiterbahnanordnung oben und unten verwendet. Auch bei der in Figur 5 dargestellten Baugruppe bzw. bei der im vorigen Absatz erwähnten beidseitigen Bestückung kann die Überwachungsschaltung durch die Schutz-Leiterbahnanordnungen bedeckt werden, um die Sicherheit zu erhöhen. Bei beid- seitiger Bestückung kann die Überwachungsschaltung 156 auch beidseitig der Leiterplatte 114 angeordnet werden. In another embodiment, separate through ¬ contacts are also used for the connection of the protective conductor tracks 250 and 255. The guard trace assemblies 250 and 255 may also be monitored by the monitor circuit 256 independently of the guard trace assemblies 212 and 222. In other embodiments, both sides are populated and in each case two or more than two protective conductor arrangement are used above and below. Also in the case of the assembly shown in FIG. 5 or in the two-sided assembly mentioned in the previous paragraph, the monitoring circuit can be covered by the protective conductor track arrangements in order to increase safety. In the case of assembly on both sides, the monitoring circuit 156 can also be arranged on both sides of the printed circuit board 114.
Die Figur 6 zeigt eine erste Herstellungsstufe bei der Her¬ stellung der geschützten Baugruppe 10, wobei bereits wie folgt vorgegangen wurde: 6 shows a first manufacturing stage in the Her ¬ position of protected module 10, in which has already been carried out as follows:
- ein Leiterplattenhersteller hat die Leiterplatte 14 nach Kundenwunsch gefertigt, wobei auch schon die Schutz- Leiterbahnanordnung 50 sowie die Durchkontaktierungen 52 und 54 mit den üblichen Verfahren der Leiterplattentechnik hergestellt worden sind, bspw. unter Einsatz von fotolithografi- schen Verfahren und von Ätzprozessen,  a printed circuit board manufacturer has produced the printed circuit board 14 according to customer requirements, with the protective printed conductor arrangement 50 and the plated-through holes 52 and 54 having already been produced by the conventional methods of printed circuit board technology, for example using photolithographic methods and etching processes,
- die Leiterplatte 14 wurde bestückt mit den Bauelementen der Überwachungsschaltung 56 sowie mit den Bauelementen 58 und 60 der Nutzschaltung 62 sowie weiterhin ggf. mit dem optionalen Dummybauelement 64,  the printed circuit board 14 was equipped with the components of the monitoring circuit 56 as well as with the components 58 and 60 of the useful circuit 62 as well as optionally with the optional dummy component 64,
- anschließend wurde die Isolierschicht 16 selektiv aufge¬ bracht, bspw. mit einem Lift-Off-Verfahren . Alternativ wird die Isolierschicht 16 ganzflächig aufgebracht und mit einem fotolithografischen Verfahren strukturiert, bspw. gemeinsam mit der Ausbildung von Löchern für die Kontaktabschnitte 18 und 20. - Subsequently, the insulating layer 16 was selectively applied ¬ , for example. With a lift-off method. Alternatively, the insulating layer 16 is applied over the entire surface and patterned with a photolithographic process, for example. Together with the formation of holes for the contact portions 18 and 20th
Die Isolierschicht 16 wurde bspw. auflaminiert unter Verwen¬ dung von Druck und Temperatur bspw. im Bereich von 2 Bar bis 30 Bar bzw. im Bereich von 80 Grad Celsius bis 190 Grad Cel¬ sius. Als Material für die Isolierschicht ist Polyimid oder Epoxid geeignet. Eine optionale zusätzliche Klebeschicht oder eine selbstklebende Folie bzw. eine beidseitig klebende Zu¬ satzfolie erleichtert das Aufbringen. Es können die in der Leiterplattentechnik üblichen Folien verwendet werden. DieThe insulating layer 16 was, for example. USAGE laminated under ¬ dung of pressure and temperature for example. In the range from 2 bar to 30 bar or in the range from 80 degrees Celsius to 190 degrees Cel ¬ SIUS. As the material for the insulating layer, polyimide or epoxy is suitable. An optional additional adhesive layer or an adhesive film or a double-sided adhesive to set ¬ foil facilitates the application. It is possible to use the foils customary in printed circuit board technology. The
Dicke der Folie liegt bspw. im Bereich von 20 Mikrometern bis 100 Mikrometern bzw. im Bereich von 40 Mikrometern bis 60 Mikrometern . Alternativ wird die Isolierschicht 16 durch Vergießen, Auf¬ schleudern oder Tauchprozesse aufgebracht, wobei sich am Rand der Isolierschicht 16 keine Stufe bildet. Auch hier sind als Material für die Isolierschicht Polyimid oder Epoxid geeig¬ net. Die noch zähflüssige Isolierschicht wird an der Luft oder durch zusätzliche Temperaturprozesse getrocknet, bspw. bei einer Temperatur im Bereich von 80 Grad Celsius bis 150 Grad Celsius. Thickness of the film is, for example, in the range of 20 micrometers to 100 micrometers and in the range of 40 micrometers to 60 micrometers. Alternatively, the insulating layer 16 by casting, spin dryer or applied ¬ dipping processes, forming no step at the edge of the insulating layer sixteenth Again, as a material for the insulating polyimide or epoxy geeig ¬ net. The still viscous insulating layer is dried in air or by additional temperature processes, for example. At a temperature in the range of 80 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.
Die Figur 7 zeigt eine zweite Herstellungsstufe, bei der be¬ reits Kontaktöffnungen 300, 302 und 304 in der Isolierschicht 16 eingebracht worden sind, bspw. durch Laserimpulse oder durch Verwendung eines fotolithografischen Verfahrens mit an- schließendem Trocken- oder Nassätzprozess . Alternativ kann für die Isolierschicht 16 auch eine lichtempfindliche Folie verwendet werden, die dann selektiv belichtet und entwickelt wird und von der Bereiche als Isolierschicht 16 in der Bau¬ gruppe 10 verbleiben. 7 shows a second manufacturing stage, have been introduced in the already be ¬ contact openings 300, 302 and 304 in the insulating layer 16, for example. By laser pulses or by using a photolithographic method or wet etching process with subsequent closing drying. Alternatively, for the insulating layer 16 and a photosensitive film may be used, which is then selectively exposed and developed and remain of the areas as insulating layer 16 in the ¬ group 10 ¬ .
Die Kontaktöffnung 300 dient zur Aufnahme des Kontakt¬ abschnitts 18. Entsprechend dient die Kontaktöffnung 304 zur Aufnahme des Kontaktabschnitts 20. Die Kontaktöffnung 302 nimmt einen Teil der Durchkontaktierung 52 auf. The contact hole 300 serves to accommodate the contact portion 18. ¬ Accordingly, the contact hole is 304 for receiving the contact portion 20. The contact opening 302 receives a portion of the via 52.
Die Figur 8 zeigt eine dritte Herstellungsstufe mit einer ersten Metallisierungsschicht 310 der Schutz-Leiterbahnanordnung 12. Die Metallisierungsschicht 310 wird bspw. aus der Gasphase aufgebracht oder aufgesputtert (Kathodenzerstäu- bung) bei Temperaturen an der Isolierschicht von bspw. nur bis zu 80 Grad Celsius. Die Metallisierungsschicht 310 bildet eine Haftvermittlungsschicht und kann als Grundschicht für die Stromzufuhr in einem galvanischen Verfahren dienen, ggf. verstärkt durch eine dünne aus der Gasphase aufgebrachte oder aufgesputterte Kupferschicht. Als Material der Metallisie¬ rungsschicht 310 ist bspw. Titan, Kupfer, Tantal, Wolfram, Chrom, eine Kombinationen dieser Materialien oder deren Nitride geeignet. Auch ein mehrschichtiger Aufbau der Metalli- sierungsschicht 310 ist möglich. Die Schichtdicke der Metal¬ lisierungsschicht 310 liegt im Bereich von 5 Mikrometern bis 15 Mikrometern. Typische Werte für eine Abscheidung aus der Gasphase sind 50 Nanometer bis 5 Mikrometer. Je dicker die Schicht wird, desto teuerer wird sie. Theoretisch sind 15FIG. 8 shows a third production stage with a first metallization layer 310 of the protective conductor arrangement 12. The metallization layer 310 is applied or sputtered from the gas phase (cathode sputtering) at temperatures at the insulating layer of, for example, only up to 80 degrees Celsius. The metallization layer 310 forms an adhesion-promoting layer and can serve as a base layer for the current supply in a galvanic process, possibly reinforced by a thin vapor-deposited or sputtered copper layer. As the material of the metallization layer 310 is approximately ¬ eg. Suitable titanium, copper, tantalum, tungsten, chromium, a combination of these materials, or their nitrides. Also a multilayer structure of the metallic Sierungsschicht 310 is possible. The layer thickness of the metal ¬ lisierungsschicht 310 is in the range of 5 micrometers to 15 micrometers. Typical values for a vapor deposition are 50 nanometers to 5 micrometers. The thicker the layer becomes, the more expensive it becomes. Theoretically, 15
Mikrometer dicke Schichten auch über die Gasphasenabscheidung zu erzielen. Wenn dickere Schichten (5 Mikrometer bis 15 Mikrometer) gewünscht sind, kombiniert man den Dünnfilmprozess typischerweise aber mit galvanischer Abscheidung. Micrometer thick layers can also be achieved via the vapor deposition. If thicker layers (5 microns to 15 microns) are desired, the thin film process is typically combined with electrodeposition.
Beim Aufbringen der Metallisierungsschicht 310 entstehen die Kontaktabschnitte 18 und 20, sowie ein oberer Teil der Durch- kontaktierung 52. Die Durchkontaktierung 54 wird am Rand der Isolierschicht 16 ebenfalls kontaktiert von der ersten When the metallization layer 310 is applied, the contact sections 18 and 20 and an upper part of the through-connection 52 are formed. The through-connection 54 is also contacted by the first one at the edge of the insulating layer 16
Schicht 310 zur Herstellung der Schutz-Leiterbahnanordnung 12. Layer 310 for the production of the protective conductor arrangement 12.
Die Figur 9 zeigt eine vierte Herstellungsstufe mit einer galvanisch hergestellten Metallisierungsschicht 320 die spä- ter den oberen Teil der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 bildet und damit später die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 verstärkt, hinsichtlich der mechanischen Stabilität. Die Metallisierungsschicht 320 ist bspw. eine ganzflächig aufgebrachte Kup¬ ferschicht, die anschließend in einem fotolithografischen Verfahren strukturiert wird. Alternativ wird ein semiadditi¬ ves Verfahren eingesetzt, bei dem eine Fotomaske auf die Me¬ tallisierungsschicht 310 aufgebracht wird, worauf hin an¬ schließend die Metallisierungsschicht 320 bereits struktu¬ riert aufgebracht wird, bspw. durch Galvanisieren. FIG. 9 shows a fourth production stage with a galvanically produced metallization layer 320, which later forms the upper part of the protective conductor arrangement 12 and thus later amplifies the protective conductor arrangement 12, with regard to the mechanical stability. The metallization layer 320 is, for example, which is then patterned in a photolithographic process, a surface-wide applied Kup ¬ ferschicht. Alternatively, a semiadditi ¬ ves method is employed, in which a photomask is applied to the Me ¬ tallisierungsschicht 310, after which the metallization layer 320 is already applied struc ¬ riert out at ¬ closing, for example. By electroplating.
Die Schichtdicke der Metallisierungsschicht 320 liegt bspw. im Bereich von 20 Mikrometern bis 50 Mikrometern. Neben der Erhöhung der mechanischen Stabilität führt die Metallisie¬ rungsschicht 320 auch zu einer erheblichen Verringerung des ohmschen Widersands der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 was dem einfacheren Erfassen von Unterbrechungen entgegen kommt. Weitere elektrisch leitfähige Schutzschichten können aufgebracht werden. Reinigungsschritte zwischen den Verfahrens¬ schritten wurden nicht separat erläutert, insbesondere The layer thickness of the metallization layer 320 is, for example, in the range of 20 micrometers to 50 micrometers. In addition to increasing the mechanical stability of the metallization layer approximately ¬ 320 also leads to a significant reduction of the ohmic resistance of the Sands protection interconnect arrangement 12 which benefits the ease of detecting interruptions contrary. Further electrically conductive protective layers can be applied. Purification steps between the method ¬ steps have not been described separately, in particular
Rücksputterschritte zum Erzielen sauberer Oberflächen. Back sputtering steps to achieve clean surfaces.
Die Figur 10 zeigt eine fünfte Herstellungsstufe mit struktu¬ rierter Metallisierungsschicht 310, 320 wodurch die Schutz- Leiterbahnanordnung 12 erzeugt wird. Es wird zur Strukturie¬ rung bspw. ein fotolithografisches Verfahren unter Verwendung eines Fotolacks oder einer Fotofolie eingesetzt. Zum Struktu¬ rieren wird dann ein nasschemischer oder trockenchemischer Ätzprozess eingesetzt. Die Breite der Leiterbahn bzw. der Leiterbahnen der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 liegt bspw. im Bereich von 50 Mikrometern bis 100 Mikrometern, so dass auch das Strukturieren von Kupfer kein Problem ist. Insbesondere sind die verwendeten Verfahren aus der Herstellung von Leiterplatten bekannt und optimiert. 10 shows a fifth stage of manufacture with struc tured ¬ metallization layer 310, 320 whereby the protective conductor arrangement is generated 12th A photolithographic process using a photo-resist or a photo film, it is, for example, for structuring ¬ tion. Employed. For struc ¬ Center a wet chemical or dry chemical etching process is then used. The width of the conductor track or the conductor tracks of the protective conductor arrangement 12 is, for example, in the range of 50 micrometers to 100 micrometers, so that the patterning of copper is not a problem. In particular, the methods used from the production of printed circuit boards are known and optimized.
Die Figur 11 zeigt eine sechste Herstellungsstufe mit bereits aufgebrachter Vergussmasse 66 der Baugruppe 10. Die Verguss¬ masse 66 enthält bspw. ein Epoxid. Schwarze bzw. dunkle Füll¬ stoffe erschweren ein optisches Untersuchen der Baugruppe 10. Beim Vergießen kann eine Wand das seitliche Weglaufen der Vergussmasse 66 verhindern. Alternativ kann eine Gießform verwendet werden, in die die Leiterplatte 14 gelegt wird. 11 shows a sixth stage of manufacture with already applied sealing compound 66 of the assembly 10. The casting ¬ mass 66 includes, for example, an epoxy. Black or dark ¬ filling materials make it difficult to examine the optical assembly 10. When casting a wall can prevent lateral drift of the potting compound 66th Alternatively, a mold may be used in which the circuit board 14 is placed.
Anstelle eines Vergießens kann ein sogenannter Mold-Prozess oder Spritzgussprozess verwendet werden, bei dem die Verguss¬ masse unter Druck und Temperatur mit Hilfe einer Form aufge- bracht wird. Instead of potting, a so-called mold process or injection molding process can be used in which the potting ¬ mass is applied under pressure and temperature using a mold.
Die Baugruppen 100 und 200 werden analog zu der Baugruppe 10 hergestellt, d.h. insbesondere unter Verwendung der erläu¬ terten Verfahren, Materialien, Schichtdicken und Herstel- lungsverfahren . The assemblies 100 and 200 are produced analogously to the assembly 10, ie in particular using the erläu ¬ terten methods, materials, layer thicknesses and manufacturing process.
Bei anderen Ausführungsbeispielen sind drei Schutz- Leiterbahnanordnungen bzw. mehr als drei Schutz-Leiterbahn- anordnungen, insbesondere mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf übereinander angeordnet, um Manipulationen weiter zu erschweren. Bei weiteren Ausführungsbeispielen werden die Schutzmaßnahmen mit anderen Schutzmaßnahmen kombiniert. In other embodiments, there are three protective conductor tracks or more than three protective tracks. arrangements, in particular with a meandering or spiral course arranged one above the other to further complicate manipulation. In further embodiments, the protective measures are combined with other protective measures.
Die Ausführungsbeispiele sind nicht maßstabsgetreu und nicht beschränkend. Abwandlungen im Rahmen des fachmännischen Handelns sind möglich. Obwohl die Erfindung im Detail durch das bevorzugte Ausführungsbeispiel näher illustriert und be¬ schrieben worden ist, ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen kön¬ nen vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen. The embodiments are not to scale and are not restrictive. Modifications in the context of expert action are possible. Although the invention in detail further illustrated by the preferred embodiment and has been be ¬ enrolled, the invention is not limited by the disclosed examples and other variations Kgs ¬ NEN be derived by those skilled thereof, without departing from the scope of the invention.

Claims

Patentansprüche claims
1. Elektronische Baugruppe (10, 100, 200), 1. Electronic assembly (10, 100, 200),
mit einer Leiterplatte (14, 114, 214), an oder in der mindes- tens zwei Leiterbahnen oder eine Vielzahl von Leiterbahnen angeordnet sind, with a printed circuit board (14, 114, 214), on or in which at least two printed conductors or a plurality of printed conductors are arranged,
mit mindestens einem elektronischen Bauelement (58) oder ei¬ ner Vielzahl von Bauelementen (58, 60), das oder die eine auf der Leiterplatte (14, 114, 214) angeordnete elektronische Schaltung (62) bilden, forming at least one electronic component (58) or ei ¬ ner plurality of components (58, 60) or the one on the circuit board (14, 114, 214) arranged electronic circuit (62),
mit einer die Schaltung (62) überdeckenden Leiterbahnanordnung ( 12 ) , with a track arrangement (12) covering the circuit (62),
und mit einer Überwachungsschaltung (56) , deren Eingänge mit der Leiterbahnanordnung (12) elektrisch leitfähig verbunden sind, and with a monitoring circuit (56) whose inputs are electrically conductively connected to the track arrangement (12),
wobei eine elektrisch isolierende Isolierschicht (16) an Sei¬ tenflächen des Bauelementes (58) oder an Seitenflächen der jeweiligen Bauelemente (56, 58) anliegt, wherein an electrically insulating insulation layer (16) to Be ¬ tenflächen of the component (58) or on side surfaces of the respective components (56, 58) is applied,
und wobei die Leiterbahnanordnung (12) an der Isolierschicht (16) angeordnet ist. and wherein the track arrangement (12) is arranged on the insulating layer (16).
2. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1, wobei die Iso¬ lierschicht auch an der der Leiterplatte (14, 114, 214) abge¬ wandten Seite an dem Bauelement (58) oder an den Bauelementen (58, 60) angeordnet ist. 2. assembly (10, 100, 200) according to claim 1, wherein the Iso ¬ lierschicht also on the printed circuit board (14, 114, 214) abge ¬ facing side of the device (58) or on the components (58, 60). is arranged.
3. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Isolierschicht (16) auf den Bauelementen (58, 60) so angeord¬ net ist, dass an einer den Bauelementen (58, 60) abgewandten Seite der Isolierschicht (16) Höhenunterschiede (H) größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten, 3. Assembly (10, 100, 200) according to claim 1 or 2, wherein the insulating layer (16) on the components (58, 60) so angeord ¬ net is that on one of the components (58, 60) facing away from the insulating layer (16) height differences (H) greater than 50 microns or greater than 200 microns or greater than 400 microns occur,
wobei die Leiterbahnanordnung (12) an der Isolierschicht angeordnet ist, und wobei an der Leiterbahnanordnung (12) Hö- henunterschiede größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten. wherein the conductor track arrangement (12) is arranged on the insulating layer, and wherein height differences greater than 50 micrometers or greater than 200 micrometers or greater than 400 micrometers occur on the track arrangement (12).
4. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 3, wobei die Iso¬ lierschicht (16) eine Kunststofffolie ist oder enthält. 4. assembly (10, 100, 200) according to claim 3, wherein the Iso ¬ lierschicht (16) is or contains a plastic film.
5. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Isolierschicht (16) eine auf die Leiterplatte (14, 114, 214) gegossene Schicht ist. An assembly (10, 100, 200) according to claim 1 or 2, wherein the insulating layer (16) is a layer cast on the circuit board (14, 114, 214).
6. Leiterplatte (14, 114, 214) mit einer Leiterbahnlage (12), die im Gebiet der gesamten Leiterplatte (14, 114, 214) oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. 6. printed circuit board (14, 114, 214) with a conductor track layer (12) which contains in the area of the entire printed circuit board (14, 114, 214) or in an area to be protected at least one conductor track with a meandering or spiral course.
7. Leiterplatte (14, 114, 214) nach Anspruch 6, wobei die Leiterbahnlage (250) eine erste Lage ist, und wobei die Lei- terplatte (214) eine zweite Leiterbahnlage (255) enthält, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte (214) oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine weitere Leiterbahn mit mä¬ anderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. 7. The printed circuit board (14, 114, 214) according to claim 6, wherein the conductor layer (250) is a first layer, and wherein the printed circuit board (214) includes a second printed conductor layer (255) which in the area of the entire printed circuit board (214 ) or in an area to be protected at least one further conductor track with mä ¬ anderförmigem or spiral course contains.
8. Leiterplatte (14, 114, 214) nach Anspruch 7, wobei die8. printed circuit board (14, 114, 214) according to claim 7, wherein the
Leiterbahn der ersten Leiterbahnlage (250) mit lateralem Versatz zu der Leiterbahn der zweiten Leiterbahnlage (255) angeordnet ist. Conductor of the first conductor layer (250) is arranged with lateral offset to the conductor track of the second conductor layer (255).
9. Verfahren zum Herstellen einer Baugruppe (10, 100, 200), wobei auf einer bestückten Leiterplatte (14, 114, 214) eine Leiterbahnanordnung (12) separat ohne gleichzeitiges Anordnen einer Isolierschicht (16) angeordnet wird. 9. A method for producing an assembly (10, 100, 200), wherein on a populated printed circuit board (14, 114, 214) a conductor track arrangement (12) is arranged separately without simultaneous placement of an insulating layer (16).
10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei auf der Leiterplatte10. The method of claim 9, wherein on the circuit board
(14, 114, 214) mindestens ein Bauelement (58) angeordnet wird oder mehrere elektronische Bauelemente (58, 60) angeordnet werden, (14, 114, 214) at least one component (58) is arranged or a plurality of electronic components (58, 60) are arranged,
wobei auf das Bauelement (58) oder auf die Bauelemente (58, 60) eine Isolierschicht (16) aufgebracht wird, wherein an insulating layer (16) is applied to the component (58) or to the components (58, 60),
wobei auf die Isolierschicht (16) eine elektrisch leitfähige Schicht (310, 320) aufgebracht wird, und wobei die elektrisch leitfähige Schicht (310, 320) nach dem Aufbringen auf die Isolierschicht (16) strukturiert wird zu der Leiterbahnanordnung (12) . wherein an electrically conductive layer (310, 320) is applied to the insulating layer (16), and wherein the electrically conductive layer (310, 320) is structured after application to the insulating layer (16) to the conductor track arrangement (12).
11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei mindestens eine Leiterbahn der Leiterbahnanordnung (12) mit einer auf der Leiterplatte (14, 114, 214) angeordneten Überwachungsschaltung (56) verbunden wird, die die Baugruppe (10, 100, 200) gegen unbe¬ rechtigte Zugriffe schützt. 11. The method of claim 10 wherein at least one conductor track of the conductor track arrangement (12) arranged with one on the printed circuit board (14, 114, 214) monitoring circuit (56) is connected to the assembly (10, 100, 200) against non ¬ unauthorized Protects access.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei die Isolierschicht (16) als Folie aufgebracht wird. 12. The method according to claim 10 or 11, wherein the insulating layer (16) is applied as a film.
13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Folie (16) mit Überdruck oder Unterdruck und/oder mit Übertemperatur aufgebracht wird. 13. The method according to claim 12, wherein the film (16) is applied with overpressure or underpressure and / or with excess temperature.
14. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei die Isolierschicht (16) aufgegossen, aufgeschleudert oder durch Eintau- chen aufgebracht wird. 14. The method of claim 10 or 11, wherein the insulating layer (16) is poured, spin coated or applied by dipping chen.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, wobei die Isolierschicht (16) mittels Laser in Kontaktbereichen geöff¬ net wird. 15. The method according to any one of claims 10 to 14, wherein the insulating layer (16) is geöff ¬ net by means of laser in contact areas.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 15, wobei die Leiterbahnanordnung (12) durch Gasphasenabscheidung oder Sputtern, durch Galvanisieren oder durch sowohl Gasphasenabscheidung oder Sputtern als auch Galvanisieren aufgebracht wird. 16. The method according to any one of claims 9 to 15, wherein the wiring arrangement (12) is applied by vapor deposition or sputtering, by electroplating or by both vapor deposition or sputtering and electroplating.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016210303A1 (en) * 2016-06-10 2017-12-14 Airbus Defence and Space GmbH Sensor carrier film for an object and method for equipping an object with a sensor system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6496119B1 (en) * 1998-11-05 2002-12-17 Infineon Technologies Ag Protection circuit for an integrated circuit
US20040134681A1 (en) * 2002-12-06 2004-07-15 Norihito Tsukahara Circuit board and its manufacturing method
US20060231633A1 (en) * 2005-04-14 2006-10-19 International Business Machines Corporation Method and structure for implementing secure multichip modules for encryption applications
US20100208436A1 (en) * 2007-09-19 2010-08-19 Dieter Cremer Multilayer Circuit Board and Use of a Multilayer Circuit Board

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6496119B1 (en) * 1998-11-05 2002-12-17 Infineon Technologies Ag Protection circuit for an integrated circuit
US20040134681A1 (en) * 2002-12-06 2004-07-15 Norihito Tsukahara Circuit board and its manufacturing method
US20060231633A1 (en) * 2005-04-14 2006-10-19 International Business Machines Corporation Method and structure for implementing secure multichip modules for encryption applications
US20100208436A1 (en) * 2007-09-19 2010-08-19 Dieter Cremer Multilayer Circuit Board and Use of a Multilayer Circuit Board

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